JPH07150296A - Damping alloy and its production - Google Patents
Damping alloy and its productionInfo
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- JPH07150296A JPH07150296A JP32311093A JP32311093A JPH07150296A JP H07150296 A JPH07150296 A JP H07150296A JP 32311093 A JP32311093 A JP 32311093A JP 32311093 A JP32311093 A JP 32311093A JP H07150296 A JPH07150296 A JP H07150296A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は優れた振動減衰性能を
備え、構造用材料に使用することで構造物の振動、騒音
を低減できる制振合金に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vibration damping alloy having excellent vibration damping performance and capable of reducing vibration and noise of a structure when used as a structural material.
【０００２】[0002]
【従来の技術】公害問題の一つとして生活環境での振
動、騒音が注目されている。また、精密機械に要求され
る精度が上がるにつれ、機器自体の振動を抑える手段を
講じる必要が生じている。このような問題や要請に対応
する手段の一つとして、振動の発生源となる構成要素自
体を振動減衰の著しく大きい材料（制振材料）に置き換
える方法がある。従来、制振材料としてはＣｕ−Ｍｎ合
金、Ｍｇ合金等の非鉄合金、また鉄基の制振合金として
Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ系合金（特公昭５２−１６８３号）、
Ｆｅ−Ｓｉ−Ｍｎ系合金（特公昭５６−２８９８２号）
等が開発されている。これらのうち経済性の点では鉄基
合金が最も優れていると言える。2. Description of the Related Art Vibration and noise in a living environment have attracted attention as one of pollution problems. Further, as the precision required for precision machinery has increased, it has become necessary to take measures to suppress the vibration of the equipment itself. As one of the means for coping with such problems and demands, there is a method of replacing the constituent element itself, which is the source of vibration, with a material (vibration damping material) having a significantly large vibration damping. Conventionally, non-ferrous alloys such as Cu-Mn alloy and Mg alloy have been used as damping materials, and Fe-Cr-Al alloys (Japanese Patent Publication No. 52-1683) as iron-based damping alloys.
Fe-Si-Mn-based alloy (Japanese Patent Publication No. 56-28982)
Etc. have been developed. Of these, iron-based alloys are the most economically advantageous.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、鉄基の制振合
金の制振性を支配する材料因子は未だ十分に解明されて
おらず、従来提唱されている金属組織制御や製造方法は
必ずしも適切なものとは言難い。例えば、従来では一般
に材料のフェライト粒径が大きいほど制振性が良好にな
ると考えられ、従来技術（例えば、特公昭５６−２８９
８２号）でもフェライト粒径を大きくすることに力を注
いでいるが、本発明者らが実験により確認したところに
よれば、フェライト粒径を大きくし過ぎると却って制振
性が劣化し、しかも靭性等の機械的特性も劣化してしま
う。However, the material factors governing the damping properties of iron-based damping alloys have not yet been fully clarified, and the conventionally proposed metallographic structure control and manufacturing methods are not always appropriate. It is hard to say that it is a naive one. For example, conventionally, it is generally considered that the larger the ferrite particle size of the material is, the better the vibration damping property is, and the conventional technique (for example, Japanese Patent Publication No. 56-289).
No. 82) also makes efforts to increase the ferrite grain size, but the inventors confirmed by experiments that if the ferrite grain size is too large, the vibration damping property rather deteriorates. Mechanical properties such as toughness also deteriorate.
【０００４】このような問題に対し本発明者らは、制振
性と平均フェライト結晶粒径との間に従来の定説とは異
なる関係を見出し、良好な制振性を有する制振合金の開
発に成功した。In order to solve such a problem, the inventors of the present invention found a relationship between the vibration damping property and the average ferrite crystal grain size, which was different from the conventional theory, and developed a vibration damping alloy having good vibration damping property. succeeded in.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は次の
ような構成を有することをその特徴とする。That is, the present invention is characterized by having the following configuration.
【０００６】（１） 図１に示す点Ａ4（Ａｌ：７．０
５ｗｔ％、Ｓｉ：０．９５ｗｔ％）、Ｂ4（Ａｌ：６．
５０ｗｔ％、Ｓｉ：１．１０ｗｔ％）、Ｃ4（Ａｌ：
４．７０ｗｔ％、Ｓｉ：２．７５ｗｔ％）、Ｄ4（Ａ
ｌ：２．２５ｗｔ％、Ｓｉ：２．４５ｗｔ％）、Ｅ
4（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：４．５０ｗｔ％）、Ａ0（Ａ
ｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．０
０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３０
０μｍである制振合金。(1) Point A 4 (Al: 7.0) shown in FIG.
5 wt%, Si: 0.95 wt%), B 4 (Al: 6.
50 wt%, Si: 1.10 wt%), C 4 (Al:
4.70 wt%, Si: 2.75 wt%), D 4 (A
l: 2.25 wt%, Si: 2.45 wt%), E
4 (Al: 0 wt%, Si: 4.50 wt%), A 0 (A
1: 0 wt%, Si: 0 wt%), B 0 (Al: 8.0
0 wt%, Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by
Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and unavoidable impurities , Average ferrite crystal grain size is 50 to 30
Damping alloy that is 0 μm.
【０００７】（２） 図２に示す点Ａ6（Ａｌ：７．４
０ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｂ6（Ａｌ：４．
７５ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｃ6（Ａｌ：
３．７５ｗｔ％、Ｓｉ：１．９０ｗｔ％）、Ｄ6（Ａ
ｌ：２．１５ｗｔ％、Ｓｉ：２．１５ｗｔ％）、Ｅ
6（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：４．００ｗｔ％）、Ａ0（Ａ
ｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．０
０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３０
０μｍである制振合金。(2) Point A 6 (Al: 7.4) shown in FIG.
0 wt%, Si: 0.60 wt%), B 6 (Al: 4.
75 wt%, Si: 1.00 wt%), C 6 (Al:
3.75 wt%, Si: 1.90 wt%), D 6 (A
l: 2.15 wt%, Si: 2.15 wt%), E
6 (Al: 0 wt%, Si: 4.00 wt%), A 0 (A
1: 0 wt%, Si: 0 wt%), B 0 (Al: 8.0
0 wt%, Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by
Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and unavoidable impurities , Average ferrite crystal grain size is 50 to 30
Damping alloy that is 0 μm.
【０００８】（３） 図３に示す点Ａ8（Ａｌ：６．３
０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ8（Ａｌ：６．３０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．５０ｗｔ％）、Ｃ8（Ａｌ：２．７５
ｗｔ％、Ｓｉ：１．２０ｗｔ％）、Ｄ8（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：３．５０ｗｔ％）、Ｅ8（Ａｌ：０ｗｔ％、
Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｆ8（Ａｌ：０．７０ｗｔ
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、
Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、
Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、
Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純
物からなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３００μ
ｍである制振合金。(3) Point A 8 (Al: 6.3) shown in FIG.
0wt%, Si: 0wt%) , B 8 (Al: 6.30w
t%, Si: 0.50 wt%), C 8 (Al: 2.75)
wt%, Si: 1.20 wt%), D 8 (Al: 0 wt
%, Si: 3.50 wt%), E 8 (Al: 0 wt%,
Si: 0.60 wt%, F 8 (Al: 0.70 wt%)
%, Si: 0 wt%) within the range surrounded by Al.Si,
C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less,
O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less,
S: 0.01 wt% or less, consisting of balance Fe and unavoidable impurities, and having an average ferrite crystal grain size of 50 to 300 μm.
Vibration-damping alloy that is m.
【０００９】（４） 図４に示す点Ａ10（Ａｌ：４．８
０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ10（Ａｌ：４．８０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．７０ｗｔ％）、Ｃ10（Ａｌ：２．９０
ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ10（Ａｌ：１．３
５ｗｔ％、Ｓｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｅ10（Ａｌ：０．
５５ｗｔ％、Ｓｉ：２．００ｗｔ％）、Ｆ10（Ａｌ：０
ｗｔ％、Ｓｉ：２．４０ｗｔ％）、Ｇ10（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：０．８０ｗｔ％）、Ｈ10（Ａｌ：０．５５ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．２５ｗｔ％）、Ｉ10（Ａｌ：１．６０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．３５ｗｔ％）、Ｊ10（Ａｌ：２．２
５ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３０
０μｍである制振合金。(4) Point A 10 (Al: 4.8) shown in FIG.
0 wt%, Si: 0 wt%), B 10 (Al: 4.80 w
t%, Si: 0.70 wt%), C 10 (Al: 2.90)
wt%, Si: 1.00 wt%), D 10 (Al: 1.3
5 wt%, Si: 2.05 wt%), E 10 (Al: 0.
55 wt%, Si: 2.00 wt%), F 10 (Al: 0
wt%, Si: 2.40 wt%), G 10 (Al: 0 wt%
%, Si: 0.80 wt%, H 10 (Al: 0.55w
t%, Si: 0.25 wt%), I 10 (Al: 1.60)
wt%, Si: 0.35 wt%), J 10 (Al: 2.2
5 wt%, Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by
Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and unavoidable impurities , Average ferrite crystal grain size is 50 to 30
Damping alloy that is 0 μm.
【００１０】（５） 図５に示す点Ａ12（Ａｌ：４．５
５ｗｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗｔ％）、Ｂ12（Ａｌ：４．
５５ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ12（Ａｌ：
２．３５ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ12（Ａ
ｌ：１．１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．９５ｗｔ％）、Ｅ
12（Ａｌ：１．１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ％）、
Ｆ12（Ａｌ：２．４０ｗｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗｔ％）
で囲まれる範囲内および点Ｇ12（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓ
ｉ：１．０５ｗｔ％）、Ｈ12（Ａｌ：０．６０ｗｔ％、
Ｓｉ：０．３５ｗｔ％）、Ｉ12（Ａｌ：０．９０ｗｔ
％、Ｓｉ：０．４０ｗｔ％）、Ｊ12（Ａｌ：０．３０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｋ12（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：２．３０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３０
０μｍである制振合金。(5) Point A 12 (Al: 4.5 shown in FIG.
5 wt%, Si: 0.10 wt%), B 12 (Al: 4.
55 wt%, Si: 0.60 wt%, C 12 (Al:
2.35 wt%, Si: 1.00 wt%, D 12 (A
1: 1.10 wt%, Si: 1.95 wt%), E
12 (Al: 1.10 wt%, Si: 1.35 wt%),
F 12 (Al: 2.40 wt%, Si: 0.10 wt%)
Within the range surrounded by and the point G 12 (Al: 0 wt%, S
i: 1.05 wt%), H 12 (Al: 0.60 wt%,
Si: 0.35 wt%, I 12 (Al: 0.90 wt%)
%, Si: 0.40 wt%, J 12 (Al: 0.30w)
t%, Si: 2.05 wt%), K 12 (Al: 0 wt%
%, Si: 2.30 wt%) Al within the range surrounded by
Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and unavoidable impurities , Average ferrite crystal grain size is 50 to 30
Damping alloy that is 0 μm.
【００１１】（６） 図６に示す点Ａ14（Ａｌ：４．１
５ｗｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗｔ％）、Ｂ14（Ａｌ：４．
１５ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ14（Ａｌ：
２．３０ｗｔ％、Ｓｉ：０．９０ｗｔ％）、Ｄ14（Ａ
ｌ：１．２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．７５ｗｔ％）、Ｅ
14（Ａｌ：１．２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ％）、
Ｆ14（Ａｌ：２．７０ｗｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗｔ％）
で囲まれる範囲内および点Ｇ14（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓ
ｉ：１．１５ｗｔ％）、Ｈ14（Ａｌ：０．６０ｗｔ％、
Ｓｉ：０．４０ｗｔ％）、Ｉ14（Ａｌ：０．８０ｗｔ
％、Ｓｉ：０．４５ｗｔ％）、Ｊ14（Ａｌ：０ｗｔ％、
Ｓｉ：２．２０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓ
ｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３０
０μｍである制振合金。(6) Point A 14 (Al: 4.1) shown in FIG.
5 wt%, Si: 0.20 wt%), B 14 (Al: 4.
15 wt%, Si: 0.60 wt%, C 14 (Al:
2.30 wt%, Si: 0.90 wt%), D 14 (A
l: 1.20 wt%, Si: 1.75 wt%), E
14 (Al: 1.20 wt%, Si: 1.35 wt%),
F 14 (Al: 2.70 wt%, Si: 0.20 wt%)
Within the range surrounded by and the point G 14 (Al: 0 wt%, S
i: 1.15 wt%, H 14 (Al: 0.60 wt%,
Si: 0.40 wt%), I 14 (Al: 0.80 wt%)
%, Si: 0.45 wt%), J 14 (Al: 0 wt%,
Al: S within the range surrounded by Si: 2.20 wt%
i, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and inevitable impurities , Average ferrite crystal grain size is 50 to 30
Damping alloy that is 0 μm.
【００１２】（７） 図１に示す点Ａ4（Ａｌ：７．０
５ｗｔ％、Ｓｉ：０．９５ｗｔ％）、Ｂ4（Ａｌ：６．
５０ｗｔ％、Ｓｉ：１．１０ｗｔ％）、Ｃ4（Ａｌ：
４．７０ｗｔ％、Ｓｉ：２．７５ｗｔ％）、Ｄ4（Ａ
ｌ：２．２５ｗｔ％、Ｓｉ：２．４５ｗｔ％）、Ｅ
4（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：４．５０ｗｔ％）、Ａ0（Ａ
ｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．０
０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼
きならしすることにより平均フェライト結晶粒径を５０
〜３００μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の
製造方法。(7) Point A 4 (Al: 7.0) shown in FIG.
5 wt%, Si: 0.95 wt%), B 4 (Al: 6.
50 wt%, Si: 1.10 wt%), C 4 (Al:
4.70 wt%, Si: 2.75 wt%), D 4 (A
l: 2.25 wt%, Si: 2.45 wt%), E
4 (Al: 0 wt%, Si: 4.50 wt%), A 0 (A
1: 0 wt%, Si: 0 wt%), B 0 (Al: 8.0
0 wt%, Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by
Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and unavoidable impurities After rolling the alloy, the average ferrite crystal grain size is set to 50 by normalizing at 800 to 1100 ° C.
To 300 μm, a method for producing a vibration damping alloy.
【００１３】（８） 図２に示す点Ａ6（Ａｌ：７．４
０ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｂ6（Ａｌ：４．
７５ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｃ6（Ａｌ：
３．７５ｗｔ％、Ｓｉ：１．９０ｗｔ％）、Ｄ6（Ａ
ｌ：２．１５ｗｔ％、Ｓｉ：２．１５ｗｔ％）、Ｅ
6（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：４．００ｗｔ％）、Ａ0（Ａ
ｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．０
０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼
きならしすることにより平均フェライト結晶粒径を５０
〜３００μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の
製造方法。(8) Point A 6 (Al: 7.4) shown in FIG.
0 wt%, Si: 0.60 wt%), B 6 (Al: 4.
75 wt%, Si: 1.00 wt%), C 6 (Al:
3.75 wt%, Si: 1.90 wt%), D 6 (A
l: 2.15 wt%, Si: 2.15 wt%), E
6 (Al: 0 wt%, Si: 4.00 wt%), A 0 (A
1: 0 wt%, Si: 0 wt%), B 0 (Al: 8.0
0 wt%, Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by
Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and unavoidable impurities After rolling the alloy, the average ferrite crystal grain size is set to 50 by normalizing at 800 to 1100 ° C.
To 300 μm, a method for producing a vibration damping alloy.
【００１４】（９） 図３に示す点Ａ8（Ａｌ：６．３
０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ8（Ａｌ：６．３０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．５０ｗｔ％）、Ｃ8（Ａｌ：２．７５
ｗｔ％、Ｓｉ：１．２０ｗｔ％）、Ｄ8（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：３．５０ｗｔ％）、Ｅ8（Ａｌ：０ｗｔ％、
Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｆ8（Ａｌ：０．７０ｗｔ
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、
Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、
Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、
Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純
物からなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼きな
らしすることにより平均フェライト結晶粒径を５０〜３
００μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の製造
方法。(9) Point A 8 (Al: 6.3) shown in FIG.
0wt%, Si: 0wt%) , B 8 (Al: 6.30w
t%, Si: 0.50 wt%), C 8 (Al: 2.75)
wt%, Si: 1.20 wt%), D 8 (Al: 0 wt
%, Si: 3.50 wt%), E 8 (Al: 0 wt%,
Si: 0.60 wt%, F 8 (Al: 0.70 wt%)
%, Si: 0 wt%) within the range surrounded by Al.Si,
C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less,
O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less,
S: 0.01 wt% or less, after rolling an alloy consisting of the balance Fe and unavoidable impurities, the average ferrite crystal grain size is 50 to 3 by normalizing at 800 to 1100 ° C.
A method for producing a vibration damping alloy, characterized in that the thickness is within a range of 00 μm.
【００１５】（１０） 図４に示す点Ａ10（Ａｌ：４．
８０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ10（Ａｌ：４．８０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．７０ｗｔ％）、Ｃ10（Ａｌ：２．９
０ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ10（Ａｌ：１．
３５ｗｔ％、Ｓｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｅ10（Ａｌ：
０．５５ｗｔ％、Ｓｉ：２．００ｗｔ％）、Ｆ10（Ａ
ｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：２．４０ｗｔ％）、Ｇ10（Ａｌ：
０ｗｔ％、Ｓｉ：０．８０ｗｔ％）、Ｈ10（Ａｌ：０．
５５ｗｔ％、Ｓｉ：０．２５ｗｔ％）、Ｉ10（Ａｌ：
１．６０ｗｔ％、Ｓｉ：０．３５ｗｔ％）、Ｊ10（Ａ
ｌ：２．２５ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲
内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０
１ｗｔ％以下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１
ｗｔ％以下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび
不可避的不純物からなる合金を圧延後、８００〜１１０
０℃で焼きならしすることにより平均フェライト結晶粒
径を５０〜３００μｍの範囲とすることを特徴とする制
振合金の製造方法。(10) Point A 10 (Al: 4.
80 wt%, Si: 0 wt%), B 10 (Al: 4.80)
wt%, Si: 0.70 wt%, C 10 (Al: 2.9)
0 wt%, Si: 1.00 wt%), D 10 (Al: 1.
35 wt%, Si: 2.05 wt%), E 10 (Al:
0.55 wt%, Si: 2.00 wt%), F 10 (A
1: 0 wt%, Si: 2.40 wt%, G 10 (Al:
0 wt%, Si: 0.80 wt%), H 10 (Al: 0.
55 wt%, Si: 0.25 wt%), I 10 (Al:
1.60 wt%, Si: 0.35 wt%), J 10 (A
(1: 2.25 wt%, Si: 0 wt%) Al.Si within a range surrounded by C, 0.01 wt% or less, N: 0.0
1 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01
800% to 110% after rolling an alloy containing wt% or less, S: 0.01 wt% or less, and the balance Fe and unavoidable impurities.
A method for producing a vibration damping alloy, characterized in that the average ferrite crystal grain size is adjusted to a range of 50 to 300 μm by normalizing at 0 ° C.
【００１６】（１１） 図５に示す点Ａ12（Ａｌ：４．
５５ｗｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗｔ％）、Ｂ12（Ａｌ：
４．５５ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ12（Ａ
ｌ：２．３５ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ
12（Ａｌ：１．１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．９５ｗｔ％）、
Ｅ12（Ａｌ：１．１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ
％）、Ｆ12（Ａｌ：２．４０ｗｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗ
ｔ％）で囲まれる範囲内および点Ｇ12（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：１．０５ｗｔ％）、Ｈ12（Ａｌ：０．６０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．３５ｗｔ％）、Ｉ12（Ａｌ：０．９０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．４０ｗｔ％）、Ｊ12（Ａｌ：０．３
０ｗｔ％、Ｓｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｋ12（Ａｌ：０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：２．３０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ
・Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％
以下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼
きならしすることにより平均フェライト結晶粒径を５０
〜３００μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の
製造方法。(11) Point A 12 (Al: 4.
55 wt%, Si: 0.10 wt%), B 12 (Al:
4.55 wt%, Si: 0.60 wt%), C 12 (A
1: 2.35 wt%, Si: 1.00 wt%), D
12 (Al: 1.10 wt%, Si: 1.95 wt%),
E 12 (Al: 1.10 wt%, Si: 1.35 wt
%), F 12 (Al: 2.40 wt%, Si: 0.10 w
within a range surrounded by t%) and a point G 12 (Al: 0 wt
%, Si: 1.05 wt%, H 12 (Al: 0.60 w
t%, Si: 0.35 wt%), I 12 (Al: 0.90)
wt%, Si: 0.40 wt%), J 12 (Al: 0.3
0 wt%, Si: 2.05 wt%), K 12 (Al: 0w
t%, Si: 2.30 wt%) Al within the range
・ Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt%
Hereinafter, by rolling an alloy consisting of O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, and the balance Fe and unavoidable impurities, by normalizing at 800 to 1100 ° C. Average ferrite grain size of 50
To 300 μm, a method for producing a vibration damping alloy.
【００１７】（１２） 図６に示す点Ａ14（Ａｌ：４．
１５ｗｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗｔ％）、Ｂ14（Ａｌ：
４．１５ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ14（Ａ
ｌ：２．３０ｗｔ％、Ｓｉ：０．９０ｗｔ％）、Ｄ
14（Ａｌ：１．２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．７５ｗｔ％）、
Ｅ14（Ａｌ：１．２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ
％）、Ｆ14（Ａｌ：２．７０ｗｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗ
ｔ％）で囲まれる範囲内および点Ｇ14（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：１．１５ｗｔ％）、Ｈ14（Ａｌ：０．６０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．４０ｗｔ％）、Ｉ14（Ａｌ：０．８０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．４５ｗｔ％）、Ｊ14（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：２．２０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼
きならしすることにより平均フェライト結晶粒径を５０
〜３００μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の
製造方法。(12) Point A 14 (Al: 4.
15 wt%, Si: 0.20 wt%), B 14 (Al:
4.15 wt%, Si: 0.60 wt%), C 14 (A
l: 2.30 wt%, Si: 0.90 wt%), D
14 (Al: 1.20 wt%, Si: 1.75 wt%),
E 14 (Al: 1.20 wt%, Si: 1.35 wt
%), F 14 (Al: 2.70 wt%, Si: 0.20 w
within a range surrounded by t%) and a point G 14 (Al: 0 wt
%, Si: 1.15 wt%, H 14 (Al: 0.60 w
t%, Si: 0.40 wt%), I 14 (Al: 0.80)
wt%, Si: 0.45 wt%), J 14 (Al: 0 wt%
%, Si: 2.20 wt%) Al within the range surrounded by
Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and unavoidable impurities After rolling the alloy, the average ferrite crystal grain size is set to 50 by normalizing at 800 to 1100 ° C.
To 300 μm, a method for producing a vibration damping alloy.
【００１８】[0018]
【作用】以下、本発明の詳細とその限定理由を説明す
る。純鉄に特定量のＡｌ、Ｓｉを添加すると優れた制振
性が得られる。本発明者らの実験により、１０５０℃で
焼きならし処理した合金板の制振性（損失係数）と合金
の化学組成の間に図７に示すような関係が認められた。
同図はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ三元合金の損失係数を測定し
（試験片を横振動基本モードの節の位置で２本の細線で
支持し、真空中での振動の自由減衰曲線から損失係数を
求める方法）、これを等高線表示したもので、図中の各
曲線は損失係数が等しい点を結んだものであり、各曲線
に付したマスの中の数字は、損失係数を×（１／１
０3）の単位で表示したものである。ここで、損失係数
とは素材の制振性の指標として一般に用いられる係数で
あり、振動サイクル当りに吸収されるエネルギーの全振
動エネルギーに対する比に相当する。図７によれば、Ｆ
ｅに対しＡｌ、Ｓｉを所定の範囲で添加することにより
優れた制振性が得られることが判る。本発明では、図７
の結果に基づきＡｌ、Ｓｉの添加量を以下のように規定
する。The details of the present invention and the reasons for limitation thereof will be described below. By adding specific amounts of Al and Si to pure iron, excellent vibration damping properties can be obtained. According to the experiments conducted by the present inventors, a relationship as shown in FIG. 7 was recognized between the vibration damping property (loss coefficient) of the alloy sheet that was subjected to the normalizing treatment at 1050 ° C. and the chemical composition of the alloy.
In the figure, the loss coefficient of the Fe-Al-Si ternary alloy is measured (the test piece is supported by two thin wires at the node position of the transverse vibration fundamental mode, and the loss coefficient is determined from the free damping curve of vibration in vacuum). The curve in the figure connects points with the same loss coefficient, and the numbers in the squares attached to each curve indicate the loss coefficient x (1 / 1
It is expressed in units of 0 3 ). Here, the loss coefficient is a coefficient generally used as an index of the damping property of the material, and corresponds to the ratio of the energy absorbed per vibration cycle to the total vibration energy. According to FIG. 7, F
It can be seen that excellent damping properties can be obtained by adding Al and Si to e in a predetermined range. In the present invention, FIG.
Based on the result, the addition amounts of Al and Si are defined as follows.
【００１９】すなわち、１０５０℃で焼きならし処理し
た場合に損失係数η：４×１／１０3以上を得るには、
Ａｌ、Ｓｉの添加量を図１に示すように、点Ａ4（Ａ
ｌ：７．０５ｗｔ％、Ｓｉ：０．９５ｗｔ％）、Ｂ
4（Ａｌ：６．５０ｗｔ％、Ｓｉ：１．１０ｗｔ％）、
Ｃ4（Ａｌ：４．７０ｗｔ％、Ｓｉ：２．７５ｗｔ
％）、Ｄ4（Ａｌ：２．２５ｗｔ％、Ｓｉ：２．４５ｗ
ｔ％）、Ｅ4（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：４．５０ｗｔ
％）、Ａ0（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ
0（Ａｌ：８．００ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれ
る範囲内のＡｌ・Ｓｉとする。That is, in order to obtain a loss coefficient η: 4 × 1/10 3 or more when normalizing at 1050 ° C.,
As shown in FIG. 1, the addition amounts of Al and Si are shown by the point A 4
1: 7.05 wt%, Si: 0.95 wt%), B
4 (Al: 6.50 wt%, Si: 1.10 wt%),
C 4 (Al: 4.70 wt%, Si: 2.75 wt
%), D 4 (Al: 2.25 wt%, Si: 2.45 w
t%), E 4 (Al: 0 wt%, Si: 4.50 wt
%), A 0 (Al: 0 wt%, Si: 0 wt%), B
Al · Si within the range surrounded by 0 (Al: 8.00 wt%, Si: 0 wt%).
【００２０】１０５０℃で焼きならし処理した場合に損
失係数η：６×１／１０3以上を得るには、Ａｌ、Ｓｉ
の添加量を図２に示すように、点Ａ6（Ａｌ：７．４０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｂ6（Ａｌ：４．７
５ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｃ6（Ａｌ：３．
７５ｗｔ％、Ｓｉ：１．９０ｗｔ％）、Ｄ6（Ａｌ：
２．１５ｗｔ％、Ｓｉ：２．１５ｗｔ％）、Ｅ6（Ａ
ｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：４．００ｗｔ％）、Ａ0（Ａｌ：
０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．００ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ
とする。In order to obtain a loss coefficient η: 6 × 1/10 3 or more in the case of normalizing at 1050 ° C., Al, Si
As shown in FIG. 2, the amount of addition of the point A 6 (Al: 7.40
wt%, Si: 0.60 wt%), B 6 (Al: 4.7
5 wt%, Si: 1.00 wt%), C 6 (Al: 3.
75 wt%, Si: 1.90 wt%), D 6 (Al:
2.15 wt%, Si: 2.15 wt%), E 6 (A
1: 0 wt%, Si: 4.00 wt%), A 0 (Al:
0 wt%, Si: 0 wt%, B 0 (Al: 8.00 w
t%, Si: 0 wt%) Al · Si within the range
And
【００２１】１０５０℃で焼きならし処理した場合に損
失係数η：８×１／１０3以上を得る場合には、Ａｌ、
Ｓｉの添加量を図３に示すように、点Ａ8（Ａｌ：６．
３０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ8（Ａｌ：６．３０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．５０ｗｔ％）、Ｃ8（Ａｌ：２．７
５ｗｔ％、Ｓｉ：１．２０ｗｔ％）、Ｄ8（Ａｌ：０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：３．５０ｗｔ％）、Ｅ8（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｆ8（Ａｌ：０．７０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ
とする。When a loss coefficient η: 8 × 1/10 3 or more is obtained after normalizing at 1050 ° C., Al,
As shown in FIG. 3, the amount of Si added is point A 8 (Al: 6.
30 wt%, Si: 0 wt%), B 8 (Al: 6.30)
wt%, Si: 0.50 wt%), C 8 (Al: 2.7
5 wt%, Si: 1.20 wt%, D 8 (Al: 0w
t%, Si: 3.50 wt%), E 8 (Al: 0 wt%
%, Si: 0.60 wt%, F 8 (Al: 0.70w)
t%, Si: 0 wt%) Al · Si within the range
And
【００２２】１０５０℃で焼きならし処理した場合に損
失係数η：１．０×１／１０2以上を得る場合には、Ａ
ｌ、Ｓｉの添加量を図４に示すように、点Ａ10（Ａｌ：
４．８０ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ10（Ａｌ：４．
８０ｗｔ％、Ｓｉ：０．７０ｗｔ％）、Ｃ10（Ａｌ：
２．９０ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ10（Ａ
ｌ：１．３５ｗｔ％、Ｓｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｅ
10（Ａｌ：０．５５ｗｔ％、Ｓｉ：２．００ｗｔ％）、
Ｆ10（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：２．４０ｗｔ％）、Ｇ10
（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：０．８０ｗｔ％）、Ｈ10（Ａ
ｌ：０．５５ｗｔ％、Ｓｉ：０．２５ｗｔ％）、Ｉ
10（Ａｌ：１．６０ｗｔ％、Ｓｉ：０．３５ｗｔ％）、
Ｊ10（Ａｌ：２．２５ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲ま
れる範囲内のＡｌ・Ｓｉとする。When a loss coefficient η: 1.0 × 1/10 2 or more is obtained by normalizing at 1050 ° C., A
As shown in FIG. 4, the amount of addition of 1 and Si is point A 10 (Al:
4.80 wt%, Si: 0 wt%), B 10 (Al: 4.
80 wt%, Si: 0.70 wt%), C 10 (Al:
2.90 wt%, Si: 1.00 wt%, D 10 (A
l: 1.35 wt%, Si: 2.05 wt%), E
10 (Al: 0.55 wt%, Si: 2.00 wt%),
F 10 (Al: 0 wt%, Si: 2.40 wt%), G 10
(Al: 0 wt%, Si: 0.80 wt%), H 10 (A
l: 0.55 wt%, Si: 0.25 wt%), I
10 (Al: 1.60 wt%, Si: 0.35 wt%),
Al · Si within a range surrounded by J 10 (Al: 2.25 wt%, Si: 0 wt%).
【００２３】１０５０℃で焼きならし処理した場合に損
失係数η：１．２×１／１０2以上を得るには、Ａｌ、
Ｓｉの添加量を図５に示すように、点Ａ12（Ａｌ：４．
５５ｗｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗｔ％）、Ｂ12（Ａｌ：
４．５５ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ12（Ａ
ｌ：２．３５ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ
12（Ａｌ：１．１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．９５ｗｔ％）、
Ｅ12（Ａｌ：１．１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ
％）、Ｆ12（Ａｌ：２．４０ｗｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗ
ｔ％）で囲まれる範囲内および点Ｇ12（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：１．０５ｗｔ％）、Ｈ12（Ａｌ：０．６０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．３５ｗｔ％）、Ｉ12（Ａｌ：０．９０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．４０ｗｔ％）、Ｊ12（Ａｌ：０．３
０ｗｔ％、Ｓｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｋ12（Ａｌ：０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：２．３０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ
・Ｓｉとする。In order to obtain a loss coefficient η: 1.2 × 1/10 2 or more when normalizing at 1050 ° C., Al,
As shown in FIG. 5, the addition amount of Si is point A 12 (Al: 4.
55 wt%, Si: 0.10 wt%), B 12 (Al:
4.55 wt%, Si: 0.60 wt%), C 12 (A
1: 2.35 wt%, Si: 1.00 wt%), D
12 (Al: 1.10 wt%, Si: 1.95 wt%),
E 12 (Al: 1.10 wt%, Si: 1.35 wt
%), F 12 (Al: 2.40 wt%, Si: 0.10 w
within a range surrounded by t%) and a point G 12 (Al: 0 wt
%, Si: 1.05 wt%, H 12 (Al: 0.60 w
t%, Si: 0.35 wt%), I 12 (Al: 0.90)
wt%, Si: 0.40 wt%), J 12 (Al: 0.3
0 wt%, Si: 2.05 wt%), K 12 (Al: 0w
t%, Si: 2.30 wt%) Al within the range
・ Set to Si.
【００２４】１０５０℃で焼きならし処理した場合に損
失係数η：１．４×１／１０2以上を得るには、Ａｌ、
Ｓｉの添加量を図６に示すように、点Ａ14（Ａｌ：４．
１５ｗｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗｔ％）、Ｂ14（Ａｌ：
４．１５ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ14（Ａ
ｌ：２．３０ｗｔ％、Ｓｉ：０．９０ｗｔ％）、Ｄ
14（Ａｌ：１．２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．７５ｗｔ％）、
Ｅ14（Ａｌ：１．２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ
％）、Ｆ14（Ａｌ：２．７０ｗｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗ
ｔ％）で囲まれる範囲内および点Ｇ14（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：１．１５ｗｔ％）、Ｈ14（Ａｌ：０．６０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．４０ｗｔ％）、Ｉ14（Ａｌ：０．８０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．４５ｗｔ％）、Ｊ14（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：２．２０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉとする。In order to obtain a loss coefficient η: 1.4 × 1/10 2 or more when normalizing at 1050 ° C., Al,
As shown in FIG. 6, the amount of Si added was changed to point A 14 (Al: 4.
15 wt%, Si: 0.20 wt%), B 14 (Al:
4.15 wt%, Si: 0.60 wt%), C 14 (A
l: 2.30 wt%, Si: 0.90 wt%), D
14 (Al: 1.20 wt%, Si: 1.75 wt%),
E 14 (Al: 1.20 wt%, Si: 1.35 wt
%), F 14 (Al: 2.70 wt%, Si: 0.20 w
within a range surrounded by t%) and a point G 14 (Al: 0 wt
%, Si: 1.15 wt%, H 14 (Al: 0.60 w
t%, Si: 0.40 wt%), I 14 (Al: 0.80)
wt%, Si: 0.45 wt%), J 14 (Al: 0 wt%
%, Si: 2.20 wt%) Al within the range surrounded by
Let Si.
【００２５】また、本発明合金における他の元素の限定
理由は以下の通りである。Ｃは侵入型固溶元素であり、
磁壁の異動度を減少させて制振性を劣化させるため、
０．０１ｗｔ％以下とする。ＮもＣと同様の理由で制振
性能を劣化させるため、０．０１ｗｔ％以下とする。Ｏ
もＣ、Ｎと同様の理由で制振性能を劣化させるため、
０．０１ｗｔ％以下とする。Ｐは粒界に偏析して加工性
を劣化させるため、０．０１ｗｔ％以下とする。Ｓは熱
間加工性を劣化させるため、０．０１ｗｔ％以下とす
る。The reasons for limiting other elements in the alloy of the present invention are as follows. C is an interstitial solid solution element,
Since the degree of movement of the domain wall is reduced and the damping property is deteriorated,
0.01 wt% or less. Since N also deteriorates the vibration damping performance for the same reason as C, it is made 0.01 wt% or less. O
Also deteriorates the vibration damping performance for the same reason as C and N.
0.01 wt% or less. Since P segregates at the grain boundaries and deteriorates workability, it is set to 0.01 wt% or less. Since S deteriorates the hot workability, it is made 0.01 wt% or less.
【００２６】本発明者らによる実験の結果、平均フェラ
イト結晶粒径と制振性の間には図８の関係があることが
確認された。すなわち、上記化学組成の合金において
は、平均フェライト結晶粒径が百数十μｍのときに損失
係数は最も高い値をとる。これは、磁壁移動の抵抗とな
る二つの要素である結晶粒界と渦電流のバランスによる
ものと考えられる。平均フェライト結晶粒径が過度に大
きくなると制振性が劣化するのは、結晶粒径が大きくな
ると粒界が減る反面、磁区が大きくなることにより渦電
流損が大きくなり、これによる抵抗が増すためであると
考えられる。以上の実験結果に基づき、本発明では平均
フェライト結晶粒径を５０〜３００μｍの範囲に規定す
る。また、平均フェライト結晶粒径が１００〜２００μ
ｍの範囲では特に優れた制振性能が得られ、具体的に
は、Ａｌ、Ｓｉの添加量の範囲が図１に示す合金では損
失係数η：４×１／１０3以上が得られ、Ａｌ、Ｓｉの
添加量の範囲が図２に示す合金では損失係数η：６×１
／１０3以上が得られ、Ａｌ、Ｓｉの添加量の範囲が図
３に示す合金では損失係数η：８×１／１０3以上が得
られ、Ａｌ、Ｓｉの添加量の範囲が図４に示す合金では
損失係数η：１．０×１／１０2以上が得られ、Ａｌ、
Ｓｉの添加量の範囲が図５に示す合金では損失係数η：
１．２×１／１０2以上が得られ、Ａｌ、Ｓｉの添加量
の範囲が図６に示す合金では損失係数η：１．４×１／
１０2以上が得られる。As a result of experiments conducted by the present inventors, it was confirmed that the average ferrite crystal grain size and the damping property have the relationship shown in FIG. That is, in the alloy having the above chemical composition, the loss coefficient takes the highest value when the average ferrite crystal grain size is 100 to 10 μm. It is considered that this is due to the balance between the grain boundary and the eddy current, which are two factors that act as resistance to domain wall motion. The damping property deteriorates when the average ferrite crystal grain size becomes excessively large because the grain boundary decreases as the crystal grain size increases, but the eddy current loss increases due to the increase in the magnetic domains, which increases the resistance. Is considered to be. Based on the above experimental results, the average ferrite crystal grain size is specified in the range of 50 to 300 μm in the present invention. The average ferrite crystal grain size is 100 to 200 μ.
In the range of m, particularly excellent vibration damping performance is obtained, and specifically, in the alloy in which the amount of Al and Si added is in the range shown in FIG. 1, loss factor η: 4 × 1/10 3 or more is obtained. , The addition amount of Si is in the range shown in FIG. 2, the loss factor η: 6 × 1
/ 10 3 or more is obtained, Al, loss factor in the range of the additive is an alloy shown in FIG. 3 of Si eta: 8 × 1/10 3 is obtained, Al, range of the addition amount of Si is 4 In the alloy shown, loss factor η: 1.0 × 1/10 2 or more is obtained, and Al,
In the alloy whose Si addition amount range is shown in FIG. 5, the loss coefficient η:
1.2 × 1/10 2 or more is obtained, Al, loss factor in the range of the additive is an alloy shown in FIG. 6 of the Si η: 1.4 × 1 /
10 2 or more is obtained.
【００２７】上記のような平均フェライト結晶粒径は、
合金を圧延した後、８００〜１１００℃の温度で焼きな
らしすることにより得られる。焼きならし温度が８００
℃未満ではフェライト結晶粒の成長が十分でなく、一
方、１１００℃を超えるとフェライト粒が粗大化し過
ぎ、５０〜３００μｍの範囲の平均フェライト結晶粒径
が得られない。また、焼きならし温度が１０５０℃前後
の場合に、平均フェライト結晶粒径が１００〜２００μ
ｍの範囲となり、特に優れた制振性能が得られる。The average ferrite crystal grain size as described above is
It is obtained by rolling the alloy and then normalizing it at a temperature of 800 to 1100 ° C. Normalizing temperature is 800
If the temperature is less than 0 ° C, the growth of ferrite crystal grains is not sufficient, while if it exceeds 1100 ° C, the ferrite grains become too coarse, and an average ferrite crystal grain size in the range of 50 to 300 µm cannot be obtained. Further, when the normalizing temperature is around 1050 ° C., the average ferrite crystal grain size is 100 to 200 μm.
In the range of m, particularly excellent vibration damping performance is obtained.
【００２８】[0028]
【実施例】表１ないし表３に示す化学組成の本発明合金
および比較合金を製造し、各合金の損失係数を測定し
た。各合金は溶製後、鋳型にて鋼塊とし、これを１２０
０℃に加熱後、厚さ６ｍｍまで熱間圧延し、この熱延板
から０．８×１０×１００ｍｍの試験片を切り出し、１
０５０℃で焼きならしした後、損失係数を測定した。そ
の結果を表１ないし表３に併せて示す。EXAMPLES Inventive alloys and comparative alloys having the chemical compositions shown in Tables 1 to 3 were produced, and the loss coefficient of each alloy was measured. After melting each alloy, it is made into a steel ingot with a mold,
After heating to 0 ° C., hot rolling was performed to a thickness of 6 mm, and a 0.8 × 10 × 100 mm test piece was cut out from this hot rolled sheet, and 1
After normalizing at 050 ° C., the loss coefficient was measured. The results are also shown in Tables 1 to 3.
【００２９】また、表１ないし表３の合金Ｎｏ．１、Ｎ
ｏ．１７〜Ｎｏ．１９、Ｎｏ．３４およびＮｏ．３８の
各熱延板（板厚６ｍｍ）を７００℃に加熱後、さらに３
ｍｍまで熱間圧延し、この熱延板から０．８×１０×１
００ｍｍの試験片を切り出し、これら試験片を温度を変
えて焼きならしすることで平均フェライト結晶粒径を制
御した後、損失係数を測定した。先に述べたように焼き
ならし温度が略１０５０℃の場合に平均フェライト結晶
粒径が１００〜２００μｍの範囲となり、最も優れた制
振性能が得られることから、この実施例では制振特性の
良・不良の評価として、各供試材の損失係数をη、１０
５０℃焼きならし材の損失係数をη0とした場合に、η
／η0≧０．５を良好、η／η0＜０．５を不良と評価し
た。その結果を表４および表５に示す。なお、損失係数
の測定は、試験片を横振動基本モードの節の位置で２本
の細線によって支持し、真空中で振動の自由減衰曲線を
求めることで行った。Further, alloy Nos. 1 to 3 shown in Tables 1 to 3 were used. 1, N
o. 17-No. 19, No. 34 and No. 34. After heating each hot-rolled plate of 38 (plate thickness 6 mm) to 700 ° C., further
hot rolled to 0.8 mm from this hot rolled sheet 0.8 × 10 × 1
A 00 mm test piece was cut out, and the average ferrite crystal grain size was controlled by normalizing these test pieces at different temperatures, and then the loss coefficient was measured. As described above, when the normalizing temperature is approximately 1050 ° C., the average ferrite crystal grain size is in the range of 100 to 200 μm, and the most excellent vibration damping performance can be obtained. The loss factor of each test material is η, 10 for the evaluation of good and bad.
If the loss coefficient of the 50 ° C normalized material is η 0 , η
/ Η 0 ≧ 0.5 was evaluated as good, and η / η 0 <0.5 was evaluated as poor. The results are shown in Tables 4 and 5. The loss coefficient was measured by supporting the test piece with two thin wires at the nodes of the transverse vibration fundamental mode and obtaining a free damping curve of vibration in vacuum.
【００３０】[0030]
【表１】 [Table 1]
【００３１】[0031]
【表２】 [Table 2]
【００３２】[0032]
【表３】 [Table 3]
【００３３】[0033]
【表４】 [Table 4]
【００３４】[0034]
【表５】 [Table 5]
【００３５】[0035]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、良好
な制振性を有する制振合金を得ることができる。As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a damping alloy having good damping properties.
【図１】本願の請求項１で規定するＡｌ、Ｓｉの範囲を
示す図面FIG. 1 is a drawing showing the ranges of Al and Si defined in claim 1 of the present application.
【図２】本願の請求項２で規定するＡｌ、Ｓｉの範囲を
示す図面FIG. 2 is a drawing showing the ranges of Al and Si defined in claim 2 of the present application.
【図３】本願の請求項３で規定するＡｌ、Ｓｉの範囲を
示す図面FIG. 3 is a drawing showing the ranges of Al and Si defined in claim 3 of the present application.
【図４】本願の請求項４で規定するＡｌ、Ｓｉの範囲を
示す図面FIG. 4 is a drawing showing the ranges of Al and Si defined in claim 4 of the present application.
【図５】本願の請求項５で規定するＡｌ、Ｓｉの範囲を
示す図面FIG. 5 is a drawing showing the ranges of Al and Si defined in claim 5 of the present application.
【図６】本願の請求項６で規定するＡｌ、Ｓｉの範囲を
示す図面FIG. 6 is a drawing showing the ranges of Al and Si defined in claim 6 of the present application.
【図７】焼ならし条件を一定（１０５０℃）にしたＦｅ
−Ａｌ−Ｓｉ系合金のＡｌ量およびＳｉ量と損失係数と
の関係を示す図面FIG. 7: Fe with the normalizing condition kept constant (1050 ° C.)
-Al-Si-based alloy drawing showing the relationship between the amount of Al and Si and the loss coefficient
【図８】Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金の平均フェライト結晶
粒径と損失係数との関係を示す図面FIG. 8 is a drawing showing the relationship between the average ferrite crystal grain size and the loss factor of an Fe—Al—Si alloy.
Claims (12)
％、Ｓｉ：０．９５ｗｔ％）、Ｂ4（Ａｌ：６．５０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：１．１０ｗｔ％）、Ｃ4（Ａｌ：４．７０
ｗｔ％、Ｓｉ：２．７５ｗｔ％）、Ｄ4（Ａｌ：２．２
５ｗｔ％、Ｓｉ：２．４５ｗｔ％）、Ｅ4（Ａｌ：０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：４．５０ｗｔ％）、Ａ0（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．００ｗｔ％、
Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：
０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物か
らなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３００μｍで
ある制振合金。1. A point A 4 (Al: 7.05 wt shown in FIG.
%, Si: 0.95 wt%), B 4 (Al: 6.50 w
t%, Si: 1.10 wt%), C 4 (Al: 4.70)
wt%, Si: 2.75 wt%), D 4 (Al: 2.2)
5 wt%, Si: 2.45 wt%, E 4 (Al: 0w
t%, Si: 4.50 wt%), A 0 (Al: 0 wt%
%, Si: 0 wt%, B 0 (Al: 8.00 wt%,
Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by Si, C:
0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O:
0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S:
A damping alloy that is 0.01 wt% or less, the balance is Fe and unavoidable impurities, and has an average ferrite crystal grain size of 50 to 300 μm.
％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｂ6（Ａｌ：４．７５ｗ
ｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｃ6（Ａｌ：３．７５
ｗｔ％、Ｓｉ：１．９０ｗｔ％）、Ｄ6（Ａｌ：２．１
５ｗｔ％、Ｓｉ：２．１５ｗｔ％）、Ｅ6（Ａｌ：０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：４．００ｗｔ％）、Ａ0（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．００ｗｔ％、
Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：
０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物か
らなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３００μｍで
ある制振合金。2. A point A 6 (Al: 7.40 wt) shown in FIG.
%, Si: 0.60 wt%), B 6 (Al: 4.75w)
t%, Si: 1.00 wt%), C 6 (Al: 3.75)
wt%, Si: 1.90 wt%), D 6 (Al: 2.1
5 wt%, Si: 2.15 wt%, E 6 (Al: 0w
t%, Si: 4.00 wt%), A 0 (Al: 0 wt%
%, Si: 0 wt%, B 0 (Al: 8.00 wt%,
Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by Si, C:
0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O:
0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S:
A damping alloy that is 0.01 wt% or less, the balance is Fe and unavoidable impurities, and has an average ferrite crystal grain size of 50 to 300 μm.
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ8（Ａｌ：６．３０ｗｔ％、
Ｓｉ：０．５０ｗｔ％）、Ｃ8（Ａｌ：２．７５ｗｔ
％、Ｓｉ：１．２０ｗｔ％）、Ｄ8（Ａｌ：０ｗｔ％、
Ｓｉ：３．５０ｗｔ％）、Ｅ8（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓ
ｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｆ8（Ａｌ：０．７０ｗｔ％、
Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：
０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物か
らなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３００μｍで
ある制振合金。3. A point A 8 (Al: 6.30 wt) shown in FIG.
%, Si: 0 wt%, B 8 (Al: 6.30 wt%,
Si: 0.50 wt%), C 8 (Al: 2.75 wt%)
%, Si: 1.20 wt%), D 8 (Al: 0 wt%,
Si: 3.50 wt%), E 8 (Al: 0 wt%, S
i: 0.60 wt%), F 8 (Al: 0.70 wt%,
Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by Si, C:
0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O:
0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S:
A damping alloy that is 0.01 wt% or less, the balance is Fe and unavoidable impurities, and has an average ferrite crystal grain size of 50 to 300 μm.
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ10（Ａｌ：４．８０ｗｔ％、
Ｓｉ：０．７０ｗｔ％）、Ｃ10（Ａｌ：２．９０ｗｔ
％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ10（Ａｌ：１．３５ｗ
ｔ％、Ｓｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｅ10（Ａｌ：０．５５
ｗｔ％、Ｓｉ：２．００ｗｔ％）、Ｆ10（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：２．４０ｗｔ％）、Ｇ10（Ａｌ：０ｗｔ％、
Ｓｉ：０．８０ｗｔ％）、Ｈ10（Ａｌ：０．５５ｗｔ
％、Ｓｉ：０．２５ｗｔ％）、Ｉ10（Ａｌ：１．６０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．３５ｗｔ％）、Ｊ10（Ａｌ：２．２５
ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓ
ｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなり、平均フェライト結晶粒径が５０〜３０
０μｍである制振合金。4. The point A 10 (Al: 4.80 wt) shown in FIG.
%, Si: 0wt%), B 10 (Al: 4.80wt%,
Si: 0.70 wt%, C 10 (Al: 2.90 wt)
%, Si: 1.00 wt%), D 10 (Al: 1.35w)
t%, Si: 2.05 wt%), E 10 (Al: 0.55)
wt%, Si: 2.00 wt%), F 10 (Al: 0 wt%
%, Si: 2.40 wt%, G 10 (Al: 0 wt%,
Si: 0.80 wt%, H 10 (Al: 0.55 wt)
%, Si: 0.25 wt%), I 10 (Al: 1.60 w
t%, Si: 0.35 wt%), J 10 (Al: 2.25)
wt%, Si: 0 wt%) Al ・ S in the range surrounded by
i, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and inevitable impurities , Average ferrite crystal grain size is 50 to 30
Damping alloy that is 0 μm.
％、Ｓｉ：０．１０ｗｔ％）、Ｂ12（Ａｌ：４．５５ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ12（Ａｌ：２．３５
ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ12（Ａｌ：１．１
０ｗｔ％、Ｓｉ：１．９５ｗｔ％）、Ｅ12（Ａｌ：１．
１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ％）、Ｆ12（Ａｌ：
２．４０ｗｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗｔ％）で囲まれる範
囲内および点Ｇ12（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：１．０５ｗ
ｔ％）、Ｈ12（Ａｌ：０．６０ｗｔ％、Ｓｉ：０．３５
ｗｔ％）、Ｉ12（Ａｌ：０．９０ｗｔ％、Ｓｉ：０．４
０ｗｔ％）、Ｊ12（Ａｌ：０．３０ｗｔ％、Ｓｉ：２．
０５ｗｔ％）、Ｋ12（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：２．３０
ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：０．０１
ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：０．０１ｗ
ｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：０．０１ｗｔ
％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなり、平均
フェライト結晶粒径が５０〜３００μｍである制振合
金。5. A point A 12 (Al: 4.55 wt) shown in FIG.
%, Si: 0.10 wt%), B 12 (Al: 4.55w)
t%, Si: 0.60 wt%), C 12 (Al: 2.35)
wt%, Si: 1.00 wt%), D 12 (Al: 1.1)
0 wt%, Si: 1.95 wt%), E 12 (Al: 1.
10 wt%, Si: 1.35 wt%), F 12 (Al:
2.40 wt%, Si: 0.10 wt%) within the range and point G 12 (Al: 0 wt%, Si: 1.05 w
t%), H 12 (Al: 0.60 wt%, Si: 0.35)
wt%), I 12 (Al: 0.90 wt%, Si: 0.4
0 wt%), J 12 (Al: 0.30 wt%, Si: 2.
05 wt%), K 12 (Al: 0 wt%, Si: 2.30)
wt%) within the range surrounded by Al.Si, C: 0.01
wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01w
t% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt
% Or less, balance Fe and unavoidable impurities, and a damping alloy having an average ferrite crystal grain size of 50 to 300 μm.
％、Ｓｉ：０．２０ｗｔ％）、Ｂ14（Ａｌ：４．１５ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ14（Ａｌ：２．３０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．９０ｗｔ％）、Ｄ14（Ａｌ：１．２
０ｗｔ％、Ｓｉ：１．７５ｗｔ％）、Ｅ14（Ａｌ：１．
２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ％）、Ｆ14（Ａｌ：
２．７０ｗｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗｔ％）で囲まれる範
囲内および点Ｇ14（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：１．１５ｗ
ｔ％）、Ｈ14（Ａｌ：０．６０ｗｔ％、Ｓｉ：０．４０
ｗｔ％）、Ｉ14（Ａｌ：０．８０ｗｔ％、Ｓｉ：０．４
５ｗｔ％）、Ｊ14（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：２．２０ｗ
ｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗ
ｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：０．０１ｗｔ
％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：０．０１ｗｔ％
以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなり、平均フ
ェライト結晶粒径が５０〜３００μｍである制振合金。6. The point A 14 (Al: 4.15 wt) shown in FIG.
%, Si: 0.20 wt%, B 14 (Al: 4.15 w)
t%, Si: 0.60 wt%, C 14 (Al: 2.30)
wt%, Si: 0.90 wt%), D 14 (Al: 1.2)
0 wt%, Si: 1.75 wt%), E 14 (Al: 1.
20 wt%, Si: 1.35 wt%), F 14 (Al:
Within a range surrounded by 2.70 wt% and Si: 0.20 wt% and at a point G 14 (Al: 0 wt%, Si: 1.15w)
t%), H 14 (Al: 0.60 wt%, Si: 0.40)
wt%), I 14 (Al: 0.80 wt%, Si: 0.4
5 wt%), J 14 (Al: 0 wt%, Si: 2.20 w
Al ・ Si, C within the range surrounded by t%: 0.01 w
t% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt
% Or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt%
Hereinafter, a vibration damping alloy which consists of the balance Fe and unavoidable impurities and has an average ferrite crystal grain size of 50 to 300 μm.
％、Ｓｉ：０．９５ｗｔ％）、Ｂ4（Ａｌ：６．５０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：１．１０ｗｔ％）、Ｃ4（Ａｌ：４．７０
ｗｔ％、Ｓｉ：２．７５ｗｔ％）、Ｄ4（Ａｌ：２．２
５ｗｔ％、Ｓｉ：２．４５ｗｔ％）、Ｅ4（Ａｌ：０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：４．５０ｗｔ％）、Ａ0（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．００ｗｔ％、
Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：
０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物か
らなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼きならし
することにより平均フェライト結晶粒径を５０〜３００
μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の製造方
法。7. A point A 4 (Al: 7.05 wt shown in FIG.
%, Si: 0.95 wt%), B 4 (Al: 6.50 w
t%, Si: 1.10 wt%), C 4 (Al: 4.70)
wt%, Si: 2.75 wt%), D 4 (Al: 2.2)
5 wt%, Si: 2.45 wt%, E 4 (Al: 0w
t%, Si: 4.50 wt%), A 0 (Al: 0 wt%
%, Si: 0 wt%, B 0 (Al: 8.00 wt%,
Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by Si, C:
0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O:
0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S:
An average ferrite crystal grain size of 50 to 300 is obtained by rolling an alloy composed of 0.01 wt% or less, the balance being Fe and unavoidable impurities, and then normalizing the alloy at 800 to 1100 ° C.
A method for producing a vibration damping alloy, characterized in that the thickness is in the range of μm.
％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｂ6（Ａｌ：４．７５ｗ
ｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｃ6（Ａｌ：３．７５
ｗｔ％、Ｓｉ：１．９０ｗｔ％）、Ｄ6（Ａｌ：２．１
５ｗｔ％、Ｓｉ：２．１５ｗｔ％）、Ｅ6（Ａｌ：０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：４．００ｗｔ％）、Ａ0（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ0（Ａｌ：８．００ｗｔ％、
Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：
０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物か
らなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼きならし
することにより平均フェライト結晶粒径を５０〜３００
μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の製造方
法。8. The point A 6 (Al: 7.40 wt) shown in FIG.
%, Si: 0.60 wt%), B 6 (Al: 4.75w)
t%, Si: 1.00 wt%), C 6 (Al: 3.75)
wt%, Si: 1.90 wt%), D 6 (Al: 2.1
5 wt%, Si: 2.15 wt%, E 6 (Al: 0w
t%, Si: 4.00 wt%), A 0 (Al: 0 wt%
%, Si: 0 wt%, B 0 (Al: 8.00 wt%,
Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by Si, C:
0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O:
0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S:
An average ferrite crystal grain size of 50 to 300 is obtained by rolling an alloy composed of 0.01 wt% or less, the balance being Fe and unavoidable impurities, and then normalizing the alloy at 800 to 1100 ° C.
A method for producing a vibration damping alloy, characterized in that it is in the range of μm.
％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ8（Ａｌ：６．３０ｗｔ％、
Ｓｉ：０．５０ｗｔ％）、Ｃ8（Ａｌ：２．７５ｗｔ
％、Ｓｉ：１．２０ｗｔ％）、Ｄ8（Ａｌ：０ｗｔ％、
Ｓｉ：３．５０ｗｔ％）、Ｅ8（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓ
ｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｆ8（Ａｌ：０．７０ｗｔ％、
Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：
０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物か
らなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼きならし
することにより平均フェライト結晶粒径を５０〜３００
μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の製造方
法。9. The point A 8 (Al: 6.30 wt) shown in FIG.
%, Si: 0 wt%, B 8 (Al: 6.30 wt%,
Si: 0.50 wt%), C 8 (Al: 2.75 wt%)
%, Si: 1.20 wt%), D 8 (Al: 0 wt%,
Si: 3.50 wt%), E 8 (Al: 0 wt%, S
i: 0.60 wt%), F 8 (Al: 0.70 wt%,
Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by Si, C:
0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O:
0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S:
An average ferrite crystal grain size of 50 to 300 is obtained by rolling an alloy composed of 0.01 wt% or less, the balance being Fe and unavoidable impurities, and then normalizing the alloy at 800 to 1100 ° C.
A method for producing a vibration damping alloy, characterized in that it is in the range of μm.
ｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）、Ｂ10（Ａｌ：４．８０ｗｔ
％、Ｓｉ：０．７０ｗｔ％）、Ｃ10（Ａｌ：２．９０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ10（Ａｌ：１．３５
ｗｔ％、Ｓｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｅ10（Ａｌ：０．５
５ｗｔ％、Ｓｉ：２．００ｗｔ％）、Ｆ10（Ａｌ：０ｗ
ｔ％、Ｓｉ：２．４０ｗｔ％）、Ｇ10（Ａｌ：０ｗｔ
％、Ｓｉ：０．８０ｗｔ％）、Ｈ10（Ａｌ：０．５５ｗ
ｔ％、Ｓｉ：０．２５ｗｔ％）、Ｉ10（Ａｌ：１．６０
ｗｔ％、Ｓｉ：０．３５ｗｔ％）、Ｊ10（Ａｌ：２．２
５ｗｔ％、Ｓｉ：０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・
Ｓｉ、Ｃ：０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｏ：０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以
下、Ｓ：０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的
不純物からなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼
きならしすることにより平均フェライト結晶粒径を５０
〜３００μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の
製造方法。10. A point A 10 (Al: 4.80w shown in FIG.
t%, Si: 0 wt%), B 10 (Al: 4.80 wt)
%, Si: 0.70 wt%, C 10 (Al: 2.90 w)
t%, Si: 1.00 wt%), D 10 (Al: 1.35)
wt%, Si: 2.05 wt%), E 10 (Al: 0.5
5 wt%, Si: 2.00 wt%), F 10 (Al: 0 w
t%, Si: 2.40 wt%), G 10 (Al: 0 wt%
%, Si: 0.80 wt%, H 10 (Al: 0.55w
t%, Si: 0.25 wt%), I 10 (Al: 1.60)
wt%, Si: 0.35 wt%), J 10 (Al: 2.2
5 wt%, Si: 0 wt%) Al within the range surrounded by
Si, C: 0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01 wt% or less, balance Fe and unavoidable impurities After rolling the alloy, the average ferrite crystal grain size is set to 50 by normalizing at 800 to 1100 ° C.
To 300 μm, a method for producing a vibration damping alloy.
ｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗｔ％）、Ｂ12（Ａｌ：４．５５
ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ12（Ａｌ：２．３
５ｗｔ％、Ｓｉ：１．００ｗｔ％）、Ｄ12（Ａｌ：１．
１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．９５ｗｔ％）、Ｅ12（Ａｌ：
１．１０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ％）、Ｆ12（Ａ
ｌ：２．４０ｗｔ％、Ｓｉ：０．１０ｗｔ％）で囲まれ
る範囲内および点Ｇ12（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：１．０
５ｗｔ％）、Ｈ12（Ａｌ：０．６０ｗｔ％、Ｓｉ：０．
３５ｗｔ％）、Ｉ12（Ａｌ：０．９０ｗｔ％、Ｓｉ：
０．４０ｗｔ％）、Ｊ12（Ａｌ：０．３０ｗｔ％、Ｓ
ｉ：２．０５ｗｔ％）、Ｋ12（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：
２．３０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：
０．０１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：
０．０１ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物か
らなる合金を圧延後、８００〜１１００℃で焼きならし
することにより平均フェライト結晶粒径を５０〜３００
μｍの範囲とすることを特徴とする制振合金の製造方
法。11. A point A 12 (Al: 4.55w shown in FIG.
t%, Si: 0.10 wt%), B 12 (Al: 4.55)
wt%, Si: 0.60 wt%, C 12 (Al: 2.3)
5 wt%, Si: 1.00 wt%), D 12 (Al: 1.
10 wt%, Si: 1.95 wt%), E 12 (Al:
1.10 wt%, Si: 1.35 wt%), F 12 (A
L: 2.40 wt%, Si: 0.10 wt%) and a point G 12 (Al: 0 wt%, Si: 1.0)
5 wt%), H 12 (Al: 0.60 wt%, Si: 0.
35 wt%), I 12 (Al: 0.90 wt%, Si:
0.40 wt%), J 12 (Al: 0.30 wt%, S
i: 2.05 wt%), K 12 (Al: 0 wt%, Si:
2.30 wt%) within the range surrounded by Al-Si, C:
0.01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O:
0.01 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S:
An average ferrite crystal grain size of 50 to 300 is obtained by rolling an alloy composed of 0.01 wt% or less, the balance being Fe and unavoidable impurities, and then normalizing the alloy at 800 to 1100 ° C.
A method for producing a vibration damping alloy, characterized in that the thickness is in the range of μm.
ｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗｔ％）、Ｂ14（Ａｌ：４．１５
ｗｔ％、Ｓｉ：０．６０ｗｔ％）、Ｃ14（Ａｌ：２．３
０ｗｔ％、Ｓｉ：０．９０ｗｔ％）、Ｄ14（Ａｌ：１．
２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．７５ｗｔ％）、Ｅ14（Ａｌ：
１．２０ｗｔ％、Ｓｉ：１．３５ｗｔ％）、Ｆ14（Ａ
ｌ：２．７０ｗｔ％、Ｓｉ：０．２０ｗｔ％）で囲まれ
る範囲内および点Ｇ14（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：１．１
５ｗｔ％）、Ｈ14（Ａｌ：０．６０ｗｔ％、Ｓｉ：０．
４０ｗｔ％）、Ｉ14（Ａｌ：０．８０ｗｔ％、Ｓｉ：
０．４５ｗｔ％）、Ｊ14（Ａｌ：０ｗｔ％、Ｓｉ：２．
２０ｗｔ％）で囲まれる範囲内のＡｌ・Ｓｉ、Ｃ：０．
０１ｗｔ％以下、Ｎ：０．０１ｗｔ％以下、Ｏ：０．０
１ｗｔ％以下、Ｐ：０．０１ｗｔ％以下、Ｓ：０．０１
ｗｔ％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなる合
金を圧延後、８００〜１１００℃で焼きならしすること
により平均フェライト結晶粒径を５０〜３００μｍの範
囲とすることを特徴とする制振合金の製造方法。12. A point A 14 (Al: 4.15w shown in FIG. 6)
t%, Si: 0.20 wt%), B 14 (Al: 4.15)
wt%, Si: 0.60 wt%, C 14 (Al: 2.3)
0 wt%, Si: 0.90 wt%), D 14 (Al: 1.
20 wt%, Si: 1.75 wt%), E 14 (Al:
1.20 wt%, Si: 1.35 wt%), F 14 (A
l: 2.70 wt%, Si: 0.20 wt%) and a point G 14 (Al: 0 wt%, Si: 1.1)
5 wt%), H 14 (Al: 0.60 wt%, Si: 0.
40 wt%), I 14 (Al: 0.80 wt%, Si:
0.45 wt%), J 14 (Al: 0 wt%, Si: 2.
20 wt%) within the range surrounded by Al.Si, C: 0.
01 wt% or less, N: 0.01 wt% or less, O: 0.0
1 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.01
After rolling an alloy consisting of less than wt% and balance Fe and unavoidable impurities, the average ferrite crystal grain size is set in the range of 50 to 300 μm by normalizing at 800 to 1100 ° C. Production method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32311093A JPH07150296A (en) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | Damping alloy and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32311093A JPH07150296A (en) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | Damping alloy and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07150296A true JPH07150296A (en) | 1995-06-13 |
Family
ID=18151196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32311093A Pending JPH07150296A (en) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | Damping alloy and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07150296A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006085609A1 (en) * | 2005-02-10 | 2006-08-17 | Yoshihira Okanda | NOVEL Fe-Al ALLOY AND METHOD FOR PRODUCING SAME |
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| KR101650299B1 (en) * | 2015-07-14 | 2016-08-23 | 주식회사 씨텍코리아 | Method of installing vibration Protection pad |
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-
1993
- 1993-11-29 JP JP32311093A patent/JPH07150296A/en active Pending
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