JPH07120219A - 測定方法及びそれを用いた測定装置 - Google Patents
測定方法及びそれを用いた測定装置Info
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- JPH07120219A JPH07120219A JP5290026A JP29002693A JPH07120219A JP H07120219 A JPH07120219 A JP H07120219A JP 5290026 A JP5290026 A JP 5290026A JP 29002693 A JP29002693 A JP 29002693A JP H07120219 A JPH07120219 A JP H07120219A
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Abstract
可能範囲で高精度な測定を可能にすると同時に、測定対
象となる回折格子と検出光学系の相対位置合わせを高精
度、且つ高スル−プットで行うことのできる測定方法及
びそれを用いた測定装置を得ること。 【構成】 光ヘテロダイン干渉測定において、測定対象
となる回折格子対の相対位置ずれ量を、光ヘテロダイン
干渉測定を用いる第1の測定手段と、該光ヘテロダイン
干渉測定手段の測定可能範囲より広い測定範囲を持つ画
像処理測定手段等の第2の測定手段を設け、該2つの測
定手段の測定値を組み合わせることにより、広い測定範
囲で高スル−プット、高精度な測定を行うことを可能と
し、また、前記画像処理測定手段を用いて、回折格子対
と光学系のアライメントを高精度に行うこと。
Description
利用した光測定方法及びそれを用いた測定装置に関する
ものであり、特に回折格子を用いた計測を行う、例えば
半導体素子製造用の露光装置によりマスクやレチクル等
の第1物体上に形成されている微細な電子回路パターン
をウエハ等の第2物体面上に露光転写する際のオートア
ライメント方法及びその測定装置、あるいはマスク、レ
チクル上のパターンをウエハ上に焼き付けた時ウエハ上
に形成されるパターンの重ね合わせ精度を測定する際に
好適なものである。
合わせ精度は年々高精度化に対する要求が高まってい
る。位置合わせの基本をなすのは位置測定技術である
が、最近では高い分解能とS/N比を持つ光ヘテロダイ
ン干渉法の応用が注目されている。
された、直線回折格子を位置合わせマークに用いる光ヘ
テロダイン干渉法による位置合わせ装置の概略図であ
る。
るゼーマンレーザ101から発した光102は、回折格
子103に入射して透過回折光105,106,107
となり、ミラー104で偏向されて照明光学系108に
入射する。照明光学系108は0次回折光106をカッ
トし、更に他の2つの回折光のうち一方の偏光方向を1/
2波長板を使って90°回転させる。
108のNAで規定される範囲内の角度で、マスク11
2上の回折格子111、ウエハ113上の回折格子11
8を照射する。回折格子111,118から得られる反
射回折光115,116は偏光ビームスプリッタ123
(PBS123)により偏光方向の違いに従って2つの
方向に分離される。
113上の回折格子118からの反射回折光はナイフエ
ッジ121によりカットされ、その結果、光検出手段1
20にはマスク112上の回折格子111からの反射回
折光だけが入射する。
112上の回折格子111からの反射回折光がナイフエ
ッジ122によりカットされ、光検出手段124にはウ
エハ113上の回折格子118からの反射回折光だけが
入射する。光検出手段120,124で受光された光は
光電変換されてビート信号となり、位相差計125で位
相差が求められて、マスク112とウエハ113の相対
位置ずれ量が検出される。ここで光検出手段120から
得られるビート信号をI1',124から得られる信号を
I2'であらわすと I1'=A1'+B1' cos{ 2 π (ω2 −ω1)t + 2 φm } ・・・・(1 ) I2'=A2'+B2' cos{ 2 π (ω2 −ω1)t + 2 φw } ・・・・(2) となる。
1から得られるビート信号、(2)式はウエハ113上
の回折格子118から得られるビート信号を表す式であ
る。
2'は振幅、 ω1 , ω2 はゼーマンレーザ101から発
せられる偏光面が互いに直交する2つの光の角振動数で
ある。
1の基準位置からのずれ量Δxmに相当する位相量、φw
はウエハ113上の回折格子118の基準位置からのず
れ量Δxwに相当する位相量である。p を回折格子11
1,118共通のピッチとすると、両者は φm = 2πΔxm/ p ・・・・・・(3) φw = 2πΔxw/ p ・・・・・・(4) と表される。
ト信号を位相差計125に入力し、2つのビート信号の
位相差Δφとすると、マスクとウエハの相対位置ずれ量
は Δxm−Δxw= pΔφ/4π ・・・・・・(5) として求めることができる。2つのビート信号の位相差
Δφが 0になるように、マスクステージ119、ウエハ
ステージ114を、マスクステージ駆動回路126、ウ
エハステージ駆動回路127により制御し、マスク11
2とウエハ113の相対位置合わせを行っている。
従来の露光装置では光ヘテロダイン干渉測定の測定可能
範囲が、回折格子のピッチにより制限されてしまうた
め、マスクとウエハの相対関係が測定可能範囲に入るよ
うに予めプリアライメントしておく必要がある。このた
め別途プリアライメント検出手段が必要となって露光装
置が複雑化すると共に、該プリアライメント動作のため
スループットが低下する。
内のナイフエッジに対し相対的に位置ずれすると、測定
精度に影響が出る等の問題点があった。
れたもので、広い測定範囲を有し、且つ高精度な測定が
可能であると同時に、測定時の回折格子と検出光学系の
相対位置合わせを高精度に行える測定方法及びそれを用
いた測定装置を提案するものである。
ロダイン干渉を用いて測定を行う第1の測定手段に加え
て、第1の測定手段より測定範囲が広い第2の測定手段
を設け、該第2の測定手段より得られる測定値と、第1
の測定手段から得られる測定値とを結合し、広いレンジ
を高精度に測定することを可能としたものである。
用いて、光ヘテロダイン干渉測定時、回折格子と光ヘテ
ロダイン干渉測定内の受光系の光学素子との相対位置合
わせ機能を持たせたものである。
イン干渉を用いた検出でのマスクとウエハの相対位置ず
れ量は、Δxm−Δxw= pΔφ/4πで示される(5)式の
Δφ、即ちマスク及びウエハ上の回折格子から得られる
2つのビート信号の位相差として求められる。
明図である。図12において129はマスク上の回折格
子から得られるビート信号で、ウエハ上の回折格子から
得られるビート信号128、130の参照信号となる。
を方向を含めて測定しようとすると、ウエハ上の回折格
子から得られるビート信号の位相ずれΔφは、参照信号
であるビート信号129に対して|Δφ|<πの条件を
満たすことが必要とされる。
ずれた信号128と+π位相のずれた信号130の間の
範囲になければならない。この場合、測定可能なマスク
とウエハの相対位置ずれ量の範囲は (5)式より |Δxm−Δxw|< p/4 ・・・・・・(6) となる。例えば p= 6μm とすると、測定範囲は|Δxm
−Δxw|< 1.5μm である。
ハの相対位置ずれ量が p/4以上生じていると、測定は可
能であるものの、得られる結果にはピッチの1/2の整
数倍がバイアス分の誤差として残り、正しい測定を行う
ことができなくなる。
くとも光ヘテロダイン干渉測定より広い測定可能範囲を
持つ第2の測定手段を設けることを特徴としている。該
第2の測定手段は先ずマスクとウエハの p/4以上の相対
位置ずれを p/2の分解能で測定し、この測定値をx1とす
る。x1の最小分解能は p/2である。この第1の測定で次
の精密測定の行われる範囲が規定される。
測定を用いて第2の測定が行われ、その測定値をx2とす
る。2つの測定値を足し合わせれば、広いレンジの高精
度測定を行うことができる。
π]の間でモジュラスを持つ。従って、第1の測定は位
相計測を行う範囲を指定するものなので分解能は p/2で
よい。マスクとウエハの相対位置ずれ量 xは x = x1 +x2 ・・・・・・(7) として求めることができる。
定時、光学系に対し測定を行う回折格子が正しくセット
されたかどうかの位置関係の確認と整合動作を、撮像装
置に取り込んだ回折格子像の強度分布、或は回折格子像
の頂点の座標から行うことができる。従って回折格子と
その回折格子からの回折光の受光光学系との相対位置合
わせを行うことができ、例えば前記画像処理測定の測定
手段を用いれば p/2の分解能で位置合わせを行うことが
できる。この精度は精密測定を行う上で十分なものであ
る。
である。
設けられた回折格子の相対ずれ量を、画像処理測定と光
ヘテロダイン干渉測定を組み合わせて用いて、広範囲、
且つ高精度に検出し、マスクとウエハの相対位置合わせ
を行っている。
テロダイン干渉を用いた検出でのマスクとウエハの相対
位置ずれ量は、Δxm−Δxw= pΔφ/4πで示さ
れる(5)式のΔφ、即ちマスク及びウエハ上の回折格
子から得られる2つのビート信号の位相差として求めら
れる。
明図である。図12において129はマスク上の回折格
子から得られるビート信号で、ウエハ上の回折格子から
得られるビート信号128、130の参照信号となる。
を方向を含めて測定しようとすると、ウエハ上の回折格
子から得られるビート信号の位相ずれΔφは、参照信号
であるビート信号129に対して|Δφ|<πの条件を
満たすことが必要とされる。
ずれた信号128と+π位相のずれた信号130の間の
範囲になければならない。この場合、測定可能なマスク
とウエハの相対位置ずれ量の範囲は (5)式より |Δxm−Δxw|< p/4 ・・・・・・・・(8) となる。例えば p= 6μm とすると、測定範囲は
|Δxm−Δxw|<1.5μm である。
ハの相対位置ずれ量が p/4以上生じていると、測定
は可能であるものの、得られる結果にはピッチの1/2
の整数倍がバイアス分の誤差として残り、正しい測定を
行うことができなくなる。
くとも光ヘテロダイン干渉測定より広い測定可能範囲を
持つ第2の測定手段を設けることを特徴としている。該
第2の測定手段は先ずマスクとウエハの p/4以上の
相対位置ずれを p/2の分解能で測定し、この測定値
をx1とする。x1の最小分解能は p/2である。こ
の第1の測定で次の精密測定の行われる範囲が規定され
る。
測定を用いて第2の測定が行われ、その測定値をx2と
する。2つの測定値を足し合わせれば、広いレンジの高
精度測定を行うことができる。
π]の間でモジュラスを持つ。従って、第1の測定は位
相計測を行う範囲を指定するものなので分解能は p/
2でよい。マスクとウエハの相対位置ずれ量 xは x = x1 +x2 ・・・・・・・・(9) として求めることができる。
定時、光学系に対し測定を行う回折格子が正しくセット
されたかどうかの位置関係の確認と整合動作を、撮像装
置に取り込んだ回折格子像の強度分布、或は回折格子像
の頂点の座標から行うことができる。従って回折格子と
その回折格子からの回折光の受光光学系との相対位置合
わせを行うことができ、例えば前記画像処理測定の測定
手段を用いれば p/2の分解能で位置合わせを行うこ
とができる。この精度は精密測定を行う上で十分なもの
である。
を用いて説明する。
同じ光軸上にあって偏光面が互いに直交し、わずかに周
波数が異なる2つの光25,26が発せられる。ここで
光25は p偏光の光、光26は s偏光の光とする。光2
5の複素振幅をE1 、 光26の複素振幅をE2 とする
と、複素振幅E1 ,E2 は次の式で表される。
2つの光25,26はミラー2により偏向され、レンズ
3を通過して、偏光ビームスプリッタ4(以下PBS
4)に入射する。PBS4に入射した2つの光はビーム
スプリット面で偏光方向の違いにより、2つの方向に分
割される。PBS4のビームスプリット面を透過した p
偏光の光25はミラー5で偏向され、マスク7上の回折
格子9、ウエハ8上の回折格子10を照射する。
射した s偏光の光26はミラー6で偏向され、同様にマ
スク7上の回折格子9、ウエハ8上の回折格子10を照
射する。
10の相対位置ずれ量が図13のように p/4以上ずれて
いる場合を考える。
9,10で反射回折され、光25については−1次の回
折光28,29、光26については+1次の回折光3
0,31が図1のミラー11以下の検出系に入射する。
これらの回折光のうち、回折光28,30はマスク上の
回折格子9から得られる光、回折光29,30はマスク
及びウエハ上の回折格子10から得られる光である。4
つの回折光28,29,30,31の複素振幅を式で表
すと以下のようになる。
折光30、E6 は回折光31に対応する。また A1 ,A
2 ,B1 ,B2 は各回折光の振幅、φa ,φb は回折格子
9,10の基準位置からのずれ量 xa , xbに相当する位
相量で、 φa = 2π・xa/ p ・・・・・・(16) φb = 2π・xb/ p ・・・・・・(17) である。
1により偏向され、レンズ12を通過して偏光板27で
偏光面が揃えられた後、ビームスプリッタ13(以下B
S13)により2方向に分割される。BS13のビーム
スプリット面を反射した光は、レンズ14を通過して撮
像装置15に入射する。
りリレーされた回折格子9,10の像32,33が結像
される。像32,33の全体像はCRT16で図3のよ
うに観察することができる。撮像装置15からの信号
は、画像処理器17にも導かれ、図3のように回折格子
の像32,33のそれぞれの中心線L1, L2 近傍の
位置での強度が測定される。測定する方向は位置ずれ量
を測定するのと同じ方向、即ち図2,図3でいうと x方
向である。
布34及び中心線L2 の位置で測定した強度分布35で
ある。2つの強度分布の凸の部分の中心位置を求め、そ
の2つの中心位置の相対ずれ量を演算器24により求め
るのが第1の測定となる。この測定は、回折格子9,1
0が図13のように後述する光ヘテロダイン干渉測定の
測定範囲以上にずれても測定することができる。
とすると、後述する光ヘテロダイン干渉計測の測定範囲
は± 1.5μm (±1/4 ピッチ)以内である。
チ)の分解能で測定すれば良く、この精度で測定するこ
とは図1の配置で十分可能である。
ダイン干渉計測の検出部と光学系を一部共有しているた
め、従来これとは全く別個に設けられていたプリアライ
メント系を、はるかに簡素で安価に構成することができ
る。
定値を x1 とおくと、2つの回折格子のずれ量と測定値
x1 との関係は図5のようになる。第1の測定値x1は回
折格子のピッチを pとしたとき、 0を基準として p/2ピ
ッチの離散的な値を取り、光ヘテロダイン干渉測定の測
定範囲を特定する役割を持つ。
リット面を通過した回折光28,29,30,31は、
精密測定である光ヘテロダイン干渉測定光学系に入る。
回折光はレンズ12に関して回折格子9,10と共役位
置に設置したエッジミラー18により、回折格子9から
の回折光28,30と、回折格子10からの回折光2
9,31に分離される。
空間的に分離されている様子を示すものである。
調整しておけば、回折格子9と10から生じた回折光を
容易に分離できる。エッジミラー18を透過した回折光
28,30はレンズ19により光検出器20に結像さ
れ、光電変換される。
光29、31はレンズ21により光検出器22に結像さ
れ、光電変換される。光検出器20から得られるビート
信号I1 及び光検出器22から得られるビート信号I2
を式で表すと I1 = A1 2+ B1 2+2A1B1cos{2π( ω2 −ω1)t + 2φa} ・・・・(18) I2 = A2 2+ B2 2+2A2B2cos{2π( ω2 −ω1)t + 2φb} ・・・・(19) となる。
B1 , 2A2B2 は振幅である。ビート信号I1 , I2の位
相差Δφを位相差検出器23により求めると Δφ= 2 (φa −φb) ・・・・・・(20) となり、Δφより回折格子9,10の光ヘテロダイン検
出手段による相対位置ずれ量 x2 は、 x2= xb −xa= pΔφ/4π ・・・・・・(21) として求めることができる。
3の測定範囲は測定方向も考慮に入れると|Δφ|<π
である。従って(21)式より、x2の測定範囲は、 | x2 | < p/4 ・・・・・・(22) となり、 p=6 μm とすると| x2 | <1.5 μm であ
る。
で、位相差検出器23の位相差分解能をλ/1000 とする
と、3nm の測定分解能を有する測定を行うことができ
る。回折格子のずれ量と測定値 x2 との関係を示したの
が図6である。
ダイン干渉測定手段より得られた測定値 x2 と、少なく
とも光ヘテロダイン干渉測定手段より広い測定範囲を持
つ画像処理測定手段より得られた離散的値を持つ測定値
x1 を、 x = x1 +x2 ・・・・・・(23) として演算器24で足し合わせれば、図13に示した回
折格子9、10の相対位置ずれ量 xを求めることができ
る。
測定することのできない測定範囲を、広い測定範囲を有
する別の測定手段と併用することにある。従って該別の
測定手段で第1の測定を行って先ず光ヘテロダイン干渉
測定を行う領域を特定し、その後、高精度な光ヘテロダ
イン干渉測定による第2の測定値と組み合わせれば、広
い範囲を高精度に測定することができる。
予め実際に光ヘテロダイン干渉測定の測定範囲内にまで
追い込む測定及びシーケンスを必要としないため、プリ
アライメント装置が不要となり、スループットが向上す
る。よって、この測定値 xを用いて、 x が0 となるよう
にマスクとウエハのアクチュエータ36,37にフィー
ドバックをかければ、マスクとウエハの相対位置合わせ
を高精度に行うことができる。
も適用することができる。その場合はマスク上の1つの
回折格子について前記の測定を行えばよい。
図である。本実施例ではウエハ上に焼き付けられた隣接
する2つの回折格子の相対位置ずれ量を検出し、マスク
とウエハの位置合わせ露光装置の性能を評価する重ね合
わせ誤差測定装置に関するものである。
の回折格子9,10が配置されている。このうち回折格
子9は第1回目の露光で、10は第2回目の露光でウエ
ハ上に形成された回折格子である。両者のずれが第1回
目と第2回目の露光時のパターンの位置ずれを示してい
る。この回折格子の対はウエハ上に多数形成されてお
り、ウエハを載置しているウエハステージを動かして測
定位置に持っていくことで全体の測定が行われる。
ついては同一の番号をつけて示してある。ゼーマンレー
ザ1からは、同じ光軸上にあって、偏光面が互いに直交
し、僅かに周波数が異なる2つの光25,26が発せら
れる。これらの光を実施例1と同様の構成でウエハ上の
回折格子9,10に照射し、得られる回折光をもとに、
画像処理測定手段と光ヘテロダイン干渉測定手段を組み
合わせて、回折格子9と10の相対的位置ずれ量を広い
測定範囲で、しかも高精度で測定を行っている。
の要部概略図である。本実施例では実施例1,2で用い
た画像処理測定手段により、回折格子とエッジミラーの
相対位置合わせを行うものである。
は同一の番号をつけて示してある。図7でもウエハ8上
の回折格子9からの回折光と回折格子10からの回折光
の分離は、レンズ12に関して回折格子9,10と共役
位置に設置されたエッジミラー18を用いて行われる。
ウエハ上の回折格子9,10はレンズ12によりエッジ
ミラー18の位置に図9のように像32,33として結
像し、像32,33とエッジミラー18のエッジ位置が
不図示のモニタ系により同時に観察される。
エッジを合致させるようにウエハを動かして行われる。
所定の測定位置に位置決めされた回折格子9,10の像
は図7の撮像装置15により取り込まれ、CRT16に
表示される。
子像である。画像処理機17は回折格子の像をもとに、
2つの回折格子像32,33のほぼ中心で y方向に伸び
るL4 のライン位置で強度分布を測定する。
る。強度分布38の2つの凸部分の中心線L5 ,L6 か
ら等距離にある線L7 の y座標値を前記実施例1で示し
た方法等により求め、基準 y座標として保存する。これ
が予め調整したエッジミラー18のエッジの位置とな
る。
ではウエハ8上に多くの回折格子対9,10が配置され
ている。ウエハ8上の他の部分に配置された回折格子対
の測定位置への移動は、予め既知である各回折格子対の
アドレス値をもとにウエハ移動機構を制御する。
CRT16,画像処理機17からなる測定手段で各回折
格子対の中心線の y座標を測定し、基準 y座標と比較す
れば、常に回折格子対とエッジミラー18のエッジ位置
の相対位置を把握できる。
子対の中心線の y座標が基準 y座標に対し許容値内に入
らないときは、適宜、回折格子を最適測定位置に移動さ
せる。
ずれ量が従来より許容されるため、本実施例のようなチ
ェックは効果が大きい。また、ウエハを交換した時の、
ウエハ上の回折格子対とエッジミラー18との初期相対
位置合わせも同様にして行える。
不完全だと、片一方の回折格子の回折光がもう一方の回
折格子の検出系に混入してクロストークを起こし、測定
精度悪化の原因となる。
例1等で既に存在している画像処理機能に単にソフトを
追加するだけで簡単に実施が可能で、また測定の安定性
への寄与も大きい。
対の相対位置ずれ量を、光ヘテロダイン干渉測定を行う
第1の測定手段と、該光ヘテロダイン干渉測定手段の測
定可能範囲より広い測定範囲を持つ画像処理測定手段等
の第2の測定手段を組み合わせることにより、広い範囲
での測定を高スループットで且つ、高精度に行うことを
可能とした。
折格子対と光学系のアライメントを高精度に行うことが
できるため、測定の安定性を増すことができ、将来的な
回折格子の縮小化にも十分対処可能とした。
わせ装置の概略図
を示す図
折格子像
の測定値
の測定値の関係
置ずれ測定装置の概略図
を示す図
れた回折格子対の像
度分布
信号
示す図
Claims (10)
- 【請求項1】 複数個の回折格子の相対位置を光ヘテロ
ダイン干渉を用いて測定する際、測定対象となる前記複
数個の回折格子の相対位置ずれ量を光ヘテロダイン干渉
により測定する第1の測定手段と、該第1の測定手段の
測定可能範囲より広い測定範囲を持つ画像処理により測
定する第2の測定手段とを有し、該2つの測定手段の測
定値を組み合わせて、前記複数個の回折格子の相対位置
ずれ量を測定することを特徴とする測定装置。 - 【請求項2】 前記広い測定範囲を持つ第2の測定手段
の測定値が、測定対象の回折格子のピッチをp としたと
き p/2ピッチの離散的な値を取ることを特徴とする請求
項1の測定装置。 - 【請求項3】 前記複数個の回折格子が異なる物体上に
配置され、測定の際、同時に観察されることを特徴とす
る請求項1の測定装置。 - 【請求項4】 前記複数個の回折格子が同一の物体上に
配置され、測定の際、同時に観察されることを特徴とす
る請求項1の測定装置。 - 【請求項5】 前記複数個の回折格子の相対位置を第1
の測定手段を用いて測定する際、該第1の測定手段の光
学系と被測定物体である前記複数個の回折格子との相対
位置関係を前記第2の測定手段により測定し、測定時の
前記光学系に対する被測定物体の位置状態をチェックす
ることを特徴とする請求項1の測定装置。 - 【請求項6】 複数個の回折格子の相対位置を光ヘテロ
ダイン干渉を用いて測定する光測定方法において、測定
対象となる前記複数個の回折格子の相対位置ずれ量を光
ヘテロダイン干渉測定手段により測定して得られる第1
の測定値と、該光ヘテロダイン干渉測定手段の測定可能
範囲より広い測定範囲を持つ画像処理測定手段により得
られる第2の測定値とを組み合わせて、前記複数個の回
折格子の相対位置ずれ量を測定することを特徴とする測
定方法。 - 【請求項7】 前記広い測定範囲を持つ画像処理測定手
段の測定値が、測定対象の回折格子のピッチをp とした
とき p/2ピッチの離散的な値を取ることを特徴とする請
求項6の測定方法。 - 【請求項8】 前記複数個の回折格子が異なる物体上に
配置され、測定の際、同時に観察されることを特徴とす
る請求項6の測定方法。 - 【請求項9】 前記複数個の回折格子が同一の物体上に
配置され、測定の際、同時に観察されることを特徴とす
る請求項6の測定方法。 - 【請求項10】 前記複数個の回折格子の相対位置を該
光ヘテロダイン干渉測定手段を用いて測定する際、該光
ヘテロダイン干渉測定手段である光学系と被測定物体で
ある前記複数個の回折格子との相対位置関係を前記画像
処理測定手段により測定し、測定時の前記光学系に対す
る被測定物体の位置状態をチェックすることを特徴とす
る請求項6の測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29002693A JP3323609B2 (ja) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | 測定方法及びそれを用いた測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29002693A JP3323609B2 (ja) | 1993-10-26 | 1993-10-26 | 測定方法及びそれを用いた測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH07120219A true JPH07120219A (ja) | 1995-05-12 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104713489A (zh) * | 2015-02-04 | 2015-06-17 | 中国船舶重工集团公司第七一一研究所 | 一种三维云纹干涉仪及材料表面测量方法 |
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CN104713489A (zh) * | 2015-02-04 | 2015-06-17 | 中国船舶重工集团公司第七一一研究所 | 一种三维云纹干涉仪及材料表面测量方法 |
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