JPH0716058B2 - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
- Publication number
- JPH0716058B2 JPH0716058B2 JP27167389A JP27167389A JPH0716058B2 JP H0716058 B2 JPH0716058 B2 JP H0716058B2 JP 27167389 A JP27167389 A JP 27167389A JP 27167389 A JP27167389 A JP 27167389A JP H0716058 B2 JPH0716058 B2 JP H0716058B2
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- Japan
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- gas
- laser
- laser device
- excimer laser
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はエキシマレーザ装置に関するものである。
従来のエキシマレーザ装置は、特開昭63−289887号公報
に記載のように、レーザ装置の外部にレーザガスのバッ
ファタンクを設け、このバッファタンクに一度ためたレ
ーザガスをレーザ装置に供給する構成となっていた。
に記載のように、レーザ装置の外部にレーザガスのバッ
ファタンクを設け、このバッファタンクに一度ためたレ
ーザガスをレーザ装置に供給する構成となっていた。
上記従来技術は、レーザガスをレーザ装置に供給する時
に、レーザ装置のガス循環路に均一にガスを注入するこ
とに配慮がされていないために、放電部に流入したレー
ザガスの組成が、放電空間によって異なることとなり均
一な放電が得られにくく、レーザ出力の不安性をまねく
問題があった。
に、レーザ装置のガス循環路に均一にガスを注入するこ
とに配慮がされていないために、放電部に流入したレー
ザガスの組成が、放電空間によって異なることとなり均
一な放電が得られにくく、レーザ出力の不安性をまねく
問題があった。
本発明は高効率、高出力のレーザ出力を得ることを目的
としており、さらに、出力の安定なエキシマレーザ装置
を提供することを目的とする。
としており、さらに、出力の安定なエキシマレーザ装置
を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、レーザ装置内部にレーザガ
ス導入室を設れたものである。
ス導入室を設れたものである。
また、レーザガスをガス循環路に均一に注入するため
に、ガス導入室の出口をガス循環ファンの入口部に設け
たものである。
に、ガス導入室の出口をガス循環ファンの入口部に設け
たものである。
さらに、レーザガス導入室へのガスの注入には一定量の
ガスを注入するために、ガス供給量調整制御装置を介し
て行なうようにしたものである。
ガスを注入するために、ガス供給量調整制御装置を介し
て行なうようにしたものである。
さらに、ガス排気口を放電部下流側に設け、ガス排気口
とガス供給口との間にガス再生装置を配置しガスの再生
を行なうようにしたものである。
とガス供給口との間にガス再生装置を配置しガスの再生
を行なうようにしたものである。
レーザ装置本体内部にレーザガス導入室を設け、その導
入室のガス出口をガス循環ファンの入口部に設ける様に
したので、レーザ出力の低下を防止するために行なうレ
ーザガスの一部交換や、レーザガス中の不純物等を除去
するためのガス再生装置からレーザ装置にレーザガスを
注入する時、レーザ装置本体のガス循環路内のガス組成
の均一なレーザガスを注入できるので、放電部での放電
がレーザ光軸方向に均一になり、安定なレーザ出力を得
ることができる。
入室のガス出口をガス循環ファンの入口部に設ける様に
したので、レーザ出力の低下を防止するために行なうレ
ーザガスの一部交換や、レーザガス中の不純物等を除去
するためのガス再生装置からレーザ装置にレーザガスを
注入する時、レーザ装置本体のガス循環路内のガス組成
の均一なレーザガスを注入できるので、放電部での放電
がレーザ光軸方向に均一になり、安定なレーザ出力を得
ることができる。
また、レーザガス導入室へのガス注入側に、ガス注入量
調整制御装置を配置し、レーザガスの一部交換量や、ガ
ス再生時を一定にすることができるので、安定なレーザ
出力を得ることができる。
調整制御装置を配置し、レーザガスの一部交換量や、ガ
ス再生時を一定にすることができるので、安定なレーザ
出力を得ることができる。
以下、図示した実施例に基づいて本発明を説明する。第
１図には本発明の一実施例を示す。
１図には本発明の一実施例を示す。
該図の如く、レーザ管１の内部に対向配置された電極に
よって構成される放電部2,ファン3,熱交換器4,ガス流ガ
イド５を備え、レーザ媒質にハロゲンガスが使用される
エキシマレーザ装置である。本実施例では、放電部２の
ガス流下流側のレーザ管１内壁に仕切り板を配置し、レ
ーザ管１の内壁と仕切り板８で構成されるガス導入室９
を設け、供給ガス10をガス導入室９に入れるための供給
口を有し、レーザ管１の内部にガスを注入する注入口を
ファン３の入口側に配置した。上記のように構成されて
いることにより、ファン３によって、レーザガスは矢印
６の方向に流れ、放電部２を通過し、放電終了後、ガス
流７として熱交換器４によって冷却されたのち、再度フ
ァン３によって循環される。このように、レーザ管内部
にレーザガスを封じたままの状態でレーザ発振を続ける
と、エキシマレーザの場合、活性なハロゲン系ガスをレ
ーザ媒質として使用するため、そのガスの劣化、つま
り、ハロゲンガスの低下、不純物ガスの発生等により、
レーザ出力が低下してしまう。それを解決する手段とし
て、レーザ管内部のレーザガスを、新しいレーザガスと
一部交換する方法や、ガス再生装置を用いて、不純物を
取り除く方法、また、それらを組み合せた方法等がとら
れている。そのレーザガスを一部交換用の新しいガスも
しくは、不純物を取り除き、再生されたガスをレーザ管
内に注入する方法として、供給ガス10をガス導入室にい
ったん入れ、ファン３の入口付近に設けた、ガス注入口
より、注入ガス11としてレーザ管内にレーザガスを注入
するようにした。このようにすることにより、レーザ管
内に存在しているガスと、一部交換用の新しいガス、ま
しくは、再生されたガスである注入ガス11が、実施例の
軸方向に均等に注入されるため、均一に混合され、さら
に、ファン３によって混合されることになる。このこと
によって放電部２流入するレーザガス６は、放電部２の
全体にわたって、ガス組成が同じになり、均一で安定
な、放電を可能としたエキシマレーザ装置を得ることが
できる。
よって構成される放電部2,ファン3,熱交換器4,ガス流ガ
イド５を備え、レーザ媒質にハロゲンガスが使用される
エキシマレーザ装置である。本実施例では、放電部２の
ガス流下流側のレーザ管１内壁に仕切り板を配置し、レ
ーザ管１の内壁と仕切り板８で構成されるガス導入室９
を設け、供給ガス10をガス導入室９に入れるための供給
口を有し、レーザ管１の内部にガスを注入する注入口を
ファン３の入口側に配置した。上記のように構成されて
いることにより、ファン３によって、レーザガスは矢印
６の方向に流れ、放電部２を通過し、放電終了後、ガス
流７として熱交換器４によって冷却されたのち、再度フ
ァン３によって循環される。このように、レーザ管内部
にレーザガスを封じたままの状態でレーザ発振を続ける
と、エキシマレーザの場合、活性なハロゲン系ガスをレ
ーザ媒質として使用するため、そのガスの劣化、つま
り、ハロゲンガスの低下、不純物ガスの発生等により、
レーザ出力が低下してしまう。それを解決する手段とし
て、レーザ管内部のレーザガスを、新しいレーザガスと
一部交換する方法や、ガス再生装置を用いて、不純物を
取り除く方法、また、それらを組み合せた方法等がとら
れている。そのレーザガスを一部交換用の新しいガスも
しくは、不純物を取り除き、再生されたガスをレーザ管
内に注入する方法として、供給ガス10をガス導入室にい
ったん入れ、ファン３の入口付近に設けた、ガス注入口
より、注入ガス11としてレーザ管内にレーザガスを注入
するようにした。このようにすることにより、レーザ管
内に存在しているガスと、一部交換用の新しいガス、ま
しくは、再生されたガスである注入ガス11が、実施例の
軸方向に均等に注入されるため、均一に混合され、さら
に、ファン３によって混合されることになる。このこと
によって放電部２流入するレーザガス６は、放電部２の
全体にわたって、ガス組成が同じになり、均一で安定
な、放電を可能としたエキシマレーザ装置を得ることが
できる。
第２図，第３図、には本発明の夫々異なる他の実施例が
示されている。第４図は、第３図の詳細図である。第２
図の他の実施例は、仕切り板８のレーザガス注入口側に
メッシュ状仕切り板12を設け、注入ガス11がこのメッシ
ュ状仕切り板12を通過して、レーザ管内に流入するよう
に構成されている。この場合も前述の場合と同様な作用
効果を奏することができる。第３図の実施例は、ガス導
入室９内に、レーザ管１の軸端部フランジより、ガス供
給パイプ13を挿入した構成になっている。第４図には、
ガス供給パイプ13の軸方向視図を示した。ガス供給パイ
プ13に流入した供給ガス10は、ガス供給パイプ13の側面
に設けた多数の流出口より、長さ方向に均等にガス導入
室内に流出されるようになっている。この場合も前述の
場合と同様な作用効果を奏することができる。また、ガ
ス供給パイプ13の多数のガス流出口の長さを、ファン13
のガス入口の軸方向長さと同じにすることにより、ガス
導入出を設けなくても同等の効果を奏することができ
る。
示されている。第４図は、第３図の詳細図である。第２
図の他の実施例は、仕切り板８のレーザガス注入口側に
メッシュ状仕切り板12を設け、注入ガス11がこのメッシ
ュ状仕切り板12を通過して、レーザ管内に流入するよう
に構成されている。この場合も前述の場合と同様な作用
効果を奏することができる。第３図の実施例は、ガス導
入室９内に、レーザ管１の軸端部フランジより、ガス供
給パイプ13を挿入した構成になっている。第４図には、
ガス供給パイプ13の軸方向視図を示した。ガス供給パイ
プ13に流入した供給ガス10は、ガス供給パイプ13の側面
に設けた多数の流出口より、長さ方向に均等にガス導入
室内に流出されるようになっている。この場合も前述の
場合と同様な作用効果を奏することができる。また、ガ
ス供給パイプ13の多数のガス流出口の長さを、ファン13
のガス入口の軸方向長さと同じにすることにより、ガス
導入出を設けなくても同等の効果を奏することができ
る。
第５図には本発明の更に他の実施例が示されている。本
実施例は、第１図の第１実施例における放電部２のガス
下流側レーザ管１管壁にガス排気口15を設けており、ガ
ス供給口16より供給ガス10をガス導入室に供給してい
る。レーザ管１内の劣化したレーザガスを一部新しいガ
スと交換する場合には、ガス供給側は、ガス供給ガスボ
ンベ19、または、ガス供給システムより、電磁弁20を介
し、ガス供給量調整制御装置18,電磁弁21を通って、供
給ガス10がガス導入室９に一定量のガスが入る。ガス排
気側は、排気ガス14がガス排気口15より、電磁弁24を通
って真空ポンプ25より外部に排気されるシステムとな
る。次に、劣化したレーザガスより、不純物を取り除い
て、再生させる場合には、電磁弁22,ガス再生装置17,電
磁弁23を通過させて、レーザ管内のガスを循環再生する
方法がとられる。また、上述の２つの方法を組み合わせ
て行なう方法もある。このように、ガス排気口15と、ガ
ス供給口16をガス導入室９によって分離することによ
り、レーザ管１内に注入される新しいガスまたは、再生
されたガスと、排気されるガスまたは、再生されるガス
とが完全に分離されるため、効率よくガスの一部交換
や、ガス再生を行なうことが可能なエキシマレーザ装置
を提供することができる。
実施例は、第１図の第１実施例における放電部２のガス
下流側レーザ管１管壁にガス排気口15を設けており、ガ
ス供給口16より供給ガス10をガス導入室に供給してい
る。レーザ管１内の劣化したレーザガスを一部新しいガ
スと交換する場合には、ガス供給側は、ガス供給ガスボ
ンベ19、または、ガス供給システムより、電磁弁20を介
し、ガス供給量調整制御装置18,電磁弁21を通って、供
給ガス10がガス導入室９に一定量のガスが入る。ガス排
気側は、排気ガス14がガス排気口15より、電磁弁24を通
って真空ポンプ25より外部に排気されるシステムとな
る。次に、劣化したレーザガスより、不純物を取り除い
て、再生させる場合には、電磁弁22,ガス再生装置17,電
磁弁23を通過させて、レーザ管内のガスを循環再生する
方法がとられる。また、上述の２つの方法を組み合わせ
て行なう方法もある。このように、ガス排気口15と、ガ
ス供給口16をガス導入室９によって分離することによ
り、レーザ管１内に注入される新しいガスまたは、再生
されたガスと、排気されるガスまたは、再生されるガス
とが完全に分離されるため、効率よくガスの一部交換
や、ガス再生を行なうことが可能なエキシマレーザ装置
を提供することができる。
本発明は、以上説明したように構成されているので以下
に記載されるような効果を奏する。
に記載されるような効果を奏する。
ガス導入室をレーザ装置内に設けることによりレーザシ
ステム全体を単純化できる。また、ガス導入室のガス出
口をガス循環ファンの入口に設置することで、ガス組成
の均一なレーザガスを放電部に供給できる。さらに、導
入室の出口をメッシュ状にする、導入室へのガスの注入
を、突出したパイプで行なうこと、そのパイプの側面に
ガス吐出口を設けることにより、ガス循環路に均一にガ
スを注入できる。さらには、導入室へのガスの注入をガ
ス注入量調整制御装置を介して行なうことにより、一定
量で均一組成のレーザガスをガス循環路に注入すること
ができ、放電部での放電を均一で安定な放電を得ること
ができる。
ステム全体を単純化できる。また、ガス導入室のガス出
口をガス循環ファンの入口に設置することで、ガス組成
の均一なレーザガスを放電部に供給できる。さらに、導
入室の出口をメッシュ状にする、導入室へのガスの注入
を、突出したパイプで行なうこと、そのパイプの側面に
ガス吐出口を設けることにより、ガス循環路に均一にガ
スを注入できる。さらには、導入室へのガスの注入をガ
ス注入量調整制御装置を介して行なうことにより、一定
量で均一組成のレーザガスをガス循環路に注入すること
ができ、放電部での放電を均一で安定な放電を得ること
ができる。
第１図は本発明のエキシマレーザ装置の一実施例の断面
図、第２図，第３図は本発明のエキシマレーザ装置の夫
々異なる実施例を示す断面図、第４図は第３図の詳細拡
大図、第５図は本発明のエキシマレーザ装置の更に他の
実施例の断面図である。 １……レーザ管、２……放電部、３……ファン、４……
熱交換器、５……ガス流ガイド、６……ガス流、７……
ガス流、８……仕切り板、９……ガス導入室、10……供
給ガス、11……注入ガス、12……メッシュ状仕切り板、
13……ガス供給パイプ、14……排気ガス、15……ガス排
気口、16……ガス供給口、17……ガス再生装置、18……
ガス供給量調整制御装置、19……供給ガスボンベ、20,2
1,22,23,24……電磁弁、25……真空ポンプ。
図、第２図，第３図は本発明のエキシマレーザ装置の夫
々異なる実施例を示す断面図、第４図は第３図の詳細拡
大図、第５図は本発明のエキシマレーザ装置の更に他の
実施例の断面図である。 １……レーザ管、２……放電部、３……ファン、４……
熱交換器、５……ガス流ガイド、６……ガス流、７……
ガス流、８……仕切り板、９……ガス導入室、10……供
給ガス、11……注入ガス、12……メッシュ状仕切り板、
13……ガス供給パイプ、14……排気ガス、15……ガス排
気口、16……ガス供給口、17……ガス再生装置、18……
ガス供給量調整制御装置、19……供給ガスボンベ、20,2
1,22,23,24……電磁弁、25……真空ポンプ。
Claims (8)
- 【請求項１】レーザ媒質に希ガスおよびハロゲン系ガス
が使用されるエキシマレーザ装置において、レーザ装置
内部にレーザガス導入室を設けたことを特徴とするエキ
シマレーザ装置。 - 【請求項２】前記レーザガス導入室からのガス出口を、
エキシマレーザ装置内部にある、ガス循環用フアンの入
口部に設置したことを特徴とする請求項１記載のエキシ
マレーザ装置。 - 【請求項３】前記レーザガス導入室のガス出口部をメッ
シユ状にしたことを特徴とする請求項１、又は２記載の
エキシマレーザ装置。 - 【請求項４】前記ガス導入室のガス出口が方形断面をし
ていることを特徴とする請求項２記載のエキシマレーザ
装置。 - 【請求項５】前記レーザガス導入室へのガスの注入をガ
ス導入室内に突出したパイプにより行なうことを特徴と
する請求項１記載のエキシマレーザ装置。 - 【請求項６】前記パイプの側面に少くなくとも１個以上
のガス吐出口を設けたことを特徴とする請求項５記載の
エキシマレーザ装置。 - 【請求項７】前記レーザガス導入室へのガスの注入を、
ガスの注入量を一定にするガス供給量調整制御装置を介
して行なうことを特徴とする請求項１記載のエキシマレ
ーザ装置。 - 【請求項８】請求項１記載のエキシマレーザ装置におい
て、レーザガス排出口を放電部の下流側に設け、ガス導
入室のガス注入口との間にガス再生装置を配置したこと
を特徴とするエキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27167389A JPH0716058B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27167389A JPH0716058B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | エキシマレーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03135085A JPH03135085A (ja) | 1991-06-10 |
| JPH0716058B2 true JPH0716058B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=17503286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27167389A Expired - Fee Related JPH0716058B2 (ja) | 1989-10-20 | 1989-10-20 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0716058B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2712036A1 (en) * | 2012-09-24 | 2014-03-26 | Excico France | A gas circulation loop for a laser gas discharge tube |
-
1989
- 1989-10-20 JP JP27167389A patent/JPH0716058B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03135085A (ja) | 1991-06-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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