JPH07171477A

JPH07171477A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH07171477A
Application number: JP34514793A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Mizohata; 保▲廣▼ 溝畑; Yoshihiro Koyama; 芳弘小山
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1993-12-20
Filing date: 1993-12-20
Publication date: 1995-07-11

Abstract

(57)【要約】【目的】カップリンスに要するランニングコストを低
減できる基板処理装置を提供する。【構成】カップリンス後の洗浄液の廃液は排液ドレイ
ン１０から排出され廃液タンク２０に貯留される。廃液
タンク２０に一端が連通接続された廃液供給管２１は、
ポンプ２２等を介して管５０の一端に連通接続されてい
る。管５０の他端側は２方向に分岐され、それぞれニー
ドルバルブ５１、５２を介して洗浄導管６、８に連通接
続されている。カップリンス時、制御部２５は、ポンプ
２２を駆動して廃液タンク２０に貯留された廃液ＯＳを
各洗浄導管６、８に供給する。洗浄液を再利用してカッ
プリンスすることが可能となり、カップリンスに要する
ランニングコストの低減を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板、液晶表示
器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光デ
ィスク用の基板等（以下、単に基板という）を、スピン
チャックで保持して回転させながら、基板の表面にフォ
トレジスト，感光性ポリイミド，カラーフィルタ材等の
感光性樹脂、シリカ系皮膜形成用塗布液、ドーパント材
等の液剤を均一に塗布する回転塗布装置や、基板をスピ
ンチャックで保持して回転させながら、基板の表面に現
像液を均一に供給して現像処理を行なう現像処理装置等
の基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、従来のこの種の回転塗布装置に
は、基板上に液剤を回転塗布する際に飛散する液剤を受
け止めるための飛散防止カップや、飛散防止カップ内の
排気流を整えるための整流傾斜板が設けられている。回
転塗布時に飛散した液剤が、飛散防止カップや整流傾斜
板に付着し、それが乾燥して固化すると、回転時の振動
等により、微粉末状の塵埃となって浮遊して、被処理基
板の表面に付着して不良品が生じることが知られてい
る。そこで、飛散防止カップや整流傾斜板に付着した液
剤を洗浄するための機構を備えた回転塗布装置として、
例えば実開平３−７９７８号公報に開示されたものがあ
る。以下、図６を参照して、この回転塗布装置の構成を
簡単に説明する。

【０００３】図６において、符号１は基板Ｗを吸着保持
して水平回転するスピンチャックである。このスピンチ
ャック１の上方に、フォトレジスト等の液剤を基板Ｗ上
に供給するための液剤供給ノズル２がある。スピンチャ
ック１の周囲には飛散防止カップ３が配設され、回転塗
布時に飛散した液剤はこの飛散防止カップ３で受け止め
られる。飛散防止カップ３の底部には排気ダクト４が連
通接続され、飛散防止カップ３内が排気されるようにな
っている。飛散防止カップ３内の排気流を整流するため
に、基板Ｗの下方に平面視円形の整流傾斜板５が設けら
れている。

【０００４】飛散防止カップ３の外側には環状の内周面
洗浄導管６が一体形成されており、この内周面洗浄導管
６に供給された洗浄液を、カップ壁面に開口された多数
の吐出孔７から流下させることによって、カップ内周面
に付着した液剤を洗い流し、洗浄するようになってい
る。また、整流傾斜板５の内側にも環状の傾斜面洗浄導
管８が一体形成されており、この傾斜面洗浄導管８に供
給された洗浄液を、整流傾斜板５に開口された多数の吐
出孔９から流下させることによって、整流傾斜板５の傾
斜面に付着した液剤を洗い流し、洗浄するようになって
いる。カップ内周面や整流傾斜板５を洗浄した後の洗浄
液は、排液ドレイン１０から排出される。排出された洗
浄後の洗浄液は、廃液として廃液処理を施した後廃棄さ
れる。

【０００５】このように構成された回転塗布装置によれ
ば、飛散防止カップ３や整流傾斜板５に付着した液剤を
有効に洗浄除去することができるので、液剤が固化して
出来た塵埃が被処理基板Ｗに付着するという不都合を未
然に解消することができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来装置では、カップ３内周面や整流傾斜板５の洗浄（以
下、「カップリンス」と称する）を行なうためのランニ
ングコストがかさむという問題がある。

【０００７】すなわち、従来装置では、カップリンス後
の洗浄液は、廃液として廃液処理を施した後廃棄してお
り、コストがかかる廃液処理をカップリンスごとに行な
わなければならなず、そのためのランニングコストがか
さむ。また、カップリンスごとに新しい洗浄液が必要に
あり、そのためのランニングコストもかさむ。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、カップリンスに要するランニングコス
トを低減することができる基板処理装置を提供すること
を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明に係る基板処理装置は、基板を保持した状態
で回転させるスピンチャックと、前記基板上に液剤を供
給する液剤供給ノズルと、前記スピンチャックに保持さ
れる基板を囲む基板処理容器と、基板の回転処理の際に
飛散して前記基板処理容器内に付着した液剤を洗浄液で
洗浄するための前記基板処理容器に設けられた洗浄導管
とを備えた基板処理装置において、前記基板処理容器を
洗浄した後の洗浄液の廃液を貯留する廃液タンクと、前
記廃液タンクに貯留された廃液を前記洗浄導管へ供給す
る廃液供給手段と、を備えたものである。

【００１０】

【作用】本発明の作用は次のとおりである。スピンチャ
ックに保持された基板を回転させ、液剤供給ノズルから
基板上に供給された液剤（例えば、フォトレジスト剤や
現像液）を、基板表面に均一に行き渡らせて所定の回転
処理（回転塗布処理や、現像処理）が行なわれる。回転
処理時に基板処理容器に付着した液剤は、洗浄導管から
吐出された洗浄液で洗浄される。

【００１１】洗浄後の洗浄液の廃液は、廃液タンクに回
収され貯留される。廃液タンクに貯留された廃液は、廃
液供給手段により、洗浄導管へ供給され、基板処理容器
の洗浄に再利用される。

【００１２】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１は、本発明の第一実施例に係る基板処理装
置の要部を示した図である。なお、この第一実施例装置
では、従来例で説明した回転塗布装置を例に採り説明す
る。

【００１３】本実施例は、基板Ｗを吸着保持して水平回
転させるスピンチャック１、基板Ｗ上に液剤を供給する
液剤供給ノズル２を備えている。また、基板Ｗの周囲に
は飛散防止カップ３が配設され、基板Ｗの下方には平面
視円形の整流傾斜板５も設けられている。なお、符号４
は排気ダクトである。飛散防止カップ３、整流傾斜板５
には、それぞれカップ３の内周面の洗浄、整流傾斜板５
の洗浄のための洗浄液を吐出する洗浄導管６、８が一体
形成されている。また、洗浄導管６、８から洗浄液をそ
れぞれ吐出するための多数の吐出孔７、９が洗浄導管６
と整流傾斜板８にそれぞれ開口されている。洗浄後の洗
浄液は、排液ドレイン１０から排出される。

【００１４】上記の構成を備えた本実施例の特徴は、カ
ップリンス後の洗浄液の廃液を回収し、その洗浄液の廃
液を再度カップリンスに用いるように構成したことにあ
る。

【００１５】具体的構成を図１を参照して以下に説明す
る。図１中、符号２０は、カップリンス後に排液ドレイ
ン１０から排出された、洗浄後の洗浄液の廃液ＯＳを回
収して貯留する廃液タンクである。この廃液タンク２０
には、廃液供給管２１の一端が連通接続されている。廃
液供給管２１の他端は、ポンプ２２、濾過器（フィル
タ）２３、チェックバルブ２４を介して管５０の一端に
連通接続されている。管５０の他端側は２方向に分岐さ
れ、一方は流量調整用ニードルバルブ５１を介して洗浄
導管６に連通接続されている。また、管５０の他方の分
岐管はニードルバルブ５２を介して洗浄導管８に連通接
続されている。

【００１６】ポンプ２２は、廃液タンク２０に貯留され
た廃液ＯＳを吸引し、廃液供給管２１、管５０を介して
洗浄導管６、８へ送出するものである。このポンプ２２
の駆動制御は、後述する制御部２５により行なわれるよ
うに構成されている。なお、このポンプ２２と上記廃液
供給管２１と管５０とは、本発明における廃液供給手段
に相当する。また、本実施例において、洗浄導管６によ
り洗浄される飛散防止カップ３、洗浄導管８により洗浄
される整流傾斜板５は、本発明における基板処理容器に
相当する。

【００１７】濾過器２３は、ポンプ２２により廃液タン
ク２０から洗浄導管６、８へ供給する廃液ＯＳ内に混在
している微細な固形物を濾過するためのものである。す
なわち、廃液タンク２０内に貯留されている廃液ＯＳ
は、カップリンス後のものであるから、飛散防止カップ
３等に付着した、液剤の固化物等の固形物が混在してい
ることがある。それらの固形物を濾過した廃液ＯＳで、
後述するように洗浄することにより洗浄効果を高めるこ
とができるとともに、洗浄導管６、８の吐出口７、９が
固形物で目詰まりしないようにすることができる。

【００１８】チェックバルブ２４は、後述するように補
助タンクから洗浄液を供給する際に、その洗浄液が廃液
タンク２０側に逆流するのを防止するために設けられて
いる。

【００１９】廃液タンク２０には、廃液ＯＳの貯留状態
を検出するためのセンサが設けられている。上限センサ
２６は、廃液タンク２０へ貯留する廃液ＯＳの上限を検
知するためのセンサであり、主に廃液タンク２０のオー
バーフローを防止するために設けられている。また、下
限センサ２７は、廃液タンク２０へ貯留する廃液ＯＳの
下限を検知するためのセンサである。後述するように洗
浄液を再利用していると、洗浄液は蒸発などにより減少
し、廃液タンク２０に貯留される廃液ＯＳの量が減少す
ることがある。廃液ＯＳが所定量以下になると、廃液タ
ンク２０から洗浄導管６、８へ廃液ＯＳを供給しにくく
なる。下限センサ２７は、主に廃液ＯＳの貯留状態が、
このような供給可能下限状態にあるかを検出するために
設けられている。

【００２０】これらセンサ２６、２７は、例えば、静電
容量型センサで構成されている。各センサ２６、２７
は、検出したい上限と下限に応じた位置に設置される。
例えば、上限センサ２６を図１に示す位置に設置してお
くと、廃液ＯＳの液面が上限ＵＬより下である場合と、
上限ＵＬ以上の場合とでセンサ２６で検知する静電容量
が変化する。その静電容量に応じた検知信号は、後述す
る制御部２５に与えられる。制御部２５では、与えられ
た検知信号に基づき、廃液ＯＳの液面が上限ＵＬより上
であるか否かを判断する。また、下限センサ２７も同様
に、検知信号を制御部２５に与え、制御部２５では、与
えられた検知信号に基づき、廃液ＯＳの液面が下限ＤＬ
より下であるか否かを判断する。

【００２１】なお、廃液ＯＳの上下限等の貯留状態を検
知するセンサは、上記静電容量型センサに限らず、その
他のセンサで実現してもよい。例えば、廃液タンク２０
の内壁の上面に設けた超音波センサにより、廃液ＯＳの
液面を検知してもよいし、廃液ＯＳが不透明であれば、
透過型の光学センサで廃液ＯＳの液面が所定位置を越え
たか否かを検知してもよい。

【００２２】廃液タンク２０の下面には、廃液ＯＳを廃
液タンク２０から排出するための排出管２８の一端が連
通接続されている。排出管２８の他端は、例えば、図示
しない廃液処理装置に連通接続されており、廃液ＯＳを
廃液処理装置に流す。廃液ＯＳを廃液タンク２０から排
出するときは、開閉バルブ２９を「開」にし、排出しな
いときは「閉」にする。この開閉バルブ２９の開閉の制
御は、後述する制御部２５により行なわれるように構成
されている。なお、開閉バルブ２９に替えてポンプを設
置し、廃液ＯＳを排出するときには、ポンプを駆動し、
廃液ＯＳを廃液タンク２０から排出するように構成して
もよい。

【００２３】図１中、符号４０は新しい洗浄液ＮＳが貯
留された補助タンクを示し、この補助タンク４０に管４
１の一端が連通接続されている。管４１の他端は、開閉
バルブ４２、チェックバルブ４３を介して管５０に連通
接続されている。

【００２４】補助タンク４０は、密閉容器４４内に設置
された容器４５内に新しい洗浄液ＮＳが貯留されてい
る。その洗浄液ＮＳ内に管４１の一端が臨んでいる。ま
た、密閉容器４４内には、管４６が導入されており、そ
の管４６から常に窒素ガス（Ｎ₂）が供給されている。
密閉容器４４内は、供給されている窒素ガスにより加圧
されており、その圧力で容器４５内の洗浄液ＮＳは、管
４１を介して開閉バルブ４２側に圧送されている。

【００２５】補助タンク４０から洗浄導管６、８への洗
浄液ＮＳの供給は、開閉バルブ４２の開閉によって切り
替えられる。開閉バルブ４２が「閉」のとき、洗浄液Ｎ
Ｓは洗浄導管６、８に供給されず、一方、「開」のと
き、洗浄液ＮＳは、管４１、管５０を介して洗浄導管
６、８に供給される。この開閉バルブ４２の開閉の制御
は、後述する制御部２５により行なわれるように構成さ
れている。

【００２６】チェックバルブ４３は、上記した廃液タン
ク２０から廃液ＯＳを供給する際に、その廃液ＯＳが補
助タンク４０側に逆流するのを防止するために設けられ
ている。

【００２７】このように補助タンク４０から新しい洗浄
液ＮＳを洗浄導管６、８に供給する機構を設けているの
は、後述するように、廃液タンク２０内の廃液ＮＳが減
少したときに、それに替えて洗浄導管６、８に新しい洗
浄液ＮＳを供給する等のためである。なお、容器４５内
の新しい洗浄液ＮＳが減少すると、随時作業者によって
補給されるように構成されている。なお、本装置が設置
される工場等において、洗浄液が常時圧送供給されてい
る配管が設けられている場合には、かかる配管に管４１
を連通接続して新しい洗浄液を補給する構成としてもよ
い。

【００２８】ニードルバルブ５１、５２は、それぞれ洗
浄導管６、８へ供給される廃液ＯＳ（または洗浄液Ｎ
Ｓ）の供給量を調整するためのものである。これらニー
ドルバルブ５１、５２の調整状態に従って、洗浄導管
６、８へは単位時間当たり常に一定量の廃液ＯＳ（また
は洗浄液ＮＳ）が供給される。このニードルバルブ５
１、５２の流量調整は作業者により予め行なわれる。ま
た、後述する制御部２５は、タイマ制御により、洗浄導
管６、８への廃液ＯＳ（または洗浄液ＮＳ）の供給制御
を行なっている。例えば、カップ３内周面を洗浄するの
に必要な廃液ＯＳ（または洗浄液ＮＳ）がＭ[ml]であ
り、整流傾斜板５を洗浄するのに必要な廃液ＯＳ（また
は洗浄液ＮＳ）がＮ[ml]であり、制御部２５がＴ秒間、
廃液ＯＳ（または洗浄液ＮＳ）を洗浄導管６、８に供給
するように制御するのであれば、ニードルバルブ５１は
１秒当たりＭ／Ｔ[ml]の廃液ＯＳ（または洗浄液ＮＳ）
を洗浄導管６に供給するように、また、ニードルバルブ
５２は１秒当たりＮ／Ｔ[ml]の廃液ＯＳ（または洗浄液
ＮＳ）を洗浄導管８に供給するように予め調整してあ
る。

【００２９】制御部２５は、センサ２６、２７からの検
知信号に基づき、後述する手順により、洗浄導管６、８
に廃液ＯＳを供給するか洗浄液ＮＳを供給するかを選択
し、選択した廃液ＯＳまたは洗浄液ＮＳをタイマ制御に
より洗浄導管６、８に供給するようにポンプ２２または
開閉バルブ４２を制御する。この制御部２５は、ＣＰＵ
（中央処理装置）、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモ
リ）、ＲＯＭ（読み出し専用メモリ）等からなるマイク
ロコンピュータにより構成されている。すなわち、ＲＯ
Ｍには、制御部２５が行なう制御手順（プログラム）が
記憶されており、そのプログラムに従って、ＣＰＵが処
理を実行する。ＲＡＭは、ＣＰＵの処理中におけるデー
タの一時記憶等に使用される。

【００３０】なお、制御部２５に入力される洗浄開始信
号は、回転塗布装置による回転塗布処理を制御する図示
しない装置駆動制御部から与えられる。すなわち、装置
駆動制御部は、スピンチャック１の回転制御や液剤供給
ノズル２からの液剤の供給制御等を行ない基板Ｗへの回
転塗布処理を制御する。そして、所定枚数（例えば、５
０枚）の基板Ｗへの回転塗布処理が完了すると、装置駆
動制御部は、制御部２５に対して洗浄開始信号を与え
る。制御部２５は、洗浄開始信号が与えられると、カッ
プリンスを開始する。

【００３１】また、制御部２５から出力される洗浄終了
信号は、制御部２５によるカップリンスが終了すると装
置駆動制御部に与えられる。装置駆動制御部は、洗浄終
了信号が与えられると、次の基板Ｗの回転塗布処理を開
始する。

【００３２】次に、制御部２５による制御手順の一例を
図２のフローチャートに従って説明する。まず、装置駆
動制御部から洗浄開始信号が与えられているか否かを判
断して洗浄開始か否かをチェックする（ステップＳ
１）。装置駆動制御部から洗浄開始信号が与えられてい
ないと、洗浄準備処理を行なうためにステップＳ２に進
む。一方、洗浄開始信号が与えられていると、カップリ
ンスを開始するためにステップＳ８に進む。

【００３３】ステップＳ２〜Ｓ７は洗浄準備処理であ
り、各センサ２６、２７からの検知信号に基づいて、廃
液タンク２０の廃液の貯留状態を検出し、その状態に応
じて廃液ＯＳの補充を行なうか否か等の判断を行なう。

【００３４】この洗浄準備処理では、まず、下限センサ
２７の検知信号により、廃液タンク２０内に貯留されて
いる廃液ＯＳが下限を下回っているか否かをチェックす
る（ステップＳ２）。廃液ＯＳが下限を下回っていれ
ば、補充フラグを「ＯＮ」（例えば、「１」）にし（ス
テップＳ３）、廃液ＯＳが下限を下回っていなければ、
補充フラグは現状のままステップＳ４に進む。この補充
フラグは、後述するカップリンス時に新しい洗浄液ＮＳ
を使用して、廃液タンク２０への廃液ＯＳの補充を行な
うか否かを示すフラグである。この補充フラグは、ＲＡ
Ｍ内に記憶されるフラグ（データ）である。

【００３５】次に、上限センサ２６の検知信号により、
廃液タンク２０内に貯留されている廃液ＯＳが上限を上
回っているか否かをチェックする（ステップＳ４）。廃
液ＯＳが上限を上回っていなければステップＳ１に戻
り、廃液ＯＳが上限を上回っていれば、次に、補充フラ
グにより、廃液ＯＳの補充中か否かをチェックする（ス
テップＳ５）。

【００３６】補充中であれば、補充中を解除するために
補充フラグを「ＯＦＦ」（例えば、「０」）にする（ス
テップＳ６）。すなわち、廃液タンク２０内に貯留され
ている廃液ＯＳが蒸発等により、下限を下回ると廃液Ｏ
Ｓを廃液タンク２０へ補充するために補充フラグを「Ｏ
Ｎ」にし、廃液ＯＳが上限を上回ると、補充が完了した
もの（廃液ＯＳが廃液タンク２０の上限まで貯留された
もの）として補充フラグを「ＯＦＦ」にする。なお、補
充中（補充フラグが「ＯＮ」の間）は、後述するカップ
リンスにおいては、補助タンク４０から新しい洗浄液Ｎ
Ｓが洗浄導管６、８に供給されるように制御され、カッ
プリンス後の廃液ＯＳが廃液タンク２０に回収されて貯
留（補充）される。一方、補充中でなければ（補充フラ
グが「ＯＦＦ」の間は）、後述するカップリンスにおい
ては、廃液タンク２０に貯留されている廃液ＯＳが洗浄
導管６、８に供給されるように制御される。

【００３７】また、廃液タンク２０内に貯留されている
廃液ＯＳが上限を上回っており、かつ、補充中でなけれ
ば、廃液タンク２０がオーバーフローする可能性がある
ので、廃液タンク２０に貯留されている廃液ＯＳの廃棄
処理を行なう（ステップＳ７）。

【００３８】廃棄処理は、図３に示すように、まず、廃
液タンク２０から廃液処理装置へ廃液ＯＳを排出するた
めに、開閉バルブ２９が「開」にされる（ステップＳ２
１）。次に、上限センサ２６からの検知信号により、廃
液タンク２０内の廃液ＯＳが上限を下回ったか否かを監
視する（ステップＳ２２）。そして、廃液タンク２０内
の廃液ＯＳが上限を下回るとすぐに開閉バルブ２９を
「閉」にして廃液ＯＳの排出を終了する。廃棄処理が終
了した時点では、廃液タンク２０内には廃液ＯＳが上限
を若干下回った位置まで貯留されている状態になる。

【００３９】洗浄準備処理が終了すると、ステップＳ１
に戻る。なお、この洗浄準備処理はカップリンスを行な
わない間、すなわち、回転塗布装置よる回転塗布処理が
行なわれている間繰り返されている。

【００４０】次に、ステップＳ８〜Ｓ１３のカップリン
ス処理を説明する。このカップリンス処理では、まず、
補充フラグの「ＯＮ」、「ＯＦＦ」により、廃液ＯＳの
廃液タンク２０への補充中か否かをチェックする（ステ
ップＳ８）。補充中であれば、上述したように洗浄導管
６、８へは、補助タンク４０内の洗浄液ＮＳを供給する
ので、開閉バルブ４２を「開」にする（ステップＳ
９）。一方、補充中でなければ、洗浄導管６、８へは、
廃液タンク２０内の廃液ＯＳを供給するので、ポンプ２
２の駆動を開始する（ステップＳ１０）。

【００４１】そして、所定時間が経過するのを待つ（ス
テップＳ１１）。この時間内に、上述したように、ニー
ドルバルブ５１、５２を介して洗浄に必要な量の廃液Ｏ
Ｓまたは洗浄液ＮＳが洗浄導管６、８に供給されること
になる。

【００４２】所定時間が経過すると、洗浄導管６、８へ
の廃液ＯＳまたは洗浄液ＮＳの供給を停止する（ステッ
プＳ１２）。すなわち、上記処理で開閉バルブ４２を
「開」にしたのであれば、開閉バルブ４２を「閉」に
し、ポンプ２２の駆動を開始したのであれば、ポンプ２
２の駆動を停止する。

【００４３】そして、洗浄終了信号を出力してカップリ
ンスの終了を装置駆動制御部に通知する（ステップＳ１
３）。カップリンスが終了すると、ステップＳ１に戻
る。

【００４４】次に、制御部２５による別の制御手順を図
４のフローチャートを参照して説明する。この制御手順
では、まず、洗浄開始信号が入力されるのを待ち（ステ
ップＳ３１）、洗浄開始信号が入力されると、ステップ
Ｓ３２〜Ｓ３７のカップリンス処理を行なう。

【００４５】カップリンス処理では、まず、下限センサ
２７からの検知信号により、廃液ＯＳが下限を下回って
いるか否かをチェックする（ステップＳ３２）。廃液Ｏ
Ｓが下限を下回っているのであれば、補助タンク４０か
ら新しい洗浄液ＮＳを洗浄導管６、８に供給するため
に、開閉バルブ４２を「開」にする（ステップＳ３
３）。一方、廃液ＯＳが下限を下回っていないのであれ
ば、廃液タンク２０から廃液ＯＳを洗浄導管６、８に供
給するために、ポンプ２２の駆動を開始する（ステップ
Ｓ３４）。以後のステップＳ３５〜Ｓ３７は、上述した
図２のフローチャートのステップＳ１１〜Ｓ１３と同様
であるのでここでの説明は省略する。

【００４６】この制御手順では、下限センサ２７からの
検知信号のみに基づいて、洗浄導管６、８へ廃液ＯＳを
供給するか洗浄液ＮＳを供給するかを切り替えている。
従って、このように制御する場合は、上限センサ２６は
特に必要ない。

【００４７】また、このように制御する場合、下限セン
サ２７を図１に示すような位置に設置していたのであれ
ば、廃液タンク２０の下側１／３程度にまでしか廃液Ｏ
Ｓが貯留されず、廃液タンク２０を有効に利用できなく
なる。従って、下限センサ２７の取り付け位置を、廃液
タンク２０の上方、例えば、図１の上限センサ２６が取
り付けられている位置に取り付けるのが好ましい。

【００４８】制御部２５は、上述した以外の制御手順に
より、洗浄導管６、８へ廃液ＯＳを供給するようにして
も制御してもよい。要は、カップリンスに要するランニ
ングコストを下げることが本発明の目的であるので、廃
液ＯＳを回収し、その廃液ＯＳを再利用するように制御
するのであれば、制御手順は特に限定しない。

【００４９】ところで、廃液ＯＳを最低１回再利用すれ
ば、従来技術に比べてカップリンスに要するランニング
コストを下げることができる。例えば、同じ洗浄液で１
０回カップリンスを行なえば（洗浄後の廃液を９回再利
用すれば）、９回分の廃液処理が不要であり、また、９
回分のカップリンスに要する洗浄液も不要になるので、
その分だけランニングコストを下げることができる。従
って、ある程度再利用した廃液ＯＳは廃液タンク２０か
ら廃棄し、次の洗浄処理には新しい洗浄液ＮＳを補助タ
ンク４０から供給して洗浄し、その洗浄液をある程度再
利用するれば廃棄するというように制御してもよい。

【００５０】また、開閉バルブ４２の開閉制御により、
補助タンク４０から管４１、５０を介して洗浄液ＮＳを
洗浄導管６、８に供給する構成は、従来装置において浄
液液を洗浄導管６、８へ供給するための機構である。す
なわち、本実施例は、既存の洗浄液供給機構（補助タン
ク４０、開閉バルブ４２、ニードルバルブ５１、５２、
管４１、５０）を生かしつつ、既存設備に、チェックバ
ルブ４３を付設するとともに、本発明の廃液タンク、廃
液供給手段を付設したものである。従って、装置の構成
を簡単に、かつ、製造コストを低減して本実施例に係る
装置を実現することができる。

【００５１】なお、補助タンク４０からの洗浄液ＮＳの
供給機構を、既存の洗浄液供給機構を用いずに構成して
もよい。また、図１の構成では、補助タンク４０から洗
浄液ＮＳを洗浄導管６、８に供給するのに、窒素ガスを
用いて圧送するように構成しているが、例えば、ポンプ
を用いて補助タンク４０から洗浄液ＮＳを洗浄導管６、
８へ供給するような構成であってもよい。この場合に
は、補助タンク４０からの洗浄液ＮＳの供給制御はポン
プで行えるので、開閉バルブ４２は不要となる。また、
上述のような制御部２５の制御手順では、開閉バルブ４
２の開閉制御に替えて、ポンプの駆動制御を制御部２５
で行なえばよい。

【００５２】さらに、本実施例では、廃液ＯＳの蒸発
や、上記のようにある程度再利用した廃液ＯＳを廃棄
し、新たな洗浄液ＮＳを補充するために、補助タンク４
０を設けているが、新たな洗浄液ＮＳを補充する必要が
なければ、この補助タンク４０からの洗浄液供給機構は
特に必要ない。また、新しい洗浄液ＮＳを補充する必要
がある場合でも、新しい洗浄液ＮＳを直接廃液タンク２
０に供給できるように構成すれば、補助タンク４０から
の洗浄液供給機構は特に設ける必要はない。

【００５３】また、図１の構成では、濾過器２３を廃液
供給管２１中に付設しているが、この濾過器２３を例え
ば、排液ドレイン１０と廃液タンク２０との間に付設
し、廃液ＯＳを回収する際に濾過するように構成しても
よい。このように構成すれば、廃液タンク２０内に固形
物等が堆積するのが防止できる。ただし、排液ドレイン
１０から廃液タンク２０へは、廃液ＯＳが単に自然落下
しているに過ぎず、濾過器で廃液ＯＳが詰まり、カップ
３内から廃液ＯＳが廃棄されないことが考えられる。こ
のような不都合がある場合には、濾過器を図１に示すよ
うに、廃液供給管２１に付設するのが好ましい。なお、
図１の構成では、ポンプ２２により廃液ＯＳを送出して
いるので、濾過器２３で廃液ＯＳが詰まるのが軽減され
る。また、この濾過器２３は、上記したように洗浄効果
を高めるなどの目的で設けているが、濾過器２３は必ず
しも設ける必要はない。

【００５４】さらに、本実施例の構成に加えて、排液ド
レイン１０の途中に管路の切り換え手段を設け、塗布処
理中に生じるフォトレジスト等の液剤そのものの廃液は
廃液タンク２０外に排出し、カップリンス時に生じた洗
浄液の廃液を廃液タンク２０に回収する構成とすること
もできる。かかる構成によれば、再利用される洗浄液へ
の液剤の不所望な混入を防ぐことができ、再利用される
洗浄液を不所望に汚すことがない。

【００５５】次に、本発明の第二実施例について説明す
る。この第二実施例装置の構成は、上述した第一実施例
装置の構成（図１参照）と同じであるが、制御部２５に
よる制御手順に特徴がある。

【００５６】すなわち、カップリンスにおいて、始めに
廃液ＯＳでカップリンスを行ない、最後に新しい洗浄液
ＮＳで仕上げのカップリンスを行なうように制御するも
のである。例えば、洗浄に要する廃液ＯＳまたは洗浄液
ＮＳを洗浄導管６、８に供給するのに、制御部２５がポ
ンプ２２の駆動または開閉バルブ４２を「開」にしてお
く時間がＴ（例えば、２０秒）であるとする。このと
き、まず、ｔ₁（Ｔ＞ｔ₁：例えばｔ₁＝１５秒）だけ
ポンプ２２を駆動して廃液ＯＳでカップリンスを行な
い、残り時間ｔ₂（Ｔ＝ｔ₁＋ｔ₂：例えばｔ₂＝５
秒）は、開閉バルブ４２を「開」にして、新しい洗浄液
ＮＳでカップリンスを行なうように制御する。このよう
に制御することにより、廃液ＯＳを再利用しているので
カップリンスのランニングコストの低減を図ることがで
き、また、新しい洗浄液ＮＳで仕上げのカップリンスを
行なうので洗浄効果を高めることができるという別意の
効果を同時に得ることができる。

【００５７】具体的な制御手順を図５のフローチャート
を参照して説明する。まず、洗浄開始信号が入力される
のを待ち（ステップＳ４１）、洗浄開始信号が入力され
ていなければ、ステップＳ４２〜Ｓ４３の洗浄準備処理
を行ない、洗浄開始信号が入力されると、ステップＳ４
４〜Ｓ５０のカップリンス処理を行なう。

【００５８】洗浄準備処理では、上限センサ２６の検知
信号により、廃液タンク２０内に貯留されている廃液Ｏ
Ｓが上限を上回っているか否かをチェックする（ステッ
プＳ４２）。廃液ＯＳが上限を上回っていれば、廃液の
廃液処理を行なう（ステップＳ４３）。廃液の廃棄処理
は、上記した図３の制御手順と同じであるのでここでの
説明は省略する。

【００５９】後述するカップリンスでは、新しい洗浄液
ＮＳが常に用いられるので、その分の廃液ＯＳが廃液タ
ンク２０に回収されることになる。従って、廃液タンク
２０がオーバーフローする可能性があるので、洗浄準備
処理で廃液の廃棄処理を行なっている。洗浄準備処理
は、カップリンスが行なわれない間繰り返される。

【００６０】カップリンス処理では、まず、廃液ＯＳに
よるカップリンスを行なう。すなわち、ポンプ２２の駆
動を開始し（ステップＳ４４）、廃液ＯＳによるカップ
リンス時間ｔ₁が経過するのを待ち（ステップＳ４
５）、ｔ₁時間経過後、ポンプ２２の駆動を停止する
（ステップＳ４６）。

【００６１】次に、新しい洗浄液ＮＳによるカップリン
スを行なう。すなわち、開閉バルブ４２を「開」にし
（ステップＳ４７）、新しい洗浄液ＮＳによるカップリ
ンス時間ｔ₂が経過するのを待ち（ステップＳ４８）、
ｔ₂時間経過後、開閉バルブ４２を「閉」にする（ステ
ップＳ４９）。

【００６２】最後に、洗浄終了信号を出力してカップリ
ンスの終了を装置駆動制御部に通知して（ステップＳ５
０）、カップリンス処理を終了し、ステップＳ１に戻
る。

【００６３】上述の制御手順では、廃液ＯＳが下限を下
回っているか否かのチェックを行なっていない。これ
は、カップリンスにおいて、常に新しい洗浄液ＮＳが用
いられるので、その分の廃液ＯＳが廃液タンク２０に回
収され、廃液ＯＳが下限を下回ることがないからであ
る。従って、この場合には、下限センサ２７は特に設け
る必要がない。

【００６４】なお、上記実施例では、回転塗布装置を例
に採り説明したが、本発明は、現像処理装置にも同様に
適用することができる。すなわち、現像処理装置におい
ても、基板を回転させて現像処理するときに飛散する現
像液を受け止める飛散防止カップが設けられており、そ
の飛散防止カップ等に付着した現像液を洗浄する必要が
ある。このような現像処理装置におけるカップリンスに
おいても、上述した第一、第２実施例のようにして、廃
液を回収し、その廃液をカップリンスに再利用すれば、
現像処理装置におけるカップリンスに要するランニング
コストを下げることができる。

【００６５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、カップリンス後の洗浄液の廃液を再度カップ
リンスに使用できるように構成したので、カップリンス
ごとに廃液処理を行なう必要がなく、また、カップリン
スごとに新たな洗浄液を使用しないので、カップリンス
に要するランニングコストを下げることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一実施例に係る基板処理装置の要部
を示した図である。

【図２】制御部の各部に対する制御手順を示すフローチ
ャートである。

【図３】廃液タンクから余分な廃液を廃棄するための制
御手順を示すフローチャートである。

【図４】制御部の各部に対する別の制御手順を示すフロ
ーチャートである。

【図５】第二実施例における制御部の各部に対する制御
手順を示すフローチャートである。

【図６】従来例に係る基板処理装置の要部を示した図で
ある。

【符号の説明】

１ … スピンチャック２ … 液剤供給ノズル３ … 飛散防止カップ５ … 整流傾斜板６、８ … 洗浄導管１０ … 排液ドレイン２０ … 廃液タンク２１ … 廃液供給管２２ … ポンプ５０ … 管Ｗ … 基板ＯＳ … 洗浄液の廃液ＮＳ … 洗浄液

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を保持した状態で回転させるスピン
チャックと、前記基板上に液剤を供給する液剤供給ノズ
ルと、前記スピンチャックに保持される基板を囲む基板
処理容器と、基板の回転処理の際に飛散して前記基板処
理容器内に付着した液剤を洗浄液で洗浄するための前記
基板処理容器に設けられた洗浄導管とを備えた基板処理
装置において、前記基板処理容器を洗浄した後の洗浄液の廃液を貯留す
る廃液タンクと、前記廃液タンクに貯留された廃液を前記洗浄導管へ供給
する廃液供給手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。