JPH07138746A - 薄膜製造装置 - Google Patents
薄膜製造装置Info
- Publication number
- JPH07138746A JPH07138746A JP5282184A JP28218493A JPH07138746A JP H07138746 A JPH07138746 A JP H07138746A JP 5282184 A JP5282184 A JP 5282184A JP 28218493 A JP28218493 A JP 28218493A JP H07138746 A JPH07138746 A JP H07138746A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- thin film
- side wall
- substrate
- clean room
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 生産性の向上ならびに製造工程の効率化を実
現し、しかも、特性の向上した薄膜を得ることができる
薄膜製造装置を提供する。 【構成】 二重円筒の側壁を有し、それぞれの側壁は互
いの底部で繋がった形状の真空チャンバと、その真空チ
ャンバの内部には、基板保持部およびその基板保持部に
より保持された基板を二重円筒の側壁間で回転走行させ
るための回転自在の載置台とを備え、かつ、真空チャン
バの外側の側壁外周面および内側の側壁外周面に沿って
複数のターゲットを備えた薄膜製造装置であって、上記
チャンバにおける外側の側壁に、基板の搬入・搬出のた
めの開口部が設けられている。また、その開口部がクリ
ーンルームに臨ませて設けられ、その開口部には真空チ
ャンバ内とクリーンルーム内とを連通または遮断するた
めのハッチが開閉自在に取付けられている。
現し、しかも、特性の向上した薄膜を得ることができる
薄膜製造装置を提供する。 【構成】 二重円筒の側壁を有し、それぞれの側壁は互
いの底部で繋がった形状の真空チャンバと、その真空チ
ャンバの内部には、基板保持部およびその基板保持部に
より保持された基板を二重円筒の側壁間で回転走行させ
るための回転自在の載置台とを備え、かつ、真空チャン
バの外側の側壁外周面および内側の側壁外周面に沿って
複数のターゲットを備えた薄膜製造装置であって、上記
チャンバにおける外側の側壁に、基板の搬入・搬出のた
めの開口部が設けられている。また、その開口部がクリ
ーンルームに臨ませて設けられ、その開口部には真空チ
ャンバ内とクリーンルーム内とを連通または遮断するた
めのハッチが開閉自在に取付けられている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜製造装置に関し、
更に詳しくは、スパッタリングにより薄膜を形成するこ
とのできる薄膜製造装置に関する。
更に詳しくは、スパッタリングにより薄膜を形成するこ
とのできる薄膜製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】スパッタリングを行って薄膜を形成する
場合、従来において使用されている製造装置としては、
例えば、図４に示すような構造のものが開示されてい
る。
場合、従来において使用されている製造装置としては、
例えば、図４に示すような構造のものが開示されてい
る。
【０００３】真空チャンバ３１は、いわゆるカルーセル
式に用いられる形状をなし、内側の側壁は、それぞれの
外周に沿った円柱の側面と、内周に沿った円柱の側面と
によって構成されている。その真空チャンバ３１内に、
基板３４と、その基板３４を載置する回転自在の載置台
３５が備えられ、真空チャンバ３１の内側の側壁のう
ち、外周に沿った円柱の側壁にはターゲット３２ａ，３
２ｂが、また、内周に沿った円柱の側壁にはターゲット
３３ａ，３３ｂが設けられた構造となっている。
式に用いられる形状をなし、内側の側壁は、それぞれの
外周に沿った円柱の側面と、内周に沿った円柱の側面と
によって構成されている。その真空チャンバ３１内に、
基板３４と、その基板３４を載置する回転自在の載置台
３５が備えられ、真空チャンバ３１の内側の側壁のう
ち、外周に沿った円柱の側壁にはターゲット３２ａ，３
２ｂが、また、内周に沿った円柱の側壁にはターゲット
３３ａ，３３ｂが設けられた構造となっている。
【０００４】この製造装置はクリーンルーム内に配設さ
れている。また、この製造装置に用いられている真空チ
ャンバ３１は、チャンバ上部３１ａとチャンバ下部３１
ｂに分離可能になっており、例えば、基板３４の搬入お
よび搬出の際は、その度にこのチャンバ上部３１ａを持
ち上げて、その作業が行われている。
れている。また、この製造装置に用いられている真空チ
ャンバ３１は、チャンバ上部３１ａとチャンバ下部３１
ｂに分離可能になっており、例えば、基板３４の搬入お
よび搬出の際は、その度にこのチャンバ上部３１ａを持
ち上げて、その作業が行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の装置では、基板の搬入および搬出の度に、真空チャ
ンバの上部を持ち上げなければならず、その持ち上げ作
業用として、クレーン等の専用の吊り下げ装置を必要と
し、その作業は大掛かりで手間と時間を要し、生産性の
低下を招くことになっていた。上記のように真空チャン
バの上部を持ち上げての作業においては、真空チャンバ
内のダストによるクリーンルーム内の汚染という問題が
生じていた。クリーンルーム内のダストはピンホール等
の原因にもなりやすく、品質の低下を招くため、除く必
要があり、こうしたクリーンルーム内の汚染を取り除く
作業は、多くの時間を要するものであり、製造の効率を
低下させるものであった。
来の装置では、基板の搬入および搬出の度に、真空チャ
ンバの上部を持ち上げなければならず、その持ち上げ作
業用として、クレーン等の専用の吊り下げ装置を必要と
し、その作業は大掛かりで手間と時間を要し、生産性の
低下を招くことになっていた。上記のように真空チャン
バの上部を持ち上げての作業においては、真空チャンバ
内のダストによるクリーンルーム内の汚染という問題が
生じていた。クリーンルーム内のダストはピンホール等
の原因にもなりやすく、品質の低下を招くため、除く必
要があり、こうしたクリーンルーム内の汚染を取り除く
作業は、多くの時間を要するものであり、製造の効率を
低下させるものであった。
【０００６】このように、従来の装置では、生産性や製
造工程における効率を悪化させる上、上記した汚染等に
より膜特性は低下し、歩留りが低下するという問題があ
った。
造工程における効率を悪化させる上、上記した汚染等に
より膜特性は低下し、歩留りが低下するという問題があ
った。
【０００７】本発明はこれらの問題を解決するためにな
されたもので、生産性の向上ならびに製造工程の効率化
を実現し、しかも、特性の向上した薄膜を得ることがで
きる薄膜製造装置を提供することを目的とする。
されたもので、生産性の向上ならびに製造工程の効率化
を実現し、しかも、特性の向上した薄膜を得ることがで
きる薄膜製造装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の目的を達成する
ために、本発明の請求項１に係る薄膜製造装置（以下、
発明１という）は、二重円筒の側壁を有し、かつ、それ
ぞれの側壁は互いの底部で繋がった形状の真空チャンバ
と、その真空チャンバの内部には、基板を保持するため
の基板保持部を有し、かつ、その基板保持部により保持
された基板を上記二重円筒の側壁間で回転走行させるた
めの回転自在の載置台とを備えるとともに、その真空チ
ャンバにおける外側の側壁外周面および内側の側壁外周
面に沿って複数のターゲットを備えた薄膜製造装置にお
いて、上記チャンバにおける外側の側壁に、上記基板を
搬入・搬出するための開口部が設けられていることによ
って特徴付けられる。
ために、本発明の請求項１に係る薄膜製造装置（以下、
発明１という）は、二重円筒の側壁を有し、かつ、それ
ぞれの側壁は互いの底部で繋がった形状の真空チャンバ
と、その真空チャンバの内部には、基板を保持するため
の基板保持部を有し、かつ、その基板保持部により保持
された基板を上記二重円筒の側壁間で回転走行させるた
めの回転自在の載置台とを備えるとともに、その真空チ
ャンバにおける外側の側壁外周面および内側の側壁外周
面に沿って複数のターゲットを備えた薄膜製造装置にお
いて、上記チャンバにおける外側の側壁に、上記基板を
搬入・搬出するための開口部が設けられていることによ
って特徴付けられる。
【０００９】また、本発明の請求項２に係る薄膜製造装
置（以下、発明２という）は、上記の請求項１に係る薄
膜製造装置の手段に加え、開口部がクリーンルームに臨
ませて設けられているとともに、該開口部には真空チャ
ンバ内と上記クリーンルーム内とを連通または遮断する
ためのハッチが開閉自在に取付けられていることによっ
て特徴付けられる。
置（以下、発明２という）は、上記の請求項１に係る薄
膜製造装置の手段に加え、開口部がクリーンルームに臨
ませて設けられているとともに、該開口部には真空チャ
ンバ内と上記クリーンルーム内とを連通または遮断する
ためのハッチが開閉自在に取付けられていることによっ
て特徴付けられる。
【００１０】
【作用】発明１では、二重円筒形状とされた真空チャン
バの外側の側壁に開口部を備えた構成としたので、この
開口部を介してチャンバ内への基板の搬入あるいは該チ
ャンバ内からの基板の搬出が可能となる。
バの外側の側壁に開口部を備えた構成としたので、この
開口部を介してチャンバ内への基板の搬入あるいは該チ
ャンバ内からの基板の搬出が可能となる。
【００１１】また、発明２では、上記開口部がクリーン
ルームに臨んで設けられているので、クリーンルーム側
から、基板の搬入・搬出作業を行う場合、例えば、基板
の搬出作業では、開口部に設けられたハッチを開いて該
開口部に基板が位置するように載置台を回転走行させ
て、その開口部から基板を搬出する。また、基板の搬入
作業は、クリーンルーム側から、その開口部を介して載
置台の所定位置に基板をセットする。こうした作業にお
いては、クリーンルームに対し、開口部のみが晒される
ので、真空チャンバ側からのダストの汚染は少ない。
ルームに臨んで設けられているので、クリーンルーム側
から、基板の搬入・搬出作業を行う場合、例えば、基板
の搬出作業では、開口部に設けられたハッチを開いて該
開口部に基板が位置するように載置台を回転走行させ
て、その開口部から基板を搬出する。また、基板の搬入
作業は、クリーンルーム側から、その開口部を介して載
置台の所定位置に基板をセットする。こうした作業にお
いては、クリーンルームに対し、開口部のみが晒される
ので、真空チャンバ側からのダストの汚染は少ない。
【００１２】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明実施例を説明す
る。図１は本発明実施例の構成を示す基本構成図、図２
は本発明実施例に適用されるスパッタリング装置の断面
図を示すとともに、その構成を説明するための図であ
る。
る。図１は本発明実施例の構成を示す基本構成図、図２
は本発明実施例に適用されるスパッタリング装置の断面
図を示すとともに、その構成を説明するための図であ
る。
【００１３】本発明実施例の薄膜製造装置Ａ１は、真空
チャンバ１の外側の側壁１ａに開口部３が設けられ、こ
の開口部３によって、真空チャンバ１とクリーンルーム
ＲCが互いに連結された構造となっている。また、この
開口部３にはクリーンルームＲC 側に開くハッチ４が設
けられている。
チャンバ１の外側の側壁１ａに開口部３が設けられ、こ
の開口部３によって、真空チャンバ１とクリーンルーム
ＲCが互いに連結された構造となっている。また、この
開口部３にはクリーンルームＲC 側に開くハッチ４が設
けられている。
【００１４】まず、真空チャンバ１は、二重円筒の側壁
１ａ，１ｂを有し、かつ、それぞれの側壁は互いの底部
で繋がった形状をなしている。また、その外側の側壁の
外周面には複数のターゲット２・・・・２が配設されてお
り、また、内側の側壁の外周面には複数のターゲット６
・・・・６が配設されている。さらに、真空チャンバ１内部
には、複数の基板Ｓを保持する基板保持部８が備えられ
た載置台７が設けられ、この載置台７は、基板Ｓを二重
円筒の側壁間で回転走行させるよう回転自在となってい
る。また、この載置台７は回転機構部２３により、その
速度が制御され、駆動がなされる。また、上記したター
ゲット２および６は、それぞれ、ターゲット制御部２２
の制御により所定の電圧が印加されるようになってい
る。また、真空チャンバ１内の排気を行うための排気系
２４、スパッタリング時に反応ガスを供給するためのガ
ス供給系２１が備えられている。
１ａ，１ｂを有し、かつ、それぞれの側壁は互いの底部
で繋がった形状をなしている。また、その外側の側壁の
外周面には複数のターゲット２・・・・２が配設されてお
り、また、内側の側壁の外周面には複数のターゲット６
・・・・６が配設されている。さらに、真空チャンバ１内部
には、複数の基板Ｓを保持する基板保持部８が備えられ
た載置台７が設けられ、この載置台７は、基板Ｓを二重
円筒の側壁間で回転走行させるよう回転自在となってい
る。また、この載置台７は回転機構部２３により、その
速度が制御され、駆動がなされる。また、上記したター
ゲット２および６は、それぞれ、ターゲット制御部２２
の制御により所定の電圧が印加されるようになってい
る。また、真空チャンバ１内の排気を行うための排気系
２４、スパッタリング時に反応ガスを供給するためのガ
ス供給系２１が備えられている。
【００１５】以上の構成の本発明実施例では、基板Ｓの
搬入・搬出は開口部３を介してなされ、その搬入，搬出
作業が容易となるとともに、ターゲットの取り付け、真
空チャンバ１内の洗浄等のメンテナンスは、開口部３の
ハッチ４を閉じた状態で、メンテナンスゾーンＲM で行
うことができ、クリーンルームＲC 側は閉じた状態で行
うことができる。この結果、クリーンルームＲC のダス
トの汚染を低減することができ、しかも、効率的に生産
ラインを稼働することができる。
搬入・搬出は開口部３を介してなされ、その搬入，搬出
作業が容易となるとともに、ターゲットの取り付け、真
空チャンバ１内の洗浄等のメンテナンスは、開口部３の
ハッチ４を閉じた状態で、メンテナンスゾーンＲM で行
うことができ、クリーンルームＲC 側は閉じた状態で行
うことができる。この結果、クリーンルームＲC のダス
トの汚染を低減することができ、しかも、効率的に生産
ラインを稼働することができる。
【００１６】次に、以上の構成からなる本発明実施例の
使用方法について説明する。まず、メンテナンスゾーン
ＲM において、成膜すべき組成の物質を備えたターゲッ
トを、真空チャンバ１の所定位置に取りつける。また、
クリーンルームＲC側から、洗浄された基板を搬入す
る。そして開口部３のハッチ４を締め、排気後一連のス
パッタリングを行う。スパッタリング後の基板Ｓは、開
口部３から搬出し、再び、次にスパッタリングすべき基
板を真空チャンバ１内に搬入し、同様にスパッタリング
を行う。
使用方法について説明する。まず、メンテナンスゾーン
ＲM において、成膜すべき組成の物質を備えたターゲッ
トを、真空チャンバ１の所定位置に取りつける。また、
クリーンルームＲC側から、洗浄された基板を搬入す
る。そして開口部３のハッチ４を締め、排気後一連のス
パッタリングを行う。スパッタリング後の基板Ｓは、開
口部３から搬出し、再び、次にスパッタリングすべき基
板を真空チャンバ１内に搬入し、同様にスパッタリング
を行う。
【００１７】また、本発明実施例では、１台の薄膜製造
装置をクリーンルームＲC に連結させた構成としたが、
例えば、図３に示すように、２台の薄膜製造装置Ａ２，
Ａ３を並列に設ける構成とすることも、あるいは、さら
に多くの台数の薄膜製造装置を必要に応じて並列に設け
る構成としてもよい。こうした場合、製品の量産化が可
能となることはいうまでもない。
装置をクリーンルームＲC に連結させた構成としたが、
例えば、図３に示すように、２台の薄膜製造装置Ａ２，
Ａ３を並列に設ける構成とすることも、あるいは、さら
に多くの台数の薄膜製造装置を必要に応じて並列に設け
る構成としてもよい。こうした場合、製品の量産化が可
能となることはいうまでもない。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、発明１では、二重
円筒形状とされた真空チャンバの外側の側壁に開口部を
備えた構成としたので、この開口部を介して基板の搬入
および搬出が可能となり、従来のように搬入や搬出の度
に、大掛かりな真空チャンバの持ち上げ作業を行う必要
がなく、製造工程は効率化し、生産性は向上する。
円筒形状とされた真空チャンバの外側の側壁に開口部を
備えた構成としたので、この開口部を介して基板の搬入
および搬出が可能となり、従来のように搬入や搬出の度
に、大掛かりな真空チャンバの持ち上げ作業を行う必要
がなく、製造工程は効率化し、生産性は向上する。
【００１９】また、発明２では、開口部がクリーンルー
ムに臨んで設けられているので、従来のように基板の搬
入および搬出の度に、クリーンルームがダストで汚染さ
れることがない。その結果、ピンホール等のない特性の
向上した薄膜を得ることができ、製品の品質向上、信頼
性の向上を図ることができる。
ムに臨んで設けられているので、従来のように基板の搬
入および搬出の度に、クリーンルームがダストで汚染さ
れることがない。その結果、ピンホール等のない特性の
向上した薄膜を得ることができ、製品の品質向上、信頼
性の向上を図ることができる。
【図１】本発明実施例の構成を示す基本構成図
【図２】本発明実施例の構成を示す模式的側面図
【図３】他の実施例の概略構成図
【図４】従来例の構成を示す図
１・・・・真空チャンバ １ａ・・・・外側側壁 １ｂ・・・・内側側壁 ２・・・・ターゲット（外） ６・・・・ターゲット（内） ３・・・・開口部 ４・・・・ハッチ ７・・・・載置台 ８・・・・基板保持部 Ａ１，Ａ２，Ａ３・・・・薄膜製造装置 Ｓ・・・・基板
Claims (2)
- 【請求項１】 二重円筒の側壁を有し、かつ、それぞれ
の側壁は互いの底部で繋がった形状の真空チャンバと、
その真空チャンバの内部には、基板を保持するための基
板保持部を有し、かつ、その基板保持部により保持され
た基板を上記二重円筒の側壁間で回転走行させるための
回転自在の載置台とを備えるとともに、その真空チャン
バにおける外側の側壁外周面および内側の側壁外周面に
沿って複数のターゲットを備えた薄膜製造装置におい
て、上記チャンバにおける外側の側壁に、上記基板を搬
入・搬出するための開口部が設けられていることを特徴
とする薄膜製造装置。 - 【請求項２】 開口部がクリーンルームに臨ませて設け
られているとともに、該開口部には真空チャンバ内と上
記クリーンルーム内とを連通または遮断するためのハッ
チが開閉自在に取付けられていることを特徴とする請求
項１記載の薄膜製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5282184A JPH07138746A (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | 薄膜製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5282184A JPH07138746A (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | 薄膜製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07138746A true JPH07138746A (ja) | 1995-05-30 |
Family
ID=17649177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5282184A Pending JPH07138746A (ja) | 1993-11-11 | 1993-11-11 | 薄膜製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07138746A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100804616B1 (ko) * | 2006-06-23 | 2008-02-20 | 박웅기 | 오토클레이브에 의한 처리방법 및 장치 |
-
1993
- 1993-11-11 JP JP5282184A patent/JPH07138746A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100804616B1 (ko) * | 2006-06-23 | 2008-02-20 | 박웅기 | 오토클레이브에 의한 처리방법 및 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |