JPH07177981A - 加熱調理器の調理面及びその製造方法 - Google Patents
加熱調理器の調理面及びその製造方法Info
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- JPH07177981A JPH07177981A JP32910293A JP32910293A JPH07177981A JP H07177981 A JPH07177981 A JP H07177981A JP 32910293 A JP32910293 A JP 32910293A JP 32910293 A JP32910293 A JP 32910293A JP H07177981 A JPH07177981 A JP H07177981A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電器調理器等に使用させる調理板の表面処理
構造に於いて、フッ素樹脂を表面に塗布した調理板を金
属へらを用いてもフッ素樹脂が剥がれない耐摩耗性に優
れた調理板を得ることを目的とする。 【構成】 ホットプレートの凹凸形状のないプレート１
１の表面１２上に溶射層１３が成形され、その上にフッ
素樹脂の１４のプライマー層と１５のトップコートが塗
布させているが、溶射層１３の表面には凹凸部があり、
Ｒａ＝９〜１３μｍ、Ｒｍａｘ＝６０〜１１０μｍ、膜
厚は３０〜８０μｍにすることにより、金属へらで調理
面を強く摩擦してもフッ素樹脂がほとんど剥がれないプ
レート構造が得られる。
構造に於いて、フッ素樹脂を表面に塗布した調理板を金
属へらを用いてもフッ素樹脂が剥がれない耐摩耗性に優
れた調理板を得ることを目的とする。 【構成】 ホットプレートの凹凸形状のないプレート１
１の表面１２上に溶射層１３が成形され、その上にフッ
素樹脂の１４のプライマー層と１５のトップコートが塗
布させているが、溶射層１３の表面には凹凸部があり、
Ｒａ＝９〜１３μｍ、Ｒｍａｘ＝６０〜１１０μｍ、膜
厚は３０〜８０μｍにすることにより、金属へらで調理
面を強く摩擦してもフッ素樹脂がほとんど剥がれないプ
レート構造が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はホットプレート、電気鍋
等の加熱調理器に用いる調理面構造に関するもので、耐
摩耗性能が向上するように改良されたものである。
等の加熱調理器に用いる調理面構造に関するもので、耐
摩耗性能が向上するように改良されたものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のホットプレート、電気鍋等の加熱
調理器の調理面構造は、耐摩耗性を向上させるために、
例えば、特開平５−２３２５３号公報に記載されている
ような構成を採っていた。その詳細を図６で説明する
と、１は金属素材で、この金属素材１の表面に予め２の
凹凸部を形成し、前記凹凸部２を覆うように８０±４０
μｍの厚みを有する３の溶射層が形成されている。そし
て溶射層３の上に、厚み１０±５μｍである４のポリシ
ロキサン系バインダーが設けられ、その上に１０〜３０
μｍの厚みを有する５のフッ素樹脂層が設けられてい
る。またフッ素樹脂層５の表面は６の凸部ができてい
る。
調理器の調理面構造は、耐摩耗性を向上させるために、
例えば、特開平５−２３２５３号公報に記載されている
ような構成を採っていた。その詳細を図６で説明する
と、１は金属素材で、この金属素材１の表面に予め２の
凹凸部を形成し、前記凹凸部２を覆うように８０±４０
μｍの厚みを有する３の溶射層が形成されている。そし
て溶射層３の上に、厚み１０±５μｍである４のポリシ
ロキサン系バインダーが設けられ、その上に１０〜３０
μｍの厚みを有する５のフッ素樹脂層が設けられてい
る。またフッ素樹脂層５の表面は６の凸部ができてい
る。
【０００３】以上のような調理面構造において、金属へ
らで調理面を摩擦すると、フッ素樹脂層５の凸部６及び
ポリシロキサン系バインダー４の凸部７が若干剥がれ
る。しかし溶射層３はポリシロキサン系バインダー４及
びフッ素樹脂層５に比べて硬く、金属へらで溶射層３の
凸部８を崩すことはなく、それにより溶射層３の凸部８
で金属へらの摩耗を支えるためフッ素樹脂層５は若干剥
がれた状態で抑えられ、フッ素樹脂が剥がれにより生じ
る焦げ付きは防げる。故に金属へらの使用でもおいしく
調理ができた。
らで調理面を摩擦すると、フッ素樹脂層５の凸部６及び
ポリシロキサン系バインダー４の凸部７が若干剥がれ
る。しかし溶射層３はポリシロキサン系バインダー４及
びフッ素樹脂層５に比べて硬く、金属へらで溶射層３の
凸部８を崩すことはなく、それにより溶射層３の凸部８
で金属へらの摩耗を支えるためフッ素樹脂層５は若干剥
がれた状態で抑えられ、フッ素樹脂が剥がれにより生じ
る焦げ付きは防げる。故に金属へらの使用でもおいしく
調理ができた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし金属へらで調理
面を強く摩擦するとフッ素樹脂層の凸部及びポリシロキ
サン系バインダーが剥がれると共に、溶射層の凸部も崩
れてしまい、フッ素樹脂が広い範囲で剥がれるという問
題が起きた。それにより調理時にフッ素樹脂の無い部分
より焦げ付きが生じ、うまく調理できなくなるという課
題があった。
面を強く摩擦するとフッ素樹脂層の凸部及びポリシロキ
サン系バインダーが剥がれると共に、溶射層の凸部も崩
れてしまい、フッ素樹脂が広い範囲で剥がれるという問
題が起きた。それにより調理時にフッ素樹脂の無い部分
より焦げ付きが生じ、うまく調理できなくなるという課
題があった。
【０００５】そのため金属へらで強く摩擦されて調理面
に大きな荷重がかかっても溶射層の凸部が崩れないよう
な硬度の溶射層を開発することを目的とする。
に大きな荷重がかかっても溶射層の凸部が崩れないよう
な硬度の溶射層を開発することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の第１の手段は、調理板として表面は粗さがＲ
ａ＝５μｍ以下で凹凸が形成されていない形状である金
属素材の母材と、前記母材の表面上に設けた溶射層と、
前記溶射層の上にフッ素樹脂を塗布して焼き付けた加熱
調理期の調理板に於いて、溶射層は膜厚が３０〜８０μ
ｍで、溶射層の表面粗さはＲａ＝９〜１３μｍ,Ｒｍａ
ｘ＝６０〜１１０μｍであり、溶射材料にはアルミナー
チタニアセラミックスとニッケルアルミニウム合金を混
合した材料またはアルミナーチタニアセラミックスとニ
ッケルアルミニウム合金を圧縮成形、焼結した材料を用
いた調理面にしたものである。
に本発明の第１の手段は、調理板として表面は粗さがＲ
ａ＝５μｍ以下で凹凸が形成されていない形状である金
属素材の母材と、前記母材の表面上に設けた溶射層と、
前記溶射層の上にフッ素樹脂を塗布して焼き付けた加熱
調理期の調理板に於いて、溶射層は膜厚が３０〜８０μ
ｍで、溶射層の表面粗さはＲａ＝９〜１３μｍ,Ｒｍａ
ｘ＝６０〜１１０μｍであり、溶射材料にはアルミナー
チタニアセラミックスとニッケルアルミニウム合金を混
合した材料またはアルミナーチタニアセラミックスとニ
ッケルアルミニウム合金を圧縮成形、焼結した材料を用
いた調理面にしたものである。
【０００７】第２の手段は、溶射材料には粒度が５０〜
１１０μｍで、５０〜７５μｍと７５〜１１０μｍの粒
度配合を３：７の割合にした材料を用いた加熱調理器の
調理面にしたものである。
１１０μｍで、５０〜７５μｍと７５〜１１０μｍの粒
度配合を３：７の割合にした材料を用いた加熱調理器の
調理面にしたものである。
【０００８】第３の手段は、溶射材料を溶射付着する際
に、溶射条件をアークガスを４０ｐｓｉ以下とし、電流
を８５０Ａ以上とし、パウダーガスを５０ｐｓｉ以上と
した加熱調理器の調理面の製造方法としたものである。
に、溶射条件をアークガスを４０ｐｓｉ以下とし、電流
を８５０Ａ以上とし、パウダーガスを５０ｐｓｉ以上と
した加熱調理器の調理面の製造方法としたものである。
【０００９】
【作用】上記した第１の手段の構成によって、Ｒａ＝５
μｍ以下で凹凸が形成されていない金属素材表面に厚み
が３０〜８０μｍで、表面粗さがＲａ＝９〜１３μｍ,
Ｒｍａｘ＝６０〜１１０μｍの溶射層を設けている。こ
れにより従来の構成の溶射層表面と同様に、溶射層の表
面が凹凸形状になり、溶射層の上にフッ素樹脂を塗布す
ると、フッ素樹脂の表面も従来と同様に凹凸形状にな
る。そして金属へらで調理面を摩擦すると、従来の構成
と同様に本発明の構成もフッ素樹脂層の表面の凸部は剥
がれ、金属へらは溶射層の表面の凸部に当たる。ここで
従来の溶射層の表面形状は調理板表面に形成した凹凸の
上に予め定めた膜厚だけ塗って形成しているため、溶射
層表面の凸部は調理板表面の凸部形状の上に形成され、
溶射層表面の凸部に金属へらから負荷を受けると、調理
板表面の凸部にも負荷がかかる。これに対して本発明の
構成では、凹凸形状のない調理板の表面に溶射を設けて
いるので、溶射層表面の凹凸形状の凸部に金属へらから
負荷を受けても調理板表面には負荷はほとんど受けな
い。そして一般に調理板の材質には熱伝導性に優れたア
ルミニウル合金が用いられているが、このアルミニウム
合金は溶射材料のセラミックスに比べて硬度が低いた
め、金属へらで強く調理面を摩擦すると従来の構成では
溶射層の凸部はアルミニウム合金でできた調理板の凸部
から崩れしまい、広い部分でフッ素樹脂層の剥がれが生
ずる。それに対して本発明の構成の溶射層の凸部はプレ
ート基材のアルミニウム合金の影響をほとんど受けずに
溶射層で金属へらからの負荷を受けるため、崩れること
はなくフッ素樹脂はほとんど剥がれない。
μｍ以下で凹凸が形成されていない金属素材表面に厚み
が３０〜８０μｍで、表面粗さがＲａ＝９〜１３μｍ,
Ｒｍａｘ＝６０〜１１０μｍの溶射層を設けている。こ
れにより従来の構成の溶射層表面と同様に、溶射層の表
面が凹凸形状になり、溶射層の上にフッ素樹脂を塗布す
ると、フッ素樹脂の表面も従来と同様に凹凸形状にな
る。そして金属へらで調理面を摩擦すると、従来の構成
と同様に本発明の構成もフッ素樹脂層の表面の凸部は剥
がれ、金属へらは溶射層の表面の凸部に当たる。ここで
従来の溶射層の表面形状は調理板表面に形成した凹凸の
上に予め定めた膜厚だけ塗って形成しているため、溶射
層表面の凸部は調理板表面の凸部形状の上に形成され、
溶射層表面の凸部に金属へらから負荷を受けると、調理
板表面の凸部にも負荷がかかる。これに対して本発明の
構成では、凹凸形状のない調理板の表面に溶射を設けて
いるので、溶射層表面の凹凸形状の凸部に金属へらから
負荷を受けても調理板表面には負荷はほとんど受けな
い。そして一般に調理板の材質には熱伝導性に優れたア
ルミニウル合金が用いられているが、このアルミニウム
合金は溶射材料のセラミックスに比べて硬度が低いた
め、金属へらで強く調理面を摩擦すると従来の構成では
溶射層の凸部はアルミニウム合金でできた調理板の凸部
から崩れしまい、広い部分でフッ素樹脂層の剥がれが生
ずる。それに対して本発明の構成の溶射層の凸部はプレ
ート基材のアルミニウム合金の影響をほとんど受けずに
溶射層で金属へらからの負荷を受けるため、崩れること
はなくフッ素樹脂はほとんど剥がれない。
【００１０】また溶射材料には従来のアルミナーチタニ
アではなく、アルミナーチタニアセラミックスとニッケ
ルアルミニウム合金を混合した材料またはアルミナーチ
タニアセラミックスとニッケルアルミニウム合金を圧縮
成形、焼結した材料を用いることにより、ニッケルアル
ミニウム合金が溶射付着時に粒子同士の結合力を向上さ
せるため、溶射層表面に形成する凸部形状は強靱にな
り、金属へらで調理面を摩擦されても更に崩れにくくな
る。
アではなく、アルミナーチタニアセラミックスとニッケ
ルアルミニウム合金を混合した材料またはアルミナーチ
タニアセラミックスとニッケルアルミニウム合金を圧縮
成形、焼結した材料を用いることにより、ニッケルアル
ミニウム合金が溶射付着時に粒子同士の結合力を向上さ
せるため、溶射層表面に形成する凸部形状は強靱にな
り、金属へらで調理面を摩擦されても更に崩れにくくな
る。
【００１１】以上より本発明の構成により金属へらで調
理板表面を強く摩擦されても、フッ素樹脂の剥がれは最
小限に抑えられ、調理中に焦げ付くことはなく、高寿命
でおいしく調理ができる調理面を有する加熱調理期を提
供することができる。
理板表面を強く摩擦されても、フッ素樹脂の剥がれは最
小限に抑えられ、調理中に焦げ付くことはなく、高寿命
でおいしく調理ができる調理面を有する加熱調理期を提
供することができる。
【００１２】第２の手段の構成、すなわち溶射材料の粒
度を従来品の細かい粒度から５０〜１１０μｍの大きな
粒子に変え、そしてその粒度の粒度配合を５０〜７５μ
ｍと７５〜１１０μｍの粒度配合を３：７の割合にする
ことにより、溶射材料の密度は最も高く、溶射付着させ
たときにも密度が高く、粒子間の結合力が高くなり硬度
の溶射層が得られる。
度を従来品の細かい粒度から５０〜１１０μｍの大きな
粒子に変え、そしてその粒度の粒度配合を５０〜７５μ
ｍと７５〜１１０μｍの粒度配合を３：７の割合にする
ことにより、溶射材料の密度は最も高く、溶射付着させ
たときにも密度が高く、粒子間の結合力が高くなり硬度
の溶射層が得られる。
【００１３】第３の手段すなわち溶射付着させる際に、
アークガスを低くして、電流とパウダーガスを高くする
ことにより、これまで溶射付着するのが困難であった大
きい粒度の溶射材料でも本発明の構成の溶射層をつくる
ことができる。
アークガスを低くして、電流とパウダーガスを高くする
ことにより、これまで溶射付着するのが困難であった大
きい粒度の溶射材料でも本発明の構成の溶射層をつくる
ことができる。
【００１４】この原理を説明すると、先ずアークガスを
低くすることで溶射材料がフレームの中にいる時間が長
くなり、材料は溶け易くなる。次に電流を上げることで
フレームの火力が増し、材料は溶け易くなる。これによ
り、これまで溶けにくく溶射付着できなかった粒度の大
きい材料も溶射付着することができる。またパウダーガ
スを高くすることにより、フレームの中に送り込む量が
増え、一度の行程で目標の膜厚の溶射層が得ることがで
き、短時間で作業ができると共に数回の重ね塗りでは層
と層との密着力が低下するのに対し、密着力の高い溶射
層を得ることができる。
低くすることで溶射材料がフレームの中にいる時間が長
くなり、材料は溶け易くなる。次に電流を上げることで
フレームの火力が増し、材料は溶け易くなる。これによ
り、これまで溶けにくく溶射付着できなかった粒度の大
きい材料も溶射付着することができる。またパウダーガ
スを高くすることにより、フレームの中に送り込む量が
増え、一度の行程で目標の膜厚の溶射層が得ることがで
き、短時間で作業ができると共に数回の重ね塗りでは層
と層との密着力が低下するのに対し、密着力の高い溶射
層を得ることができる。
【００１５】
（実施例１）以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
【００１６】図１は第一の実施例を示すホットプレート
のプレートの断面図で、図２は図１のプレート１の調理
面の部分拡大図であり、図１、図２において１１はホッ
トプレートのプレートで、１２はプレート１１の調理面
となる表面で、プレート１１の表面１２上に１３の溶射
層が成形されている。そして溶射層１３の上にフッ素樹
脂の１４のプライマー層と１５のトップコートが塗布さ
せている。１６は溶射層の凹凸部であり、１７はプライ
マー層１４の凸部であり、１８はトップコート１５の凸
部である。
のプレートの断面図で、図２は図１のプレート１の調理
面の部分拡大図であり、図１、図２において１１はホッ
トプレートのプレートで、１２はプレート１１の調理面
となる表面で、プレート１１の表面１２上に１３の溶射
層が成形されている。そして溶射層１３の上にフッ素樹
脂の１４のプライマー層と１５のトップコートが塗布さ
せている。１６は溶射層の凹凸部であり、１７はプライ
マー層１４の凸部であり、１８はトップコート１５の凸
部である。
【００１７】次に図１および図２を参照して上記の構成
を有する調理面構造の製造方法について説明する。
を有する調理面構造の製造方法について説明する。
【００１８】まずプレート１１はアルミニウム合金のダ
イカスト成形で製造され、調理面となる表面１２は凹凸
形状の無い形状にする。そして表面１２にエアー圧力５
〜７Ｋｇ／ｃｍ2で約３分サンドブラスト処理（＃３
６、酸化アルミナ）を施し、表面１２を粗面化する。こ
こでブラスト処理により粗面化するが、これはプレート
１１の表面１２を洗浄するもので、プレート１１の表面
１２は凹凸を形成しない。そしてプラズマ溶射装置を用
いてプレート１１の表面１２に溶射材料を溶射付着させ
て溶射層１３を設ける。ここで溶射材料としては従来の
Ａｌ2Ｏ3ー２．３％ＴｉＯ2の溶射材料に代えて、Ａｌ2
Ｏ3 ９１％、ＴｉＯ2 ４％、ＮｉＡｌ５％を混合させ
た材料を用いて、プラズマ装置のガンとプレート１１の
表面１２との距離は約１０ｃｍとする。そして溶射層の
膜厚は３０〜８０μｍ、山１６の粗さはＲａ＝９〜１３
μｍ,Ｒｍａｘ＝６０〜１１０μｍになるように形成す
る。つぎにフッ素樹脂のプライマー層１４を膜厚１０±
５μｍに塗布して１２０〜１５０℃で１０分間予備乾燥
した後、フッ素樹脂のトップコート１５を膜厚２０±１
０μｍ塗布して１２０〜１５０℃で１０分間予備乾燥さ
せ、３８０℃で２０分焼成する。
イカスト成形で製造され、調理面となる表面１２は凹凸
形状の無い形状にする。そして表面１２にエアー圧力５
〜７Ｋｇ／ｃｍ2で約３分サンドブラスト処理（＃３
６、酸化アルミナ）を施し、表面１２を粗面化する。こ
こでブラスト処理により粗面化するが、これはプレート
１１の表面１２を洗浄するもので、プレート１１の表面
１２は凹凸を形成しない。そしてプラズマ溶射装置を用
いてプレート１１の表面１２に溶射材料を溶射付着させ
て溶射層１３を設ける。ここで溶射材料としては従来の
Ａｌ2Ｏ3ー２．３％ＴｉＯ2の溶射材料に代えて、Ａｌ2
Ｏ3 ９１％、ＴｉＯ2 ４％、ＮｉＡｌ５％を混合させ
た材料を用いて、プラズマ装置のガンとプレート１１の
表面１２との距離は約１０ｃｍとする。そして溶射層の
膜厚は３０〜８０μｍ、山１６の粗さはＲａ＝９〜１３
μｍ,Ｒｍａｘ＝６０〜１１０μｍになるように形成す
る。つぎにフッ素樹脂のプライマー層１４を膜厚１０±
５μｍに塗布して１２０〜１５０℃で１０分間予備乾燥
した後、フッ素樹脂のトップコート１５を膜厚２０±１
０μｍ塗布して１２０〜１５０℃で１０分間予備乾燥さ
せ、３８０℃で２０分焼成する。
【００１９】このように構成されたプレート構造では、
従来の構成のように溶射層の凹凸形状がプレートの表面
に設けた凹凸形状より形成させるのではなく、表面１２
に凹凸形状を設けていないプレート１１に、凹凸のある
溶射層１３を設けるものであるため、図３に示すように
１９の金属へらの先端で調理面を摩擦するとトップコー
ト１５の表面の凸部１８およびプライマー１４の凸部１
７は剥がれて金属へら１９は溶射層１３の表面の凸部１
６に当たるが、溶射層１３の凸部１６は従来の構成の溶
射層の凸部に比べて耐衝撃性の強度があるため、崩れに
くい。
従来の構成のように溶射層の凹凸形状がプレートの表面
に設けた凹凸形状より形成させるのではなく、表面１２
に凹凸形状を設けていないプレート１１に、凹凸のある
溶射層１３を設けるものであるため、図３に示すように
１９の金属へらの先端で調理面を摩擦するとトップコー
ト１５の表面の凸部１８およびプライマー１４の凸部１
７は剥がれて金属へら１９は溶射層１３の表面の凸部１
６に当たるが、溶射層１３の凸部１６は従来の構成の溶
射層の凸部に比べて耐衝撃性の強度があるため、崩れに
くい。
【００２０】また溶射材料をＡｌ2Ｏ3 ９１％、ＴｉＯ
2 ４％、ＮｉＡｌ ５％を混合させた材料にすること
により、溶射付着時に粒子同士の結合力が向上し、溶射
層２２の凸部２３は崩れにくくなる。
2 ４％、ＮｉＡｌ ５％を混合させた材料にすること
により、溶射付着時に粒子同士の結合力が向上し、溶射
層２２の凸部２３は崩れにくくなる。
【００２１】一方、従来の溶射層の凸部はプレートの凹
凸の影響を受けるが、一般にプレートの材質は熱伝導性
に優れたアルミニウム合金であり、溶射のセラミックス
に対してアルミニウム合金は硬度で著しく劣るため、溶
射層の凸部は本発明の構成の溶射層１３の凸部１６より
崩れやすい。
凸の影響を受けるが、一般にプレートの材質は熱伝導性
に優れたアルミニウム合金であり、溶射のセラミックス
に対してアルミニウム合金は硬度で著しく劣るため、溶
射層の凸部は本発明の構成の溶射層１３の凸部１６より
崩れやすい。
【００２２】そのため本発明のプレートは溶射層１３の
凸部１６が剥がれないためトップコート１５の剥がれは
若干で抑えられるが、従来の構成の調理面ではフッ素樹
脂は溶射層の凸部と共に剥がれるため広い面積で剥がれ
が生ずる。
凸部１６が剥がれないためトップコート１５の剥がれは
若干で抑えられるが、従来の構成の調理面ではフッ素樹
脂は溶射層の凸部と共に剥がれるため広い面積で剥がれ
が生ずる。
【００２３】以上より本発明の構成により金属へらで調
理板表面を強く摩擦されても、フッ素樹脂の剥がれは最
小限に抑えられ、調理中に焦げ付くことはなく、高寿命
でおいしく調理ができる調理面を有する加熱調理期を提
供することができる。
理板表面を強く摩擦されても、フッ素樹脂の剥がれは最
小限に抑えられ、調理中に焦げ付くことはなく、高寿命
でおいしく調理ができる調理面を有する加熱調理期を提
供することができる。
【００２４】（実施例２）図４に示すように実施例１と
同じ製造方法で、プレート２０の表面２１は凹凸の形状
の無い形状にして、表面２１にサンドブラスト処理を施
した後に、プラズマ溶射装置を用いて、溶射材料の粒度
を従来品の１０〜４５μｍの細かい材料から、５０〜１
１０μｍの大きな粒子に変え、そしてその粒度の粒度配
合を５０〜７５μｍと ７５〜１１０μｍの粒度配合を
３：７の割合にすることにより、溶射材料の密度は最も
高いものになり、溶射付着させたときにも密度が高く、
密着力が向上した２２の溶射層が得られ、溶射層２２の
凸部２３は硬度になる。そのため溶射層２２の上に塗布
されるフッ素樹脂の２４のプライマー層と２５のトップ
コートを塗布するが、２６の金属へらでプレートの表面
を摩耗してもフッ素樹脂の剥がれはほとんど無く、調理
時に焦げ付きが無い調理面が得られる。
同じ製造方法で、プレート２０の表面２１は凹凸の形状
の無い形状にして、表面２１にサンドブラスト処理を施
した後に、プラズマ溶射装置を用いて、溶射材料の粒度
を従来品の１０〜４５μｍの細かい材料から、５０〜１
１０μｍの大きな粒子に変え、そしてその粒度の粒度配
合を５０〜７５μｍと ７５〜１１０μｍの粒度配合を
３：７の割合にすることにより、溶射材料の密度は最も
高いものになり、溶射付着させたときにも密度が高く、
密着力が向上した２２の溶射層が得られ、溶射層２２の
凸部２３は硬度になる。そのため溶射層２２の上に塗布
されるフッ素樹脂の２４のプライマー層と２５のトップ
コートを塗布するが、２６の金属へらでプレートの表面
を摩耗してもフッ素樹脂の剥がれはほとんど無く、調理
時に焦げ付きが無い調理面が得られる。
【００２５】（実施例３）図５に示すように実施例１と
同じ製造方法で、プレート３０の表面３１は凹凸の形状
の無い形状にして、表面３１にサンドブラスト処理を施
した後に、プラズマ溶射装置を用いて３２の溶射層を設
けるが、この時の製造条件をアークガスは４０psiと低
くさせて溶射材料がフレームの中にいる時間が長くさ
せ、溶射材料を溶け易くする。電流は１０００Ａに上げ
て、火力を増して溶射材料を溶け易くする。
同じ製造方法で、プレート３０の表面３１は凹凸の形状
の無い形状にして、表面３１にサンドブラスト処理を施
した後に、プラズマ溶射装置を用いて３２の溶射層を設
けるが、この時の製造条件をアークガスは４０psiと低
くさせて溶射材料がフレームの中にいる時間が長くさ
せ、溶射材料を溶け易くする。電流は１０００Ａに上げ
て、火力を増して溶射材料を溶け易くする。
【００２６】またＡｕｘガスは１００psiにする。さら
にパウダーガスは５０psiに上げて溶射材料がフレーム
に入る量を増して、厚く塗ることができる。以上の条件
により、粒度の大きい材料でＲａ＝９〜１３μｍ,Ｒｍ
ａｘ＝６０〜１１０μｍ、膜厚は３０〜８０μｍの溶射
層を設けることができる。
にパウダーガスは５０psiに上げて溶射材料がフレーム
に入る量を増して、厚く塗ることができる。以上の条件
により、粒度の大きい材料でＲａ＝９〜１３μｍ,Ｒｍ
ａｘ＝６０〜１１０μｍ、膜厚は３０〜８０μｍの溶射
層を設けることができる。
【００２７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
では金属へらで調理面を強く摩擦してもフッ素樹脂がほ
とんど剥がれず、よって調理時の焦げ付きがなく、高寿
命でおいしく調理できる調理板を有する加熱調理器が提
供できる。
では金属へらで調理面を強く摩擦してもフッ素樹脂がほ
とんど剥がれず、よって調理時の焦げ付きがなく、高寿
命でおいしく調理できる調理板を有する加熱調理器が提
供できる。
【図１】本発明の第１実施例を示すホットプレートのプ
レートの断面図
レートの断面図
【図２】同ホットプレートのプレートの拡大断面図
【図３】本発明の第１実施例の金属へらの使用状態を示
す調理面の拡大断面図
す調理面の拡大断面図
【図４】本発明の第２実施例を示すホットプレートのプ
レートの断面図
レートの断面図
【図５】本発明の第３実施例を示すホットプレートのプ
レートの断面図
レートの断面図
【図６】従来の加熱調理器を示す調理面構造の拡大断面
図
図
１１、２０、３０ プレート １３、２２、３２ 溶射層 １４、２４ プライマー層 １５、２５ トップコート １６、２３ 溶射層の凸部 １７ プライマー層の凸部 １８ トップコートの凸部 １９、２６ 金属へら
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柴田 恒雄 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 川西 英賢 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 麻植 淳 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 調理板として表面は粗さがＲａ＝５μｍ
以下で凹凸が形成されていない形状である金属素材の母
材と、前記母材の表面上に設けた溶射層と、前記溶射層
の上にフッ素樹脂を塗布して焼き付けた加熱調理期の調
理板において、溶射層は膜厚が３０〜８０μｍで、溶射
層の表面粗さはＲａ＝９〜１３μｍ、Ｒｍａｘ＝６０〜
１１０μｍであり、溶射材料にはアルミナーチタニアセ
ラミックスとニッケルアルミニウム合金を混合した材料
またはアルミナーチタニアセラミックスとニッケルアル
ミニウム合金を圧縮成形、焼結した材料を用いた加熱調
理器の調理面。 - 【請求項２】 溶射材料には粒度が５０〜１１０μｍ
で、５０〜７５μｍと７５〜１１０μｍの粒度配合を
３：７の割合にした材料を用いた請求項１記載の加熱調
理器の調理面。 - 【請求項３】 溶射材料を溶射付着する際に、溶射条件
をアークガスを４０ｐｓｉ以下とし、電流を８５０Ａ以
上とし、パウダーガスを５０ｐｓｉ以上とした加熱調理
器の調理面の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32910293A JPH07177981A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 加熱調理器の調理面及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32910293A JPH07177981A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 加熱調理器の調理面及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07177981A true JPH07177981A (ja) | 1995-07-18 |
Family
ID=18217635
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32910293A Pending JPH07177981A (ja) | 1993-12-24 | 1993-12-24 | 加熱調理器の調理面及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07177981A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4589553B2 (ja) * | 2001-03-21 | 2010-12-01 | 株式会社ハーマンプロ | グリル用焼き網 |
| JP2015150396A (ja) * | 2014-02-19 | 2015-08-24 | 象印マホービン株式会社 | 調理鍋の製造方法および調理鍋 |
-
1993
- 1993-12-24 JP JP32910293A patent/JPH07177981A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4589553B2 (ja) * | 2001-03-21 | 2010-12-01 | 株式会社ハーマンプロ | グリル用焼き網 |
| JP2015150396A (ja) * | 2014-02-19 | 2015-08-24 | 象印マホービン株式会社 | 調理鍋の製造方法および調理鍋 |
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