JPH07153059A - Glass substrate for magnetic disc and its manufacture - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To improve the CSS-resistant properties and head-stock-resistant properties without deteriorating an S/N ratio. CONSTITUTION:After a glass substrate is subjected to a heat-retaining/humidity-- retaining treatment, the substrate is subjected to an etching treatment with etchant. As protrusions are properly formed on the surface of this magnetic disc glass substrate, the friction force and the attaching force between a head and a magnetic disc are relieved and the excellent CSS-resistant properties and the excellent head-stick-resistant properties are provided. Further, as the depths of minute recesses formed on the substrate surface are small, no harmful influence is given upon an S/N ratio.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク用ガラス基
板およびその製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass substrate for a magnetic disk and a method for manufacturing the glass substrate.

【０００２】[0002]

【従来の技術】磁気ディスクは、スパッタ、メッキ、蒸
着等のプロセスにより、基板上に磁性膜および保護膜を
形成して構成され、磁気記憶装置は、前記磁気ディスク
と記録再生磁気ヘッド（以下、「ヘッド」という。）を
主構成部としている。磁気記憶装置におけるヘッドと磁
気ディスクは、操作開始前は接触状態で静止している。
操作開始時は、磁気ディスクに所要の回転を与えること
によりヘッドを浮上させ、ヘッドと磁気ディスク面との
間に空隙を作り、この状態で記録再生を行ない、操作終
了時は、磁気ディスクの回転が止まり、ヘッドと磁気デ
ィスクとは操作開始前と同様に接触状態で静止する。こ
のような方式はコンタクト・スタート・ストップ方式
（以下、「ＣＳＳ方式」という。）と呼ばれている。2. Description of the Related Art A magnetic disk is constructed by forming a magnetic film and a protective film on a substrate by a process such as sputtering, plating and vapor deposition. "Head") is the main component. The head and the magnetic disk in the magnetic storage device are in contact with each other and are stationary before the operation is started.
At the beginning of the operation, the head is levitated by giving the required rotation to the magnetic disk, and a gap is created between the head and the surface of the magnetic disk. Recording and reproduction are performed in this state, and at the end of the operation, the magnetic disk is rotated. Stops, and the head and the magnetic disk stand still in contact with each other as before the start of the operation. Such a method is called a contact start / stop method (hereinafter referred to as "CSS method").

【０００３】上記の操作開始時および操作終了時におい
て、ヘッドと磁気ディスクとの間に生じる接触摩擦力
は、ヘッド及び磁気ディスクを消耗させ、磁気特性ひい
ては記録再生特性の劣化原因となる。また、磁気ディス
ク表面に巨大突起が存在している場合は、ヘッドが巨大
突起に衝突して浮上不安定となり、ヘッドおよび磁気デ
ィスクが損傷して記録再生特性が劣化する。平滑な表面
を有する磁気ディスクを用いた場合、あるいは、多湿雰
囲気中に放置することによりヘッドと磁気ディスクとの
間に水分が入り込んだ場合は、ヘッドと磁気ディスクと
が吸着現象を引き起こす。このような状態で起動させた
場合は、ヘッドおよび磁気ディスクにヘッドスティック
と通称される大きな抵抗力が生じてヘッドおよび磁気デ
ィスクが損傷する。The contact frictional force generated between the head and the magnetic disk at the start and end of the above-mentioned operation consumes the head and the magnetic disk and causes deterioration of the magnetic characteristics and thus the recording / reproducing characteristics. Further, when there is a large protrusion on the surface of the magnetic disk, the head collides with the large protrusion to make the flying unstable, damaging the head and the magnetic disk and degrading the recording / reproducing characteristics. When a magnetic disk having a smooth surface is used, or when moisture enters between the head and the magnetic disk by leaving it in a humid atmosphere, the head and the magnetic disk cause an adsorption phenomenon. When activated in such a state, a large resistance force commonly called a head stick is generated in the head and the magnetic disk, and the head and the magnetic disk are damaged.

【０００４】従来より、磁気ディスク用基板にはアルミ
ニウム合金基板が広く用いられているが、近時、ガラス
基板が注目され種々検討されている。ガラス基板は、ア
ルミニウム合金基板に比べて、巨大突起がなく表面平滑
性に優れ、しかも、硬くて塑性変形し難いため耐衝撃性
に優れ、かつ表面欠陥が少ない等の理由から、高記録密
度化に適しているためである。Conventionally, an aluminum alloy substrate has been widely used as a magnetic disk substrate, but recently, a glass substrate has attracted attention and various studies have been made. Compared to aluminum alloy substrates, glass substrates have higher recording density due to the fact that they do not have huge protrusions and have excellent surface smoothness, and they are hard and resistant to plastic deformation, so they have excellent impact resistance and few surface defects. Because it is suitable for.

【０００５】ところが、ガラス基板は、表面平滑性が特
に優れているため、磁気ディスクとヘッドとの接触面積
が大きく、磁気ディスクとヘッドとの間の摩擦力の増加
や吸着力の増大を招き、前述の耐ＣＳＳ特性、耐ヘッド
スティック性が劣化するという欠点がある。上記の欠点
を解決する方法として、機械的手法によりガラス基板の
表面に微細な凹凸を形成させてヘッドと磁気ディスク間
の摩擦力および吸着力を低減させる方法が提案されてい
る。However, since the glass substrate is particularly excellent in surface smoothness, the contact area between the magnetic disk and the head is large, which causes an increase in frictional force between the magnetic disk and the head and an increase in attraction force. There is a drawback that the CSS resistance and head stick resistance are deteriorated. As a method for solving the above-mentioned drawbacks, a method has been proposed in which fine irregularities are formed on the surface of a glass substrate by a mechanical method to reduce the frictional force and the attractive force between the head and the magnetic disk.

【０００６】しかしながら、この場合、ガラスの有する
低い塑性流動に起因するマイクロクラックの発生は避け
られず、ガラス基板の強度の低下による磁気ディスクの
破壊の恐れおよびマイクロクラック中に残存する水分ま
たは結露による水分のため磁性膜が腐食するという欠点
がある。そこで、機械的手法によりガラス基板の表面に
凹凸を形成した後、フッ酸および硫酸を含む水溶液また
はフッ化物を含む水溶液により化学エッチング処理を施
し、マイクロクラックを拡大して除去する方法が提案さ
れている（特開昭６３−１６００１０）。しかしなが
ら、この方法は、機械的手法と化学エッチング処理の２
つを組み合わせているためにガラス基板表面に形成され
る凹凸形状は再現性に乏しく、不均一であるうえに、化
学エッチング処理の条件によってはピットやグルーブが
生成しやすいために、最適条件の範囲が狭いという欠点
がある。However, in this case, generation of microcracks due to the low plastic flow of glass is unavoidable, and there is a risk of destruction of the magnetic disk due to a decrease in strength of the glass substrate and moisture or dew remaining in the microcracks. There is a drawback that the magnetic film corrodes due to water. Therefore, a method of forming unevenness on the surface of the glass substrate by a mechanical method, performing chemical etching treatment with an aqueous solution containing hydrofluoric acid and sulfuric acid or an aqueous solution containing fluoride, and enlarging and removing the microcracks has been proposed. (Japanese Patent Laid-Open No. 63-160010). However, this method requires two methods, a mechanical method and a chemical etching process.
The uneven shape formed on the glass substrate surface is poor in reproducibility and uneven due to the combination of the two, and pits and grooves are easily generated depending on the conditions of the chemical etching process. Has the drawback of being narrow.

【０００７】また、フッ化カリウム−フッ酸混合水溶液
によりガラス基板の表面を化学エッチング処理する方法
も提案されている（特開昭６３−２２５９１９号公報、
特開昭６４−３７７２２）が、この方法は、フッ酸の濃
度が高過ぎるため、ガラス基板の侵食速度が著しく速
く、その結果、ガラス基板表面に形成される凹凸形状は
再現性が乏しくまた不均一となるため、耐ＣＳＳ特性が
十分に向上しない。A method of chemically etching the surface of a glass substrate with a potassium fluoride-hydrofluoric acid mixed aqueous solution has also been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 63-225919).
However, in this method, since the concentration of hydrofluoric acid is too high, the erosion rate of the glass substrate is remarkably high, and as a result, the uneven shape formed on the surface of the glass substrate is poor in reproducibility and is not uniform. Since it is uniform, the CSS resistance is not sufficiently improved.

【０００８】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、Ｓ／Ｎ比を低下
させることなく、耐ＣＳＳ特性、耐ヘッドスティック性
を再現性良く向上させた磁気ディスク用ガラス基板およ
びその製造方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to improve CSS resistance and head stick resistance with good reproducibility without reducing the S / N ratio. A glass substrate for a magnetic disk and a method for manufacturing the same.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、保温保
湿処理を施したガラス基板をエッチング処理してなるこ
とを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板、および、ガ
ラス基板に保温保湿処理を施したのち、エッチング液を
用いてエッチング処理することを特徴とする磁気ディス
ク用ガラス基板の製造方法にある。The gist of the present invention is to provide a glass substrate for a magnetic disk, which is characterized in that a glass substrate subjected to a heat retention / humidification treatment is subjected to an etching treatment, and the glass substrate is subjected to a heat retention / humidification treatment. Then, there is provided a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, which comprises performing an etching treatment using an etching solution.

【００１０】図１は、本発明の基板の表面の断面形状を
示した説明図である。本発明の磁気ディスク用ガラス基
板（以下、「基板」という。）は、表面に図１に示すよ
うな不連続の微小の島状突起を形成し、その断面形状
は、基板の半径方向および周方向で同様のプロフィール
を有し異方性は認められない。本発明のガラス基板にお
いて、突起高さとは、基板表面の平坦部から突起の頂点
までの距離（図１のＨ）であり、先端が０. ２μｍ角の
触針を有する表面粗さ計（ランクテーラーホブソン社製
「タリステップ」）により、計測長２５０μｍで測定さ
れる。突起幅とは、基板表面の平坦部における突起の広
がり（図１のＷ）であり、突起密度と共に走査型電子顕
微鏡で観察し評価される。FIG. 1 is an explanatory view showing the cross-sectional shape of the surface of the substrate of the present invention. The glass substrate for a magnetic disk of the present invention (hereinafter referred to as “substrate”) has discontinuous minute island-shaped projections as shown in FIG. 1 on its surface, and its cross-sectional shape is the radial direction and the circumference of the substrate. It has a similar profile in direction and no anisotropy is observed. In the glass substrate of the present invention, the protrusion height is the distance from the flat portion of the substrate surface to the apex of the protrusion (H in FIG. 1), and the tip has a surface roughness meter (rank of 0.2 μm square). It is measured with a measuring length of 250 μm by “Talystep” manufactured by Taylor Hobson. The protrusion width is the spread of the protrusions (W in FIG. 1) on the flat portion of the substrate surface, and is evaluated by observation with a scanning electron microscope together with the protrusion density.

【００１１】本発明のガラス基板の典型的な突起高さ
は、５０〜１０００Åの範囲にあり、突起の頂部は、丸
みを帯びているものが多いが、場合により平坦なものも
存在する。突起形状は、上から観察した際に、円形、楕
円形、角形等の形状の突起が、場合によっては混在して
いる。円形以外の形状の突起の場合には、突起の最大広
がり距離を突起幅とし、個々の突起幅が異なる場合は、
２０個以上の平均値を突起幅とするが、通常、突起幅
は、０．０１〜１μｍの範囲にあり、突起密度は、１０
０μｍ² あたり１０〜１０００個の範囲にある。また、
Ｒｐ（表面粗さの中心線山高さ）／Ｒｍａｘ（表面粗さ
の最大高さ）が６０％以上であって、主に凹部よりも凸
部が基板の表面に形成されている。The typical height of the projections of the glass substrate of the present invention is in the range of 50 to 1000Å, and the tops of the projections are often rounded, but in some cases flat. As for the shape of the protrusions, when observed from above, protrusions having a circular shape, an elliptical shape, a rectangular shape, or the like are mixed in some cases. In the case of a protrusion with a shape other than a circle, the maximum spread distance of the protrusion is the protrusion width, and if the individual protrusion widths are different,
The average value of 20 or more is taken as the projection width, but the projection width is usually in the range of 0.01 to 1 μm, and the projection density is 10
It is in the range of 10 to 1000 per 0 μm ² . Also,
Rp (center line peak height of surface roughness) / Rmax (maximum height of surface roughness) is 60% or more, and convex portions are mainly formed on the surface of the substrate rather than concave portions.

【００１２】従来から、耐ＣＳＳ特性および耐ヘッドス
ティック性は、基板表面の凹凸、すなわちＲｍａｘと関
連づけられているが、Ｒｍａｘが同一であっても、耐Ｃ
ＳＳ特性および耐ヘッドスティック性の結果が全く正反
対になることがある。これは、適度な高さと分布で基板
の表面に凸部が形成されている場合は、ヘッドと磁気デ
ィスクの接触面積が低減して耐ＣＳＳ特性および耐ヘッ
ドスティック性が向上するのに対し、凹部が大半を占め
ている場合は、接触面積が有効に減少しないかまたは逆
に増加するために上述の二つの特性が向上しないかまた
は悪化するからである。また、基板表面の凸部の突起高
さが均一であれば、突起高さの不均一性に起因する高い
突起が減少し、高い突起とヘッドとの衝突が回避される
ことによりヘッドおよび磁気ディスクの損傷が減少する
ことに加え、ヘッドの荷重が多数の突起に分散してディ
スクの損傷が減少するため、耐ＣＳＳ特性および耐ヘッ
ドスティック性が向上する。Conventionally, the CSS resistance and the head stick resistance are related to the unevenness of the substrate surface, that is, Rmax.
The SS properties and headstick resistance results can be quite opposite. This is because when the protrusions are formed on the surface of the substrate with an appropriate height and distribution, the contact area between the head and the magnetic disk is reduced and the CSS resistance and the head stick resistance are improved, while the recesses are formed. , The contact area is not effectively reduced or conversely increased, so that the above two characteristics are not improved or deteriorated. Further, if the protrusion heights of the protrusions on the substrate surface are uniform, the number of high protrusions due to the unevenness of the protrusion heights is reduced, and collision between the high protrusions and the head is avoided, so that the head and the magnetic disk are prevented. In addition to reducing the damage on the disk, the load on the head is distributed over a large number of protrusions to reduce the damage on the disk, and thus the CSS resistance and the head stick resistance are improved.

【００１３】上記のような特性を有する本発明の磁気デ
ィスク用ガラス基板は、保温保湿処理を施したガラス基
板をエッチング処理することにより得られる。ガラス基
板としては、ソーダライムシリケートガラス、無アルカ
リガラス、ホウ珪酸ガラス、アルミノシリケートガラ
ス、石英ガラス、風冷または液冷等の処理を施された物
理強化ガラス、化学強化ガラスまたは結晶化ガラス等が
用いられる。これらのガラス基板の厚さは、通常、０．
３〜２ｍｍである。The glass substrate for a magnetic disk of the present invention having the above-mentioned characteristics can be obtained by etching the glass substrate which has been subjected to the heat retention / humidification treatment. As the glass substrate, soda lime silicate glass, alkali-free glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, quartz glass, physical tempered glass that has been subjected to a treatment such as air cooling or liquid cooling, chemically strengthened glass or crystallized glass, etc. Used. The thickness of these glass substrates is usually 0.
It is 3 to 2 mm.

【００１４】良好な耐ＣＳＳ特性を有する磁気ディスク
を製造するためには、数百Åの微小な突起の高さのばら
つきが小さな基板を使用することが好ましく、特に、ば
らつきが±２５Å以下の範囲内の場合に、耐ＣＳＳ特性
は明らかに良好となるが、本発明に従って、ガラス基板
に保温保湿処理を施したのちにエッチング処理すること
により、基板の表面における突起部の再現性が確保さ
れ、かつ突起高さの均一性が向上する。In order to manufacture a magnetic disk having good CSS resistance, it is preferable to use a substrate having a few hundreds of Å minute protrusions with a small variation in height, and in particular, a variation of ± 25 Å or less. In the case of, the CSS resistance is obviously good, but according to the present invention, the reproducibility of the protrusions on the surface of the substrate is secured by etching the glass substrate after the heat retention / humidification treatment, Moreover, the uniformity of the height of the protrusions is improved.

【００１５】保温保湿処理は、ガラス基板を、大気雰囲
気中、二酸化炭素、二酸化イオウ、塩化水素等の酸性ガ
ス雰囲気中、炭化水素等の有機ガス雰囲気中、またはこ
れらの混合ガス雰囲気中で所定時間、温度、湿度の下に
放置することことにより行われる。通常は、一定温度、
一定湿度に保って所定時間放置する恒温恒湿処理が行わ
れる。この処理により、ガラス基板の極最表面でガラス
中のアルカリイオン等の成分が雰囲気中の水分、酸性ガ
ス、有機ガス等と反応し、様々な反応生成物が均一に形
成していると推測される。このため、その後のエッチン
グ処理においてエッチング速度が、より一層均一化さ
れ、形成する微小な突起高さのばらつきが小さくなると
考えられる。The heat-retaining treatment is carried out by subjecting the glass substrate to an air atmosphere, an acid gas atmosphere of carbon dioxide, sulfur dioxide, hydrogen chloride or the like, an organic gas atmosphere of hydrocarbon or the like, or a mixed gas atmosphere thereof for a predetermined time. It is carried out by leaving it under the conditions of temperature and humidity. Usually a constant temperature,
A constant temperature and constant humidity treatment is performed in which the humidity is maintained at a constant humidity and left for a predetermined time. By this treatment, it is presumed that components such as alkali ions in the glass react with moisture in the atmosphere, acidic gas, organic gas, etc. on the outermost surface of the glass substrate, and various reaction products are uniformly formed. It Therefore, it is considered that in the subsequent etching process, the etching rate is further homogenized, and variations in the height of minute protrusions to be formed are reduced.

【００１６】雰囲気のクリーン度は特に限定されない
が、ダスト付着防止の観点からクラス１００００（米国
連邦規格）以下が好ましい。時間は、温度、湿度、雰囲
気の条件にもよるが、通常は３０分〜数百時間、特に１
〜３００時間程度が好ましい。温度は１００℃未満がよ
く、エッチング処理により形成される突起高さのばらつ
きを小さくするには２５℃以上であることが好ましい。The cleanliness of the atmosphere is not particularly limited, but from the viewpoint of preventing dust adhesion, it is preferably class 10,000 (US federal standard) or less. The time depends on the conditions of temperature, humidity and atmosphere, but it is usually 30 minutes to several hundred hours, especially 1 hour.
It is preferably about 300 hours. The temperature is preferably lower than 100 ° C., and is preferably 25 ° C. or higher in order to reduce variations in height of protrusions formed by etching.

【００１７】湿度は１００％以下がよく、エッチング処
理により形成される突起高さのばらつきを小さくするに
は１０％以上であることが好ましい。本発明の基板の製
造方法においては、保温保湿処理したガラス基板の表面
をエッチング処理して表面に突起を形成させる。エッチ
ング処理の方法としては、化学エッチング処理を利用す
る方法、フォトレジストを利用する方法またはフッ酸の
蒸気を表面に接触させてエッチング処理する方法等が採
用されるが、なかでも化学エッチング処理を利用する方
法が好適である。The humidity is preferably 100% or less, and is preferably 10% or more in order to reduce variations in height of protrusions formed by etching. In the substrate manufacturing method of the present invention, the surface of the glass substrate that has been subjected to the heat retention / humidification treatment is subjected to the etching treatment to form protrusions on the surface. As a method of etching treatment, a method of using a chemical etching treatment, a method of using a photoresist, or a method of bringing a vapor of hydrofluoric acid into contact with the surface to perform an etching treatment is used. Among them, the chemical etching treatment is used. The method of doing is suitable.

【００１８】化学エッチング処理を利用する場合は、エ
ッチング液として、フッ酸、フッ酸−フッ化物混合水溶
液、フッ酸−無機酸混合水溶液、フッ酸−有機酸混合水
溶液が使用されるが、特に、フッ化カリウム濃度が０．
５〜１０規定、フッ酸濃度が０．１〜５規定のフッ化カ
リウム−フッ酸混合水溶液を使用し、５〜２０℃の液温
度条件下でガラス基板を浸漬することが好ましい。When the chemical etching treatment is used, hydrofluoric acid, a hydrofluoric acid-fluoride mixed aqueous solution, a hydrofluoric acid-inorganic acid mixed aqueous solution, or a hydrofluoric acid-organic acid mixed aqueous solution is used as the etching solution. The potassium fluoride concentration is 0.
It is preferable to use a potassium fluoride-hydrofluoric acid mixed aqueous solution having a hydrofluoric acid concentration of 5 to 10 N and a hydrofluoric acid concentration of 0.1 to 5 N and immersing the glass substrate under a liquid temperature condition of 5 to 20 ° C.

【００１９】本発明のガラス基板を用いて磁気デイスク
を製造するには、前記のガラス基板上に、順次、下地
膜、磁性膜および保護膜をスパッタ、メッキ、蒸着等の
公知のプロセスに従って形成すればよい。下地膜として
は、Ｃｒ，Ｔｉ，Ｖ，Ｗ等IVａ〜VIａの元素、Ｚｎ，Ａ
ｌ，Ｇｅ，Ｓｉ等IIｂ〜IVｂの元素、または、これらの
酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、ＮｉＰやパーマロ
イ等が、単独でまたは２種以上を組合せて使用され、厚
さ５００〜３０００Åの範囲で形成される。In order to manufacture a magnetic disk using the glass substrate of the present invention, a base film, a magnetic film and a protective film are sequentially formed on the glass substrate by a known process such as sputtering, plating and vapor deposition. Good. As the base film, elements of IVa to VIa such as Cr, Ti, V, W, Zn, A
The element of IIb to IVb such as l, Ge, Si or the oxides, nitrides, carbides, borides, NiP and permalloys thereof are used alone or in combination of two or more and have a thickness of 500 to 3000Å It is formed in the range of.

【００２０】磁性膜としては、ＣｏＣｒ，ＣｏＮｉＣ
ｒ，ＣｏＴａＣｒ，ＣｏＰｔ，ＣｏＣｒＰｔ，ＣｏＣｒ
Ｂ，ＣｏＣｒＴａＢ，ＣｏＣｒＰｔＢ，ＣｏＰ，ＣｏＮ
ｉＰ，ＣｏＺｎＰ，ＣｏＮｉＺｎＰ，ＣｏＮｉＯ等のＣ
ｏ系磁性膜またはフェライト、窒化鉄等のＦｅ系磁性膜
が使用され、厚さ２００〜１０００Åの範囲で形成され
る。磁性膜は、面内磁化膜または垂直磁化膜のどちらで
もよい。As the magnetic film, CoCr, CoNiC
r, CoTaCr, CoPt, CoCrPt, CoCr
B, CoCrTaB, CoCrPtB, CoP, CoN
C such as iP, CoZnP, CoNiZnP, CoNiO
An o-based magnetic film or an Fe-based magnetic film such as ferrite or iron nitride is used, and is formed in a thickness range of 200 to 1000Å. The magnetic film may be either an in-plane magnetized film or a perpendicular magnetized film.

【００２１】保護膜としては、炭素単体または水素、Ａ
ｒ、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｔｉ等の１種以上を含有す
る炭素系保護膜、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 等が使用され、厚
さ５０〜５００Åの範囲で形成される。As the protective film, simple carbon or hydrogen, A
A carbon-based protective film containing at least one of r, Si, Mo, W, Cr, Ti, etc., SiO ₂ , ZrO _{2 and the} like are used and are formed in a thickness of 50 to 500 Å.

【００２２】[0022]

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施
例に限定されるものではない。なお、実施例および比較
例における各種物性の測定方法は次の通りである。 （１）ディスクの外観むら ５０万ルクスのランプにより目視で外観むらを観察し
て、むらの部分の面積比率を測定し、５枚のディスクの
測定値の平均値を外観むらとした。 （２）突起高さ、突起高さの均一性及び突起高さの再現
性 Ｒｐ（表面粗さの中心線山高さ）／Ｒｍａｘ（表面粗さ
の最大高さ）が６０％以上の場合、主に凸部が基板の表
面に形成する。本発明では、この場合、最頻値を基板表
面の平坦部と見なし、突起高さをこの平坦部と突起の頂
点との差と定義する。EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically by way of examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist. The methods for measuring various physical properties in Examples and Comparative Examples are as follows. (1) Appearance unevenness of the disc The appearance unevenness was visually observed with a lamp of 500,000 lux, the area ratio of the uneven portion was measured, and the average value of the measured values of the five disks was taken as the appearance unevenness. (2) Protrusion height, uniformity of protrusion height, and reproducibility of protrusion height When Rp (centerline peak height of surface roughness) / Rmax (maximum height of surface roughness) is 60% or more, A convex portion is formed on the surface of the substrate. In the present invention, in this case, the mode value is regarded as the flat portion of the substrate surface, and the height of the protrusion is defined as the difference between the flat portion and the apex of the protrusion.

【００２３】突起高さは、先端が０．２μｍ角の触針を
有する表面粗さ計（ランクテーラーホブソン社製「タリ
ステップ」）により計測長２５０μｍで測定される。５
枚の基板上の各々の内周部、中央部、外周部における任
意の直線上の突起（各２点ずつ）について測定し、全測
定値の平均値を突起高さとし、同一基板の測定値の幅を
突起高さの均一性とし、さらに各々の基板の平均値の幅
を突起高さの再現性とした。 （３）ＣＳＳ特性 １０万回迄の測定で静止摩擦力または動摩擦力のいずれ
か一方の値が２０ｇｆを越えた場合を不合格とし、５枚
のディスクの測定の合格率により判定した。 （４）ヘッドスティック合否 温度２５℃、湿度８０％の雰囲気中にヘッドと磁気ディ
スクを静止接触状態で１時間放置し、起動時の摩擦力の
しきい値を２０ｇｆとして判定した。 （５）Ｓ／Ｎ比 磁気ディスク用の評価装置で測定し、５枚のディスクの
測定値の平均値をＳ／Ｎ比とした。The height of the protrusion is measured with a surface roughness meter (“Taristep” manufactured by Rank Taylor Hobson Co.) having a stylus having a 0.2 μm square tip at a measurement length of 250 μm. 5
Measure the protrusions (2 points each) on an arbitrary straight line in each inner peripheral portion, central portion, and outer peripheral portion on one substrate, and take the average value of all the measured values as the protrusion height, and measure the measured values of the same substrate. The width was defined as the uniformity of the protrusion height, and the average width of each substrate was defined as the reproducibility of the protrusion height. (3) CSS characteristics When the value of either the static friction force or the dynamic friction force exceeds 20 gf in the measurement up to 100,000 times, it is regarded as a failure and judged by the pass rate of the measurement of 5 disks. (4) Pass / Fail of Head Stick The head and the magnetic disk were left in a static contact state for 1 hour in an atmosphere of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 80%, and the threshold value of frictional force at the time of start was determined to be 20 gf. (5) S / N ratio The average value of the measured values of five disks measured by an evaluation device for magnetic disks was taken as the S / N ratio.

【００２４】実施例１〜６ 化学強化した２．５インチソーダライムシリケートガラ
ス基板を弱アルカリ性洗剤で洗浄し、超純水で水洗した
後、乾燥し、次いでクリーン恒温恒湿槽（クラス１００
０）中で表１に記載した条件で恒温恒湿処理を施した。
所定の設定条件に達するまでの時間は１時間以内であっ
た。Examples 1 to 6 A chemically strengthened 2.5 inch soda lime silicate glass substrate was washed with a weak alkaline detergent, washed with ultrapure water, dried, and then a clean constant temperature and constant humidity chamber (class 100).
0) was subjected to constant temperature and humidity treatment under the conditions shown in Table 1.
The time required to reach the predetermined set conditions was within 1 hour.

【００２５】引続き、超純水で水洗した後、表１に記載
した濃度のフッ化カリウム（ＫＦ）−フッ酸（ＨＦ）混
合水溶液を用いて、液温１０℃で化学エッチング処理を
施し、表面に微小な突起を形成した、厚さ０．９ｍｍの
磁気ディスク用ガラス基板を得た。化学エッチング処理
によりガラス基板に形成された突起の性状と再現性を表
２に示す。Subsequently, after washing with ultrapure water, chemical etching treatment was performed at a liquid temperature of 10 ° C. using a potassium fluoride (KF) -hydrofluoric acid (HF) mixed aqueous solution having the concentration shown in Table 1 to obtain a surface. A glass substrate for a magnetic disk having a thickness of 0.9 mm, in which minute protrusions were formed, was obtained. Table 2 shows the properties and reproducibility of the protrusions formed on the glass substrate by the chemical etching treatment.

【００２６】上記のガラス基板上に、クロム下地膜（１
０００Å）、コバルト−クロム−タンタル合金磁性膜
（５００Å）及びカーボン保護膜（２００Å）をスパッ
タ法により、順次形成した後、浸漬法により、フッ素系
潤滑剤を２５Å塗布して磁気ディスクを製造した。得ら
れた磁気ディスクのＣＳＳ特性、ヘッドスティック性、
Ｓ／Ｎ比を評価して結果を表３に示す。On the above-mentioned glass substrate, a chromium underlayer film (1
000Å), a cobalt-chromium-tantalum alloy magnetic film (500Å) and a carbon protective film (200Å) were sequentially formed by a sputtering method, and then 25Å of a fluorine-based lubricant was applied by a dipping method to manufacture a magnetic disk. CSS characteristics of the obtained magnetic disk, head stick property,
The S / N ratio was evaluated and the results are shown in Table 3.

【００２７】比較例１〜２ 恒温恒湿処理を行わなかったこと以外は、実施例１と同
様に磁気ディスクを製造した。製造条件および得られた
ガラス基板と磁気ディスクの評価を表１〜３に示す。 実施例７〜９ ガラス基板としてアルミノシリケートガラスを使用した
こと以外は、実施例１と同様に磁気ディスクを製造し
た。製造条件および得られたガラス基板と磁気ディスク
の評価を表１〜３に示す。Comparative Examples 1 and 2 A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the constant temperature and constant humidity treatment was not performed. Tables 1 to 3 show the manufacturing conditions and the evaluation of the obtained glass substrate and magnetic disk. Examples 7 to 9 Magnetic disks were manufactured in the same manner as in Example 1 except that aluminosilicate glass was used as the glass substrate. Tables 1 to 3 show the manufacturing conditions and the evaluation of the obtained glass substrate and magnetic disk.

【００２８】比較例３〜４ 恒温恒湿処理を行わなかったこと以外は、実施例７と同
様に磁気ディスクを製造した。製造条件および得られた
ガラス基板と磁気ディスクの評価を表１〜３に示す。Comparative Examples 3 to 4 A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 7 except that the constant temperature and constant humidity treatment was not performed. Tables 1 to 3 show the manufacturing conditions and the evaluation of the obtained glass substrate and magnetic disk.

【００２９】[0029]

【表１】 ^*)大気中に５モル％含有[Table 1] ^*) Contains 5 mol% in the atmosphere

【００３０】[0030]

【表２】 [Table 2]

【００３１】[0031]

【表３】 [Table 3]

【００３２】[0032]

【発明の効果】本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、
その表面に突起が適度に形成されているため、ヘッドと
磁気ディスク間の摩擦力および吸着力が軽減され、耐Ｃ
ＳＳ特性および耐ヘッドスティック性に優れている。し
かも、基板表面に形成された微小な凹部の深さが浅いた
め、Ｓ／Ｎ比に悪影響を及ぼさない。The glass substrate for a magnetic disk of the present invention comprises:
Since the protrusions are appropriately formed on the surface, the frictional force and the attraction force between the head and the magnetic disk are reduced, and the resistance to C
Excellent SS characteristics and head stick resistance. Moreover, since the minute recesses formed on the surface of the substrate are shallow, the S / N ratio is not adversely affected.

【００３３】また、本発明の磁気ディスク用ガラス基板
の製造方法においては、恒温恒湿処理を施したガラス基
板をエッチング処理しているため、均一性に優れた突起
を再現性よくガラス基板表面に形成することができるの
で、安定した耐ＣＳＳ特性および耐ヘッドスティック性
が得られる。Further, in the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention, since the glass substrate which has been subjected to the constant temperature and constant humidity treatment is subjected to the etching treatment, the protrusion having excellent uniformity is reproducibly formed on the surface of the glass substrate. Since it can be formed, stable CSS resistance and head stick resistance are obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の磁気ディスク用ガラス基板表面の断面
形状を示した説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing a cross-sectional shape of a surface of a glass substrate for a magnetic disk of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Ｈ：突起高さ Ｗ：突起幅 H: Height of protrusion W: Width of protrusion

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】保温保湿処理を施したガラス基板をエッチ
ング処理してなることを特徴とする磁気ディスク用ガラ
ス基板1. A glass substrate for a magnetic disk, which is obtained by etching a glass substrate that has been subjected to a heat retention / humidification treatment. 【請求項２】ガラス基板に保温保湿処理を施したのち、
エッチング液を用いてエッチング処理することを特徴と
する請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方
法2. A glass substrate is subjected to a heat retention / humidification treatment,
The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the etching treatment is performed using an etching solution. 【請求項３】エッチング液がフッ化カリウム−フッ酸混
合水溶液である請求項２記載の磁気ディスク用ガラス基
板の製造方法3. The method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 2, wherein the etching liquid is a potassium fluoride-hydrofluoric acid mixed aqueous solution.