JPH07133285A - 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物 - Google Patents

蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物

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JPH07133285A
JPH07133285A JP27922193A JP27922193A JPH07133285A JP H07133285 A JPH07133285 A JP H07133285A JP 27922193 A JP27922193 A JP 27922193A JP 27922193 A JP27922193 A JP 27922193A JP H07133285 A JPH07133285 A JP H07133285A
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記庸 斎藤
Hiroto Uchida
寛人 内田
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勝実 小木
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜
形成用有機銀化合物を提供する。 【構成】 銀薄膜形成用機銀化合物が、下記一般式(化
1) 【化1】(ただし、上記式中R1からR6は、炭素数1
から4の直鎖または分岐状のアルキル基および水素のう
ちの一種または二種以上から成る)で表される蒸気圧の
高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合
物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置のコンタク
トおよび配線等の銀薄膜を有機金属化学蒸着(以下;M
OCVDと略記)法により形成するに際して、蒸着原料
として用いるのに適した有機銀化合物に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】上記の各種銀薄膜をMOCVD法により
形成するに際して、蒸着原料として、下記(化2)
【0003】
【化2】
【0004】で表される(1,5―シクロオクタジエ
ン)(1,1,1,5,5,5―ヘキサフルオロ―2,
4―ペンタンジオナト)銀(I)(シクロオクタジエ
ン;以下CODと略記)および下記(化3)
【0005】
【化3】
【0006】で表される(トリメチルホスフィン)
(1,1,1,5,5,5―ヘキサフルオロ―2,4―
ペンタンジオナト)銀(I)から成る有機銀化合物が用
いられていることは良く知られるところである。また、
上記銀薄膜が、例えば図1に概略説明図で示される通
り、反応炉7内に設けたヒーター6上に基板5を置き、
一方これと連接して設けた加熱炉3において、気化容器
2内の有機銀化合物からなる蒸着原料1を気化させ、こ
れを例えばAr等のキャリアガス4で前記反応炉7内に
拡散し、上記加熱基板5上に分解銀を析出させることか
らなる、熱分解型MOCVD(以下熱CVDと略記)法
により形成されることも知られている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の熱CV
D法に蒸着原料として用いられている上記(化2)の従
来有機銀化合物は、気化の際の加熱温度に対して極めて
不安定で、気化における加熱の際に上記図1中の気化容
器3内にて、気化の他に有機銀化合物が大部分熱分解反
応を起こすなど化合物の熱安定性に問題がある。また上
記(化3)の従来有機銀化合物は、上記(化2)の従来
有機銀化合物に比して熱安定性に優れるものの、作製し
た銀膜中に燐等の不純物の混入するおそれがある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の観点
から、熱CVD法を含め、その他のMOCVD法により
銀薄膜を作製するに際して、気化速度が均一で、かつ気
化の際の熱安定性に優れた高純度な銀薄膜形成用蒸着原
料を見出すべく研究を行なった結果、前記一般式(化
1)で表される有機銀化合物を蒸着原料として用いる
と、配位子のエチレン誘導体がトランス位置にシラン化
合物を有するために、前記(化2)および(化3)の従
来有機銀化合物よりも、安定した気化速度を得ることが
可能になるとともに、優れた揮発性および熱安定性を示
すという研究結果を得たのである。
【0009】本発明は、上述の研究結果に基づいてなさ
れたものであって、前記一般式(化1)で表される蒸気
圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化
合物に特徴を有するものである。
【0010】
【実施例】つぎに、本発明の有機銀化合物を実施例によ
り具体的に説明する。乾燥、窒素置換した三口フラスコ
にトリメチルシリルアセチレン26.0gと10%塩化
白金酸水溶液4mlを混合し50℃に加熱した。滴下ロ
ートよりジメチルクロロシラン25gをゆっくりと滴下
し、50℃にて加熱攪拌した。反応終了後、減圧蒸留に
より精製を行ない18.3gのtrans―1―(クロ
ロジメチルシリル)―2―(トリメチルシリル)―エテ
ンを得た(沸点56〜60℃/20torr)。この化
合物を60mlの無水ジエチルエーテルに溶解し、氷浴
中で1モル濃度のよう化メチルマグネシウムのエーテル
溶液102mlをゆっくりと滴下し、滴下終了後4時間
加熱攪拌した。再び氷浴中にて、100mlの飽和塩化
アンモニウム水溶液をゆっくりと添加した。水溶液層は
エーテルにより3回抽出し、有機層と抽出溶液を合わ
せ、溶媒を減圧下で留去した。残留する油状物を減圧蒸
留により精製し、10.4gのtrans―1,2―
(ビストリメチルシリル)―エテン(以下BTMSEと
略記)を合成した(沸点85〜90℃/100tor
r)。つづいて、酸化銀 12.8gに十分に窒素脱気
を行った乾燥塩化メチレン140mlを注ぎ、サスペン
ジョン溶液とした。上記のBTMSE10.4gを激し
く攪拌しながら添加し、更に、1,1,1,5,5,5
―ヘキサフルオロ―2,4―ペンタンジオン12.4g
(以下Hhfacと略記)を1滴づつシリンジにより滴
下した。反応系を2時間攪拌した後、窒素気流下でろ過
し、ろ液を35℃減圧下で留去し、白色粉末21.0を
得た。精製は、昇華により行ない(90℃/0.2to
rr)、白色の粉末である下記(化4)で示される本発
明有機銀化合物1
【0011】
【化4】
【0012】[trans―1,2―(ビストリメチル
シリル)―エテン](1,1,1,5,5,5―ヘキサ
フルオロ―2,4―ペンタンジオナト)銀(I)を1
2.5g得た。融点68〜70℃付近。得られた有機銀
化合物の同定は、NMRおよび元素分析により行なっ
た:1H―NMR(CDCl3);0.23(s,18
H),5.88(s,2H),6.17(s,1H)
【0013】また、上記のよう化メチルマグネシウムに
代わって臭化エチルマグネシウムのテトラヒドロフラン
溶液を用いて下記(化5)で示される本発明有機銀化合
物2
【0014】
【化5】
【0015】[trans―1―(トリメチルシリル)
―2―(ジメチルエチルシリル)―エテン](1,1,
1,5,5,5―ヘキサフルオロ―2,4―ペンタンジ
オナト)銀(I)を11.9g得た。更に、上記のジメ
チルクロロシランに代わってメチルクロロシランを用い
て下記(化6)で示される本発明有機銀化合物3
【0016】
【化6】
【0017】[trans―1―(トリメチルシリル)
―2―(ジメチルシリル)―エテン](1,1,1,
5,5,5―ヘキサフルオロ―2,4―ペンタンジオナ
ト)銀(I)を5.3g得た。また、比較の目的で上記
のBTMSEに代わって、1,5―CODおよびトリメ
チルホスフィンを用いる以外は同一の条件で、上記(化
2)および(化3)に示される従来有機銀化合物1およ
び2をそれぞれ合成した。
【0018】この結果得られた上記(化4)の本発明有
機銀化合物1および上記(化5)の従来有機銀化合物1
の気化特性を評価する目的で熱重量曲線(昇温速度10
℃/min,窒素雰囲気)をそれぞれ図2および図3に
示した。
【0019】ついで、本発明有機銀化合物および上記
(化2)、(化3)で表される従来有機銀化合物を用い
て、図1に示される熱CVD法にて、 基板:1インチ角のSi基板上にTiを1000Åスパッタ
法により蒸着した基板、 基板温度:300℃、 気化温度:70℃、 圧力:2torr、 キャリアガスの流量:100ccmのAr、 の条件で銀薄膜の作製を行ない、10分毎の膜厚を測定
した。膜厚は、膜の断面SEM像から測定した。この測
定結果を表1に示した。
【0020】
【表1】
【0021】
【発明の効果】図2、3に示される結果から、本発明有
機銀化合物は室温から約200℃までの温度で完全に気
化させることが可能であるが、一方、従来有機銀化合物
は気化終了の際、約30%程の残物が生成していること
から、本発明有機銀化合物が、気化の際の熱安定性に優
れることを示している。
【0022】また表1より、本発明有機銀化合物は、成
膜時間に対しほぼ一定の割合で膜厚が増加し、かつその
成膜速度も従来有機銀化合物に比して速いのに対し、従
来有機銀化合物の場合は、成膜時間において30分を越
えた頃から成膜量の減少傾向が顕著になることが明らか
である。また、上記実施例において、本発明有機銀化合
物を用いた場合は、図1に示される装置の気化容器内に
は分解銀の生成が見られず、従来有機銀化合物の場合に
は分解銀の生成が認められた。これより本発明有機銀化
合物は、気化容器内で分解することなしに成膜時間に対
し一定の速度で気化し、また従来有機銀化合物より気化
の際の熱安定性,揮発性に優れた有機銀化合物であるこ
とを示している。
【0023】上述のように本発明有機銀化合物は、安定
な気化速度を有し、かつ気化の際の熱安定性に優れてい
るので、MOCVD法による成膜原料として有用であ
り、半導体装置のコンタクトおよび配線材料等として有
用な銀薄膜の製造に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】熱CVD法を示す概略説明図である。
【図2】本発明有機銀化合物1の熱重量曲線である。
【図3】従来有機銀化合物1の熱重量曲線である。
【符号の説明】
1.蒸着原料 2.気化容器 3.加熱炉 4.キャリアガス 5.基板 6.ヒ−タ− 7.反応炉 8.真空ポンプ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年12月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0018
【補正方法】変更
【補正内容】
【0018】この結果得られた上記(化4)の本発明有
機銀化合物1および上記(化2)の従来有機銀化合物1
の気化特性を評価する目的で熱重量曲線(昇温速度10
℃/min,窒素雰囲気)をそれぞれ図2および図3に
示した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(化1) 【化1】 (ただし、上記式中R1からR6は、炭素数1から4の
    直鎖または分岐状のアルキル基および水素のうちの一種
    または二種以上から成る)で表される蒸気圧の高い有機
    金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物。
JP27922193A 1993-11-09 1993-11-09 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物 Expired - Fee Related JP2762905B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100446937B1 (ko) * 2001-10-22 2004-09-01 김형준 탄화규소 박막증착방법 및 장치

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