JPH07150195A - 洗浄剤 - Google Patents
洗浄剤Info
- Publication number
- JPH07150195A JPH07150195A JP30196193A JP30196193A JPH07150195A JP H07150195 A JPH07150195 A JP H07150195A JP 30196193 A JP30196193 A JP 30196193A JP 30196193 A JP30196193 A JP 30196193A JP H07150195 A JPH07150195 A JP H07150195A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- detergent
- weight
- glycol ether
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 毒性の問題がなく洗浄力が優れ、排水処理も
容易で、かつ、引火点も高く、オゾン層破壊の恐れが全
くない洗浄剤を提供するものである。 【構成】 （ａ）次の一般式（１）で表されるグリコー
ルエーテル系化合物７０〜９５重量％及び（ｂ）一般式
（２）で表されるグリコールエーテル系化合物５〜３０
重量％からなる洗浄剤。 【化１】 Ｒ3 Ｏ（Ｃp Ｈ2pＯ）q Ｈ （２） （式中、Ｒ3 は炭素数１〜５のアルキル基を示し、ｐは
３〜４の整数、ｑは１〜３の整数を示す） 本発明は、汚れた固体表面、特に精密機械部品、光学機
械部品等の加工時に使用される加工油類やワックス、電
機電子部品のはんだ付け時に使用されるフラックスやは
んだペーストを除去するのに好適な洗浄剤に関するもの
である。
容易で、かつ、引火点も高く、オゾン層破壊の恐れが全
くない洗浄剤を提供するものである。 【構成】 （ａ）次の一般式（１）で表されるグリコー
ルエーテル系化合物７０〜９５重量％及び（ｂ）一般式
（２）で表されるグリコールエーテル系化合物５〜３０
重量％からなる洗浄剤。 【化１】 Ｒ3 Ｏ（Ｃp Ｈ2pＯ）q Ｈ （２） （式中、Ｒ3 は炭素数１〜５のアルキル基を示し、ｐは
３〜４の整数、ｑは１〜３の整数を示す） 本発明は、汚れた固体表面、特に精密機械部品、光学機
械部品等の加工時に使用される加工油類やワックス、電
機電子部品のはんだ付け時に使用されるフラックスやは
んだペーストを除去するのに好適な洗浄剤に関するもの
である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、汚れた固体表面、特に
精密機械部品、光学機械部品等の加工時に使用される加
工油類やワックス、電機電子部品のはんだ付け時に使用
されるフラックスやはんだペーストを除去するのに好適
な洗浄剤に関するものである。
精密機械部品、光学機械部品等の加工時に使用される加
工油類やワックス、電機電子部品のはんだ付け時に使用
されるフラックスやはんだペーストを除去するのに好適
な洗浄剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】精密機械部品、光学機械部品等の加工時
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、ワックス、潤滑油、グリース等
が使われるが、これらの油脂類は最終的には除去する必
要がある。又、電子回路の接合方法としては、はんだ付
けが最も一般的に行なわれているが、はんだ付けすべき
金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、はんだの
ぬれ性改良等の目的で、ロジンを主成分としたフラック
スではんだ付け面を予め処理することが通常行なわれて
いる。はんだ付けの方法としては、溶液状のフラックス
中に基板をディップする等によりフラックスを基板面に
供給した後溶融はんだを供給する方法や、予めフラック
スとはんだの粉末を混合してペースト状にしたものをは
んだ付けすべき場所に供給した後加熱する方法等がある
が、いずれにしてもフラックス残渣は金属の腐食や絶縁
性の低下等の原因となるため、はんだ付け終了後十分に
除去する必要がある。
に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、引抜き
油、熱処理油、防錆油、ワックス、潤滑油、グリース等
が使われるが、これらの油脂類は最終的には除去する必
要がある。又、電子回路の接合方法としては、はんだ付
けが最も一般的に行なわれているが、はんだ付けすべき
金属表面の酸化物の除去清浄化、再酸化防止、はんだの
ぬれ性改良等の目的で、ロジンを主成分としたフラック
スではんだ付け面を予め処理することが通常行なわれて
いる。はんだ付けの方法としては、溶液状のフラックス
中に基板をディップする等によりフラックスを基板面に
供給した後溶融はんだを供給する方法や、予めフラック
スとはんだの粉末を混合してペースト状にしたものをは
んだ付けすべき場所に供給した後加熱する方法等がある
が、いずれにしてもフラックス残渣は金属の腐食や絶縁
性の低下等の原因となるため、はんだ付け終了後十分に
除去する必要がある。
【０００３】これらの洗浄、除去には、不燃性で毒性が
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタンや１，１，１−トリクロロエタンが広く使わ
れてきた。しかし、これらは洗浄剤として極めて優れた
ものであるが、化学的に安定であるため成層圏に達して
ここで強い紫外線により分解され塩素が生成してこれが
オゾン層を破壊し、地上に達する有害な紫外線を増加さ
せる結果、人類を含む地球上の生態系に深刻な影響を与
えることが近年指摘され、これらの生産と消費を規制
し、更に近い将来全廃することが国際的に取り決められ
た。
低く、優れた溶解性を示す等、多くの特徴を有すること
から、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタンや１，１，１−トリクロロエタンが広く使わ
れてきた。しかし、これらは洗浄剤として極めて優れた
ものであるが、化学的に安定であるため成層圏に達して
ここで強い紫外線により分解され塩素が生成してこれが
オゾン層を破壊し、地上に達する有害な紫外線を増加さ
せる結果、人類を含む地球上の生態系に深刻な影響を与
えることが近年指摘され、これらの生産と消費を規制
し、更に近い将来全廃することが国際的に取り決められ
た。
【０００４】かかる状況下において、安全で環境への影
響の少ない非ハロゲン系の代替洗浄剤への期待が高まっ
ているが、十分に要求性能を満たすものは未だ得られて
いないのが現状である。例えば、米国特許第４，５１
１，４８８号公報等にリモネン等のテルペン類が提案さ
れているが、これらは引火点が低く、安全上問題があ
る。
響の少ない非ハロゲン系の代替洗浄剤への期待が高まっ
ているが、十分に要求性能を満たすものは未だ得られて
いないのが現状である。例えば、米国特許第４，５１
１，４８８号公報等にリモネン等のテルペン類が提案さ
れているが、これらは引火点が低く、安全上問題があ
る。
【０００５】又、特開昭５９−１３４８９１号公報、特
開平３−６２８９５号公報、特開平３−１６２４９６号
公報、特開平３−９７７９２号公報等では種々のグリコ
ールエーテル系化合物が提案されているが、洗浄力、排
水処理性、毒性等の要求性能をすべて満たすものは未だ
開発されていないのが現状である。エチレングリコール
系化合物は毒性に問題があり、また、プロピレングリコ
ール系化合物一般にエチレングリコール系化合物より洗
浄力が劣る。
開平３−６２８９５号公報、特開平３−１６２４９６号
公報、特開平３−９７７９２号公報等では種々のグリコ
ールエーテル系化合物が提案されているが、洗浄力、排
水処理性、毒性等の要求性能をすべて満たすものは未だ
開発されていないのが現状である。エチレングリコール
系化合物は毒性に問題があり、また、プロピレングリコ
ール系化合物一般にエチレングリコール系化合物より洗
浄力が劣る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、毒性の問題
がなく洗浄力が優れ、排水処理も容易で、かつ、引火点
も高く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤を提供す
るものである。
がなく洗浄力が優れ、排水処理も容易で、かつ、引火点
も高く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤を提供す
るものである。
【０００７】
【課題を達成するための手段】すなわち、本発明は、
（ａ）次の一般式（１）で表されるグリコールエーテル
系化合物７０〜９５重量％及び（ｂ）一般式（２）で表
されるグリコールエーテル系化合物５〜３０重量％から
なる洗浄剤である。
（ａ）次の一般式（１）で表されるグリコールエーテル
系化合物７０〜９５重量％及び（ｂ）一般式（２）で表
されるグリコールエーテル系化合物５〜３０重量％から
なる洗浄剤である。
【０００８】
【化２】 Ｒ3 Ｏ（Ｃp Ｈ2pＯ）q Ｈ （２） （式中、Ｒ3 は炭素数１〜５のアルキル基を示し、ｐは
３〜４の整数、ｑは１〜３の整数を示す） 本発明の一般式（１）で表されるグリコールエーテル系
化合物は、Ｒ1 、Ｒ2入れ代わった異性体の混合物でも
よい。
３〜４の整数、ｑは１〜３の整数を示す） 本発明の一般式（１）で表されるグリコールエーテル系
化合物は、Ｒ1 、Ｒ2入れ代わった異性体の混合物でも
よい。
【０００９】本発明の一般式（１）で表されるグリコー
ルエーテル系化合物の具体例としては、プロピレングリ
コールモノシクロヘキシルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノシクロヘキシルエーテル、トリプロピレング
リコールモノシクロヘキシルエーテルが挙げられ、プロ
ピレングリコールモノシクロヘキシルエーテルが特に好
ましい。
ルエーテル系化合物の具体例としては、プロピレングリ
コールモノシクロヘキシルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノシクロヘキシルエーテル、トリプロピレング
リコールモノシクロヘキシルエーテルが挙げられ、プロ
ピレングリコールモノシクロヘキシルエーテルが特に好
ましい。
【００１０】本発明の一般式（２）で表されるグリコー
ルエーテル系化合物としては、モノ、ジ、又はトリプロ
ピレングリコール又はブチレングリコールのモノアルキ
ルエーテルであり、アルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、シクロペンチル等が挙げられ、特に好ましいも
のとして、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテ
ルで、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピルがあげられる。
ルエーテル系化合物としては、モノ、ジ、又はトリプロ
ピレングリコール又はブチレングリコールのモノアルキ
ルエーテルであり、アルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペ
ンチル、シクロペンチル等が挙げられ、特に好ましいも
のとして、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテ
ルで、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピルがあげられる。
【００１１】本発明の洗浄剤は、引火点を上昇又は消去
せしめる目的で水を添加することができる。水の添加量
は（ａ）＋（ｂ）１００重量部に対して、３〜２０重量
部が好ましい、３重量部未満では効果が小さく、又、２
０重量部を超えると洗浄力が低下するので好ましくな
い。本発明の一般式（２）で表されるグリコールエーテ
ル系化合物は添加する水を使用温度領域で均一に保つた
め５重量％以上必要であるが、３０重量％を超えると、
洗浄力が低下し、また、洗浄後の水リンス時に洗浄剤成
分の水への溶出量が多くなり、排水処理への負担が大き
くなるため好ましくない。
せしめる目的で水を添加することができる。水の添加量
は（ａ）＋（ｂ）１００重量部に対して、３〜２０重量
部が好ましい、３重量部未満では効果が小さく、又、２
０重量部を超えると洗浄力が低下するので好ましくな
い。本発明の一般式（２）で表されるグリコールエーテ
ル系化合物は添加する水を使用温度領域で均一に保つた
め５重量％以上必要であるが、３０重量％を超えると、
洗浄力が低下し、また、洗浄後の水リンス時に洗浄剤成
分の水への溶出量が多くなり、排水処理への負担が大き
くなるため好ましくない。
【００１２】本発明の洗浄剤は、洗浄力を更に高める目
的で（ｄ）アミンを添加することができる。適当なアミ
ンとしては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノ
ールアミン、Ｎ−ブチジエタノールアミン、Ｎ−メチル
ジエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル
エタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミ
ン、Ｎ−（β−アミノエチル）エタノールアミン、ジエ
チレントリアミン、モルホリン、ピペラジン、シクロヘ
キシルアミン等が挙げられ、特に好ましいものとして、
モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミンが挙げられる。
的で（ｄ）アミンを添加することができる。適当なアミ
ンとしては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノ
ールアミン、Ｎ−ブチジエタノールアミン、Ｎ−メチル
ジエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル
エタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミ
ン、Ｎ−（β−アミノエチル）エタノールアミン、ジエ
チレントリアミン、モルホリン、ピペラジン、シクロヘ
キシルアミン等が挙げられ、特に好ましいものとして、
モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミンが挙げられる。
【００１３】添加量は（ａ）＋（ｂ）１００重量部に対
して、（ｄ）アミン１〜１５重量部が好ましい。１５重
量部以下で十分目的を達成することができる。本発明の
洗浄剤は、一般に高沸点組成物となり、被洗物の乾燥が
問題になる場合があるが、そのような場合には、洗浄後
に被洗物に付着残存する洗浄剤を水でリンス、置換し、
乾燥を容易にする目的で、本発明の洗浄剤組成物に界面
活性剤を添加することができる。
して、（ｄ）アミン１〜１５重量部が好ましい。１５重
量部以下で十分目的を達成することができる。本発明の
洗浄剤は、一般に高沸点組成物となり、被洗物の乾燥が
問題になる場合があるが、そのような場合には、洗浄後
に被洗物に付着残存する洗浄剤を水でリンス、置換し、
乾燥を容易にする目的で、本発明の洗浄剤組成物に界面
活性剤を添加することができる。
【００１４】界面活性剤としては、公知のアニオン、カ
チオンまたはノニオン界面活性剤を使用できる。例え
ば、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル等を挙げることができるが、これ
に限定されるものではない。本発明の洗浄剤には、必要
に応じて公知の防錆剤や酸化防止剤、例えば、ベンゾト
リアゾール類、亜硝酸塩類、ホスファイト類、フェノー
ル類等を添加することができる。
チオンまたはノニオン界面活性剤を使用できる。例え
ば、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェ
ニルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピ
レンアルキルエーテル等を挙げることができるが、これ
に限定されるものではない。本発明の洗浄剤には、必要
に応じて公知の防錆剤や酸化防止剤、例えば、ベンゾト
リアゾール類、亜硝酸塩類、ホスファイト類、フェノー
ル類等を添加することができる。
【００１５】
【実施例】評価方法は下記の通りである。洗浄液の均一
性は、各洗浄剤を６０℃に加熱し、液の状態を観察し、
均一透明なものを、○、二相に分離したものを、×とし
た。フラックス洗浄性は、ガラスエポキシ製プリント基
板（４６×７０×１．６ｍｍ）をフラックス（アサヒ化
研製ＡＧＦ−２００Ｊ−１）中に浸漬したのち引き上
げ、室温で風乾したものを２５０℃のはんだ浴に３秒間
接触させ、はんだづけした。これを、６０℃に加温した
各洗浄剤に浸漬し、２分間揺動洗浄したのち、純水でリ
ンスしてドライヤーで乾燥した。洗浄度は、アルファメ
タル社製オメガメーターにて測定したイオン性残渣量
（μｇ・ＮａＣＬ／ｉｎ2 ）で評価した。○：５以下、
△：５〜１０、×：１０以上とした。
性は、各洗浄剤を６０℃に加熱し、液の状態を観察し、
均一透明なものを、○、二相に分離したものを、×とし
た。フラックス洗浄性は、ガラスエポキシ製プリント基
板（４６×７０×１．６ｍｍ）をフラックス（アサヒ化
研製ＡＧＦ−２００Ｊ−１）中に浸漬したのち引き上
げ、室温で風乾したものを２５０℃のはんだ浴に３秒間
接触させ、はんだづけした。これを、６０℃に加温した
各洗浄剤に浸漬し、２分間揺動洗浄したのち、純水でリ
ンスしてドライヤーで乾燥した。洗浄度は、アルファメ
タル社製オメガメーターにて測定したイオン性残渣量
（μｇ・ＮａＣＬ／ｉｎ2 ）で評価した。○：５以下、
△：５〜１０、×：１０以上とした。
【００１６】脱脂洗浄性は、横２ｃｍ、縦５ｃｍの３０
メッシュステンレス製金網をプレス油（日本石油化学
（株）製、ユニプレスＤＰ−１２０）に浸し、約０．５
ｇのプレス油を付着させたのち、各洗浄剤１００ｍｌ
中、４０℃で１分間超音波洗浄した。残留油分を四塩化
炭素で抽出し、油分濃度計で脱脂率を求めた。○：脱脂
率９９％以上、△：脱脂率９９〜９０％、×：脱脂率９
０％以下とした。
メッシュステンレス製金網をプレス油（日本石油化学
（株）製、ユニプレスＤＰ−１２０）に浸し、約０．５
ｇのプレス油を付着させたのち、各洗浄剤１００ｍｌ
中、４０℃で１分間超音波洗浄した。残留油分を四塩化
炭素で抽出し、油分濃度計で脱脂率を求めた。○：脱脂
率９９％以上、△：脱脂率９９〜９０％、×：脱脂率９
０％以下とした。
【００１７】引火点は、ＪＩＳ Ｋ２２６５のクリーブ
ランド開放式で測定した。排水処理性は、各洗浄剤を水
と１：１（重量）に混合し、６０℃でよく振り混ぜた
後、静置し分離した水相をガスクロマトグラフで分析
し、溶出した有機物の合計量を求めた。
ランド開放式で測定した。排水処理性は、各洗浄剤を水
と１：１（重量）に混合し、６０℃でよく振り混ぜた
後、静置し分離した水相をガスクロマトグラフで分析
し、溶出した有機物の合計量を求めた。
【００１８】
【実施例１〜５および比較例１、２】表１に示した洗浄
剤の洗浄温度（６０℃）における洗浄液の均一性、フラ
ックス洗浄性、脱脂洗浄性、引火点、および排水処理性
の評価を行なった。実施例１〜５はいずれも６０℃にお
いて均一な液であり、洗浄性、排水処理性とも優れてい
た。比較例１は、一般式（２）で表されるグリコールエ
ーテル系化合物を含まないものであるが、６０℃で液が
白濁し、相分離した。比較例２は、グリコールエーテル
系化合物として、ＤＰＭを５０％添加したものである
が、フラックス洗浄性が低下し、また、水と１：１（重
量）に混合し、６０℃でよく振り混ぜた後、静置しても
相分離しなかった。
剤の洗浄温度（６０℃）における洗浄液の均一性、フラ
ックス洗浄性、脱脂洗浄性、引火点、および排水処理性
の評価を行なった。実施例１〜５はいずれも６０℃にお
いて均一な液であり、洗浄性、排水処理性とも優れてい
た。比較例１は、一般式（２）で表されるグリコールエ
ーテル系化合物を含まないものであるが、６０℃で液が
白濁し、相分離した。比較例２は、グリコールエーテル
系化合物として、ＤＰＭを５０％添加したものである
が、フラックス洗浄性が低下し、また、水と１：１（重
量）に混合し、６０℃でよく振り混ぜた後、静置しても
相分離しなかった。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は優れた洗浄力を有する
とともに、毒性も低く、引火点も実質的に満足できるも
のである。しかも、ハロゲン原子を含まないのでオゾン
層破壊の恐れが全くないため、１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタンや１，１，１−トリ
クロロエタンの代替洗浄剤として極めて有用である。特
に、本発明の洗浄剤ははんだフラックス、はんだペース
トを洗浄、およびワックス及び加工油類を洗浄するのに
好適である。
とともに、毒性も低く、引火点も実質的に満足できるも
のである。しかも、ハロゲン原子を含まないのでオゾン
層破壊の恐れが全くないため、１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタンや１，１，１−トリ
クロロエタンの代替洗浄剤として極めて有用である。特
に、本発明の洗浄剤ははんだフラックス、はんだペース
トを洗浄、およびワックス及び加工油類を洗浄するのに
好適である。
Claims (1)
- 【請求項１】 （ａ）次の一般式（１）で表されるグリ
コールエーテル系化合物７０〜９５重量％及び（ｂ）一
般式（２）で表されるグリコールエーテル系化合物５〜
３０重量％からなる洗浄剤。 【化１】 Ｒ3 Ｏ（Ｃp Ｈ2pＯ）q Ｈ （２） （式中、Ｒ3 は炭素数１〜５のアルキル基を示し、ｐは
３〜４の整数、ｑは１〜３の整数を示す）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30196193A JPH07150195A (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | 洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30196193A JPH07150195A (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | 洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07150195A true JPH07150195A (ja) | 1995-06-13 |
Family
ID=17903209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30196193A Withdrawn JPH07150195A (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | 洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07150195A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6569252B1 (en) * | 2000-06-30 | 2003-05-27 | International Business Machines Corporation | Semi-aqueous solvent cleaning of paste processing residue from substrates |
-
1993
- 1993-12-01 JP JP30196193A patent/JPH07150195A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6569252B1 (en) * | 2000-06-30 | 2003-05-27 | International Business Machines Corporation | Semi-aqueous solvent cleaning of paste processing residue from substrates |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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