JPH07128168A - Diaphragm type pressure sensor - Google Patents
Diaphragm type pressure sensorInfo
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- JPH07128168A JPH07128168A JP29465493A JP29465493A JPH07128168A JP H07128168 A JPH07128168 A JP H07128168A JP 29465493 A JP29465493 A JP 29465493A JP 29465493 A JP29465493 A JP 29465493A JP H07128168 A JPH07128168 A JP H07128168A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ダイヤフラム型圧力セ
ンサに関し、特にダイヤフラムのたわみ誤差を解消し、
正確な圧力検出を可能にしたダイヤフラム型圧力センサ
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a diaphragm type pressure sensor, and more particularly to eliminating a deflection error of the diaphragm,
The present invention relates to a diaphragm-type pressure sensor that enables accurate pressure detection.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ダイヤフラム型圧力センサは、圧力をダ
イヤフラムにかけ、その圧力によって変形するダイヤフ
ラムの変形量を歪みゲージや静電容量の変化等を利用し
て検出し、圧力を計測するものである。現在では、シリ
コンの一部をエッチングの除去により薄くしてダイヤフ
ラムを形成し、基板上に設けられる微小な圧力センサが
クリーンルーム内の圧力監視や、ガスメータの圧力スイ
ッチ等として用いられている。2. Description of the Related Art A diaphragm type pressure sensor measures a pressure by applying a pressure to the diaphragm and detecting a deformation amount of the diaphragm which is deformed by the pressure using a strain gauge or a change in capacitance. At present, a minute pressure sensor provided on a substrate by thinning a part of silicon by etching to form a diaphragm is used as a pressure monitor in a clean room or as a pressure switch of a gas meter.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ダイヤ
フラム型圧力センサは圧力を受けるとダイヤフラムがほ
ぼ円弧状に変形するため、ダイヤフラムのたわみ量とダ
イヤフラムに実際にかかる圧力とは直線的な比例関係に
なく、低圧の領域と高圧の領域では変位量に対する圧力
換算値が異なっている。したがって、単純な比例式で圧
力を求めるものにあっては、測定範囲が限定されてしま
い、又、測定領域を広範囲に設定した場合には、低圧と
高圧の領域では少なくとも異なる換算値を用いる必要が
あった。この問題を解決するためダイヤフラムを平行移
動させる発明も提案されているが（特開平３−１５８７
３１号公報）、ダイヤフラムの周囲に溝を形成しなけれ
ばならず、製作が困難という問題を有している。However, when a diaphragm type pressure sensor receives a pressure, the diaphragm is deformed into an arc shape, and therefore the deflection amount of the diaphragm and the actual pressure applied to the diaphragm are not in a linear proportional relationship. The pressure conversion value for the displacement is different between the low pressure region and the high pressure region. Therefore, if the pressure is calculated by a simple proportional expression, the measurement range is limited, and if the measurement area is set to a wide range, it is necessary to use at least different conversion values for the low pressure and high pressure areas. was there. In order to solve this problem, an invention has been proposed in which the diaphragm is moved in parallel (Japanese Patent Laid-Open No. 3-1587).
31), it is necessary to form a groove around the diaphragm, and there is a problem that manufacturing is difficult.
【０００４】又、圧力の検出精度は、ダイヤフラムとダ
イヤフラムの変位を検出する検出装置との間隔が狭い
程、又ダイヤフラムの感度が高いほど、つまり肉厚を薄
くするとか材質を柔らかくするとかしたほうが高くで
き、精密な圧力検出が可能であるが、ダイヤフラムと検
出装置との間隔を狭くしたり、圧力に対して変動量を多
くすると少しの圧力変動でダイヤフラムと検出装置とが
接触するため、測定範囲が狭くなるという問題を有して
いた。The pressure detection accuracy should be such that the narrower the distance between the diaphragm and the detection device for detecting the displacement of the diaphragm, and the higher the sensitivity of the diaphragm, that is, the thinner the wall thickness or the softer the material. It can be made high and precise pressure detection is possible, but if the distance between the diaphragm and the detection device is narrowed or the fluctuation amount is increased with respect to the pressure, the diaphragm and the detection device will contact with a small pressure fluctuation, so the measurement There was a problem that the range was narrowed.
【０００５】更に、一時的でも限界強度を超える過大な
圧力が加えられると、ダイヤフラムが損傷し、又圧力が
加えられることによってダイヤフラムは常に変形するた
め、ダイヤフラムが永久変形を起こし、元の状態に復元
しなくなること等がある。Furthermore, if an excessive pressure exceeding the limit strength is applied even temporarily, the diaphragm is damaged, and the diaphragm is always deformed by the applied pressure, so that the diaphragm permanently deforms and returns to its original state. It may not be restored.
【０００６】本発明は、上記課題を解決し、測定領域全
域での測定誤差が小さく、かつ破損しにくく測定範囲の
広いダイヤフラム型圧力センサを提供することを目的と
する。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above problems and to provide a diaphragm type pressure sensor which has a small measurement error over the entire measurement region and is less likely to be damaged and has a wide measurement range.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、被測定圧力を受けるダイヤフラムと、前記被測定圧
力によって該ダイヤフラムの変位を検出する検出手段
と、該検出手段が検出した変位を相殺する力をダイヤフ
ラムに加える作動手段と、該ダイヤフラムに前記作動力
を生じさせる物理量を検出し、該物理量を前記被測定圧
力に演算する演算手段とを備えてダイヤフラム型圧力セ
ンサを構成したのである。In order to solve the above problems, a diaphragm that receives a pressure to be measured, a detection unit that detects the displacement of the diaphragm based on the pressure to be measured, and a displacement that the detection unit detects are offset. The diaphragm-type pressure sensor is constituted by an actuating means for applying a force to the diaphragm and an arithmetic means for detecting a physical quantity that causes the diaphragm to generate the actuating force and calculating the physical quantity as the measured pressure.
【０００８】[0008]
【作用】ダイヤフラムに被測定圧力が加えられてダイヤ
フラムが変形をし始めると、直ちに検出手段がその変位
の開始を検出し、作動手段に信号を送る。作動手段はそ
の信号に基づいて、ダイヤフラムの変位を相殺する作用
力をダイヤフラムに加える。したがって、被測定圧力が
ダイヤフラムに加えられてもダイヤフラムは作動手段か
らの作動力によって変形せず、かつ作動手段がダイヤフ
ラムに加えた作動力を電圧等の物理量から検出し、それ
を演算することによりダイヤフラムに加えられた被測定
圧力を求めることができる。When the pressure to be measured is applied to the diaphragm and the diaphragm begins to deform, the detecting means immediately detects the start of the displacement and sends a signal to the operating means. Based on the signal, the actuating means applies an acting force to the diaphragm to cancel the displacement of the diaphragm. Therefore, even if the measured pressure is applied to the diaphragm, the diaphragm is not deformed by the actuating force from the actuating means, and the actuating means detects the actuating force applied to the diaphragm from the physical quantity such as voltage and calculates it. The measured pressure applied to the diaphragm can be determined.
【０００９】[0009]
【実施例】本発明のダイヤフラム型圧力センサの一実施
例を図を用いて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the diaphragm type pressure sensor of the present invention will be described with reference to the drawings.
【００１０】図１に示すように、圧力センサ２は、歪み
ゲージ１２を有する受圧部材４がガラス基板６上に取り
付けてあり、受圧部材４の上方には測定しようとする圧
力をこの受圧部材４に導く圧力導入パイプ１６が設けら
れている。As shown in FIG. 1, in the pressure sensor 2, a pressure receiving member 4 having a strain gauge 12 is mounted on a glass substrate 6, and the pressure to be measured is above the pressure receiving member 4. There is provided a pressure introducing pipe 16 leading to the.
【００１１】次に、圧力センサ２を具体的に説明する。
ガラス基板６の上にはアルミニウム等の電極８が形成さ
れ、この電極８の表面に酸化シリコン等の絶縁体１０を
形成した上に受圧部材４が取り付けられている。受圧部
材４は、一辺が数十ミクロンから数ミリ程度で、シリコ
ン表面をエッチングによって一部円形に除去し、除去し
た除去部分を下にして取り付けられている。したがって
中心部は、薄膜状に形成され、被測定圧力を受けると変
形するダイヤフラム９となっている。尚、ダイヤフラム
９は円形でなく、四角形他の形状でもよい。電極８は、
少なくともこのダイヤフラム９の下側全面にわたって形
成されており、端部に接続したリード線７を通して電圧
が印加される。Next, the pressure sensor 2 will be specifically described.
An electrode 8 made of aluminum or the like is formed on the glass substrate 6, and an insulator 10 made of silicon oxide or the like is formed on the surface of the electrode 8 and the pressure receiving member 4 is attached. The pressure receiving member 4 has a side of several tens of microns to several millimeters, and is attached by removing the removed surface of the silicon surface in a circular shape by etching. Therefore, the central portion is a diaphragm 9 which is formed in a thin film shape and is deformed when receiving a measured pressure. The diaphragm 9 may have a rectangular shape or the like instead of the circular shape. The electrode 8 is
At least the entire lower surface of the diaphragm 9 is formed, and a voltage is applied through the lead wire 7 connected to the end.
【００１２】更に受圧部材４の上面には、絶縁体１０を
形成し、ダイヤフラム９には歪みゲージ１２を４か所貼
り付けてある。歪みゲージ１２は、ダイヤフラム９の中
心付近に２か所、周縁に２か所それらが結ぶ線が互いに
中心で直交するように取り付けてあり、ダイヤフラム９
が変形すると中心付近の歪みゲージ１２と周縁にとりつ
けられた歪みゲージ１２の間で抵抗値が逆の変化をする
ようになっている。Further, an insulator 10 is formed on the upper surface of the pressure receiving member 4, and strain gauges 12 are attached to the diaphragm 9 at four places. The strain gauges 12 are attached at two locations near the center of the diaphragm 9 and at two locations on the peripheral edge so that the lines connecting them are orthogonal to each other at the center.
When is deformed, the resistance value between the strain gauge 12 near the center and the strain gauge 12 attached to the peripheral edge changes in the opposite direction.
【００１３】歪みゲージ１２にはプリントの配線１３が
接続してあり、その配線１３を介して作動手段（後述す
る）に接続している。プリント配線１３の上には絶縁体
１５を取り付けた後ガラスカバー１４が取り付けてあ
り、ガラスカバー１４に形成した導気孔２０を通して受
圧部材４の上面と圧力導入パイプ１６とを連通させてい
る。尚、ガラス基板６にも導気孔２０が形成してあり、
ダイヤフラム９の下面側の圧力が開放されるようになっ
ている。A printed wiring 13 is connected to the strain gauge 12, and is connected to an operating means (described later) via the wiring 13. A glass cover 14 is attached after the insulator 15 is attached on the printed wiring 13, and the upper surface of the pressure receiving member 4 and the pressure introducing pipe 16 are communicated with each other through an air guide hole 20 formed in the glass cover 14. It should be noted that the glass substrate 6 also has air holes 20 formed therein,
The pressure on the lower surface side of the diaphragm 9 is released.
【００１４】図２に、圧力センサ２の電気回路を示す。
Ｇ１〜Ｇ４は歪みゲージ１２であり、図に示すように結
線されて検出手段が構成されている。この検出手段は、
増幅回路からなる作動手段に接続しており、作動手段は
ダイヤフラム９の変位を相殺する電圧をコンデンサＣｓ
にかけるように構成されている。コンデンサＣｓは、電
極８とダイヤフラム９で構成されたコンデンサで、電極
８に電圧をかけるとそれによる静電気力で、ダイヤフラ
ム９との間で反発力が生じ、ダイヤフラム９が上方に向
けて力を受けるようになっている。又作動手段の出力端
には更に演算手段が接続されており、演算手段は、コン
デンサＣｓにかけられた電圧からダイヤフラム９に加え
られた圧力を演算する。FIG. 2 shows an electric circuit of the pressure sensor 2.
G1 to G4 are strain gauges 12, which are connected as shown in FIG. This detection means
It is connected to an operating means consisting of an amplifier circuit, and the operating means applies a voltage for canceling the displacement of the diaphragm 9 to the capacitor Cs.
It is configured to call. The capacitor Cs is a capacitor composed of the electrode 8 and the diaphragm 9, and when a voltage is applied to the electrode 8, a repulsive force is generated between the capacitor Cs and the diaphragm 9, and the diaphragm 9 receives a force upward. It is like this. Further, a calculating means is further connected to the output end of the actuating means, and the calculating means calculates the pressure applied to the diaphragm 9 from the voltage applied to the capacitor Cs.
【００１５】次に、圧力センサ２の作動について説明す
る。図３に示すように、受圧部材４に導気孔２０を通し
て圧力Ｐが掛けられダイヤフラム９にたわみが生じ始め
ると、歪みゲージ１２の抵抗値が変化し、それによって
検出手段がそのたわみを検出して作動手段に信号を発す
る。送られてきた信号（電圧）は、作動手段でダイヤフ
ラム９の変位を相殺する電圧に増幅され、電極８に印加
される。これにより、ダイヤフラム９に静電気力が発生
し、圧力Ｐに対向する力Ｆがダイヤフラム９に生じる。
作動手段からの電圧印加は、ダイヤフラム９にたわみが
生じなくなるまで行なわれ、復元した状態、すなわち歪
みゲージ１２の歪みが解消された時点で保持される。Next, the operation of the pressure sensor 2 will be described. As shown in FIG. 3, when the pressure P is applied to the pressure receiving member 4 through the air guide hole 20 and the diaphragm 9 starts to bend, the resistance value of the strain gauge 12 changes, and the detecting means detects the bend. Send a signal to the actuation means. The sent signal (voltage) is amplified by the actuating means to a voltage that cancels the displacement of the diaphragm 9 and applied to the electrode 8. As a result, an electrostatic force is generated in the diaphragm 9, and a force F opposing the pressure P is generated in the diaphragm 9.
The voltage is applied from the actuating means until the diaphragm 9 does not bend, and is maintained in the restored state, that is, when the strain of the strain gauge 12 is eliminated.
【００１６】一方演算手段は、かかる平衡状態での電極
８にかかる電圧Ｖout を検出し、それに基づいて力Ｆ、
すなわち圧力Ｐを演算する。On the other hand, the calculation means detects the voltage Vout applied to the electrode 8 in the equilibrium state, and based on this, the force F,
That is, the pressure P is calculated.
【００１７】したがって、電極８に加えられた電圧Ｖou
t を検出し、この電圧Ｖout を所定の演算式で演算する
ことにより、ダイヤフラム９が平衡状態に保持された状
態のまま圧力Ｐを検出することができる。それゆえ、ダ
イヤフラム９にかけられた圧力Ｐを、ダイヤフラム９の
たわみ量と圧力の関係が直線的でなくとも、正確に検出
することが可能となり、またかけられた圧力を相殺する
力Ｆが加えられるので過大な圧力によって破損すること
がなく、更に、永久変形等による誤差が生じない。Therefore, the voltage Vou applied to the electrode 8
By detecting t and calculating this voltage Vout by a predetermined arithmetic expression, the pressure P can be detected while the diaphragm 9 is held in the equilibrium state. Therefore, the pressure P applied to the diaphragm 9 can be accurately detected even if the relationship between the amount of deflection of the diaphragm 9 and the pressure is not linear, and a force F that cancels the applied pressure is applied. Therefore, it will not be damaged by excessive pressure, and further, errors due to permanent deformation will not occur.
【００１８】次に、他の実施例について説明する。ダイ
ヤフラム９を平衡状態に保持する手段として、前述した
静電気力の他、磁気力や膨張圧力等を用いる方法もあ
る。Next, another embodiment will be described. As a means for holding the diaphragm 9 in an equilibrium state, there is also a method of using magnetic force, expansion pressure or the like in addition to the electrostatic force described above.
【００１９】磁気力を用いた例としては、ダイヤフラム
９の表面にアルミニウム等の金属箔をコイル状に形成し
て電磁石を形成し、又基板側にもダイヤフラム９に対向
させて電磁石を配置させ、それぞれの電磁石にダイヤフ
ラム９が平衡状態を保つように電流を流し、ダイヤフラ
ム９が平衡状態を保った状態での圧力を、電磁石に流し
た電流量で検出するようにしたものである。このように
しても、ダイヤフラム９を平衡状態に保持したまま、圧
力を検出することができ、しかも、電磁石に流す電流の
方向によって、ダイヤフラム９との間で吸引力も形成で
きるので、圧力が減少した場合にも対応できる。As an example using the magnetic force, a metal foil such as aluminum is formed in a coil shape on the surface of the diaphragm 9 to form an electromagnet, and the electromagnet is arranged on the substrate side so as to face the diaphragm 9. A current is applied to each electromagnet so that the diaphragm 9 maintains an equilibrium state, and the pressure when the diaphragm 9 is in an equilibrium state is detected by the amount of current passed through the electromagnet. Even in this case, the pressure can be detected while the diaphragm 9 is held in the equilibrium state, and the attraction force can be formed between the diaphragm 9 and the diaphragm 9 depending on the direction of the current flowing through the electromagnet, so that the pressure is reduced. It can also be applied.
【００２０】又、ダイヤフラム９に金属箔でコイルを形
成する代わりに磁性体の薄膜をダイヤフラム９に形成
し、これを基板側の電磁石で吸引するようにしてもよ
い。Further, instead of forming a coil with a metal foil on the diaphragm 9, a thin film of a magnetic material may be formed on the diaphragm 9 and this may be attracted by an electromagnet on the substrate side.
【００２１】膨張圧力を用いたものとしては、ダイヤフ
ラム９と基板との間を気密状態に保ち、その空間内に空
間の気体を過熱させる過熱手段を設置する。そして圧力
が加えられてダイヤフラム９が変位したなら、その変位
を検出して、ダイヤフラム９が平衡に保たれるように過
熱手段を過熱させる。それにより、ダイヤフラム９によ
って区画された空間内の気体が膨張して内圧が高まり、
ダイヤフラム９が平板状態に保持され、過熱手段に加え
た熱量を検出することにより加えられた圧力を求めるこ
とができる。When the expansion pressure is used, a space between the diaphragm 9 and the substrate is kept airtight, and a heating means for heating the gas in the space is installed in the space. When pressure is applied and the diaphragm 9 is displaced, the displacement is detected, and the overheating means is overheated so that the diaphragm 9 is kept in equilibrium. As a result, the gas in the space partitioned by the diaphragm 9 expands and the internal pressure increases,
The diaphragm 9 is held in a flat plate state, and the applied pressure can be obtained by detecting the amount of heat applied to the overheating means.
【００２２】尚、受圧部材４は、多結晶シリコンの他、
金属薄膜、金属薄膜を表面に積層した高分子膜等でもよ
く、ガラス基板６は、パイレックスガラス等のガラスの
他、シリコン、水晶、アルミナ等でもよく、電極８とし
ては、アルミニウムの他、金、白金等の金属、多結晶シ
リコン、不純物が拡散された半導体でもよい、更に絶縁
体は、酸化シリコン、窒化シリコンもよい。又、圧力セ
ンサ２の使用例として、気圧計、気圧測定式高度計、常
圧ＣＶＤ装置の圧力計、カテーテル先端の接触センサ等
が考えられる。The pressure receiving member 4 is made of polycrystalline silicon,
A metal thin film, a polymer film having a metal thin film laminated on the surface, or the like may be used. The glass substrate 6 may be glass such as Pyrex glass, silicon, crystal, alumina, or the like, and the electrode 8 may be aluminum, gold, or the like. A metal such as platinum, polycrystalline silicon, a semiconductor in which impurities are diffused may be used, and the insulator may be silicon oxide or silicon nitride. Further, as a usage example of the pressure sensor 2, a barometer, a barometric pressure altimeter, a pressure gauge of an atmospheric pressure CVD device, a contact sensor at the tip of a catheter, and the like can be considered.
【００２３】[0023]
【発明の効果】本発明のダイヤフラム型圧力センサによ
れば、ダイヤフラムの変位を検出してその変位を相殺す
るように作動手段からダイヤフラムに力を加え、その力
を生じさせる物理量を圧力に演算するようにしたので、
圧力が加えられたときでもダイヤフラムは変形すること
なくその圧力を検出でき、ダイヤフラムのたわみと圧力
との関係にかかわらず正確な圧力を検出できる。又、ダ
イヤフラムが変形しないので損傷や永久変形等を発生さ
せることがなく長期間高い精度を保持できる。更に、ダ
イヤフラムにたわみ量が必要ないため、ダイヤフラムの
変位範囲が小さくてすみ、可動部を薄くして、感度のよ
いセンサとすることができる。According to the diaphragm type pressure sensor of the present invention, the displacement of the diaphragm is detected and a force is applied to the diaphragm from the actuating means so as to cancel the displacement, and the physical quantity for generating the force is calculated as the pressure. I did so,
Even when a pressure is applied, the diaphragm can detect the pressure without being deformed, and an accurate pressure can be detected regardless of the relationship between the deflection of the diaphragm and the pressure. Further, since the diaphragm is not deformed, it is possible to maintain high accuracy for a long time without causing damage or permanent deformation. Furthermore, since the diaphragm does not require a deflection amount, the displacement range of the diaphragm can be small, and the movable portion can be thinned to provide a sensor with high sensitivity.
【図１】本発明にかかるダイヤフラム型圧力センサの一
実施例を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a diaphragm type pressure sensor according to the present invention.
【図２】図１のダイヤフラム型圧力センサの電気回路の
一例を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of an electric circuit of the diaphragm pressure sensor of FIG.
【図３】図１のダイヤフラム型圧力センサを示す部分断
面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing the diaphragm type pressure sensor of FIG.
２ 圧力センサ ４ 受圧部材 ６ ガラス基板 ７ リード線 ８ 電極 ９ ダイヤフラム １０，１５ 絶縁体 １２ 歪みゲージ １３ 配線 １４ ガラスカバー １６ 圧力導入パイプ ２０ 導気孔 2 Pressure sensor 4 Pressure receiving member 6 Glass substrate 7 Lead wire 8 Electrode 9 Diaphragm 10, 15 Insulator 12 Strain gauge 13 Wiring 14 Glass cover 16 Pressure introduction pipe 20 Air introducing hole
Claims (2)
記被測定圧力によって該ダイヤフラムの変位を検出する
検出手段と、該検出手段が検出した変位を相殺する作動
力をダイヤフラムに加える作動手段と、該ダイヤフラム
に前記作動力を生じさせる物理量を検出し、該物理量を
前記被測定圧力に演算する演算手段とを備えたことを特
徴とするダイヤフラム型圧力センサ。1. A diaphragm for receiving a pressure to be measured, a detecting means for detecting a displacement of the diaphragm by the pressure to be measured, an operating means for applying an operating force for canceling the displacement detected by the detecting means to the diaphragm, A diaphragm-type pressure sensor, comprising: a calculating unit that detects a physical quantity that causes the diaphragm to generate the operating force, and calculates the physical quantity as the measured pressure.
ヤフラムに対向して設けた電極間に印加する電圧であ
り、該電圧によって該ダイヤフラムに作動力としての静
電気力を生じさせることを特徴とする請求項１に記載の
ダイヤフラム型圧力センサ。2. The physical quantity is a voltage applied between the diaphragm and an electrode provided facing the diaphragm, and the voltage causes an electrostatic force as an actuating force to be generated in the diaphragm. The diaphragm type pressure sensor according to 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29465493A JPH07128168A (en) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | Diaphragm type pressure sensor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29465493A JPH07128168A (en) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | Diaphragm type pressure sensor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07128168A true JPH07128168A (en) | 1995-05-19 |
Family
ID=17810569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29465493A Withdrawn JPH07128168A (en) | 1993-10-29 | 1993-10-29 | Diaphragm type pressure sensor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07128168A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008536110A (en) * | 2005-03-23 | 2008-09-04 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | Polymer pressure sensor with piezoresistive region by injection |
-
1993
- 1993-10-29 JP JP29465493A patent/JPH07128168A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008536110A (en) * | 2005-03-23 | 2008-09-04 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | Polymer pressure sensor with piezoresistive region by injection |
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Legal Events
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