JPH07209633A - Production of liquid crystal display element - Google Patents
Production of liquid crystal display elementInfo
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- JPH07209633A JPH07209633A JP365694A JP365694A JPH07209633A JP H07209633 A JPH07209633 A JP H07209633A JP 365694 A JP365694 A JP 365694A JP 365694 A JP365694 A JP 365694A JP H07209633 A JPH07209633 A JP H07209633A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチック基板を用
いた液晶表示素子の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device using a plastic substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、液晶表示素子の基板は一般的には
ガラスが用いられている。これは、ガラス基板は非晶質
性であり、それからくる光学的等方性により、液晶の持
つ特性を引き出すことができ、かつ強度も高いので液晶
表示素子に好適な材料であった。例えば、スーパーツイ
ストネマチック（ＳＴＮ）液晶表示素子においては、偏
光板で直線偏光になった光が、液晶層を通ることによっ
て、楕円偏光となることを利用した色付き素子、さら
に、楕円偏光を位相差板の組み合わせにより元の直線偏
光に戻すことで得られる白黒表示素子などの表示素子が
ある。2. Description of the Related Art Conventionally, glass is generally used as a substrate of a liquid crystal display element. This is a material suitable for a liquid crystal display element because the glass substrate is amorphous and the characteristics of the liquid crystal can be brought out due to the optical isotropy resulting from it, and the strength is high. For example, in a super twisted nematic (STN) liquid crystal display element, a colored element that utilizes the fact that light that has become linearly polarized light by a polarizing plate becomes elliptically polarized light when it passes through the liquid crystal layer, and further elliptically polarized light has a phase difference There is a display element such as a black and white display element obtained by returning to the original linearly polarized light by combining plates.
【０００３】一方近年、液晶表示素子に対し、軽量化、
薄型化の要求が増してきている。これに対する対応とし
て、使用するガラス基板も厚みの薄いものが使用され、
0.1mm〜 0.5mm程度のガラス基板を使った素子も提案さ
れたり、使用されたりしている。On the other hand, in recent years, the weight of liquid crystal display devices has been reduced,
The demand for thinner products is increasing. In response to this, a thin glass substrate is used,
An element using a glass substrate of about 0.1 mm to 0.5 mm has been proposed or used.
【０００４】しかし、ガラス基板の薄型化は、製造中、
あるいは使用中の基板の割れの発生につながり、生産歩
留の低下、耐久性の低下を招くことになるという問題点
を有する。そのため、以前からガラス基板に代わる基板
としてプラスチック基板を使用した液晶表示素子の要求
がある。However, the thinning of the glass substrate is
Alternatively, there is a problem in that the substrate may be cracked during use, resulting in a decrease in production yield and a decrease in durability. Therefore, there has been a demand for a liquid crystal display device using a plastic substrate as a substrate replacing the glass substrate.
【０００５】このため、プラスチック基板を用いた液晶
表示素子が一部製造されている。このプラスチック基板
を用いた液晶表示素子は、理論的にはロールツーロール
式の製法が、即ち連続フィルムとして処理する製法が可
能なため、ガラス基板で採用されている枚葉式より生産
性が高いことが有利と予想される。Therefore, some liquid crystal display elements using a plastic substrate have been manufactured. Since the liquid crystal display device using this plastic substrate can theoretically be manufactured by a roll-to-roll process, that is, a process of processing as a continuous film, the productivity is higher than the single-wafer process used for the glass substrate. Is expected to be advantageous.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】実際に使用するプラス
チックの主なものとしては、一軸延伸ポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥ
Ｓ）、ポリカーボネート（ＰＣ）が代表的なプラスチッ
クである。しかしながら、これらのプラスチック基板は
耐熱性が乏しく、例えば配向膜の焼成に必要な高温では
熱変形するという問題点がある。The main plastics actually used are uniaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) and polyether sulfone (PE).
S) and polycarbonate (PC) are typical plastics. However, these plastic substrates have poor heat resistance, and there is a problem that they are thermally deformed at the high temperature required for firing the alignment film, for example.
【０００７】このため、プラスチック基板を用いた液晶
表示素子は、枚葉式で生産され価格も高くなるため、あ
まり生産量が増加していない。本発明は、このように生
産性が悪く価格が高いプラスチック基板を用いた液晶表
示素子の生産性を向上することを目的としている。For this reason, the liquid crystal display element using the plastic substrate is produced in a single-wafer type and the price is high, and therefore the production amount has not increased so much. An object of the present invention is to improve the productivity of a liquid crystal display device using such a plastic substrate having poor productivity and high price.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述の問題点
を解決すべくなされたものであり、プラスチック基板を
用いる液晶表示素子の製造方法において、前半の工程は
プラスチックが連続した状態で処理し、後半の工程では
高密度架橋して単板に切断し、枚葉式で処理することを
特徴とする液晶表示素子の製造方法を提供するものであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and in the method of manufacturing a liquid crystal display device using a plastic substrate, the first half of the process is performed in a continuous plastic state. In the latter half of the process, there is provided a method for manufacturing a liquid crystal display element, characterized in that it is subjected to high-density cross-linking, cut into a single plate, and processed by a single wafer process.
【０００９】また、その電極パターニング後でかつ電極
上に絶縁膜または配向膜を硬化させる前にプラスチック
基板を架橋させプラスチック基板の可撓性を低下させ、
単板に切断して処理することを特徴とする液晶表示素子
の製造方法を提供するものである。Further, after the patterning of the electrode and before curing the insulating film or the alignment film on the electrode, the plastic substrate is crosslinked to reduce the flexibility of the plastic substrate,
It is intended to provide a method for manufacturing a liquid crystal display element, which is characterized in that it is cut into a single plate and processed.
【００１０】本発明において、プラスチック基板を用い
た液晶表示素子（以下ＰＬＣＤと略称する）の製造工程
を概略説明すると以下のようになる。 工程１ プラスチック基板の成型。 工程２ ＩＴＯの膜付け。 工程３ ＩＴＯのパターニング。 工程４ 配向膜の膜付け、ラビング。 工程５ 基板の圧着。 工程６ 切断。 工程７ 液晶注入、注入口封止。 工程８ 偏光膜貼付け。In the present invention, a manufacturing process of a liquid crystal display device (hereinafter abbreviated as PLCD) using a plastic substrate will be outlined below. Process 1 Molding of plastic substrate. Process 2 ITO film formation. Step 3 Patterning of ITO. Step 4 Attaching an alignment film and rubbing. Process 5 Crimping the substrate. Process 6 cutting. Step 7 Liquid crystal injection, injection port sealing. Step 8 Attaching the polarizing film.
【００１１】ＰＬＣＤでは生産性を考慮すると、ロール
ツーロール方式で連続プラスチックフィルム基板を用い
て連続して製造する方式が生産性が高い。これらの工程
の全部を連続したフィルムの状態で製造できれば、一番
生産性が高いことになる。このように連続フィルムとし
て、ロールツーロール方式が適用できるプラスチックフ
ィルムは容易にロールに巻取れる程度の可撓性が必要で
ある。In view of productivity, PLCD has a high productivity in a roll-to-roll system in which continuous plastic film substrates are continuously manufactured. If all of these processes can be manufactured in a continuous film state, the productivity will be the highest. As described above, a plastic film to which a roll-to-roll method can be applied as a continuous film needs to be flexible enough to be easily wound into a roll.
【００１２】しかし、可撓性のあるプラスチックフィル
ムは、一般に熱変形温度が低く、配向膜焼成等の加熱温
度が高くなる工程で温度があまり上げられないことにな
る。このため、焼成温度の低い配向膜材料を用いたり、
配向膜材料が充分に硬化しない状態で硬化終了をせざる
を得ない。このため、信頼性の高いＰＬＣＤを得ること
が困難である。However, the flexible plastic film generally has a low heat distortion temperature, and the temperature cannot be raised so much in the process of raising the heating temperature such as baking of the alignment film. Therefore, using an alignment film material with a low firing temperature,
There is no choice but to finish the curing in the state where the alignment film material is not sufficiently cured. Therefore, it is difficult to obtain a highly reliable PLCD.
【００１３】本発明では、温度がプラスチック基板が熱
により変形を起こす温度よりも低い加熱温度で済む前半
の工程を連続フィルムのまま製造する。しかし、ある程
度以上の熱変形を起こす温度よりも高い温度での加熱を
要求される後半の工程の前に、プラスチック基板を架橋
させプラスチック基板の可撓性を低下させ、単板に切断
して以降の工程を流す。In the present invention, the first half of the process, in which the heating temperature is lower than the temperature at which the plastic substrate is deformed by heat, is produced as a continuous film. However, before the latter half of the process, which requires heating at a temperature higher than a certain degree of thermal deformation, the plastic substrate is crosslinked to reduce the flexibility of the plastic substrate, and after cutting into single plates, Flow the process.
【００１４】例えば、配向膜形成工程で高い温度をかけ
たい場合には、配向膜形成工程の前でプラスチック基板
を架橋させる。即ち、ＩＴＯのパターニング後、架橋さ
せればよい。もちろん、配向膜材料を付与して低温で乾
燥した後、架橋させてもよいし、ＩＴＯのパターニング
の前に架橋させてもよい。もっとも、工程が煩雑になら
ない範囲で、できるだけロールツーロール方式で長い工
程をとることが好ましい。For example, when it is desired to apply a high temperature in the alignment film forming step, the plastic substrate is crosslinked before the alignment film forming step. That is, the ITO may be patterned and then crosslinked. Of course, the alignment film material may be applied and dried at a low temperature, and then crosslinked, or may be crosslinked before the ITO patterning. However, it is preferable to take as long a process as possible in a roll-to-roll system as long as the process is not complicated.
【００１５】このプラスチック基板が熱により変形を起
こす温度は、目的とするＰＬＣＤが要求される精度で製
造するに必要な熱による変形を考慮して決めればよいの
で、一概には決められない。これを何度とするかは、要
求仕様をみながら実験的に定めればよい。The temperature at which this plastic substrate is deformed by heat can be determined unconditionally because it can be determined in consideration of the deformation due to heat necessary for manufacturing the target PLCD with the required accuracy. How many times this should be done may be determined experimentally while checking the required specifications.
【００１６】本発明では、耐熱性が必要な工程に来る前
に架橋により耐熱性を付与し、それまでは生産性の良い
ロールツーロール方式を用いる。これにより、生産性と
耐久性も両方の利点を取り入れることを可能にしたもの
である。In the present invention, heat resistance is imparted by cross-linking before the step requiring heat resistance is reached, and until then, a roll-to-roll method with good productivity is used. This makes it possible to take advantage of both productivity and durability.
【００１７】本発明において、プラスチック基板の耐熱
性付与は、鎖状の高分子鎖を３次元的に架橋することに
よって可能となる。架橋によって高温時の流動性が減
り、熱変形が減少し、寸法安定性が増す。これにより、
架橋前に比して高い温度に保持しても熱による変形が少
ない。In the present invention, the heat resistance of the plastic substrate can be imparted by three-dimensionally crosslinking chain polymer chains. Crosslinking reduces fluidity at high temperatures, reduces thermal deformation and increases dimensional stability. This allows
Even if kept at a higher temperature than before crosslinking, deformation due to heat is small.
【００１８】この架橋の方法は、放射線照射や架橋剤を
用いる方法、特定の架橋基を用いる方法等がある。放射
線照射法では、電子線やγ線のような強力なエネルギー
を照射すると、多くのプラスチック材料はＣ−Ｈ結合が
切断されてラジカルを生成し、このラジカルが再結合し
て架橋する。Examples of this crosslinking method include irradiation, irradiation with a crosslinking agent, and use of a specific crosslinking group. In the radiation irradiation method, when a strong energy such as an electron beam or γ-ray is irradiated, C—H bond is broken in many plastic materials to generate a radical, and the radical is recombined and crosslinked.
【００１９】架橋剤を利用する場合、架橋剤としては、
プラスチックに予め過酸化物や硫黄、硫黄化合物等の架
橋材を混合しておいて、加熱することにより架橋させる
方法が取られる。この過酸化物としては、過酸化ベンゾ
イル、ジクミルペルオキシドなどが例示できる。また、
硫黄化合物の例としては、塩化硫黄、ジメルカプタン、
ジチオール類が挙げられる。硫黄または硫黄化合物を適
用できるプラスチックは、分子鎖中に不飽和結合を有す
るものに限られる。When a crosslinking agent is used, the crosslinking agent is
A method in which a crosslinking agent such as a peroxide, sulfur, or a sulfur compound is mixed in advance with the plastic and heated to crosslink is used. Examples of this peroxide include benzoyl peroxide and dicumyl peroxide. Also,
Examples of sulfur compounds include sulfur chloride, dimercaptan,
Examples include dithiols. Plastics to which sulfur or a sulfur compound can be applied are limited to those having an unsaturated bond in the molecular chain.
【００２０】特定の架橋基を用いて架橋する場合には、
その架橋基を予めプラスチック合成時に、側鎖または末
端に結合しておく必要があるが、この方法が最も実用的
な方法である。架橋基を使用する方法としては、通常、
光架橋反応、重付加反応、重縮合反応、付加重合反応が
ある。光架橋基としては、桂皮酸型、アジド型、アクリ
ル型、メタクリル型、カルコン型の架橋基を例として挙
げることができる。When cross-linking using a specific cross-linking group,
It is necessary to bond the cross-linking group to a side chain or a terminal in advance when synthesizing a plastic, but this method is the most practical method. As a method of using a crosslinking group, usually,
There are photocrosslinking reaction, polyaddition reaction, polycondensation reaction, and addition polymerization reaction. Examples of the photocrosslinking group include cinnamic acid-type, azide-type, acrylic-type, methacryl-type, and chalcone-type crosslinking groups.
【００２１】重付加反応を利用する架橋法は、通常のい
わゆる熱硬化性樹脂に含有される架橋基を予め高分子の
側鎖や末端に化学結合させておき、必要な時に加熱する
ことで架橋ができる。そのような熱硬化性樹脂とは、エ
ポキシ、ウレタン等が最も一般的あるが、その他に、活
性水素を持つ官能基と不飽和結合の付加、開環付加、環
形成反応などが関係する架橋を利用することも可能であ
る。The cross-linking method utilizing polyaddition reaction is carried out by previously chemically bonding a cross-linking group contained in a usual so-called thermosetting resin to a side chain or terminal of a polymer, and heating the polymer when necessary to cross-link it. You can Epoxy, urethane, etc. are the most common examples of such thermosetting resins, but in addition, crosslinking involving the addition of unsaturated bonds, ring-opening additions, ring-forming reactions, etc. with functional groups having active hydrogen is also considered. It is also possible to use.
【００２１】重縮合反応を利用する場合は、フェノール
樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂等の反応形式のものであ
る。この場合、低分子成分が副生するため、場合によっ
てはプラスチック内部に発泡という不都合が生じること
もあるので、注意が必要である。これらの種々の架橋法
の内、好ましい方法は、重付加反応、特にエポキシ基を
利用した方法である。When the polycondensation reaction is used, it is of a reaction type such as phenol resin, urea resin, melamine resin and the like. In this case, since a low-molecular component is produced as a by-product, inconvenience of foaming may occur inside the plastic in some cases, so caution is required. Among these various crosslinking methods, a preferable method is a polyaddition reaction, especially a method utilizing an epoxy group.
【００２２】熱変形温度をΔＴ℃上げるのに必要な架橋
の程度は、エル．イー．ニールセン(L.E.Nielsen）によ
れば次の式で表される。 ΔＴ＝(3.9×104)／Mc ここでMcは架橋点間の数平均分子量である。これも参考
にして、架橋の程度は実験的に定めればよい。The degree of cross-linking required to raise the heat distortion temperature by ΔT ° C. is determined by L.L. E. According to LENielsen, it is expressed by the following formula. ΔT = (3.9 × 10 4 ) / Mc Here, Mc is the number average molecular weight between crosslinking points. With this also as a reference, the degree of crosslinking may be experimentally determined.
【００２３】本発明では、前記の工程に限られなく、工
程と工程との間に他の工程を追加したり、２以上の工程
を１工程で行うこともできる。これには以下のような例
がある。前者の例としては、工程１と工程２との間にプ
ラスチック基板にSiO2絶縁膜、他の樹脂の膜やカラーフ
ィルター膜を形成したり、工程３と工程４との間にSiO2
絶縁膜やTiO2絶縁膜を形成したりしてもよい。In the present invention, the present invention is not limited to the above steps, and other steps may be added between the steps and two or more steps may be performed in one step. Here are some examples: Examples of the former include forming a SiO 2 insulating film, a film of another resin or a color filter film on a plastic substrate between steps 1 and 2, or SiO 2 between steps 3 and 4.
An insulating film or a TiO 2 insulating film may be formed.
【００２４】後者の例としては、工程５と工程７とを同
時に行う、即ち、シールと液晶の封入を同時に行ってし
まうこともできる。また、大型ＰＬＣＤの場合には、連
続フィルムから架橋して切断した後は単セルになり、そ
の後は切断をしないというようにすることもできる。As an example of the latter, it is also possible to perform step 5 and step 7 at the same time, that is, to seal and enclose the liquid crystal at the same time. Further, in the case of a large-sized PLCD, it is possible to make a single cell after being cross-linked and cut from a continuous film and not cut thereafter.
【００２５】本発明のＰＬＣＤのプラスチック基板は、
表面にＩＴＯ（In2O3-SnO2）、SnO2 等の透明電極、ア
ルミ、クロム等の金属電極等の電極を形成して、その上
に配向膜を形成して用いる。この際に、プラスチック基
板の表面に無機質や有機質のハードコート層、ノングレ
ア層、アンチグレア層、着色層、絶縁層、電極との接着
性向上のための層を形成してもよい。The plastic substrate of the PLCD of the present invention is
An electrode such as a transparent electrode such as ITO (In 2 O 3 —SnO 2 ) or SnO 2 or a metal electrode such as aluminum or chromium is formed on the surface, and an alignment film is formed thereon for use. At this time, an inorganic or organic hard coat layer, a non-glare layer, an anti-glare layer, a coloring layer, an insulating layer, or a layer for improving the adhesion to the electrode may be formed on the surface of the plastic substrate.
【００２６】好ましい１つの形態は、外側の面にハード
コート層を、内側の面に電極との接着性向上のための層
を形成し、その上に電極を形成し、パターニングする。
さらにその上に無機質の絶縁層を形成して、ポリイミド
やポリアミド等のオーバーコート層を形成して、ラビン
グ等により配向膜を形成する。In one preferable form, a hard coat layer is formed on the outer surface, a layer for improving the adhesion with the electrode is formed on the inner surface, and the electrode is formed on the layer and patterned.
Further, an inorganic insulating layer is formed thereon, an overcoat layer of polyimide or polyamide is formed, and an alignment film is formed by rubbing or the like.
【００２７】また、このプラスチックフィルム基板上に
は、必要に応じてカラーフィルター、遮光膜、位相差
板、偏光板、金属配線、反射層、各種絶縁層等が形成さ
れてもよい。このように形成した基板を、電極側が対向
するように配置し、周辺をシール材でシールし、内部に
液晶を封入する。本発明のプラスチック基板は、ＴＮ型
液晶表示素子にも、ＳＴＮ型液晶表示素子にも使用する
ことができる。If necessary, a color filter, a light-shielding film, a retardation plate, a polarizing plate, a metal wiring, a reflecting layer, various insulating layers, etc. may be formed on the plastic film substrate. The substrates thus formed are arranged so that the electrode sides face each other, the periphery is sealed with a sealing material, and liquid crystal is sealed inside. The plastic substrate of the present invention can be used for both a TN type liquid crystal display element and an STN type liquid crystal display element.
【００２８】本発明では熱変形が問題となる温度に加熱
する工程の前までは、生産性の良いロールツーロール方
式で製造する。その後、架橋をして可撓性を低下させ耐
熱性を向上させて、架橋前では問題を生じるような高温
に加熱する工程に枚葉式で搬入する。In the present invention, the roll-to-roll method with good productivity is used before the step of heating to a temperature at which thermal deformation is a problem. After that, it is carried in a single-wafer process in a step of crosslinking to reduce flexibility and improve heat resistance and heating to a high temperature that causes a problem before crosslinking.
【００２９】実施例１ ポリスチレン系でカルコン基を含むカラーフィルター用
トップコート剤「LC-1001 」（三洋化成工業（株）製）
をキャスティングにより 0.4mm厚に成形し、 100mm幅の
連続プラスチックフィルムシートを得た。これはガラス
転移点が70℃でロールにかけられる可撓性を有するもの
であった。これをロールツーロール方式で、 400Ω／□
のＩＴＯを膜付けし、エッチングによりパターニングし
た。Example 1 Top coat agent "LC-1001" (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) for color filters of polystyrene type and containing chalcone groups
Was cast to a thickness of 0.4 mm to obtain a continuous plastic film sheet having a width of 100 mm. It had the flexibility to roll on a glass transition point of 70 ° C. This is a roll-to-roll method, 400Ω / □
ITO film was applied and patterned by etching.
【００３０】次に、高圧水銀灯で照射量が 5J ／cm2 と
なるように照射し、これによって熱変形温度を約 175℃
に上げることができた。ここでシートを 150mmの長さに
切断した。この後、切断した基板を枚葉式で流して液晶
配向膜「RN-779」（日産化学（株）製）を塗布、 150℃
で１時間焼成したが、変形や寸法変化は認められなかっ
た。Next, irradiation was performed with a high pressure mercury lamp so that the irradiation amount was 5 J / cm 2, and thereby the heat distortion temperature was about 175 ° C.
I was able to raise it to. Here the sheet was cut to a length of 150 mm. After that, the cut substrate is flown by a single-wafer process, and a liquid crystal alignment film "RN-779" (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) is applied at 150 ° C.
After firing for 1 hour, no deformation or dimensional change was observed.
【００３１】この後、この基板にシール材「ストラクト
ボンドXN-5AC」（三井東圧化学（株）製）を印刷し、ス
ペーサーを散布し、基板を２枚合わせて 160℃で圧着し
て空セルを作成した。その後、液晶を注入し、注入口を
封止して液晶セルを形成した。この液晶セルの両側に位
相差板と偏光膜とを夫々各 1枚ずつ配置してＳＴＮ型の
液晶表示素子を製造した。なお、位相差板のΔndと光軸
及び偏光膜の偏光軸は表示が最適になるように設定し
た。After that, a sealing material "Structbond XN-5AC" (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) is printed on this substrate, spacers are sprinkled, the two substrates are put together and pressure-bonded at 160.degree. Created a cell. After that, liquid crystal was injected and the injection port was sealed to form a liquid crystal cell. An STN type liquid crystal display device was manufactured by disposing one retardation plate and one polarizing film on each side of the liquid crystal cell. The Δnd of the retardation plate, the optical axis, and the polarization axis of the polarizing film were set so that the display would be optimal.
【００３２】この結果、加熱による好ましくない基板の
変形は無く、生産性も良いものであった。As a result, the substrate was not undesirably deformed by heating, and the productivity was good.
【００３３】実施例２ 実施例１の連続プラスチックフィルムシートの両面にSi
O2を蒸着してSiO2の層を形成して後、ＩＴＯ層を形成
し、再度その上にSiO2を蒸着してSiO2の層を形成した外
は実施例１と同様にして、ＳＴＮ型の液晶表示素子を製
造した。この結果、加熱による好ましくない基板の変形
は無く、生産性も良いものであった。Example 2 Si was applied to both sides of the continuous plastic film sheet of Example 1.
STN was formed in the same manner as in Example 1 except that O 2 was vapor deposited to form a SiO 2 layer, then an ITO layer was formed, and then SiO 2 was vapor deposited again to form a SiO 2 layer. Type liquid crystal display device was manufactured. As a result, the substrate was not undesirably deformed by heating, and the productivity was good.
【００３４】実施例３ 実施例１の連続プラスチックフィルムシートの両面にSi
O2を蒸着してSiO2の層を形成して後、ＲＧＢ３色のカラ
ーフィルター層を形成し、さらに樹脂の平坦化層を形成
した上にＩＴＯ層を形成した。さらにその上にSiO2を蒸
着してSiO2の層を形成した外は実施例１と同様にして、
カラーＳＴＮ型の液晶表示素子を製造した。この結果、
加熱による好ましくない基板の変形は無く、生産性も良
いものであった。Example 3 Si was applied to both sides of the continuous plastic film sheet of Example 1.
Later the O 2 is deposited to form a layer of SiO 2, to form a color filter layer of RGB3 colors, an ITO layer was formed on a further forming the planarization layer of the resin. Further, SiO 2 was vapor-deposited thereon to form a SiO 2 layer, in the same manner as in Example 1,
A color STN type liquid crystal display device was manufactured. As a result,
There was no undesirable deformation of the substrate due to heating, and the productivity was good.
【００３５】[0035]
【発明の効果】本発明では、加熱により変形が生じる危
険性のある工程の前では、生産性の良いロールツーロー
ル方式で製造し、その後枚葉方式に切り替えて製造す
る。これにより、全工程を枚葉方式で製造するに比して
高い生産性を維持し、全工程をロールツーロール方式で
製造するに比して高い加熱温度に耐えさせることができ
るので、耐久性、信頼性が高いものが製造できる。According to the present invention, the roll-to-roll method with good productivity is used before the step in which deformation is likely to occur due to heating, and then the manufacturing method is switched to the single-wafer method. As a result, it is possible to maintain high productivity compared to manufacturing all processes by the single-wafer method, and to withstand higher heating temperatures compared to manufacturing all processes by roll-to-roll method, so durability It can be manufactured with high reliability.
【００３６】また、架橋前と架橋後と２種類の状態で流
すことができるので、基板に発生する歪みが少なく、既
存のガラス基板の液晶表示素子の製造工程を一部利用で
きるという利点も有している。このため、ロールツーロ
ール方式の製造設備のみの新規導入でも、後半を既存の
ガラス基板の液晶表示素子の製造工程を使用することに
より、容易にＰＬＣＤの製造ができる。Further, since it can be flowed in two kinds of states, that is, before and after the crosslinking, there is an advantage that the strain generated in the substrate is small and the manufacturing process of the liquid crystal display element of the existing glass substrate can be partially utilized. is doing. For this reason, even if a roll-to-roll manufacturing facility is newly introduced, a PLCD can be easily manufactured by using the manufacturing process of the existing liquid crystal display device of the glass substrate in the latter half.
【００３７】これにより、生産量に応じて、ロールツー
ロール方式の製造設備もその一部の導入にとどめ、例え
ば当初はＩＴＯの蒸着までとし、その後のパターニング
工程からは切断して枚葉方式でガラス基板の製造工程で
流すこともできる。そして、ある時期からはパターニン
グ工程までロールツーロール方式の製造設備を導入し、
その後の工程を枚葉方式でガラス基板の製造工程で流す
こともできる。As a result, the roll-to-roll manufacturing equipment is limited to a part of it depending on the amount of production. For example, ITO deposition is initially performed, and the subsequent patterning step is cut to be a single-wafer method. It can also be used in the glass substrate manufacturing process. Then, from a certain time, we introduced roll-to-roll manufacturing equipment from the patterning process,
Subsequent steps may be performed in the glass substrate manufacturing process in a single-wafer manner.
【００３８】さらにその後、後半の工程自体もプラスチ
ック基板専用の工程を導入し枚葉方式で流すようにする
こともできる。本発明はこのように、非常にフレキシビ
リティの高い方法である。Further, after that, in the latter half of the process itself, a process dedicated to the plastic substrate may be introduced so that the single-wafer process can be performed. The present invention is thus a very flexible method.
【００３９】本発明は、本発明の効果を損なわない範囲
内で今後とも種々の応用が可能なものである。The present invention can be applied in various ways in the future without departing from the effects of the present invention.
Claims (2)
製造方法において、前半の工程はプラスチックが連続し
た状態で処理し、後半の工程では高密度架橋して単板に
切断し、枚葉式で処理することを特徴とする液晶表示素
子の製造方法。1. A method of manufacturing a liquid crystal display device using a plastic substrate, wherein in the first half step, the plastic is continuously processed, and in the latter half step, high density cross-linking is performed to cut it into a single plate, and the single-wafer processing is performed. A method for manufacturing a liquid crystal display element, comprising:
かつ電極上に絶縁膜または配向膜を硬化させる前にプラ
スチック基板を架橋させプラスチック基板の可撓性を低
下させ、単板に切断して処理することを特徴とする液晶
表示素子の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the plastic substrate is crosslinked to reduce the flexibility of the plastic substrate after patterning the electrode and before curing the insulating film or the alignment film on the electrode, and the plastic substrate is cut into a single plate for treatment. A method for manufacturing a liquid crystal display element, comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP365694A JPH07209633A (en) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | Production of liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP365694A JPH07209633A (en) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | Production of liquid crystal display element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07209633A true JPH07209633A (en) | 1995-08-11 |
Family
ID=11563518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP365694A Pending JPH07209633A (en) | 1994-01-18 | 1994-01-18 | Production of liquid crystal display element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07209633A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003022032A (en) * | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Sharp Corp | Method for manufacturing functional element substrate and method for manufacturing functional panel |
| KR20190124743A (en) | 2017-02-27 | 2019-11-05 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element |
| KR20200016261A (en) | 2017-06-08 | 2020-02-14 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element |
| KR20210052440A (en) | 2018-08-31 | 2021-05-10 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Manufacturing method of liquid crystal aligning film, liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element |
-
1994
- 1994-01-18 JP JP365694A patent/JPH07209633A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003022032A (en) * | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Sharp Corp | Method for manufacturing functional element substrate and method for manufacturing functional panel |
| KR20190124743A (en) | 2017-02-27 | 2019-11-05 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element |
| KR20200016261A (en) | 2017-06-08 | 2020-02-14 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Liquid crystal aligning agent, liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element |
| KR20210052440A (en) | 2018-08-31 | 2021-05-10 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | Manufacturing method of liquid crystal aligning film, liquid crystal aligning film, and liquid crystal display element |
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