JPH07148652A - Plastic lens polishing method and plastic beam material fixing-cushioning film - Google Patents
Plastic lens polishing method and plastic beam material fixing-cushioning filmInfo
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- JPH07148652A JPH07148652A JP31740193A JP31740193A JPH07148652A JP H07148652 A JPH07148652 A JP H07148652A JP 31740193 A JP31740193 A JP 31740193A JP 31740193 A JP31740193 A JP 31740193A JP H07148652 A JPH07148652 A JP H07148652A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックレンズの
研摩方法及びプラスチックの研摩に際して用いるプラス
チック基材固定緩衝用フィルムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for polishing a plastic lens and a buffer film for fixing a plastic substrate used for polishing a plastic.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のレンズの研摩は、例えば、特開昭
４７−１４７７６号公報に開示されているように、レン
ズ基材を低融点合金（アロイメタル）を用いて研摩用取
付皿（ホルダー）に固定し、研摩用取付皿に固定したレ
ンズ基材を荒ずり加工機又は研摩加工機へ装着して行わ
れている。レンズ基材は、位置決めのために、非加工面
を低融点合金のブロック層を介してホルダーに固定され
る。さらに、レンズがプラスチック製の場合は、研摩加
工時のキズ発生の防止等を目的として、プラスチックレ
ンズの非加工面の表面に保護フィルムを施し、その上に
前記低融点合金からなるブロック層を施して、研摩用取
付皿に固定している。前記の保護フィルムの素材として
は、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフイ
ン系のポリマー、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル、セルロース系フィルムが用いられていた
（特開昭５５−７７４６１号公報）。プラスチックレン
ズの場合、ガラス製レンズに比べて、研摩時の応力によ
り変形し易い。上記の保護フィルムの素材は、低融点合
金層に比べれば可撓性を有し、研摩時にプラスチック基
材に加わる応力を緩和し分散できるものである。さら
に、研摩の加工性という観点から、上記の保護フィルム
の素材は、低融点合金層との密着性にも優れたものが選
ばれている。2. Description of the Related Art Conventional polishing of a lens is carried out by using a low melting point alloy (alloy metal) as a lens base material and a mounting plate for polishing (holder) as disclosed in, for example, JP-A-47-14776. ), And the lens substrate fixed to the polishing plate is mounted on a roughing machine or a polishing machine. The lens base material is fixed to the holder on the non-processed surface through the block layer of the low melting point alloy for positioning. Further, when the lens is made of plastic, a protective film is applied to the surface of the non-processed surface of the plastic lens for the purpose of preventing scratches during polishing, and a block layer made of the low melting point alloy is applied on it. Fixed to the polishing plate. Polyolefin polymers such as polyethylene and polypropylene, polyester, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, and cellulose films have been used as the material for the protective film (Japanese Patent Laid-Open No. 55-77461). A plastic lens is more likely to be deformed by the stress during polishing than a glass lens. The material of the above-mentioned protective film is more flexible than the low melting point alloy layer and can relax and disperse the stress applied to the plastic substrate during polishing. Furthermore, from the viewpoint of polishing processability, the material of the above-mentioned protective film is selected to have excellent adhesion to the low melting point alloy layer.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】プラスチックレンズの
場合、前記のように保護フィルムを用いているが、保護
フィルムはアクリル系の粘着剤を用いてプラスチック基
材に固定されている。そして研摩の後に、研摩用取付皿
と低融点合金層とが取外され、さらに、保護フィルムは
指等で剥がすことにより、機械的に剥離される。しか
し、その際にレンズに傷を付ける危険性があった。そこ
で本発明の第１の目的は、研摩終了後、プラスチックレ
ンズに傷を付けることなしに、前記の保護フィルム層、
さらには低融点合金層を除去できるプラスチックレンズ
の研摩方法を提供することにある。In the case of a plastic lens, the protective film is used as described above, but the protective film is fixed to the plastic substrate by using an acrylic adhesive. After polishing, the polishing plate and the low melting point alloy layer are removed, and the protective film is mechanically peeled off by peeling it off with a finger or the like. However, there was a risk of scratching the lens at that time. Therefore, a first object of the present invention is to provide the above-mentioned protective film layer without damaging the plastic lens after polishing.
Another object of the present invention is to provide a method for polishing a plastic lens capable of removing the low melting point alloy layer.
【０００４】さらに、プラスチックレンズに傷を付ける
ことなしに除去できるとともに、研摩時にプラスチック
基材に加わる応力を十分に緩和し分散でき、かつ、前記
低融点合金からなるブロック層との接着性が良好であ
り、研摩加工作業がし易いことが好ましい。そこで本発
明の第２の目的は、レンズに傷を付けることなく剥離で
き、研摩時にプラスチック基材に加わる応力を十分に緩
和し分散することができ、かつ前記低融点合金からなる
ブロック層との接着性が良好な保護フィルムを提供する
こと、及びこの保護フィルムを用いて、研摩終了後、プ
ラスチックレンズに傷を付けることなく前記の保護フィ
ルム層及び低融点合金層を除去できるプラスチックレン
ズの研摩方法を提供することにある。Further, the plastic lens can be removed without scratching, the stress applied to the plastic substrate during polishing can be sufficiently relaxed and dispersed, and the adhesiveness with the block layer made of the low melting point alloy is good. It is preferable that the polishing work is easy. Therefore, a second object of the present invention is to remove the lens without damaging the lens, to sufficiently relax and disperse the stress applied to the plastic substrate during polishing, and to form a block layer made of the low melting point alloy. Providing a protective film having good adhesiveness, and a method for polishing a plastic lens using the protective film, which can remove the protective film layer and the low melting point alloy layer without scratching the plastic lens after polishing is completed. To provide.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の第１の態様は、
保護フィルム層及び低融点合金層を介して研摩用取付皿
に固定したプラスチック基材を研摩してプラスチックレ
ンズを得るプラスチックレンズの研摩方法であって、前
記保護フィルム層が水溶性フィルム基材と水溶性粘着剤
層とからなり、プラスチック基材を研摩した後に、前記
保護フィルム層及び低融点合金層を水洗することにより
除去することを特徴とする、プラスチックレンズの研摩
方法に関する。The first aspect of the present invention is as follows.
What is claimed is: 1. A method of polishing a plastic lens, which comprises polishing a plastic substrate fixed to a polishing plate via a protective film layer and a low melting point alloy layer to obtain a plastic lens, wherein the protective film layer comprises a water-soluble film substrate and a water-soluble film substrate. The present invention relates to a method of polishing a plastic lens, which comprises a protective adhesive layer and a plastic substrate, and then the protective film layer and the low melting point alloy layer are removed by washing with water.
【０００６】さらに本発明の好ましい態様は、前記水溶
性フィルム基材が、水溶性で、かつ柔軟性を有する第１
の保護層及び水溶性で、かつ低融点合金層との密着性を
有する第２の保護層とからなる、プラスチックレンズの
研摩方法である。Further, in a preferred aspect of the present invention, the water-soluble film substrate is water-soluble and has flexibility.
And a second protective layer that is water-soluble and has adhesiveness with the low melting point alloy layer.
【０００７】さらに好ましい本発明の態様は、水溶性
で、かつ柔軟性を有する第１の保護層が、ポリビニルア
ルコールを主成分とする層であり、かつ水溶性で、かつ
低融点合金層との密着性を有する第２の保護層がポリビ
ニルピロリドンを主成分とする層である、プラスチック
レンズの研摩方法である。In a further preferred aspect of the present invention, the water-soluble and flexible first protective layer is a layer containing polyvinyl alcohol as a main component and is water-soluble and has a low melting point alloy layer. This is a method for polishing a plastic lens, in which the second protective layer having adhesion is a layer containing polyvinylpyrrolidone as a main component.
【０００８】さらに本発明は、ポリビニルアルコールを
主成分とするフィルムの一方の面に水溶性粘着剤層を有
し、他方の面にポリビニルピロリドンを主成分とする保
護層を有することを特徴とする、プラスチック基材固定
緩衝用フィルムに関する。以下本発明について説明す
る。Further, the present invention is characterized by having a water-soluble pressure-sensitive adhesive layer on one surface of a film containing polyvinyl alcohol as a main component and a protective layer containing polyvinylpyrrolidone as a main component on the other surface. , A plastic base material-fixed cushioning film. The present invention will be described below.
【０００９】本発明の研摩方法は、保護フィルム層及び
低融点合金層を介して研摩用取付皿に固定したプラスチ
ック基材を研摩してプラスチックレンズを得るものであ
る。保護フィルム層は、フィルム基材と粘着剤層とから
なる。この粘着剤層は、フィルム基材とプラスチック基
材とを固定するためのものであり、水溶性粘着剤からな
る。水溶性粘着剤は、プラスチック基材と保護フィルム
層のフィルム基材とを固定できるものであれば、特に制
限なく使用できる。水溶性粘着剤としては、例えば、特
開昭５８−１６２６８５号公報に開示されているアクリ
ル酸、アクリル酸エステル、アクリル酸アミド、イタコ
ン酸等の親水基を有するビニル系単量体の重合体、ある
いは上記単量体と酢酸ビニル、スチレン等との共重合体
などが挙げられる。水溶性粘着剤を用いることにより、
レンズに傷を付けることなく保護フィルム層を剥離でき
るという利点がある。尚、粘着層の膜厚は、例えば、１
ミクロン〜５００ミクロンであることが適当である。The polishing method of the present invention is to obtain a plastic lens by polishing a plastic substrate fixed to a polishing attachment plate through a protective film layer and a low melting point alloy layer. The protective film layer is composed of a film base material and an adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer is for fixing the film base material and the plastic base material and is made of a water-soluble pressure-sensitive adhesive. The water-soluble pressure-sensitive adhesive can be used without particular limitation as long as it can fix the plastic substrate and the film substrate of the protective film layer. Examples of the water-soluble pressure-sensitive adhesive include polymers of vinyl-based monomers having a hydrophilic group such as acrylic acid, acrylic acid ester, acrylic acid amide, and itaconic acid disclosed in JP-A-58-162685. Alternatively, copolymers of the above monomers with vinyl acetate, styrene, etc. may be mentioned. By using a water-soluble adhesive,
There is an advantage that the protective film layer can be peeled off without damaging the lens. The thickness of the adhesive layer is, for example, 1
Suitably it is between micron and 500 micron.
【００１０】保護フィルム層を構成するフィルム基材に
は、水溶性のフィルム基材を用いる。そのようなフィル
ム基材として、水溶性樹脂であるアミロース、ポリエチ
レンオキシド、メチルセルロース、ヒドロキシプロピル
セルロース等からなるフィルム基材を挙げることができ
る。さらに、本発明の好ましい態様として、フィルム基
材は、水溶性で、かつ柔軟性を有する第１の保護層及び
水溶性で、かつ低融点合金層との密着性を有する第２の
保護層とからなるものを用いる。ここで、第１の保護層
に要求される柔軟性は、研摩加工時に生じる応力を緩
和、分散することが可能な程度の柔軟性である。そのよ
うなフィルム基材として、ポリビニルアルコールを主成
分とする第１の保護層及びポリビニルピロリドンを主成
分とする第２の保護層とかなる基材を挙げることができ
る。A water-soluble film substrate is used as the film substrate forming the protective film layer. Examples of such a film substrate include a film substrate made of a water-soluble resin such as amylose, polyethylene oxide, methyl cellulose and hydroxypropyl cellulose. Further, as a preferred embodiment of the present invention, the film substrate is composed of a water-soluble and flexible first protective layer and a water-soluble second protective layer having adhesion to the low melting point alloy layer. Use one consisting of. Here, the flexibility required for the first protective layer is such that the stress generated during the polishing process can be relaxed and dispersed. Examples of such a film substrate include a substrate including a first protective layer containing polyvinyl alcohol as a main component and a second protective layer containing polyvinylpyrrolidone as a main component.
【００１１】ポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略
記することがある）を主成分とする第１の保護層は、Ｐ
ＶＡのみから構成されるか、又はＰＶＡの有する物性を
損なわない程度に第３成分を添加したものであることが
できる。ＰＶＡは、引張強さ、圧縮強さに優れており、
かつ水溶性を併せ持つ。このため、ＰＶＡを主成分とす
る第１の保護層を有する保護フィルムを用いることによ
り、研摩加工時に生じる応力を緩和、分散することが可
能となる。さらに、ＰＶＡが水溶性であることから、水
洗により保護フィルム層の除去を容易に行うことができ
る。従って、第１の保護層に添加できる第３成分の種類
及び量は、ＰＶＡの引張強さ、圧縮強さを維持し、さら
に水溶性も維持することを考慮して、適宜決定できる。
第３成分としては、例えば、水溶性を維持するといか観
点から、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビ
ニルピロリドン、ポリエチレンオキシド、アミロース、
メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の
水溶性高分子を挙げることができる。第１の保護層の膜
厚は、特に制限はないが、例えば１〜５００ミクロンの
範囲であることが適当である。The first protective layer containing polyvinyl alcohol (hereinafter sometimes abbreviated as PVA) as a main component is P
It may be composed of only VA, or may have a third component added to such an extent that the physical properties of PVA are not impaired. PVA has excellent tensile strength and compressive strength,
It also has water solubility. Therefore, by using the protective film having the first protective layer containing PVA as the main component, it becomes possible to relax and disperse the stress generated during the polishing process. Further, since PVA is water-soluble, the protective film layer can be easily removed by washing with water. Therefore, the type and amount of the third component that can be added to the first protective layer can be appropriately determined in consideration of maintaining the tensile strength and compressive strength of PVA and also maintaining water solubility.
Examples of the third component include polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, amylose, from the viewpoint of maintaining water solubility.
Examples thereof include water-soluble polymers such as methyl cellulose and hydroxypropyl cellulose. The film thickness of the first protective layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 500 μm, for example.
【００１２】ポリビニルピロリドン（以下、ＰＶＰと略
記することがある）を主成分とする第２の保護層は、Ｐ
ＶＰのみから構成されるか、又はＰＶＰの有する物性を
損なわない程度に第３成分を添加したものであることが
できる。ＰＶＰは、ＰＶＡを主成分とする第１の保護層
及び低融点合金層と密着性があるので、低融点合金層と
密着性を有さないＰＶＡ層を主成分とする第１の保護層
をＰＶＰ層を主成分とする第２の保護層を介在させるこ
とにより密着させることができる。また、ＰＶＰは、水
溶性も有する。従って、ＰＶＰが水溶性であることか
ら、水洗により、保護フィルム層の除去を容易に行うこ
とができる。さらに、ＰＶＰは耐熱性を有するので、低
融点合金層を形成する際に、低融点合金融液との接触に
も耐え得るため有用である。ＰＶＰに要求されるこれら
物性を考慮すると、分子量１万〜３６万程度のものを用
いることが適当である。また、第２の保護層に添加でき
る第３成分の種類及び量は、ＰＶＰの有する低融点合金
層及びＰＶＡ層との密着性を維持する場合と、さらに水
溶性も維持する場合とでは、異なることがあり、適宜決
定できる。第３成分としては、例えば、水溶性を維持す
るといか観点から、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ア
ミロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース等の水溶性高分子を挙げることができる。第２の
保護層の膜厚は、特に制限はないが、例えば１００〜５
００ミクロンの範囲であることが適当である。The second protective layer containing polyvinylpyrrolidone (hereinafter sometimes abbreviated as PVP) as a main component is P.
It may be composed of only VP, or may have a third component added to an extent that does not impair the physical properties of PVP. Since PVP has adhesion to the first protective layer containing PVA as a main component and the low melting point alloy layer, the first protective layer containing a PVA layer having no adhesion to the low melting point alloy layer as a main component is used. Adhesion can be achieved by interposing a second protective layer containing a PVP layer as a main component. PVP is also water-soluble. Therefore, since PVP is water-soluble, the protective film layer can be easily removed by washing with water. Furthermore, since PVP has heat resistance, it is useful because it can withstand contact with a low-melting point financial liquid when forming the low-melting point alloy layer. Considering these physical properties required for PVP, it is suitable to use one having a molecular weight of about 10,000 to 360,000. Further, the type and amount of the third component that can be added to the second protective layer are different when maintaining the adhesiveness with the low melting point alloy layer and PVA layer of PVP and when maintaining the water solubility. However, it can be determined as appropriate. Examples of the third component include water-soluble polymers such as polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, amylose, methyl cellulose, and hydroxypropyl cellulose from the viewpoint of maintaining water solubility. The thickness of the second protective layer is not particularly limited, but is, for example, 100 to 5
A range of 00 microns is suitable.
【００１３】本発明では、保護フィルム層のフィルム基
材として、ＰＶＡ層を主成分とする第１の保護層とＰＶ
Ｐ層を主成分とする第２の保護層との積層フィルムを用
いることで、研摩加工時に生じる応力を緩和、分散する
ことができ、かつ保護フィルム層と低融点合金層との密
着性も良好に維持することもできる。さらに、粘着剤層
として水溶性粘着剤層を有する保護フィルム層を用いる
ことで、水洗により容易に除去することも可能になる。
また、耐熱性を有するＰＶＰを主成分とする第２の保護
層を用いることで、低融点合金層形成時の保護フィルム
の変形等を防止することもできる。In the present invention, as the film base material of the protective film layer, a first protective layer containing a PVA layer as a main component and PV are used.
By using the laminated film with the second protective layer containing the P layer as a main component, the stress generated during polishing can be relaxed and dispersed, and the adhesion between the protective film layer and the low melting point alloy layer is good. It can also be maintained at. Furthermore, by using a protective film layer having a water-soluble pressure-sensitive adhesive layer as the pressure-sensitive adhesive layer, it becomes possible to easily remove it by washing with water.
Further, by using the second protective layer containing PVP having heat resistance as a main component, it is possible to prevent the protective film from being deformed when the low melting point alloy layer is formed.
【００１４】本発明で用いる保護フィルムは、例えば、
ポリビニルアルコールを主成分とするフィルムの一方の
面に水溶性粘着剤層を有し、他方の面にポリビニルピロ
リドンを主成分とする保護層を有するプラスチック基材
固定緩衝用フィルムであることがてきる。このプラスチ
ック基材固定緩衝用フィルムは、ＰＶＡを主成分とする
フィルムの一方の面に水溶性粘着剤層を形成し、他方の
面にＰＶＰを主成分とする保護層を形成することにより
作製することができる。粘着剤層の形成は、予め形成し
た粘着剤層フィルムをＰＶＡを主成分とするフィルム上
に積層するか、又はＰＶＡを主成分とするフィルム上に
粘着剤溶液を塗布することにより形成することができ
る。また、ＰＶＰ層を主成分とする保護層は、ＰＶＡを
主成分とするフィルム上にＰＶＰを溶解又は分散した溶
液を塗布乾燥することにより形成することができる。Ｐ
ＶＰの溶解又は分散には、例えば、アセトン、アルコー
ル類、セルソルブ類、エーテル類等の有機溶剤を用いる
ことができる。The protective film used in the present invention is, for example,
It can be a plastic-based fixed buffer film having a water-soluble pressure-sensitive adhesive layer on one surface of a polyvinyl alcohol-based film and a protective layer containing polyvinylpyrrolidone on the other surface. . This film for fixing and buffering a plastic substrate is produced by forming a water-soluble pressure-sensitive adhesive layer on one surface of a film containing PVA as a main component and a protective layer containing PVP as a main component on the other surface. be able to. The pressure-sensitive adhesive layer may be formed by laminating a pressure-sensitive adhesive layer film formed in advance on a film containing PVA as a main component, or by applying a pressure-sensitive adhesive solution on a film containing PVA as a main component. it can. Further, the protective layer containing a PVP layer as a main component can be formed by applying a solution in which PVP is dissolved or dispersed on a film containing PVA as a main component and drying. P
To dissolve or disperse the VP, for example, an organic solvent such as acetone, alcohols, cellosolves, ethers or the like can be used.
【００１５】本発明において研摩の対象となるプラスチ
ック基材は、プラスチックレンズ等の研摩を要する光学
製品形成用のものであれば、特に制限はない。また、本
発明におけるプラスチック基材としては、セミフィニシ
ュレンズも含む。その材質としては、例えば、メチルメ
タクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種
以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合
体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１
種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合
体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリ
カーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和
ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレ
タン等で挙げることができる。さらに、プラスチックレ
ンズとしては、カメラレンズ、眼鏡レンズ等を挙げるこ
とができる。但し、これらに限定されるものではない。The plastic substrate to be polished in the present invention is not particularly limited as long as it is for forming an optical product requiring polishing such as a plastic lens. Further, the plastic substrate in the present invention also includes a semi-finished lens. Examples of the material include a methyl methacrylate homopolymer, a copolymer containing methyl methacrylate and one or more other monomers as monomer components,
Diethylene glycol bisallyl carbonate homopolymer, diethylene glycol bisallyl carbonate and 1
Copolymers containing at least one other monomer as a monomer component, sulfur-containing copolymers, halogen-containing copolymers, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, unsaturated polyester, polyethylene terephthalate, polyurethane, etc. . Furthermore, examples of the plastic lens include a camera lens and a spectacle lens. However, it is not limited to these.
【００１６】本発明の方法においてプラスチック基材は
研摩用取付皿に固定されて研摩される。プラスチック基
材の研摩用取付皿への固定は、プラスチック基材の非研
摩面に保護フィルムを粘着剤層により付着し、プラスチ
ック基材の非研摩面上の保護フィルムと研摩用取付皿と
の間を低融点合金層を介して固定する。低融点合金を用
いてプラスチック基材を研摩用取付皿に固定する方法
は、例えば、特開昭４７−１４７７６号公報に開示され
ている。合金層の厚さは、特に限定はないが、例えば約
３〜１５ミリメートルとすることが適当である。本発明
では、従来用いられている低融点合金をそのまま用いる
ことができる。但し、水洗により低融点合金層を除去す
るという観点からは、溶融点が比較的低いものを用いる
ことが好ましい。さらに、例えば、温水で溶解すること
により低融点合金層を除去するという観点からは、溶融
点が約８０℃以下のものを用いることが好ましい。その
例としては、ビスマス、鉛、カドミウム、スズ、インジ
ウム等の合金を挙げられる。より具体的には、以下の表
１に示す合金を用いることができる。In the method of the present invention, the plastic substrate is fixed on the polishing plate and polished. To fix the plastic base material to the polishing plate, attach a protective film to the non-polishing surface of the plastic base material with an adhesive layer, and place it between the protective film on the non-polishing surface of the plastic substrate and the polishing plate. Are fixed through the low melting point alloy layer. A method of fixing a plastic base material to a polishing attachment plate using a low melting point alloy is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 47-14776. The thickness of the alloy layer is not particularly limited, but it is suitable to be about 3 to 15 mm, for example. In the present invention, the low melting point alloy conventionally used can be used as it is. However, from the viewpoint of removing the low melting point alloy layer by washing with water, it is preferable to use one having a relatively low melting point. Further, for example, from the viewpoint of removing the low melting point alloy layer by dissolving with warm water, it is preferable to use one having a melting point of about 80 ° C. or lower. Examples thereof include alloys of bismuth, lead, cadmium, tin, indium and the like. More specifically, the alloys shown in Table 1 below can be used.
【００１７】[0017]
【表１】 ─────────────────────────────────── 合金Ｎｏ． 溶融点（℃） Ｂｉ Ｐｂ Ｓｎ Ｃｄ Ｉｎ ─────────────────────────────────── １ 46.8 44.70 22.60 8.30 5.30 19.10 ２ 58 49.00 18.00 12.00 ---- 21.00 ３ 70 50.00 26.70 13.30 10.00 ---- ４ 70.5 50.50 27.80 12.40 9.30 ---- ５ 72.0 50.00 31.50 9.30 6.20 ---- ６ 72.5 50.72 30.91 14.97 3.40 ---- ７ 72.5 42.50 37.70 11.30 8.50 ---- ─────────────────────────────────── （単位％）[Table 1] ─────────────────────────────────── Alloy No. Melting point (° C) Bi Pb Sn Cd In ─────────────────────────────────── 1 46.8 44.70 22.60 8.30 5.30 19.10 2 58 49.00 18.00 12.00 ---- 21.00 3 70 50.00 26.70 13.30 10.00 ---- 4 70.5 50.50 27.80 12.40 9.30 ---- 5 72.0 50.00 31.50 9.30 6.20 ---- 6 72.5 50.72 30.91 14.97 3.40- --7 72.5 42.50 37.70 11.30 8.50 ---- ─────────────────────────────────── (Unit% )
【００１８】研摩用取付皿に固定したプラスチック基板
は、次いで研摩する。研摩は、従来から公知の方法をそ
のまま用いて行うことができる。即ち、プラスチック基
板を固定した研摩用取付皿を、例えば、「眼鏡」（１９
８６年５月２２日発行、メディカル葵出版）のＰ７１〜
Ｐ７３に開示されているような研摩装置の上軸（研摩装
置本体）に取りつけ、研摩剤及び研摩皿を用いて研摩を
行うことができる。尚、本発明において研摩とは、前記
「眼鏡」のＰ７１〜Ｐ７３に記載されている荒摺り、砂
かけ、研摩等を含む。The plastic substrate fixed to the polishing plate is then polished. The polishing can be performed by using a conventionally known method as it is. That is, the polishing attachment plate to which the plastic substrate is fixed is, for example, "glasses" (19
Published May 22, 1986, Medical Aoi Publishing) P71-
It can be attached to the upper shaft (polishing device main body) of a polishing device as disclosed in P73, and polishing can be performed using an abrasive and a polishing dish. In the present invention, polishing includes roughing, sanding, polishing, etc. described in P71 to P73 of the above "glasses".
【００１９】研摩用取付皿に固定されたプラスチック基
板及び研摩装置の様子を図１によりさらに説明する。
尚、図１に示す保護フィルムは、ＰＶＡ層を主成分とす
る第１の保護層とＰＶＰ層を主成分とする第２の保護層
とからなるものである。プラスチック基材１の非研摩面
上に、粘着剤層２、ＰＶＡ層を主成分とする第１の保護
層３、及びＰＶＰ層を主成分とする第２の保護層４がこ
の順に形成されている。さらに、第２の保護層４の上に
低融点合金層５を介して研摩用取付皿６が固定されてい
る。このように研摩用取付皿に固定されたプラスチック
基板１を、研摩装置の上軸７が研摩用取付皿６の上面
を、また、研摩皿８を有する下軸９がプラスチック基材
１の研摩面をそれぞれ挟むようにして研摩装置（全体は
図示せず）に取り付ける。研摩装置に取り付けられたプ
ラスチック基板は常法により、研摩される。The state of the plastic substrate and the polishing device fixed to the polishing attachment plate will be further described with reference to FIG.
The protective film shown in FIG. 1 is composed of a first protective layer containing a PVA layer as a main component and a second protective layer containing a PVP layer as a main component. On the non-polished surface of the plastic substrate 1, an adhesive layer 2, a first protective layer 3 containing a PVA layer as a main component, and a second protective layer 4 containing a PVP layer as a main component were formed in this order. There is. Further, a polishing attachment plate 6 is fixed on the second protective layer 4 via a low melting point alloy layer 5. In this way, the plastic substrate 1 fixed to the polishing plate is provided with the upper shaft 7 of the polishing device on the upper surface of the polishing plate 6 and the lower shaft 9 having the polishing plate 8 on the polishing surface of the plastic substrate 1. Each of them is attached to a polishing device (the whole is not shown). The plastic substrate attached to the polishing device is polished by a conventional method.
【００２０】研摩終了後、前記研摩用取付皿を研摩装置
本体から取はずし、さらに、研摩用取付皿から研摩した
プラスチック基板（プラスチックレンズ）を取り外す。
この取り外しは、研摩用取付皿に固定されたプラスチッ
ク基板をそのまま水、好ましくは温水に浸漬して、低融
点合金層、及び保護フィルム層を溶解して、研摩用取付
皿からプラスチック基板を取り外すことができる。特
に、前記保護フィルム層が、水溶性粘着剤層、ポリビニ
ルアルコールを主成分とする第１の保護層及びポリビニ
ルピロリドンを主成分とする第２の保護層とからなる場
合、水溶性粘着剤層のみならず、水溶性である第１の保
護層及び第２の保護層も水に溶解して除去することがで
きる。尚、温水を用いる場合、温水の温度は、低融点合
金の溶融点以上にすることが好ましいが、作業性の点か
らは、４０〜７０℃であることが適当である。また、低
融点合金の融点以下の水を用いる場合、超音波などを併
用することにより、低融点合金層及び保護フィルム層の
除去を促進することができる。After the polishing, the polishing plate is removed from the main body of the polishing apparatus, and the polished plastic substrate (plastic lens) is removed from the polishing plate.
For this removal, the plastic substrate fixed to the polishing plate is immersed in water as it is, preferably hot water, the low melting point alloy layer and the protective film layer are dissolved, and the plastic substrate is removed from the polishing plate. You can In particular, when the protective film layer comprises a water-soluble adhesive layer, a first protective layer containing polyvinyl alcohol as a main component and a second protective layer containing polyvinylpyrrolidone as a main component, only the water-soluble adhesive layer Of course, the first protective layer and the second protective layer which are water-soluble can also be dissolved in water and removed. When hot water is used, it is preferable that the temperature of the hot water be equal to or higher than the melting point of the low melting point alloy, but from the viewpoint of workability, it is suitable to be 40 to 70 ° C. When water having a melting point of the low melting point alloy or lower is used, the removal of the low melting point alloy layer and the protective film layer can be promoted by using ultrasonic waves together.
【００２１】[0021]
【発明の効果】本発明の研摩方法を用いることにより、
研摩終了後、プラスチックレンズに傷を付けることなく
保護フィルム層及び低融点合金層を除去でき、プラスチ
ックレンズをより容易に提供することができる。また、
本発明の好ましい態様の研摩方法及び本発明のプラスチ
ック基材固定緩衝用フィルムを用いることにより、レン
ズに傷を付けることなく剥離でき、研摩時にプラスチッ
ク基材に加わる応力を十分に緩和し分散することがで
き、かつ前記低融点合金からなるブロック層との接着性
を良好に維持でき、研摩終了後、プラスチックレンズに
傷を付けることなく保護フィルム層及び低融点合金層を
除去できる。特に、本発明において、水洗を温水浸漬に
より行うことによって、プラスチックレンズにキズを付
けることなく、かつ手間をかけずに、取付皿からプラス
チックレンズを取り外しを容易に行うことができる。本
発明によれば、プラスチックレンズの取付皿からの取り
外しを水洗によりできることから、プラスチックレンズ
の研摩工程を自動化できる可能性が大きくなった。By using the polishing method of the present invention,
After polishing, the protective film layer and the low melting point alloy layer can be removed without damaging the plastic lens, and the plastic lens can be provided more easily. Also,
By using the polishing method of the preferred embodiment of the present invention and the plastic base material fixing and buffering film of the present invention, the lens can be peeled off without scratching, and the stress applied to the plastic base material during polishing can be sufficiently relaxed and dispersed. In addition, the adhesiveness with the block layer made of the low melting point alloy can be maintained well, and the protective film layer and the low melting point alloy layer can be removed without damaging the plastic lens after polishing. In particular, in the present invention, by washing with water by immersing in warm water, the plastic lens can be easily removed from the mounting dish without scratching the plastic lens and without any trouble. According to the present invention, since the plastic lens can be removed from the mounting dish by washing with water, the possibility of automating the polishing process of the plastic lens is increased.
【００２２】[0022]
【実施例】以下、本発明を実施例を挙げてさらに説明す
る。 実施例１ ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−
３９）製のセミフィニシュレンズを以下に記す方法によ
り、研摩加工を行った。ＣＲ−３９セミフィニシュレン
ズの非研摩面全体に、ＰＶＡフィルムの片面に水溶性粘
着層を有するＰＶＡ粘着フィルム（商品名：ウェーブソ
ルダーテープ、住友スリーエム製、厚さ０．０６ｍｍ）
の粘着層がレンズ側になるように貼付した。ポリビニル
ピロリドンのＫ価（フィケンチャーの粘度式）が３０と
９０を混合比３．７５：１で混合したものを、アセトン
およびメタノールの混合液中（混合比１：３）に溶解さ
せた。この溶液を、上記ＰＶＡフィルム上に塗布し、乾
燥させてＰＶＰ層（厚さ約０．１ｍｍ）を形成した。次
に、上記セミフィニシュレンズのＰＶＰ層と研摩用取付
皿（ホルダー）との間に、鋳型を用いて低融点合金層
（厚さ５ｍｍ）を形成した。尚、低融点合金としては、
Ｂｉ：４４．７０、Ｐｂ：２２．６０、Ｓｎ：８．３
０、Ｃｄ：５．３０、Ｉｎ：１９．１０、溶融点：４
６．８℃の合金を用いた。低融点合金層で研摩用取付皿
に固定された上記セミフィニシュレンズを特開昭４７−
１４７７６号に記載の方法に従って、取付皿を研摩装置
の上軸に取付けて研摩を行った。研摩の条件は以下のと
おりである。研摩終了後、研摩装置の上軸から取付皿を
取り出し、約６０℃の温水中に超音波を加えながら１２
０秒間浸漬した。その結果、低融点合金層、ＰＶＰ層、
ＰＶＡ層、水溶性粘着層が溶解し、プラスチックレンズ
が取付皿より分離された。得られたプラスチックレンズ
はキズを有さず、良好に研摩され、また光学歪み等もな
い優れたものであった。EXAMPLES The present invention will be further described below with reference to examples. Example 1 Diethylene glycol bisallyl carbonate (CR-
The semifinished lens made in 39) was subjected to polishing by the method described below. PVA adhesive film having a water-soluble adhesive layer on one side of the PVA film on the entire non-polished surface of the CR-39 semi-finished lens (Product name: Wave solder tape, Sumitomo 3M, thickness 0.06 mm)
The adhesive layer was attached to the lens side. A mixture of polyvinylpyrrolidone having a K value (Vikencher's viscosity formula) of 30 and 90 at a mixing ratio of 3.75: 1 was dissolved in a mixed solution of acetone and methanol (mixing ratio 1: 3). This solution was applied on the PVA film and dried to form a PVP layer (thickness: about 0.1 mm). Next, a low melting point alloy layer (thickness: 5 mm) was formed between the PVP layer of the semi-finished lens and the polishing attachment plate (holder) using a mold. As a low melting point alloy,
Bi: 44.70, Pb: 22.60, Sn: 8.3
0, Cd: 5.30, In: 19.10, melting point: 4
A 6.8 ° C alloy was used. The above semi-finished lens fixed to a mounting plate for polishing with a low melting point alloy layer is disclosed in JP-A-47-
According to the method described in No. 14776, the mounting dish was mounted on the upper shaft of the polishing apparatus and polishing was performed. The polishing conditions are as follows. After polishing, take out the mounting dish from the upper shaft of the polishing machine and add ultrasonic waves to warm water at about 60 ° C for 12 hours.
It was immersed for 0 seconds. As a result, the low melting point alloy layer, the PVP layer,
The PVA layer and the water-soluble adhesive layer were dissolved, and the plastic lens was separated from the mounting dish. The obtained plastic lens was excellent in that it had no scratches, was well polished, and had no optical distortion.
【００２３】比較例１ ＰＶＡ粘着フィルムの代わりに、水溶性粘着層を有し、
非水溶性のフィルム基材である主としてポリ塩化ビニル
からなる保護フィルムを用い、ＰＶＰ層を形成せず、実
施例１と同様にして低融点合金層を設け、さらに実施例
１と同様にして研摩を行った。研摩終了後、水洗を行っ
た。その結果、低融点合金層は溶解したが、保護フィル
ムはプラスチックレンズに密着したままであった。そこ
で、保護フィルムを手で剥がして、プラスチックレンズ
を得たが、手間がかかる結果となった。Comparative Example 1 Instead of the PVA adhesive film, a water-soluble adhesive layer was used,
A protective film mainly made of polyvinyl chloride, which is a water-insoluble film base, is used, a low melting point alloy layer is provided in the same manner as in Example 1 without forming a PVP layer, and further polishing is performed in the same manner as in Example 1. I went. After completion of polishing, washing with water was performed. As a result, the low melting point alloy layer was melted, but the protective film remained in close contact with the plastic lens. Then, the protective film was peeled off by hand to obtain a plastic lens, but the result was time-consuming.
【図１】研摩用取付皿に固定されたプラスチック基板及
び研摩装置の軸の部分の説明図。FIG. 1 is an explanatory view of a plastic substrate fixed to a polishing attachment plate and a shaft portion of a polishing device.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｊ 7/02 ＪＪＡ ＪＫＦ (72)発明者 小山 眞市 東京都新宿区中落合２丁目７番５号 ホー ヤ株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location C09J 7/02 JJA JKF (72) Inventor Makoto Koyama 2-7-5 Nakaochiai, Shinjuku-ku, Tokyo No. Hoya Co., Ltd.
Claims (5)
て研摩用取付皿に固定したプラスチック基材を研摩して
プラスチックレンズを得るプラスチックレンズの研摩方
法であって、 前記保護フィルム層が水溶性フィルム基材と水溶性粘着
剤層とからなり、 プラスチック基材を研摩した後に、前記保護フィルム層
及び低融点合金層を水洗することにより除去することを
特徴とする、プラスチックレンズの研摩方法。1. A method for polishing a plastic lens, which comprises polishing a plastic substrate fixed to a polishing plate through a protective film layer and a low melting point alloy layer to obtain a plastic lens, wherein the protective film layer is water-soluble. A method for polishing a plastic lens, comprising a film substrate and a water-soluble pressure-sensitive adhesive layer, which comprises polishing the plastic substrate and then removing the protective film layer and the low melting point alloy layer by washing with water.
柔軟性を有する第１の保護層及び水溶性で、かつ低融点
合金層との密着性を有する第２の保護層とからなること
を請求項１記載の方法。2. The water-soluble film substrate comprises a water-soluble and flexible first protective layer and a water-soluble second protective layer having adhesion to a low melting point alloy layer. The method according to claim 1.
護層が、ポリビニルアルコールを主成分とする層であ
り、かつ水溶性で、かつ低融点合金層との密着性を有す
る第２の保護層がポリビニルピロリドンを主成分とする
層である請求項２記載の方法。3. A water-soluble and flexible first protective layer, which is a layer containing polyvinyl alcohol as a main component, is water-soluble, and has adhesiveness to a low melting point alloy layer. The method according to claim 2, wherein the protective layer is a layer containing polyvinylpyrrolidone as a main component.
１〜３のいずれか１項記載の方法。4. The method according to claim 1, wherein the washing with water is performed with warm water at 40 ° C. or higher.
ィルムの一方の面に水溶性粘着剤層を有し、他方の面に
ポリビニルピロリドンを主成分とする保護層を有するこ
とを特徴とする、プラスチック基材固定緩衝用フィル
ム。5. A plastic base material having a water-soluble pressure-sensitive adhesive layer on one surface of a film containing polyvinyl alcohol as a main component and a protective layer containing polyvinylpyrrolidone as a main component on the other surface. Film for cushioning materials.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31740193A JP3251750B2 (en) | 1993-11-24 | 1993-11-24 | Polishing method for plastic lens and film for buffering and fixing plastic substrate |
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| JPH07148652A true JPH07148652A (en) | 1995-06-13 |
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| JP31740193A Expired - Fee Related JP3251750B2 (en) | 1993-11-24 | 1993-11-24 | Polishing method for plastic lens and film for buffering and fixing plastic substrate |
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| JP (1) | JP3251750B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004330327A (en) * | 2003-05-02 | 2004-11-25 | Soken Chem & Eng Co Ltd | Lens fixing member for use in cutting and polishing lens, and method of cutting and polishing lens using the same |
| JP2009242681A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Taiyo Ink Mfg Ltd | Active energy ray-curable resin composition, its cured product and transparent molded article |
| JP2012187703A (en) * | 2011-02-21 | 2012-10-04 | Hoya Corp | Method of manufacturing eyeglass lens |
-
1993
- 1993-11-24 JP JP31740193A patent/JP3251750B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004330327A (en) * | 2003-05-02 | 2004-11-25 | Soken Chem & Eng Co Ltd | Lens fixing member for use in cutting and polishing lens, and method of cutting and polishing lens using the same |
| JP2009242681A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Taiyo Ink Mfg Ltd | Active energy ray-curable resin composition, its cured product and transparent molded article |
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