JPH07104596B2 - Original storage cassette - Google Patents
Original storage cassetteInfo
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- JPH07104596B2 JPH07104596B2 JP27685686A JP27685686A JPH07104596B2 JP H07104596 B2 JPH07104596 B2 JP H07104596B2 JP 27685686 A JP27685686 A JP 27685686A JP 27685686 A JP27685686 A JP 27685686A JP H07104596 B2 JPH07104596 B2 JP H07104596B2
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- mask
- original
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、吸着用管路を介して原版をカセット内で固定
することが可能な原版収納カセットに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an original plate storage cassette capable of fixing an original plate in a cassette via a suction pipe line.
［従来技術］ 半導体露光装置に用いられる原版（マスクまたはレチク
ル、以下マスクと総称する）は、露光装置に取り付けら
れているマスク自動交換装置内に複数枚収納されてお
り、露光等に際しては、所望のマスクが選択され所定の
位置へセットされる。[Prior Art] A plurality of original plates (masks or reticles, generically referred to as masks hereinafter) used in a semiconductor exposure apparatus are stored in an automatic mask changing apparatus attached to the exposure apparatus. Mask is selected and set at a predetermined position.
上記複数枚のマスクは、各々独立した収納カセット（以
後マスクカセットと称する）に保管され塵埃や汚染から
保護されている。The plurality of masks are stored in independent storage cassettes (hereinafter referred to as mask cassettes) and are protected from dust and contamination.
第３図は従来のマスクカセットの一例を示す。同図にお
いて、マスクカセットは上皿10と下皿11に分かれてお
り、マスクは下皿11の上に置かれた状態で収納される。FIG. 3 shows an example of a conventional mask cassette. In the figure, the mask cassette is divided into an upper plate 10 and a lower plate 11, and the mask is stored while being placed on the lower plate 11.
［発明が解決しようとする問題点］ しかしながらこのような従来例においては、マスクを下
皿に固定する手段がないがために、搬送する場合は細心
の注意が必要であった。具体的には、カセット内のマス
クが揺動しないようにゆっくりした速度で移動させなけ
ればならなかった。[Problems to be Solved by the Invention] However, in such a conventional example, since there is no means for fixing the mask to the lower plate, it is necessary to pay close attention when carrying the mask. Specifically, the mask in the cassette had to be moved at a slow speed so as not to swing.
また、マスクは、半導体露光装置で転写される原版とな
るものであるから、塵埃の付着やパターン面の汚染に対
して十分管理されなければならない。ところが、搬送中
にカセット中で揺動されるようなことが起これば、カセ
ットとマスクが摺動し、その揺動面から微細なゴミが発
生する可能性がある。このことは、マスクを取り扱う上
では絶対避けなければならないことである。以上の理由
により、マスクカセットは、発塵性がなく、密閉性が良
く、取出しやすく、そして洗浄しやすい構造のものが求
められている。Further, since the mask serves as an original plate that is transferred by the semiconductor exposure apparatus, it must be sufficiently controlled against dust adhesion and contamination of the pattern surface. However, if the cassette is swung during transportation, the cassette and the mask may slide, and fine dust may be generated from the swing surface. This is something that must be avoided when handling masks. For the above reasons, the mask cassette is required to have a structure that does not generate dust, has good airtightness, is easy to take out, and is easy to wash.
本発明は、上述従来例の問題点に鑑み、カセットケース
の構造を複雑にすることなく洗浄性や密閉性を損わず
に、搬送中カセットに原版を固定する手段を設けること
によって摺動をなくし、発塵を防止するとともに原版交
換等のための搬送をスピードアップすることを目的とす
る。In view of the above-mentioned problems of the conventional example, the present invention provides a means for fixing the original plate to the cassette during transportation without complicating the structure of the cassette case and without impairing the cleaning property and the airtightness. The purpose is to prevent dust generation and speed up transport for original replacement.
［問題点を解決するための手段および作用］ この目的を達成するため本発明では、半導体露光装置内
でパターン転写を行う際に利用される原版を収納し、前
記原版をその内部に収納した状態で原版交換装置の保持
部に保持され、前記原版を前記原版交換装置によっで前
記半導体露光装置の所定位置にセットする際、前記原版
交換装置の保持部から前記原版交換装置の搬送ハンドに
よって前記原版と共に少なくともその一部が取り出され
る原版収納カセットにおいて、前記搬送ハンドによって
前記原版と共に取り出されるカセット部分は前記搬送ハ
ンド上で前記搬送ハンドに設けられている吸着用パッド
を介して真空吸着保持されると共に、前記カセット部分
には前記カセット部分が前記搬送ハンド上で真空吸着保
持されている際に前記原版を前記カセット部分に真空吸
着保持させるための真空を前記吸着用パッドを介して供
給する管路が設けられていることを特徴とする。[Means and Actions for Solving Problems] In order to achieve this object, according to the present invention, an original used for pattern transfer in a semiconductor exposure apparatus is housed, and the original is housed therein. Is held in a holding portion of the original plate changing device, and when the original plate is set in a predetermined position of the semiconductor exposure device by the original plate changing device, the holding part of the original plate changing device is used to convey the original plate by the carrying hand of the original plate changing device. In an original storage cassette in which at least a part of the original is taken out together with the original, the cassette part taken out together with the original by the carrying hand is vacuum suction-held on the carrying hand through a suction pad provided in the carrying hand. At the same time, when the cassette portion is vacuum sucked and held on the transport hand, the original portion is loaded on the cassette portion. It is characterized in that a pipe line is provided for supplying a vacuum for vacuum-holding the cassette portion through the suction pad.
これによれば、原版交換装置の保持部から取り出された
原版と原版収納カセットの少なくとも一部であるカセッ
ト部分は搬送ハンド上でそれぞれ真空吸着保持された状
態で搬送されることになるため、半導体露光装置内での
原版の交換が発塵のおそれなく行なわれる。また、その
ための構成は、単にカセット部分に管路を設けるという
極めて簡単なものである。According to this, since the original plate taken out from the holding unit of the original plate exchanging device and the cassette part which is at least a part of the original plate storage cassette are conveyed while being vacuum-adsorbed and held on the transfer hand respectively, the semiconductor The original plate can be replaced in the exposure device without fear of dust generation. Further, the structure therefor is extremely simple in that a pipe is simply provided in the cassette portion.
［実施例］ 以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。Embodiments Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第１図は、本発明の一実施例に係るマスクカセットの断
面図である。このマスクカセットは、下皿に吸着固定用
の吸着管路を付加したものである。同図において、１は
カセット下皿、２はマスク、３は吸着用の管路、５はカ
セット上皿である。従来のカセットは、管路３がなく、
マスク２は下皿１の上に乗せただけであった。FIG. 1 is a sectional view of a mask cassette according to an embodiment of the present invention. In this mask cassette, a suction pipe line for suction fixing is added to the lower plate. In the figure, 1 is a cassette lower tray, 2 is a mask, 3 is a suction conduit, and 5 is a cassette upper tray. The conventional cassette has no pipe line 3,
The mask 2 was simply placed on the lower plate 1.
第２図は、フォークハンドが下皿をつかんだところを示
す断面図である。同図において、６はフォークハンド、
７はフォークハンド６に固定された吸着用パッドであ
る。吸着用パッド７は真空ポンプに管路を介して接続さ
れている。８はソレノイドバルブ、９は真空度を検出す
るバキュームスイッチである。FIG. 2 is a sectional view showing the fork hand holding the lower plate. In the figure, 6 is a fork hand,
Reference numeral 7 is a suction pad fixed to the fork hand 6. The suction pad 7 is connected to the vacuum pump via a pipe line. Reference numeral 8 is a solenoid valve, and 9 is a vacuum switch for detecting the degree of vacuum.
マスク２を取り出すためには、第２図に示すように、フ
ォークハンド６で下皿１を支持し、矢印Ａ方向へ引出
す。この引出し速度が速いと、従来はマスクを下皿へ固
定していなかったためにマスクは揺動してしまった。そ
こで、本実施例では、下皿１に、一端が下皿１のマスク
支持面に開口し、他端が下皿１の外側面に開口する吸着
用管路３を設け、吸着用パッド７を、フォークハンド６
が下皿１の下へ到達し下皿１を支持した時に下皿１の管
路３の外側面への開口部をおおうように位置させてい
る。したがって、本実施例においては、フォーク６が下
皿１を固定した時に吸着用パッド７を介して管路３を真
空にするとマスク２が下皿１へ吸着され固定する。この
マスク吸着を確認した後フォークハンド６を引出す。こ
れにより、マスク２は、下皿１に吸着固定された状態で
搬送されマスクのみを取り出す位置まで移動する。In order to take out the mask 2, as shown in FIG. 2, the lower plate 1 is supported by the fork hand 6 and pulled out in the direction of arrow A. When the drawing speed is high, the mask sways because the mask is not fixed to the lower plate in the past. In view of this, in the present embodiment, the lower tray 1 is provided with a suction conduit 3 having one end opening to the mask supporting surface of the lower tray 1 and the other end opening to the outer surface of the lower tray 1, and the suction pad 7 is provided. , Fork hand 6
Is positioned so as to cover the opening of the lower plate 1 to the outer surface of the conduit 3 when the lower plate 1 reaches below the lower plate 1 and supports the lower plate 1. Therefore, in this embodiment, when the fork 6 fixes the lower tray 1, the mask 2 is attracted and fixed to the lower tray 1 when the pipe 3 is evacuated through the suction pad 7. After confirming the suction of the mask, the fork hand 6 is pulled out. As a result, the mask 2 is conveyed while being fixed to the lower tray 1 by suction, and moves to a position where only the mask is taken out.
以上、マスク交換機内だけの搬送時について述べた。The above is the description of the transportation only in the mask changer.
現在は、前に述べたように交換機内へマスクを複数枚収
納しており、そこからのみ自動選択している。したがっ
て、該当するマスクが交換機内に収納されていない場合
は、人間が該当するマスクと交換機内の不用のマスクと
を入れ換えてやらなければならない。このようなとき
等、半導体製造工場内のマスク保管収納場所から各装置
（マスク自動交換機）へのマスクの運搬は人間によって
いる。将来この運搬も機械化自動化されればこの運搬中
にもマスクとカセットの摺動が心配される。この場合に
も本実施例のようにしてマスクを吸着固定することで対
処することが可能となる。At present, as described above, multiple masks are stored in the exchange, and only those masks are automatically selected. Therefore, when the corresponding mask is not stored in the exchange, a person must replace the corresponding mask with an unnecessary mask in the exchange. In such a case, a person carries the mask from the mask storage / storage place in the semiconductor manufacturing factory to each device (mask automatic changer). If this transportation is mechanized and automated in the future, there is a concern that the mask and the cassette may slide during the transportation. Even in this case, it is possible to cope with this by fixing the mask by suction as in the present embodiment.
また、本実施例においては、フォークハンド６で下皿を
固定し吸着した時、バキュームスイッチ９等で管路内の
圧力変化を検出し、カセット内のマスクの有無を確認す
ることも可能である。Further, in the present embodiment, when the lower plate is fixed by the fork hand 6 and sucked, it is also possible to detect the pressure change in the pipe line by the vacuum switch 9 or the like to confirm the presence or absence of the mask in the cassette. .
なお、このマスクカセットを使用してマスクを工場内で
保管しておく場合、吸着用管路３の他に第１図に示した
管路４を設けておけば、それを介して窒素ガス等を流し
込むことによりマスクカセット内を外側周辺よりも正圧
に保つことができるため、もしカセットに隙間等があっ
ても塵埃の進入が防止できる。When the mask is stored in the factory using this mask cassette, if the pipe line 4 shown in FIG. 1 is provided in addition to the adsorption pipe line 3, nitrogen gas etc. Since the inside of the mask cassette can be maintained at a positive pressure than that of the outer periphery by pouring in, dust can be prevented from entering even if there is a gap in the cassette.
［発明の効果］ カセット内での原版の固定手段を機械的なものにした場
合、カセットの構造は複雑になり、洗浄しても塵埃が取
り除きにくいものになる。しかし、以上説明したように
本発明によれば、吸着用管路を付加しただけという簡単
な構造で、原版を吸着固定して原版の揺動をなくし塵埃
の発生を抑えることを実現している。しかも、洗浄しや
すい構造となる。[Advantages of the Invention] When the original plate fixing means in the cassette is mechanical, the structure of the cassette becomes complicated, and it becomes difficult to remove dust even after cleaning. However, as described above, according to the present invention, with a simple structure in which only a suction pipe is added, the original plate is sucked and fixed to eliminate the rocking of the original plate and suppress the generation of dust. . Moreover, the structure is easy to clean.
第１図は、本発明の一実施例に係るマスクカセットの断
面図、 第２図は、フォークハンド６が下皿をつかんだところを
示す断面図、 第３図は、上皿と下皿の２部分から構成されているマス
クカセットの従来例を示す図である。 1:カセット下皿、2:マスク、3:マスクを吸着固定する管
路、4:窒素がスパージする管路、5:マスクカセット上
皿、7:吸着用パッド、8:管路３を真空状態にさせるソレ
ノイドバルブ、9:管路内の真空度を検出するバキューム
スイッチ。FIG. 1 is a sectional view of a mask cassette according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing a fork hand 6 holding a lower plate, and FIG. 3 is a sectional view of an upper plate and a lower plate. It is a figure which shows the conventional example of the mask cassette comprised from 2 parts. 1: Cassette bottom plate, 2: Mask, 3: Pipe line for adsorbing and fixing the mask, 4: Pipe line for nitrogen sparging, 5: Mask cassette top plate, 7: Adsorption pad, 8: Pipe line 3 in a vacuum state Solenoid valve, 9: Vacuum switch that detects the degree of vacuum in the pipeline.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｕ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01L 21/68 U
Claims (1)
に利用される原版を収納し、前記原版をその内部に収納
した状態で原版交換装置の保持部に保持され、前記原版
を前記原版交換装置によって前記半導体露光装置の所定
位置にセットする際、前記原版交換装置の保持部から前
記原版交換装置の搬送ハンドによって前記原版と共に少
なくともその一部が取り出される原版収納カセットにお
いて、前記搬送ハンドによって前記原版と共に取り出さ
れるカセット部分は前記搬送ハンド上で前記搬送ハンド
に設けられている吸着用パッドを介して真空吸着保持さ
れると共に、前記カセット部分には前記カセット部分が
前記搬送ハンド上で真空吸着保持されている際に前記原
版を前記カセット部分に真空吸着保持させるための真空
を前記吸着用パッドを介して供給する管路が設けられて
いることを特徴とする原版収納カセット。1. An original plate used when a pattern is transferred in a semiconductor exposure apparatus is stored, and the original plate is stored in a holding portion of an original plate exchange apparatus, and the original plate is exchanged with the original plate. When the apparatus is set at a predetermined position of the semiconductor exposure apparatus, at least a part thereof is taken out together with the original plate by the transfer hand of the original plate exchange apparatus from the holding part of the original plate exchange apparatus, in the original plate storage cassette, by the transfer hand. The cassette part taken out together with the original plate is vacuum-adsorbed and held on the transfer hand via an adsorption pad provided on the transfer hand, and the cassette part is vacuum-adsorbed and held on the transfer hand by the cassette part. A vacuum for holding the original plate in the cassette portion by vacuum suction while being held. Original storage cassette, characterized in that it is provided for supplying pipe through.
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ID=17575361
Family Applications (1)
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Family Cites Families (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5525495B2 (en) * | 1972-06-05 | 1980-07-07 | ||
| JPS5224335A (en) * | 1975-08-19 | 1977-02-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | A gas burner |
| US4248508A (en) * | 1979-08-03 | 1981-02-03 | The Perkin-Elmer Corporation | Projection mask storage and carrier system |
-
1986
- 1986-11-21 JP JP27685686A patent/JPH07104596B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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| JPS63131144A (en) | 1988-06-03 |
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