JPH07175979A - 監視マーカーおよびその製造法 - Google Patents
監視マーカーおよびその製造法Info
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄く、コンパクトな電子式製品監視システム
用のマーカーおよび該マーカーを少ない工程数で製造す
る方法を提供する。 【構成】 不活性化可能な電子的盗難検出用マーカー
が、透磁率の高いストリップまたはリボンから作られ、
次いで、飽和保磁力の大きい物質をそのストリップまた
はリボンに電気メッキ等により原子ベースで付着させ
る。
用のマーカーおよび該マーカーを少ない工程数で製造す
る方法を提供する。 【構成】 不活性化可能な電子的盗難検出用マーカー
が、透磁率の高いストリップまたはリボンから作られ、
次いで、飽和保磁力の大きい物質をそのストリップまた
はリボンに電気メッキ等により原子ベースで付着させ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子式の製品監視シス
テムに関し、特に前記システムで使用するための不活性
化(不作動化)および再活性化可能な新規マーカーなら
びにそのようなマーカーの新規製造法に関する。
テムに関し、特に前記システムで使用するための不活性
化(不作動化)および再活性化可能な新規マーカーなら
びにそのようなマーカーの新規製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】安全保護領域からの品物の輸送を電子的
にモニターすることは公知であり、被防護領域の出口に
検査ゾーンを設置し、品物には特定のターゲットまたは
マーカーを付して、品物がその検査ゾーンを通って運ば
れてくるとき、そのターゲットまたはマーカーの存在を
検出することにより行われる。磁性電子製品の監視シス
テムでは、検査ゾーンに連続した交互検査磁場を発生さ
せ、マーカーをこの磁場にかけると、マーカーが交互に
磁気飽和になったり磁気飽和でなくなったりし、それに
よって特徴的で検出可能な検査磁場の変調が生じる。そ
のような変調が検出されると、そのシステムはアラーム
を発する。
にモニターすることは公知であり、被防護領域の出口に
検査ゾーンを設置し、品物には特定のターゲットまたは
マーカーを付して、品物がその検査ゾーンを通って運ば
れてくるとき、そのターゲットまたはマーカーの存在を
検出することにより行われる。磁性電子製品の監視シス
テムでは、検査ゾーンに連続した交互検査磁場を発生さ
せ、マーカーをこの磁場にかけると、マーカーが交互に
磁気飽和になったり磁気飽和でなくなったりし、それに
よって特徴的で検出可能な検査磁場の変調が生じる。そ
のような変調が検出されると、そのシステムはアラーム
を発する。
【0003】磁性電子式製品監視システムにおけるマー
カーは通常、そのマーカーよりも飽和保磁力(magnetic
coercivity )が実質的に大きい磁化性物質を含む不活
性化(不作動化)要素を備えている。不活性化要素が磁
化されると磁場を生じ、それによってマーカーはバイア
スをかけられて磁気飽和になり、マーカーはもはや検査
磁場による磁気飽和と磁気不飽和との間の交互変換がで
きなくなる。すなわち、マーカーは、検査磁場の検出可
能な変調を生ずることができなくなり、マーカーを付し
た製品は、アラームを作動させることなく検査ゾーンを
通過することができる。これらのマーカーはその後、各
々の不活性化要素の消磁により再活性化することができ
る。そのようなマーカーおよび該マーカーを使用した電
子式製品監視システムについては、米国特許No.5,
146,204、No.5,225,807およびN
o.4,623,877に記載されている。
カーは通常、そのマーカーよりも飽和保磁力(magnetic
coercivity )が実質的に大きい磁化性物質を含む不活
性化(不作動化)要素を備えている。不活性化要素が磁
化されると磁場を生じ、それによってマーカーはバイア
スをかけられて磁気飽和になり、マーカーはもはや検査
磁場による磁気飽和と磁気不飽和との間の交互変換がで
きなくなる。すなわち、マーカーは、検査磁場の検出可
能な変調を生ずることができなくなり、マーカーを付し
た製品は、アラームを作動させることなく検査ゾーンを
通過することができる。これらのマーカーはその後、各
々の不活性化要素の消磁により再活性化することができ
る。そのようなマーカーおよび該マーカーを使用した電
子式製品監視システムについては、米国特許No.5,
146,204、No.5,225,807およびN
o.4,623,877に記載されている。
【0004】磁性電子製品の監視システムに使用するこ
とができる不活性化可能なマーカーには2個の基本型が
ある。第一の型は、飽和保磁力の高い磁化可能な複数の
要素をマーカーの長さに沿って間隔を置いて配置したも
のである。これらのマーカーは、遠隔的に発生させた磁
場により活性化および不活性化することができる。ただ
し、マーカーは実質的にこれらの磁場と一直線にする。
不活性化可能な第二の型は、飽和保磁力の高い物質の単
一の細長いストリップをマーカーの長さに沿って伸ばし
たものである。間隔を置いた一連の磁場を発生すること
ができる磁性要素が飽和保磁力の高い物質と接触する
と、その物質に沿ってあるパターンの磁化が生じ、それ
は間隔をおいた一連の磁性要素のように見える。
とができる不活性化可能なマーカーには2個の基本型が
ある。第一の型は、飽和保磁力の高い磁化可能な複数の
要素をマーカーの長さに沿って間隔を置いて配置したも
のである。これらのマーカーは、遠隔的に発生させた磁
場により活性化および不活性化することができる。ただ
し、マーカーは実質的にこれらの磁場と一直線にする。
不活性化可能な第二の型は、飽和保磁力の高い物質の単
一の細長いストリップをマーカーの長さに沿って伸ばし
たものである。間隔を置いた一連の磁場を発生すること
ができる磁性要素が飽和保磁力の高い物質と接触する
と、その物質に沿ってあるパターンの磁化が生じ、それ
は間隔をおいた一連の磁性要素のように見える。
【0005】以前は、両方の型の不活性化可能なマーカ
ーの製造費用が、必要材料の点およびマーカー製造に関
与する個々の製造工程の数の点の両方により高かった。
ほとんどの場合、マーカーおよびその不活性化要素は、
磁性および機械的特性が非常に異なるため、個々に製造
した後、組立てなければならなかった。いくつかの例で
は、例えば、米国特許No.4,950,550および
No.5,130,698に記載されているように、マ
ーカーと不活性化要素を一緒に作り、共通の引き伸ばし
・熱処理操作にかけることが提案されている。しかし、
これは、マーカーまたは不活性化要素もしくはその両方
に対して最適な処理とはならない。さらに、そのような
処理は一連の複数の不活性化要素を有するマーカーに使
用することができず、従って遠隔的に活性化および不活
性化することができない。また、米国特許No.5,1
81,021に記載されているように、ポリマーバイン
ダーに分散させた酸化第二鉄などの飽和保磁力の高い磁
性粉末を含むコーティングをマーカー上に塗布すること
により飽和保磁力の高い不活性化要素を形成することが
提案されている。しかし、そのような不活性化要素に必
要な厚さは、該要素を厚さが0.001インチ(0.0
04mm)より大きいマーカーとともに使用する場合、妨
げになるほど大きい。米国特許No.4,536,22
9は、不活性化要素を個々に製造して低温で圧延するこ
とを提案している。
ーの製造費用が、必要材料の点およびマーカー製造に関
与する個々の製造工程の数の点の両方により高かった。
ほとんどの場合、マーカーおよびその不活性化要素は、
磁性および機械的特性が非常に異なるため、個々に製造
した後、組立てなければならなかった。いくつかの例で
は、例えば、米国特許No.4,950,550および
No.5,130,698に記載されているように、マ
ーカーと不活性化要素を一緒に作り、共通の引き伸ばし
・熱処理操作にかけることが提案されている。しかし、
これは、マーカーまたは不活性化要素もしくはその両方
に対して最適な処理とはならない。さらに、そのような
処理は一連の複数の不活性化要素を有するマーカーに使
用することができず、従って遠隔的に活性化および不活
性化することができない。また、米国特許No.5,1
81,021に記載されているように、ポリマーバイン
ダーに分散させた酸化第二鉄などの飽和保磁力の高い磁
性粉末を含むコーティングをマーカー上に塗布すること
により飽和保磁力の高い不活性化要素を形成することが
提案されている。しかし、そのような不活性化要素に必
要な厚さは、該要素を厚さが0.001インチ(0.0
04mm)より大きいマーカーとともに使用する場合、妨
げになるほど大きい。米国特許No.4,536,22
9は、不活性化要素を個々に製造して低温で圧延するこ
とを提案している。
【0006】米国特許No.4,956,636は、ま
ずクロムおよび銅の薄膜を付着させて「ストライク層」
を形成するように処理してある軟質ポリエステル基板上
にニッケルフェライト層を電気メッキすることにより不
活性化可能なマーカーを製造する方法を提案している。
その後、帯状の磁気テープを切り取り、それらをニッケ
ルフェライト層に配置することにより硬質磁気層を作
る。しかし、この方法では、硬質磁気層の分離製造また
はその層のマーカーへの付着という問題が解決されな
い。
ずクロムおよび銅の薄膜を付着させて「ストライク層」
を形成するように処理してある軟質ポリエステル基板上
にニッケルフェライト層を電気メッキすることにより不
活性化可能なマーカーを製造する方法を提案している。
その後、帯状の磁気テープを切り取り、それらをニッケ
ルフェライト層に配置することにより硬質磁気層を作
る。しかし、この方法では、硬質磁気層の分離製造また
はその層のマーカーへの付着という問題が解決されな
い。
【0007】
【発明の要旨】本発明は、電子製品監視システム用の不
活性化可能な新規マーカーを提供する。そのマーカーは
薄くてコンパクトであり、従って、「製造元取り付け
(sourcetagging)」、すなわち製造元で保護すべき製
品に挿入するのに適している。この種の取り付け(tagg
ing)は自動化が可能で、小売店で製造品のそれぞれに
マーカーを付す必要がなくなる。製造元取り付けはま
た、マーカーを製造品で包んで隠すことができ、不正操
作を受けにくいので好ましい。本発明はまた、不活性化
可能なマーカーの新規製造法を提供する。その方法によ
れば、従来の方法の製造工程のほとんどが省かれ、ま
た、従来の製造法で必要とされた余分の材料の多くが省
かれる。
活性化可能な新規マーカーを提供する。そのマーカーは
薄くてコンパクトであり、従って、「製造元取り付け
(sourcetagging)」、すなわち製造元で保護すべき製
品に挿入するのに適している。この種の取り付け(tagg
ing)は自動化が可能で、小売店で製造品のそれぞれに
マーカーを付す必要がなくなる。製造元取り付けはま
た、マーカーを製造品で包んで隠すことができ、不正操
作を受けにくいので好ましい。本発明はまた、不活性化
可能なマーカーの新規製造法を提供する。その方法によ
れば、従来の方法の製造工程のほとんどが省かれ、ま
た、従来の製造法で必要とされた余分の材料の多くが省
かれる。
【0008】本発明の一発明によれば、透磁率が高くて
飽和保磁力が小さく、その結果、連続した交互検査磁場
にかけると磁場の検出可能な特徴的変調を生じる、容易
に磁化可能な物質の要素およびその要素の物質よりも飽
和保磁力が大きい別の磁化可能な物質を含む、電子製品
監視システムの不活性化可能なマーカーが提供される。
別の磁化可能な物質は、要素に原子ベース(atom by at
om basis)で付着、すなわち電気付着、真空蒸着または
スパッタリングにより付着させる。ここで原子ベースで
付着するとは、電気メッキ、真空蒸着、スパッタリング
等のように、別の磁化可能な物質の原子を個々に次々と
前記要素上に付着させ、該別の物質の原子の少なくとも
最初の一層は、該要素の物質と直接隣合う(空気や接着
剤等の層が介在せずに)ことを意味する。
飽和保磁力が小さく、その結果、連続した交互検査磁場
にかけると磁場の検出可能な特徴的変調を生じる、容易
に磁化可能な物質の要素およびその要素の物質よりも飽
和保磁力が大きい別の磁化可能な物質を含む、電子製品
監視システムの不活性化可能なマーカーが提供される。
別の磁化可能な物質は、要素に原子ベース(atom by at
om basis)で付着、すなわち電気付着、真空蒸着または
スパッタリングにより付着させる。ここで原子ベースで
付着するとは、電気メッキ、真空蒸着、スパッタリング
等のように、別の磁化可能な物質の原子を個々に次々と
前記要素上に付着させ、該別の物質の原子の少なくとも
最初の一層は、該要素の物質と直接隣合う(空気や接着
剤等の層が介在せずに)ことを意味する。
【0009】本発明の別の発明によれば、電子製品監視
システムの不活性化可能なマーカーの新規製造法が提供
される。この方法は、透磁率が高くて飽和保磁力が小さ
く、その結果、連続した交互検査磁場にかけると磁場の
検出可能な特徴的変調を生じる、容易に磁化可能な物質
の要素を提供する工程を含む。次いで、その要素の物質
よりも飽和保磁力が大きい別の磁化可能な物質を要素の
表面に原子ベースで付着、すなわち電気付着、真空蒸着
またはスパッタリングにより付着させる。
システムの不活性化可能なマーカーの新規製造法が提供
される。この方法は、透磁率が高くて飽和保磁力が小さ
く、その結果、連続した交互検査磁場にかけると磁場の
検出可能な特徴的変調を生じる、容易に磁化可能な物質
の要素を提供する工程を含む。次いで、その要素の物質
よりも飽和保磁力が大きい別の磁化可能な物質を要素の
表面に原子ベースで付着、すなわち電気付着、真空蒸着
またはスパッタリングにより付着させる。
【0010】
【実施例】図1に示すように、Permalloy などの軟質磁
気物質またはMetglas(商標登録)などのアモルファス
金属の連続した薄いリボンまたはストリップ10を供給
スプール12から巻きほぐす。ストリップ10は最初に
脱脂浴14を通過し、ストリップ表面の不純物を取り除
く。脱脂浴溶液は、メチルアルコール(CH3OH )などの
通常市販されているクリーナー/脱脂剤を含んでもよ
い。次いで、ストリップ10は、表面に沿ってマスク形
成要素16aが間隔をおいて配列した一対のマスキング
ローラー16の間を通過する。これらのマスク形成要素
は、マスキングローラーが回転すると熱ワックス浴18
を通過し、通過する際、熱ワックスのコーティングがな
される。ストリップ10は、ローラー16の間を通過す
るとき、一定間隔をおいてワックスのコーティングが付
着した一定間隔のマスク形成要素と出会い、ストリップ
10表面にマスク10aが形成される。
気物質またはMetglas(商標登録)などのアモルファス
金属の連続した薄いリボンまたはストリップ10を供給
スプール12から巻きほぐす。ストリップ10は最初に
脱脂浴14を通過し、ストリップ表面の不純物を取り除
く。脱脂浴溶液は、メチルアルコール(CH3OH )などの
通常市販されているクリーナー/脱脂剤を含んでもよ
い。次いで、ストリップ10は、表面に沿ってマスク形
成要素16aが間隔をおいて配列した一対のマスキング
ローラー16の間を通過する。これらのマスク形成要素
は、マスキングローラーが回転すると熱ワックス浴18
を通過し、通過する際、熱ワックスのコーティングがな
される。ストリップ10は、ローラー16の間を通過す
るとき、一定間隔をおいてワックスのコーティングが付
着した一定間隔のマスク形成要素と出会い、ストリップ
10表面にマスク10aが形成される。
【0011】ストリップ10は、マスク10aを受け取
ると、電気メッキ浴20を通過する。この目的に適する
電気メッキ浴は、米国特許No.2,834,725お
よびNo.2,619,454に記載されており、塩化
コバルト(CoCl2・6H2O)、塩化ニッケル(NiCl2・6H
2O)、ホウ酸およびチオシアン酸カリウムの混合物を含
むことができる。浴20に入るに際して、フィルムは、
電源24の陰極側に連結した電極ホイール22に接触す
る。電源24の陽極側は陽極26に連結している。後者
はコバルト、ニッケル、コバルト−ニッケル合金もしく
はグラファイトまたは白金などの不溶電導性物質のブロ
ックまたはバーであり、これをメッキ浴20に浸す。浴
20内の撹拌機28は、その運動を一定に保つ。その浴
を通過する間、ストリップ10のマスキングされていな
い部分には、飽和保磁力の大きい磁気物質(この場合
は、ニッケル−コバルト合金)が一定間隔をおいて付着
する。
ると、電気メッキ浴20を通過する。この目的に適する
電気メッキ浴は、米国特許No.2,834,725お
よびNo.2,619,454に記載されており、塩化
コバルト(CoCl2・6H2O)、塩化ニッケル(NiCl2・6H
2O)、ホウ酸およびチオシアン酸カリウムの混合物を含
むことができる。浴20に入るに際して、フィルムは、
電源24の陰極側に連結した電極ホイール22に接触す
る。電源24の陽極側は陽極26に連結している。後者
はコバルト、ニッケル、コバルト−ニッケル合金もしく
はグラファイトまたは白金などの不溶電導性物質のブロ
ックまたはバーであり、これをメッキ浴20に浸す。浴
20内の撹拌機28は、その運動を一定に保つ。その浴
を通過する間、ストリップ10のマスキングされていな
い部分には、飽和保磁力の大きい磁気物質(この場合
は、ニッケル−コバルト合金)が一定間隔をおいて付着
する。
【0012】浴20を出ると、上に電気メッキ層を有す
るストリップ10はワックス除去溶液29を通過し、ス
トリップ上のワックスマスクを溶解・除去する。ストリ
ップは次いで、洗浄溶液30(水でもよい)に入り、余
分なマスキング物質および余分な電気メッキ溶液を洗い
流す。次いで、ストリップは熱風を出す乾燥機32を通
過して乾燥される。次いで、ストリップは巻きつけスプ
ール34に巻き取られる。
るストリップ10はワックス除去溶液29を通過し、ス
トリップ上のワックスマスクを溶解・除去する。ストリ
ップは次いで、洗浄溶液30(水でもよい)に入り、余
分なマスキング物質および余分な電気メッキ溶液を洗い
流す。次いで、ストリップは熱風を出す乾燥機32を通
過して乾燥される。次いで、ストリップは巻きつけスプ
ール34に巻き取られる。
【0013】電気メッキしたストリップ10を巻き取っ
たスプール34は次いで、図2に示す切断部に送られ
る。ここで、ストリップ10はスプール34からほぐし
出されて、切断要素36aを有する一対の切断ロール3
6を通過し、ストリップは個々のマーカー40に切断さ
れる。関連する被覆物質または他の物質を含まないこれ
らのマーカーは、次いで、保護すべき製品またはそれら
の製品の包装に、それらの製造中に挿入することができ
る。このため、一般的に時間と経費を要する小売の段階
での製品またはそれらの包装へのマーカーの取り付けは
不要になる。
たスプール34は次いで、図2に示す切断部に送られ
る。ここで、ストリップ10はスプール34からほぐし
出されて、切断要素36aを有する一対の切断ロール3
6を通過し、ストリップは個々のマーカー40に切断さ
れる。関連する被覆物質または他の物質を含まないこれ
らのマーカーは、次いで、保護すべき製品またはそれら
の製品の包装に、それらの製造中に挿入することができ
る。このため、一般的に時間と経費を要する小売の段階
での製品またはそれらの包装へのマーカーの取り付けは
不要になる。
【0014】上記方法は、遠隔的に不活性化可能なマー
カーとして知られるものの製造法である。すなわち、マ
ーカー40のメッキ部分は、そのマーカーに触れない発
生源から磁場をかけると、それらの磁場方向がマーカー
の長さに沿っている限り、磁化してマーカーを減感する
ことができる。また、本発明を使用すると、共線マーカ
ーとして知られるものを製造することもできる。この場
合、電気メッキ工程の前の、マーカーの選択部分をマス
キングする工程が省かれ、メッキが、マーカーの全長に
沿って間断なく行われる。上記で一般的に記載した電気
メッキ工程の2個の特定の例を以下に記載する。
カーとして知られるものの製造法である。すなわち、マ
ーカー40のメッキ部分は、そのマーカーに触れない発
生源から磁場をかけると、それらの磁場方向がマーカー
の長さに沿っている限り、磁化してマーカーを減感する
ことができる。また、本発明を使用すると、共線マーカ
ーとして知られるものを製造することもできる。この場
合、電気メッキ工程の前の、マーカーの選択部分をマス
キングする工程が省かれ、メッキが、マーカーの全長に
沿って間断なく行われる。上記で一般的に記載した電気
メッキ工程の2個の特定の例を以下に記載する。
【0015】(実施例1)米国特許No.2,834,
725に記載したメッキ浴を使用して、公知のマーカー
物質、すなわちPermalloy またはアモルファス物質(Me
tglas(登録商標)として知られている)のいずれかの
リボンから成るストリップ10上にメッキフィルムを作
った。他のメッキ浴、例えば米国特許No.2,61
9,454に記載されているものを使用することもでき
る。この実施例での操作パラメータは以下の通りであっ
た。 温度(浴温):40〜80℃ 電流密度:100amp/ft2DC および200amp/ft2AC
(60Hz) (200amp/ft2AC (60Hz)が100amp/ft2DC の上
に重なった電流密度により、好ましい半硬質磁気特性が
得られる。) 浴のpH:2.0〜3.0 浴時間 :2.5〜10分 陰極材料:Co、Co−Ni、Niもしくはグラファイ
トまたは白金などの不溶電導性物質
725に記載したメッキ浴を使用して、公知のマーカー
物質、すなわちPermalloy またはアモルファス物質(Me
tglas(登録商標)として知られている)のいずれかの
リボンから成るストリップ10上にメッキフィルムを作
った。他のメッキ浴、例えば米国特許No.2,61
9,454に記載されているものを使用することもでき
る。この実施例での操作パラメータは以下の通りであっ
た。 温度(浴温):40〜80℃ 電流密度:100amp/ft2DC および200amp/ft2AC
(60Hz) (200amp/ft2AC (60Hz)が100amp/ft2DC の上
に重なった電流密度により、好ましい半硬質磁気特性が
得られる。) 浴のpH:2.0〜3.0 浴時間 :2.5〜10分 陰極材料:Co、Co−Ni、Niもしくはグラファイ
トまたは白金などの不溶電導性物質
【0016】0.0005〜0.001インチ(0.0
127〜0.0254mm)のフィルムを5〜10分でメ
ッキした。そのようにメッキしたフィルムは滑らかで明
るく、基板に非常によく接着した。メッキしたフィルム
の特性を下記に示す。比較のため、Arnokrome (登録商
標。通常は、減感要素として使用される物質)のリボン
の特性も併記する。 サンプル No.1:2.5”×0.0625”×0.00
10”(6.35cm×1.59mm×0.025mm) サンプル No.2:2.5”×0.0590”×0.00
06”(6.35cm×1.50mm×0.015mm) サンプル No.3:2.5”×0.0260”×0.00
10”(6.35cm×0.66mm×0.025mm) Arnokrome :2.5”×0.0625”×0.00
20”(6.35cm×1.59mm×0.050mm)
127〜0.0254mm)のフィルムを5〜10分でメ
ッキした。そのようにメッキしたフィルムは滑らかで明
るく、基板に非常によく接着した。メッキしたフィルム
の特性を下記に示す。比較のため、Arnokrome (登録商
標。通常は、減感要素として使用される物質)のリボン
の特性も併記する。 サンプル No.1:2.5”×0.0625”×0.00
10”(6.35cm×1.59mm×0.025mm) サンプル No.2:2.5”×0.0590”×0.00
06”(6.35cm×1.50mm×0.015mm) サンプル No.3:2.5”×0.0260”×0.00
10”(6.35cm×0.66mm×0.025mm) Arnokrome :2.5”×0.0625”×0.00
20”(6.35cm×1.59mm×0.050mm)
【0017】 表 1 サンプル 飽和保磁力(Hc) 飽和誘導(Bs) 残留誘導(Br) No.1 101 311 288 No.2 84 174 158 No.3 91 100 94 Arnokrome 92 328 300 注: 飽和誘導および残留誘導の値は任意の単位で示し
てあり、比較のためのみのものである。飽和保磁力はエ
ルステッドで測定する。
てあり、比較のためのみのものである。飽和保磁力はエ
ルステッドで測定する。
【0018】(実施例2)マーカー、すなわちターゲッ
トを実施例1に記載したように製造したが、基板または
ストリップ10は、メッキ物質を部分的にストリップ上
に配置するために、選択的にマスキングした。マスキン
グは、基板のメッキしない部分に耐酸性テープを置くこ
とにより行った。また、所望により、図1に関して記載
したワックスでマスキングするか、ストリップ10をワ
ックスでコーティングした後、メッキすべき部分からワ
ックスを取り除くことにより同様のパターンを得ること
もできる。あるいは、非電導性塗料またはラッカーを、
ストリップ上のメッキすべきでない箇所に噴霧すること
もできる。光マスキング法を使用することもできる。
トを実施例1に記載したように製造したが、基板または
ストリップ10は、メッキ物質を部分的にストリップ上
に配置するために、選択的にマスキングした。マスキン
グは、基板のメッキしない部分に耐酸性テープを置くこ
とにより行った。また、所望により、図1に関して記載
したワックスでマスキングするか、ストリップ10をワ
ックスでコーティングした後、メッキすべき部分からワ
ックスを取り除くことにより同様のパターンを得ること
もできる。あるいは、非電導性塗料またはラッカーを、
ストリップ上のメッキすべきでない箇所に噴霧すること
もできる。光マスキング法を使用することもできる。
【0019】図3は、本発明により製造したマーカー4
0の拡大透視図を示す。図に見られるように、マーカー
40は、最初のストリップ10と同じである連続したベ
ース40aを含み、飽和保磁力が大きい物質の領域40
bがベース40a上にメッキされている。飽和保磁力が
大きい物質は原子を1個ずつ付着する方法でベースに塗
布した。その結果、ベースと飽和保磁力が大きい物質と
の間の接触が密接になり、ベースと飽和保磁力が大きい
物質との間には接着性物質または他の介在物質が存在し
ない。従って、飽和保磁力が大きい物質は非常に薄い層
であっても効果的であり、ベース物質にバイアスをかけ
て磁気飽和にすることができる。また、最終的なターゲ
ットまたはマーカーに存在する正確な量の物質のみを製
造に使用するとマーカーの製造コストが最小になること
がわかるだろう。さらに、この方法により、飽和保磁力
が大きい要素を個々に形成した後、それらをベース物質
に物理的に付着するという必要がなくなる。このため、
マーカーの製造に必要な工程数が少なくなる。
0の拡大透視図を示す。図に見られるように、マーカー
40は、最初のストリップ10と同じである連続したベ
ース40aを含み、飽和保磁力が大きい物質の領域40
bがベース40a上にメッキされている。飽和保磁力が
大きい物質は原子を1個ずつ付着する方法でベースに塗
布した。その結果、ベースと飽和保磁力が大きい物質と
の間の接触が密接になり、ベースと飽和保磁力が大きい
物質との間には接着性物質または他の介在物質が存在し
ない。従って、飽和保磁力が大きい物質は非常に薄い層
であっても効果的であり、ベース物質にバイアスをかけ
て磁気飽和にすることができる。また、最終的なターゲ
ットまたはマーカーに存在する正確な量の物質のみを製
造に使用するとマーカーの製造コストが最小になること
がわかるだろう。さらに、この方法により、飽和保磁力
が大きい要素を個々に形成した後、それらをベース物質
に物理的に付着するという必要がなくなる。このため、
マーカーの製造に必要な工程数が少なくなる。
【0020】図4の態様では、ストリップ10を電気メ
ッキしないで、代わりに飽和保磁力が大きい磁気物質を
真空蒸着によりストリップ上に付着させる。図4では、
真空室50があり、その中でストリップ10が供給スプ
ール52からほぐし出され、真空室50内の受け取りス
プール54に巻き戻される。また、真空室50には、付
着すべき物質の溶融合金57(この場合は、コバルト/
ニッケル合金で、好ましくは約80%のコバルトおよび
20%のニッケル)を含む、るつぼ56がある。るつぼ
56には、合金を溶融状態に保ためのヒーター58が備
えてある。真空室50の真空ポンプ59は、真空室内の
圧力を10-3Torrに維持するように作動する。(1Torr
は1mmHgまたは1/760気圧に等しい。)るつぼ56
は、るつぼ内の合金を溶融状態に保持するために約12
00℃の温度に維持される。ストリップ10が供給スプ
ール52から受け取りスプール54へ移動するときは、
るつぼ56の開口上部の真上を通過する。ストリップ移
動速度は、好ましくは約10cm/分に維持する。これよ
り速いと付着が薄くなり、遅いと厚くなる。ストリップ
10は、上述した方法でマスキングロール16により、
または他の周知の方法でマスキングして、付着を非マス
キング部分に限定することができる。
ッキしないで、代わりに飽和保磁力が大きい磁気物質を
真空蒸着によりストリップ上に付着させる。図4では、
真空室50があり、その中でストリップ10が供給スプ
ール52からほぐし出され、真空室50内の受け取りス
プール54に巻き戻される。また、真空室50には、付
着すべき物質の溶融合金57(この場合は、コバルト/
ニッケル合金で、好ましくは約80%のコバルトおよび
20%のニッケル)を含む、るつぼ56がある。るつぼ
56には、合金を溶融状態に保ためのヒーター58が備
えてある。真空室50の真空ポンプ59は、真空室内の
圧力を10-3Torrに維持するように作動する。(1Torr
は1mmHgまたは1/760気圧に等しい。)るつぼ56
は、るつぼ内の合金を溶融状態に保持するために約12
00℃の温度に維持される。ストリップ10が供給スプ
ール52から受け取りスプール54へ移動するときは、
るつぼ56の開口上部の真上を通過する。ストリップ移
動速度は、好ましくは約10cm/分に維持する。これよ
り速いと付着が薄くなり、遅いと厚くなる。ストリップ
10は、上述した方法でマスキングロール16により、
または他の周知の方法でマスキングして、付着を非マス
キング部分に限定することができる。
【0021】図5は、本発明のさらに別の態様を示し、
飽和保磁力が大きい物質をスパッタリング法によりスト
リップ10に付着させるものである。図5では、真空室
60があり、真空ポンプ61によりアルゴン気圧が約1
Torrの圧力に維持される。ストリップ10は供給スプー
ル62からほぐし出され、真空室60内の受け取りスプ
ール64に巻き戻される。固体ニッケル/コバルト合金
(好ましくは80%のコバルトおよび20%のニッケ
ル)のブロック66を真空室60の或る位置におき、ス
トリップ10が供給スプールから受け取りスプールへ移
動するときにその上を通過するようにする。ブロック6
6は、液体冷却ジャケット68に保持して、付着工程の
間、そのブロックが溶融しないようにする。電極70は
鋼鉄製であってもよく、これをストリップ10と向かい
合うブロック66の表面近くに置く。約2000ボルト
を発生することができる電源72は、ブロック66と電
極70との間で使用する。この電圧により、電極とブロ
ックとの間にアーク73を発生させる。この結果スパッ
タリング作用を生じ、ブロック物質66aの原子流がブ
ロックから蒸発してストリップ10に投じられる。すな
わち、ブロック物質の原子1個ずつの付着がストリップ
上に得られる。ストリップ10は、好ましくは、スプー
ル62と64との間を約1cm/分の速度で移動させる。
これにより、飽和保磁力の大きい物質が適切な量でブロ
ックからストリップへ確実に付着する。このスパッタリ
ング作用は室温で生じることができる。ストリップ10
は、スパッタリングにより付着すべき物質をストリップ
の選択した部分のみに塗布するためには、上述したいず
れかの方法でマスキングすることができることがわかる
だろう。
飽和保磁力が大きい物質をスパッタリング法によりスト
リップ10に付着させるものである。図5では、真空室
60があり、真空ポンプ61によりアルゴン気圧が約1
Torrの圧力に維持される。ストリップ10は供給スプー
ル62からほぐし出され、真空室60内の受け取りスプ
ール64に巻き戻される。固体ニッケル/コバルト合金
(好ましくは80%のコバルトおよび20%のニッケ
ル)のブロック66を真空室60の或る位置におき、ス
トリップ10が供給スプールから受け取りスプールへ移
動するときにその上を通過するようにする。ブロック6
6は、液体冷却ジャケット68に保持して、付着工程の
間、そのブロックが溶融しないようにする。電極70は
鋼鉄製であってもよく、これをストリップ10と向かい
合うブロック66の表面近くに置く。約2000ボルト
を発生することができる電源72は、ブロック66と電
極70との間で使用する。この電圧により、電極とブロ
ックとの間にアーク73を発生させる。この結果スパッ
タリング作用を生じ、ブロック物質66aの原子流がブ
ロックから蒸発してストリップ10に投じられる。すな
わち、ブロック物質の原子1個ずつの付着がストリップ
上に得られる。ストリップ10は、好ましくは、スプー
ル62と64との間を約1cm/分の速度で移動させる。
これにより、飽和保磁力の大きい物質が適切な量でブロ
ックからストリップへ確実に付着する。このスパッタリ
ング作用は室温で生じることができる。ストリップ10
は、スパッタリングにより付着すべき物質をストリップ
の選択した部分のみに塗布するためには、上述したいず
れかの方法でマスキングすることができることがわかる
だろう。
【0022】本明細書に記載した各態様において、減感
に使用される飽和保磁力の大きい物質は、飽和保磁力の
大きい物質の塗布が原子ベースで行われる付着法でター
ゲットまたはマーカーの基板物質に塗布されると考えら
れる。この結果、基板物質と飽和保磁力の大きい物質と
の間の接触は密接になり、二つの物質を結合するための
中間接着材または他の物質が不要になる。その結果、効
果的で不活性化可能なマーカーを、従来必要とされたも
のより少ない材料および少ない製造工程で作ることがで
きる。また、得られるマーカーは、従来の不活性化可能
なマーカーよりも薄くて取扱が容易であり、「source t
agging(製造元取り付け)」、すなわち製造時におけ
る、製品へのマーカーの取り付けに、より適する。
に使用される飽和保磁力の大きい物質は、飽和保磁力の
大きい物質の塗布が原子ベースで行われる付着法でター
ゲットまたはマーカーの基板物質に塗布されると考えら
れる。この結果、基板物質と飽和保磁力の大きい物質と
の間の接触は密接になり、二つの物質を結合するための
中間接着材または他の物質が不要になる。その結果、効
果的で不活性化可能なマーカーを、従来必要とされたも
のより少ない材料および少ない製造工程で作ることがで
きる。また、得られるマーカーは、従来の不活性化可能
なマーカーよりも薄くて取扱が容易であり、「source t
agging(製造元取り付け)」、すなわち製造時におけ
る、製品へのマーカーの取り付けに、より適する。
【0023】また、本発明の方法は、他の形状のマーカ
ー、例えば、出願中の米国特許出願No.08/07
6,247に記載されているような閉じたループ状のマ
ーカーの製造に使用することもできる。図6に示すこの
方法では、Permalloy またはアモルファス磁気合金など
の透磁率が高く、飽和保磁力が小さい物質のリボン80
をスプール82からほぐし出す。リボン80は、例示し
た態様では幅が約1インチ(2.54cm)であるが、こ
れをまず脱脂浴84に通し、リボンの表面から不純物を
取り除く。次いで、リボン80は写真プリント機86お
よびエッチング浴88を通過して、特定のパターンに従
ってリボンの選択部分から物質を除去する。この特定の
パターンを図7に示す。
ー、例えば、出願中の米国特許出願No.08/07
6,247に記載されているような閉じたループ状のマ
ーカーの製造に使用することもできる。図6に示すこの
方法では、Permalloy またはアモルファス磁気合金など
の透磁率が高く、飽和保磁力が小さい物質のリボン80
をスプール82からほぐし出す。リボン80は、例示し
た態様では幅が約1インチ(2.54cm)であるが、こ
れをまず脱脂浴84に通し、リボンの表面から不純物を
取り除く。次いで、リボン80は写真プリント機86お
よびエッチング浴88を通過して、特定のパターンに従
ってリボンの選択部分から物質を除去する。この特定の
パターンを図7に示す。
【0024】図7に示すように、弧状スリット90およ
び92がリボン80のエッチングにより刻まれる。個々
のパターン94によるこれらのスリットは一対の同心円
を含む。各円を形成するスリットは細いブリッジ96に
より分離されている。このブリッジは、製造中は支持体
となるが、その後は、容易にぽきっと切り離すことがで
きる。また、内円と外円との間の領域でエッチングする
ことにより、細長い弧状開口部98が形成される。
び92がリボン80のエッチングにより刻まれる。個々
のパターン94によるこれらのスリットは一対の同心円
を含む。各円を形成するスリットは細いブリッジ96に
より分離されている。このブリッジは、製造中は支持体
となるが、その後は、容易にぽきっと切り離すことがで
きる。また、内円と外円との間の領域でエッチングする
ことにより、細長い弧状開口部98が形成される。
【0025】図6に戻ると、エッチングされたリボン8
0は洗浄浴100を通過し、そこから写真プリント過程
101を通り、選択した部分でのマスキングが行われ
る。このマスキングは、図8の点線の輪郭線102に示
す。図に示すように、マスキングは開口部98の両側に
形成される弧状の細片に沿って延びる。マスキングは電
気メッキに対して耐性である。こうして模様を付け、マ
スキングされたリボン80は図1に関して記載したよう
に電気メッキ浴104を通過する。電気メッキ浴では、
先の態様に関して記載したような飽和保磁力が大きい金
属を、模様を付けたリボンの非マスキング部分に塗布す
る。
0は洗浄浴100を通過し、そこから写真プリント過程
101を通り、選択した部分でのマスキングが行われ
る。このマスキングは、図8の点線の輪郭線102に示
す。図に示すように、マスキングは開口部98の両側に
形成される弧状の細片に沿って延びる。マスキングは電
気メッキに対して耐性である。こうして模様を付け、マ
スキングされたリボン80は図1に関して記載したよう
に電気メッキ浴104を通過する。電気メッキ浴では、
先の態様に関して記載したような飽和保磁力が大きい金
属を、模様を付けたリボンの非マスキング部分に塗布す
る。
【0026】メッキ操作の後、リボン80は洗浄液10
6および乾燥機108を通過し、受け取りスプール11
0に巻き取られる。スプール110に巻き取られたリボ
ンは図9に示すように見える。点描した112からわか
るように、開口部98に隣接する細い弧状部分を除いた
リボン全体が飽和保磁力の大きい物質で電気メッキされ
る。その後、マーカーを製造品に取り付けるときは、図
10に示すように、リボン80からぽきっと切り離すこ
とができる。図に示すように、開口部98および各開口
部に沿った、メッキされていない細い弧状細片116を
有する環状マーカー114は、リボン80からぽきっと
切り離され、中央の円118はマーカーの中央から抜き
取られる。
6および乾燥機108を通過し、受け取りスプール11
0に巻き取られる。スプール110に巻き取られたリボ
ンは図9に示すように見える。点描した112からわか
るように、開口部98に隣接する細い弧状部分を除いた
リボン全体が飽和保磁力の大きい物質で電気メッキされ
る。その後、マーカーを製造品に取り付けるときは、図
10に示すように、リボン80からぽきっと切り離すこ
とができる。図に示すように、開口部98および各開口
部に沿った、メッキされていない細い弧状細片116を
有する環状マーカー114は、リボン80からぽきっと
切り離され、中央の円118はマーカーの中央から抜き
取られる。
【0027】本発明の方法は、マーカーの特定の形状に
制限されないし、マーカー上のマスキング位置にも制限
されない。実際、いくつかの適用では、マスキングを行
わないで、マーカー全体をメッキすることができる。ま
た、本発明は、使用すべきマスキングの特定の型にも、
マスキングを作るために使用する特定の方法にも依存し
ない。さらに、電気メッキの代わりに、上述した真空蒸
着およびスパッタリングの方法を使用して、図10に示
す環状マーカー114などの種々の形状のマーカー上に
不活性化要素を作ることができる。重要なことは、不活
性化要素が原子ベースで付着されるので、マーカー物質
と不活性化要素物質との間の結合が密接になるというこ
とである。
制限されないし、マーカー上のマスキング位置にも制限
されない。実際、いくつかの適用では、マスキングを行
わないで、マーカー全体をメッキすることができる。ま
た、本発明は、使用すべきマスキングの特定の型にも、
マスキングを作るために使用する特定の方法にも依存し
ない。さらに、電気メッキの代わりに、上述した真空蒸
着およびスパッタリングの方法を使用して、図10に示
す環状マーカー114などの種々の形状のマーカー上に
不活性化要素を作ることができる。重要なことは、不活
性化要素が原子ベースで付着されるので、マーカー物質
と不活性化要素物質との間の結合が密接になるというこ
とである。
【図1】本発明の第一の実施例による不活性化可能なマ
ーカーの製造法の第一部分の図式図である。
ーカーの製造法の第一部分の図式図である。
【図2】第一の実施例による第二部分の図式図である。
【図3】図1および2の方法により製造される不活性化
可能なマーカーの拡大透視図である。
可能なマーカーの拡大透視図である。
【図4】本発明による第一の別の実施例の図式図であ
る。
る。
【図5】本発明による第二の別の実施例の図式図であ
る。
る。
【図6】図1と同様であるが、形状の異なるマーカーの
製造に適用できる方法を示す図式図である。
製造に適用できる方法を示す図式図である。
【図7】図6に示す方法のエッチング工程後のリボンの
一部の平面図である。
一部の平面図である。
【図8】図6に示す方法のマスキング工程後のリボンの
一部の平面図である。
一部の平面図である。
【図9】図6に示す方法のメッキ工程後のリボンの一部
の平面図である。
の平面図である。
【図10】図9に示すリボンを部分的に分解した透視図
であり、リボンから個々のマーカーを取り外す方法を示
す。
であり、リボンから個々のマーカーを取り外す方法を示
す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01F 41/14 // C25D 3/56 B (72)発明者 ピーター ヨンシン ツォウ アメリカ合衆国.11787 ニューヨーク, スミスタウン,グランドヴィユー レーン 49 (72)発明者 トーマス パトリック ソラスキ アメリカ合衆国.11743 ニューヨーク, ハンティングトン,ノース レーン 28 (72)発明者 エドワード ジェームズ キャラハン アメリカ合衆国.11771 ニューヨーク, オイスター ベイ,マッコーンズ レーン 200
Claims (20)
- 【請求項1】 透磁率が高く、飽和保磁力が小さい、容
易に磁化可能な物質の要素(40、114)を提供する
工程を含み、その結果、前記物質を連続した交互検査磁
場にかけると、磁場の検出可能な特徴的変調を生じる、
電子式製品監視システムの不活性化可能なマーカーの製
造法において、前記要素の表面に、飽和保磁力が前記要
素の物質より大きい別の磁化可能な物質(40b)を原
子ベースで付着させることを特徴とする方法。 - 【請求項2】 前記付着を、前記の別の物質を前記要素
の表面に電気メッキすることにより行うことを特徴とす
る請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記付着を、前記の別の物質を前記要素
の表面に真空蒸着(50、56、57、59)すること
により行うことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 前記付着を、前記の別の物質を前記要素
の表面にスパッタリングすることにより行うことを特徴
とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項5】 前記要素が、透磁率の高い前記物質の細
長いストリップ(10)の一部であり、前記の別の物質
をそのストリップに付着することを特徴とする請求項1
に記載の方法。 - 【請求項6】 前記の細長いストリップ(10)がスプ
ール(12)上に巻かれており、そのスプールから前記
付着を行う位置へ連続的に送られることを特徴とする請
求項5に記載の方法。 - 【請求項7】 前記ストリップが、前記の位置の向こう
の別のスプール(34)上に連続的に巻き取られること
を特徴とする請求項6に記載の方法。 - 【請求項8】 前記付着の後、分離した特定の長さのも
の(40)を前記ストリップ(10)から切り取ること
を特徴とする請求項5に記載の方法。 - 【請求項9】 前記付着の前に、前記ストリップの一部
に前記付着を避けるための物質をコーティングすること
により、前記付着が、ストリップに沿って間隔をおいて
分離した部分にのみ生じることを特徴とする請求項1に
記載の方法。 - 【請求項10】 ストリップ(10)がリボンであり、
前記要素が前記リボン(80)のエッチングパターンに
従って形成され、細いスナップ様のブリッジ(96)に
よって前記リボンに固定されることを特徴とする請求項
9に記載の方法。 - 【請求項11】 前記要素が環状形(114)であり、
前記の別の物質を、前記環状形の周りの間隔をおいて分
離した箇所に付着させることを特徴とする請求項9に記
載の方法。 - 【請求項12】 前記環状形(114)が、スポーク状
部分によって相互に連結した一対の同心円部分(90、
92)によって特徴付けられ、前記の別の物質を前記の
スポーク状部分に付着することを特徴とする請求項11
に記載の方法。 - 【請求項13】 透磁率が高く、飽和保磁力が小さい、
容易に磁化可能な物質の要素(40a)を含み、その結
果、前記物質を連続した交互検査磁場にかけると、磁場
の検出可能な特徴的変調を生じる、電子式製品監視シス
テムの不活性化可能なマーカー(40、114)におい
て、飽和保磁力が前記要素の物質より大きい別の磁化可
能な物質(40b)を含み、その物質が原子ベースで前
記要素と直接接触していることを特徴とする不活性化可
能なマーカー。 - 【請求項14】 前記別の物質(40b)は前記要素の
表面上に電気メッキされていることを特徴とする請求項
13に記載の不活性化可能なマーカー。 - 【請求項15】 前記別の物質(40b)は前記要素の
表面上に真空蒸着されていることを特徴とする請求項1
3に記載の不活性化可能なマーカー。 - 【請求項16】 前記別の物質(40b)は前記要素の
表面上にスパッタリングされていることを特徴とする請
求項13に記載の不活性化可能なマーカー。 - 【請求項17】 前記別の物質(40b)が前記要素に
沿って間隔を置いた位置に配置されることを特徴とする
請求項13に記載の不活性化可能なマーカー。 - 【請求項18】 前記要素が透磁率の高い細長いストリ
ップ(10、80)の一部であり、前記別の物質(40
b)は前記ストリップに付着されていることを特徴とす
る請求項13に記載の不活性化可能なマーカー。 - 【請求項19】 前記要素が環状形(114)であり、
別の物質は、前記環状形の周りの間隔をおいて分離した
箇所に付着していることを特徴とする請求項13に記載
の不活性化可能なマーカー。 - 【請求項20】 前記環状形(114)が、スポーク状
部分によって相互に連結した一対の同心円部分(90、
92)によって特徴付けられ、前記の別の物質は前記の
スポーク状部分に付着していることを特徴とする請求項
19に記載の不活性化可能なマーカー。
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