JPH07192215A - バルク型磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高抗磁力媒体の使用を可能とし、Ｓ／Ｎの低
下をすることなく記録・再生が行えるとともに磁性体の
渦電流の低減が可能なバルク型磁気ヘッドの提供を目的
とする。 【構成】 バルク型磁気ヘッド１は、左片部１ａと右辺
部１ｂとで構成され、前記左片部１ａはセラミックなど
の非磁性絶縁体２ａに、例えば透磁率の高いセンダスト
やＦｅ系窒素膜をスパッタリングなどの方法で堆積した
もので構成し第１の磁性体３が形成されるとともに、こ
の第１の磁性体３が前記非磁性体２ａに挟持された状態
で積層されている。一方、右片部１ｂはトラック幅Ｔｏ
を形成する第２の磁性体３が、セラミックなどの非磁性
絶縁体２ｂによって挟持して積層されるとともに、この
右辺部１ｂのポール長さＰｏを５μｍ以上３０μｍ以下
の寸法で構成したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ハードディスク等に用
いられる磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化が進み、ＨＤ
Ｄ（ハード・ディスク・ドライブ）ではトラック幅が１
０μｍ以下の２００Ｍｂ／inch2のシステムが商品化さ
れている。

【０００３】これらのシステムでは、２０ＭＨｚ以上の
転送速度を有し、このためインダクタンスが小さく且つ
高出力の磁気ヘッドが要求されており、一般には薄膜磁
気ヘッドが用いられている。

【０００４】このような薄膜磁気ヘッドを用いたハード
ディスク用ヘッドを図８に示す。図８は従来における薄
膜磁気ヘッドを用いたハードディスク用ヘッドの概略構
成を示すものであり、図８（ａ）は薄巻ヘッドをスライ
ダに貼着して構成する全体斜視図、図８（ｂ）は電磁変
換部を示す薄巻ヘッドのを拡大して構成を説明する説明
図である。

【０００５】図８（ａ）に示すように、非磁性体として
形成されたスライダ１０の正面側側面に、薄巻電磁変換
部としての薄巻ヘッド２０を貼着して構成されている。

【０００６】前記薄巻ヘッド２０が貼着されたスライダ
１０は、浮上面１０ａを上にして図示しないヘッド支持
機構に取り付けられるとともに、所定のヘッド圧をかけ
るようにしている。

【０００７】このような構成のハードディスク用ヘッド
に用いられている薄巻ヘッド２０は、例えば図８（ｂ）
に示すように、ギャップ２１を備えた非磁性層２２の外
側に第１の絶縁層２３が積層され、この絶縁層２３の上
面にコイル導体２４が敷設され、この敷設されたコイル
導体２４を各々絶縁するように第２の絶縁層２５が設け
られており、また、この第２の絶縁層２５を積重するよ
うに上部磁性層２６が設けられている。一方、前記非磁
性層２２の内側には、この非磁性層２２を前記第１の絶
縁層２３と挟持するように積層される下部磁性層２７が
設けられ、この下部磁性層２７には下部保護層２８が積
層され、この下部保護層２８を介して前記スライダ１０
に貼着されている。また、前記上部磁性層２６と前記下
部磁性層２７とは、スライダ浮上面とは反対方向の結合
部２９によって結合しており、一方、スライダ浮上面側
は、前記非磁性層２２を挟持するようにして積重し、ギ
ャップ２１を形成するとともに所定寸法のポールティッ
プ３０を形成して結合されている。

【０００８】ところで、このような構成の薄膜ヘッド２
０においては、通常、前記した第１及び第２の絶縁層
（以下、絶縁膜と記載）の材質として有機物が用いられ
ており、この有機物の中でも低温プロセスが可能なＮｉ
Ｆｅのメッキコアが用いられている。しかしながら、こ
のＮｉＦｅのメッキコアを絶縁膜として用いた場合に
は、例えばこのＮｉＦｅのメッキコアの飽和磁束密度Ｂ
ｓが１テスラ以下であるため、あまり強い磁界を発生す
ることができず、つまり、媒体の抗磁力Ｈｃが２０００
Oe 以上になると、重ね書き特性（オーバ・ライト）が
不十分となるという欠点がある。

【０００９】また、前記ポールティップ３０の厚さが数
μｍと小さいため、再生時にはこのポールティップ３０
のエッジで取り込む信号が主信号とで干渉を起こしてし
まい、その結果、波形が歪みＳ／Ｎ比を低下させるとい
う問題点がある。

【００１０】さらに、薄膜ヘッド２０において、通常ト
ラック幅方向を容易軸とすることにより、コアの高周波
透磁率を高くしているが、トラック幅が狭くなるにした
がって、反磁界が強くなり、トラック幅方向が容易軸に
はなりにくくなり、不規則なドメイン構造を取り易くな
る。このため、コアの高周波透磁率が低下し、これに伴
い再生出力の低下をまねくという不都合を生じてしま
う。

【００１１】そこで、例えば磁気ヘッドの磁束が通る方
向を磁化困難軸にできれば、高周波透磁率が高くなり、
再生出力も大きくなる。つまり、磁束はギャップ深さ方
向に浸入することから、この方向を磁化困難軸にする方
法が想定でき、この方法においてはトラック幅方向を容
易軸にすることの他に、これら２つの方向と互いに直交
するもう一方の方向である媒体走行方向を容易軸とする
方法が考えられる。

【００１２】しかしながら、この方法を用いた場合にお
いても、前記方向はＮｉＦｅのメッキ膜の膜厚方向であ
り、しかもメッキの成長方向であるため、リソグラフィ
の精度に制限されて、５μｍ以上の長い寸法にすること
は薄膜磁気ヘッドにおいては実際上不可能である。ま
た、薄膜磁気ヘッドではＮｉＦｅのメッキ膜の渦電流を
減少するためコアの厚さを薄くすればヘッドが飽和し易
くなり、高Ｈｃ媒体の書き込みが困難となってしまい、
これを防止するため絶縁皮膜を挟んで膜を積層した場合
には、前記したようにその絶縁膜が再生時に類似ギャッ
プとして作用してしまい、Ｓ／Ｎ比が低下するという不
都合がある。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】上記の如く、従来のハ
ードディスク用ヘッドに用いられる薄膜磁気ヘッドで
は、この薄膜ヘッドに用いられる絶縁膜の材質として、
有機物であるＮｉＦｅのメッキコアが用いられているた
め、強い磁界を発生することができず、媒体の抗磁力Ｈ
ｃが高くなった場合には、重ね書き特性（オーバー・ラ
イト）が不十分になるという欠点がある。

【００１４】また、構造的にポールティップの厚さが数
μｍと小さく構成されているため、再生時にはポールエ
ッジで取り込む信号が主信号とで干渉してしまい、その
結果、波形が歪みＳ／Ｎ比の低下をまねくという問題点
がある。

【００１５】さらに、前記ＮｉＦｅのメッキコア膜の渦
電流を低減するために、このコアの厚さを薄くした場合
には、ヘッドが飽和しやすくなり、高抗磁力媒体の書き
込みが困難になってしまうという不都合がある。

【００１６】そこで、本発明は上記問題に鑑みてなされ
たもので、高抗磁力媒体の使用を可能とし、Ｓ／Ｎの低
下をすることなく記録・再生が行えるとともに磁性体の
渦電流の低減が可能なバルク型磁気ヘッドの提供を目的
とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明に
よるバルク型磁気ヘッドは、ポール長さが所定値で形成
された一対のコアにそれぞれ巻線を巻回して構成された
バルク型磁気ヘッドにおいて、前記一対のコアの内少な
くとも一方のコアのポール長さを５μｍ以上３０μｍ以
下の寸法で構成したことを特徴とする。

【００１８】請求項２記載の本発明によるバルク型磁気
ヘッドは、請求項１記載のバルク型磁気ヘッドであっ
て、前記コアの少なくとも一部が略一軸磁気異方性を持
ち、その容易軸の方向がほぼ媒体走行方向であることを
特徴とする。

【００１９】

【作用】本発明においては、前記一対のコアの内少なく
とも一方のコアのポール長さを５μｍ以上３０μｍ以下
の寸法で構成することにより、コア側面間の磁気抵抗を
大きくすることができることで磁束のもれを少なくする
ことができる。したがって、インダクタンスは従来のバ
ルク型磁気ヘッドより極めて小さくすることができると
ともに、薄膜ヘッドと同程度のインダクタンスを得るこ
とができる。

【００２０】また、記録電流を増加させた場合には、前
記コアの磁気飽和はギャップ部から離れたところで生じ
ることで、入出力特性も前記薄膜ヘッドと同様に得るこ
とができる。

【００２１】

【実施例】実施例について図面を参照して説明する。図
１は本発明に係るバルク型磁気ヘッドの一実施例を示
し、積層型ヘッドとして構成した場合の斜視図である。

【００２２】図１に示すように、本実施例におけるバル
ク型磁気ヘッド１は、左片部１ａと右辺部１ｂとで構成
され、前記左片部１ａはセラミックなどの第１の非磁性
絶縁体２ａに、例えば透磁率の高いセンダストやＦｅ系
窒素膜をスパッタリングなどの方法で堆積したもので構
成して、第１の磁性体３が形成されるとともに、この第
１の磁性体３が前記非磁性体２に挟持された状態で積層
されている。一方、右片部１ｂはトラック幅３ａを形成
する第２の磁性体３が、セラミックなどの非磁性絶縁体
によって挟持して積層されるとともに、所定の寸法幅の
ポール長Ｐｏ（例えば５μｍ以上３０μｍ以下の寸法）
を有して構成され、さらにこの外側側面には強度をあげ
るために第２の非磁性絶縁体２ｂを積層して構成してい
る。

【００２３】また、前記左片部１ａと前記右片部１ｂと
は、正確に位置決めされるとともに、突き合わせて固定
され、この固定される段階では、前記左片部１ｂの第１
の磁性体３と前記左片部１ｂの第２の磁性体とが形成さ
れるギャップ５を介して磁路を形成するように位置決め
を行い、正確な固定作業を行うことによって、積層型バ
ルク磁気ヘッドを形成するようにしている。

【００２４】尚、本実施例においては、前記第２の磁性
体３ｂを有しているポールの長さＰｏを、例えば２０μ
ｍ以上５０μｍ以下の寸法になるように構成しており、
また、このポール長Ｐｏと前記第２の非磁性絶縁体２ｂ
とを合わせた寸法は、所定値を満足していれば良い。

【００２５】また、図中において左片部１ａには巻線孔
４が形成されており、図示はしないがこの左片部１ａ及
び前記右辺部１ｂにおいて巻線を施すようにしている。

【００２６】次に、このような構成の本実施例における
バルク型磁気ヘッドの動作を従来技術における薄膜ヘッ
ドあるいはバルク型磁気ヘッドの動作原理と比較して図
２を参照しながら詳細に説明する。図２は本発明に係る
バルク型磁気ヘッドの動作を説明する説明図であり、図
２（ａ）は本発明のバルク型磁気ヘッドの構成を示す概
念図、図２（ｂ）は従来における薄膜ヘッドの構成を示
す断面図、図２（ｃ）は従来におけるバルク型磁気ヘッ
ドの構成を示す断面図である。

【００２７】本実施例においては、従来技術としての薄
膜ヘッドにおける問題点を解決するとともに、薄膜ヘッ
ドより極めて高性能のバルク型磁気ヘッドを構成するこ
とを特徴としている。

【００２８】尚、これら図中における磁気ヘッドのそれ
ぞれのトラック幅を、例えば５μｍと想定して説明す
る。

【００２９】先ず、図２（ｂ）に示すように、薄膜磁気
ヘッド２０では、上部磁性層２６及び下部磁性層２７を
示すコアが薄く、そのため、コイル（図示せず）と鎖交
する磁性体の実行体積が少なく、またコア側面積が小さ
いため側面間の磁気抵抗が大きく、側面間通しの磁束の
もれも少ない。したがって、インダクタンスが小さい。
しかしながら、コアの磁気抵抗も大きいため、デプスを
小さくしなければ効率が悪い。また、記録電流を増加さ
せていくと、ギャップ２１から離れた部分が最初に磁気
飽和を起こしてしまい、そのためヘッド効率が低下し、
電流をそれ以上に増やしてもギャップ２１付近の磁界は
強くならず、再生出力も変化しない。

【００３０】一方、図２（ｃ）に示す従来のバルクヘッ
ド１１では、通常巻線（図示せず）は被服銅線で行って
いる。そのため巻線孔１４は薄膜ヘッド２０よりも大き
く、したがって磁路長も大きい。また、コアが一軸磁気
異方性を有していると、困難軸方向の透磁率が高いが、
容易軸方向の高周波透磁率は低い。形状からわかるよう
に、磁路の磁気抵抗を全体として小さくするためには、
磁気異方性のない等方向磁性体が望ましい。そうすれ
ば、コアの断面積が薄膜ヘッドと比べて大きいため、磁
気抵抗が小さく、ギャップ深さが大きくてもヘッド効率
は良い。しかしながら、コア側面間磁気抵抗も比較的小
さいため側面からの磁束のもれも大きい。したがって、
たとえこの磁気ヘッドのギャップ深さを小さくしてもイ
ンダクタンスは薄膜ヘッド程には小さくならない。ま
た、記録電流を増やしていくと、ギャップ付近磁気飽和
するまで他の部分は飽和しない。このため、電流を増や
していくと磁界が比例して強まり、媒体の記録減磁を引
き起こす。したがってと通常は、再生出力のピーク付近
記録電流を設定するという調整が必要である。

【００３１】さて、図２（ａ）に示す本発明のバルク型
磁気ヘッドを前述した薄膜ヘッド２０及び従来のバルク
型磁気ヘッド１１とで比較した場合においては、図２
（ａ）に示すように本実施例におけるバルク型ヘッド１
は、ギャップ５面の左片部１ａが図２（ｃ）に示すバル
ク型磁気ヘッド１４の左片部１１ａとまったく同様に構
成されており、つまり等方的な磁性体である。また、右
片部１ｂは図２（ｃ）に示すバルク型磁気ヘッド１４の
右片部１１ｂを極めて薄くしたものである。尚、図中に
示す前記右片部１ｂの寸法幅ｍ（厚さ）を例えば、２０
μｍとして示し、媒体走行方向に磁化容易軸を持ってい
るものとする。

【００３２】そのため、このバルク型磁気ヘッド１にお
ける右片部１ｂの磁性体の断面積は、図２（ｂ）に示す
薄膜ヘッド２０より小さく、また従来のバルク型磁気ヘ
ッド１４よりも大きいことになり、さらに、前記右片部
１ｂの磁性体の長さは前記薄膜磁気ヘッド２０よりも長
いことになる。

【００３３】一方、このバルク型磁気ヘッド１の右片部
１ｂのポールＰの厚さは、薄膜ヘッド２０のポール３０
の厚さ４μｍより遥かに大きい２０μｍとなっており、
前記薄膜ヘッド２０のトラック幅５μｍより遥かに大き
いため、従来のバルク型磁気ヘッド１１において媒体方
向を容易軸とすることは、前記薄膜ヘッド２０のトラッ
クを容易軸とすることよりも遥かに容易である。

【００３４】したがって、本実施例におけるバルク型磁
気ヘッド１の右片部１ｂの透磁率は前記薄膜ヘッド２０
よりも大きくなる。したがって、バルク型磁気ヘッド１
の右片部１ｂ全体の磁気抵抗は前記薄幕ヘッド２０より
小さいと想定されるが、この薄膜ヘッド２０の右片のギ
ャップから離れた部分は図２の紙面垂直方向に広がって
いるため、図２で考えるよりは薄膜ヘッド２０の磁気ヘ
ッド抵抗は小さい。

【００３５】その広がりの程度はコアの後部突き合わせ
部分の広がりと同じ程度であり、およそ３０μｍ程度を
越えない。結局、バルク型磁気ヘッド１の右片部１ｂ全
体の気抵抗はほぼ前記薄巻磁気ヘッド２０とほぼ同程度
である。また、左辺部１ａは従来のバルク型磁気ヘッド
１１と同様であるから、磁気抵抗は小さい。したがっ
て、ギャップ部以外の磁気抵抗は、この従来のバルク型
磁気ヘッド１１より大きい。しかし、ギャップ深さはバ
ルク型磁気ヘッド１と同程度に小さいからこの磁気ヘッ
ド１の効率は従来の磁気ヘッド１１と同程度である。ま
た、コア側面積が小さいため側面間の磁気抵抗が大き
く、側面間通しの磁束のもれも少ない。したがって、イ
ンダクタンスは従来のバルク型磁気ヘッド１１よりも遥
かに小さく、前記薄膜磁気ヘッド２０と同程度である。

【００３６】したがって、本実施例のバルク型磁気ヘッ
ド１の効率は、薄膜ヘッド２０と同等であり、しかもイ
ンダクタンスも薄膜ヘッドと同等ということになる。ま
た、例えば記録電流を増加させた場合には、コアの磁気
飽和はギャップ部から離れたところで生ずるため、入出
力特性は前記薄膜ヘッド２０と同様のカーブとなる。

【００３７】また、本実施例のバルク型磁気ヘッド１で
は、従来のバルク型磁気ヘッド１１よりポールＰの長さ
が長いため、コンター効果が無視できるほど小さく、Ｓ
／Ｎ比が良く、また、後述するように、ＮｉＦｅのメッ
キコアより極めて磁気飽和しにくい磁性膜を用いること
が可能であり、これにより、従来用いることのできなか
った高抗磁力媒体の使用を可能とし、しかもこれらの磁
性膜はＮｉＦｅより硬く摩耗しないため、現状の薄膜ヘ
ッドで避けられないポールのＡＢＳ面からの後退を減少
することができる。

【００３８】さらに、磁性体の渦電流を低減するため
に、コアを薄い磁性体薄膜を積層体とすることも可能で
あり、高周波特性は前記薄膜ヘッド２０よりも良好であ
る。

【００３９】以上説明したことから、本実施例における
バルク型磁気ヘッド１は、前記薄膜ヘッド２０の性能を
上回る性能を持つことは明かである。

【００４０】図３は本発明に係るバルク型磁気ヘッドの
製造方法の一例を示すものである。

【００４１】図３（ａ）に示す磁気ヘッド部材５０は、
セラミックなどの非磁性体絶縁体に例えば、センダスト
やＦｅ系窒素をスパッタリングなどの方法で堆積させた
ものである。この段階で、前記磁性膜の厚さをトラック
幅と等しくしておくように形成しておく。また、必要が
あれば、絶縁体を挟んで磁性膜を多層にしたものでも良
い。

【００４２】また、前記磁気ヘッド部材５０は、このセ
ラミックの表面に接合ガラスをコーティングして成形さ
れ、そしてこの磁気ヘッド部材５０を、例えば複数個用
意し、図３（ｂ）に示すように積み重ね、上下から加圧
しながら加熱し、一体化して成形する。

【００４３】次に、図３（ｂ）に示すように積層して一
体化した磁気ヘッド部材を波線（図中における波線）に
沿って切断し、図３（ｃ）に示すの磁気ヘッド板部材５
０ａを得る。そして、前記図３（ｂ）に示す磁気ヘッド
部材を切断した磁気ヘッド板部材板５０ａの総数の内、
半数分の前記磁気ヘッド板部材５ａに、例えば図３
（ｄ）に示すように前記磁気ヘッド板部材５０ａの下面
にセラミックを接合し、磁気ヘッド板部材５０ｂを成形
する。

【００４４】次に、図３（ｅ）に示すように、前記磁気
ヘッド部材５０ｂの磁性体を含む部分の厚さが５０μｍ
以下の所定の厚さになるように図３（ｄ）に示す磁気ヘ
ッド板部材５０ｂの上面を研削し、この上面の表面を鏡
面に仕上げ、磁気ヘッド板部材５０ｃを成形する。

【００４５】一方、図３（ｃ）に示す切断された前記磁
気ヘッド板部材５０ａの残りの半数に、図３（ｆ）に示
すように巻線溝４を施すようにする。この場合の巻線溝
４は、ポールＰの長さを例えば、５μｍから３０μｍの
範囲の寸法で成形するようにしている。そして、この磁
気ヘッド板部材５０ａのギャップ対向面を鏡面に仕上げ
る。

【００４６】次に、図３（ｅ）に示す磁気ヘッド板部材
５０ｃと、図３（ｆ）に示す磁気ヘッド板部材５０ｄと
の少なくともどちらか一方のギャップ対向面にギャップ
膜を形成し、次いで図３（ｇ）に示すように、磁性膜が
ギャップを介して磁路を形成するよう、前記磁気ヘッド
板部材５０ｃと５０ｄとを正確に突き合わせて固定し、
巻線穴のガラス棒をいれて加熱し一体化する。

【００４７】そして、波線の沿って分割すれば、図１に
示すような本実施例におけるバルク型磁気ヘッドと成す
ことができる。

【００４８】尚、図１に示すバルク型磁気ヘッドはいわ
ゆる積層型ヘッドに本発明の概念によって構成・適用し
たものであるが、本発明は積層型ヘッドに限定されるも
のではなく、例えばメタルインギャップ（ＭＩＧ）型ヘ
ッドに対しても構成・適用することを可能とし、高周波
特性上効果を得ることができることは勿論である。

【００４９】そこで、前記ＭＩＧヘッドに本発明を適用
した場合を図４に示す。

【００５０】図４は本発明に係るバルク型磁気ヘッドの
第２実施例を示し、図４（ａ）はＭＩＧヘッドに用いた
場合の構成を示す斜視図、図４（ｂ）は従来におけるＭ
ＩＧヘッドの構成を示す斜視図である。

【００５１】図４（ｂ）に示すように、一般に高密度用
として使用されている磁気ヘッドにＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ
Ｉｎ Ｇａｐ）ヘッド５０があることは周知のところ
であり、ここで簡単に説明すればこれはバルク型ヘッド
のリード／ライト・ギャップ５１のセンタ・コア部分に
センダスト（鉄・ケイ素・アルミニウム合金、透磁率が
高いことを特徴とする）などの金属膜５０ｄを付けて特
性を改善したものである。

【００５２】そこで、本実施例では、前記高密度用とし
て使用されているＭＩＧヘッド５０を本発明に係るよう
に構成し、高周波特性上効果を得るために改善したもの
であり、公知として構成している図４（ｂ）に示すＭＩ
Ｇヘッドを、例えば一点斜線に沿って除去し、除去され
た部分にセラミック等の磁性体５０ｂ（左片部）を接合
した場合の一例である。尚、この場合のセンターコアと
の接合面には、フェライト等で形成する磁性膜５０ｅを
積層するようにしている。

【００５３】したがって、このような構成によれば、従
来におけるＭＩＧヘッドの特性を生かすとともに、さら
に前記実施例と同様に効果を得ることができることは明
かである。

【００５４】図５は本発明に係るバルク型磁気ヘッドの
第３実施例を示し、図１に示すバルク型ヘッドを例えば
ハードディスク用ヘッドの形状に構成した場合のヘッド
の斜視図である。

【００５５】図５に示すように、本実施例におけるハー
ドディスク用ヘッドは、磁性膜（第１、第２の磁性体３
ａ、３ｂ）としてＦｅＴａＮ膜を用い、トラック幅が６
μｍとなるようにこの磁性膜を積層し、ヘッド形状での
媒体走行方向に磁気異方性を有するよう、巻線の溝のな
い方のコア１ｙを磁界中アニールを施し、異方性磁界が
３エースルテッドに構成している。そして、巻線の溝の
ない方のコア１ｙと組合せ、無磁界中でガラス接合し、
図５に示す本実施例のハードディスク用ヘッドと成す。
このハードディスク用ヘッドでは、巻線孔４の存在する
方を等方的、存在しない方は一軸磁気異方性がついてい
るものと思われる。

【００５６】そこで、例えばこのように構成のハードデ
ィスク用ヘッドを実際に試作し、その特性を測定した場
合のデータを図６及び図７に示す。尚、この場合のヘッ
ドの巻線数は４５Ｔとし、トラック幅を６μｍとするこ
とにする。

【００５７】図６に示す特性図は、例えば巻線の溝のな
い方のポール長Ｐを変えた場合のインダクタンスのデプ
ス依存性を示しており、この図からわかるように、ポー
ル長Ｐが小さくなるにつれてインダクタンスは低下し、
しかもデプス依存性が大きくなる。図７は、そのデータ
を、ギャップ深さが２μｍの場合のインダクタンスのポ
ール長Ｐの依存性として示したものであり、ポール長が
５０μｍ以下になると、本発明の効果が良く現れてくる
ことを示している。

【００５８】また、本発明の磁界中熱処理は、トラック
幅が広い場合にはトラック幅方向に磁気異方性つけるこ
とができるため、本実験のようにトラック幅方向に異方
性をつけた方が有利になることは、トラック幅が目標ポ
ール長より短くなったときであり、目標ポール長が製造
上２０μｍ程度とすれば、トラック幅が２０μｍ以下の
磁気ヘッドに対して、有効である。

【００５９】尚、本発明は、ハードディスク用のヘッド
に限定されるものではなく、フロッピ、ＶＴＲなどの磁
気記録一般に秘録用いることができることは勿論であ
る。

【００６０】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、高抗
磁力媒体の使用を可能とし、Ｓ／Ｎの低下をすることな
く記録・再生が行うことができるとともに、磁性体の渦
電流の低減を可能にし、従来の薄膜ヘッドの性能より上
回るバルク型ヘッドを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１乃至図３は本発明に係るバルク型磁気ヘッ
ドの一実施例を示し、図１は積層型磁気ヘッドに用いて
構成した場合のバルク型磁気ヘッドの斜視図。

【図２】図２は本発明の磁気ヘッドの概念を説明する説
明図。

【図３】図３は図１に示すバルク型磁気ヘッドの製造方
法を示す説明図。

【図４】図４は本発明の他の実施例を示し、ＭＩＧヘッ
ドに用いた場合の磁気ヘッドの斜視図。

【図５】図５は本発明の第３実施例を示し、ハードディ
スク用ヘッドに用いた場合の磁気ヘッドの斜視図。

【図６】図６及び図７は図５に示すハードディスク用ヘ
ッドの特性を示す特性図であり、図６はギャップの深さ
とインダクタンスとの特性を示した図。

【図７】図７はポール長とインダクタンスとの特性を示
した図。

【図８】図８は従来における薄膜磁気ヘッドの構成を説
明する構成図。

【符号の説明】

１…バルク型磁気ヘッド １ａ…左片部 １ｂ…右片部 ２ａ…第１の非磁性絶縁体 ２ｂ…第２の非磁性絶縁体 ３ａ…第１の磁性体 ３ｂ…第２の磁性体 ４…巻線孔 ５…ギャップ Ｔｏ…トラック幅 Ｐ…ポールティップ Ｐｏ…ポール長

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成６年１月１４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２１】

【実施例】実施例について図面を参照して説明する。図
１は本発明に係るバルク型磁気ヘッドの第１実施例を示
し、積層型ヘッドとして構成した場合の斜視図である。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図１

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】図１乃至図３は本発明に係るバルク型磁気ヘッ
ドの第１実施例を示し、図１は積層型磁気ヘッドに用い
て構成した場合のバルク型磁気ヘッドの斜視図。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図４

【補正方法】変更

【補正内容】

【図４】図４は本発明の第２実施例を示し、ＭＩＧヘッ
ドに用いた場合の磁気ヘッドの斜視図。

【手続補正４】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】全図

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

【図２】

【図４】

【図５】

【図６】

【図３】

【図７】

【図８】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポール長さが所定値で形成された一対のコ
   アにそれぞれ巻線を巻回して構成されたバルク型磁気ヘ
   ッドにおいて、 前記一対のコアの内少なくとも一方のコアのポール長さ
   を５μｍ以上３０μｍ以下の寸法で構成したことを特徴
   とするバルク型磁気ヘッド。
2. 【請求項２】前記コアの少なくとも一部が略一軸磁気異
   方性を持ち、その容易軸の方向がほぼ媒体走行方向であ
   ることを特徴とする請求項１記載のバルク型磁気ヘッ
   ド。