JPH069495Y2 - 半導体ウェハなどのウエット処理装置 - Google Patents

半導体ウェハなどのウエット処理装置

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JPH069495Y2
JPH069495Y2 JP1989000207U JP20789U JPH069495Y2 JP H069495 Y2 JPH069495 Y2 JP H069495Y2 JP 1989000207 U JP1989000207 U JP 1989000207U JP 20789 U JP20789 U JP 20789U JP H069495 Y2 JPH069495 Y2 JP H069495Y2
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JP
Japan
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wet processing
tank
drive source
semiconductor wafer
tub
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JP1989000207U
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JPH0291339U (ja
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忠康 大沢
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Kaijo Corp
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Kaijo Corp
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は空気清浄用外槽と半導体ウェハのウエット処理
槽とを備えたウエット処理装置のキャリア揺動機構に関
するものである。
(従来技術) 半導体ウェハの洗浄などに使用されるウエット処理装置
においては、処理槽中から引上げられた洗浄後の半導体
ウェハを塵埃による再汚染から守るため、第1図のよう
に上部に清浄空気の送入開口(1a)を備え、底部に排気口
(1b)を備えた空気清浄用の外槽(1)内に、ウエット処理
槽(2)を収容することが行われている。
一方半導体ウェハ特に微細パターンをもつLSIの洗浄
に当たっては、特に洗浄効果を高めるため半導体ウェハ
を収容したキャリア(3)を上下に例えば30mm程度揺動さ
せるようにして、処理液(4)の攪拌と、ウェハと処理液
相互の相対移動を行わせると共に、超音波洗浄が併用さ
れた場合には超音波の定在波対策がとられるようにし
て、均質な処理液によりウェハ全面をよく洗浄できるよ
うにする配慮が重要である。
そこで第1図に示すように従来においては、外槽(1)の
外部の側面に設けた上下駆動源(5)により上下方向に動
く揺動棒(6)を、外槽(1)に設けた開口部(1c)を介して外
槽(1)内に引き込み、これによりキャリア(3)を乗せる揺
動フレーム(7)を支持するようにして、処理液中におい
て上下に揺動させることが行われている。
(解決すべき問題点) しかしこの構造のように上下駆動源(5)を外槽(1)の外側
外部に設けたものでは、上下駆動源(5)の幅だけ装置の
幅が大となって大きな設置スペースを必要とすることに
なる。また外槽(1)は処理液(4)の液面より上部に揺動棒
(6)の引き込み用開口部(1c)が設けられるため、送入開
口(1a)から排気口(1b)に抜ける清浄空気流Aにもとづく
内外圧差により、開口部(1c)から外部の塵埃を含む汚れ
た空気が入りこむのを避けることができない。このため
処理槽(2)の上部の空気清浄度の低下を招き、洗浄後こ
こに引上げられたキャリア(3)内のウェハの汚染を招い
て品質の低下を招くおそれがある。また処理液のシャワ
ーが併用された場合には、処理液のしぶきが外槽の開口
部(1c)を通して外部に飛散して、装置周辺の構造物の腐
蝕を招くなどの問題点を有する。
(問題点を解決するための本考案の手段) 本考案の特徴とするところは次の点にある。
即ち第2図(a)(b)に示す本考案の一実施例の説明図(第
1図と同一符号は同等部分を示す)のように、外槽(1)
の外側の底部中央付近に上下駆動源(5)をもける。一方
外槽(1)と処理槽(2)間の左右の空隙内に位置するよう
に、外槽(1)の底部を縦方向に貫通する左右2本のスリ
ーブ(8)を設ける。またこの内部には外槽(1)の底部を貫
通する2本の揺動棒(6)を設けて、そのそれぞれの下端
部を連結桿(9)により上下駆動源(5)の上下駆動軸(5a)に
結合し、上端部のそれぞれを揺動フレーム(7)の両端部
に結合する。そして上下駆動源(5)を駆動したとき、そ
れによる上下運動が連結桿(9)と2本の揺動棒(6)を介し
て揺動フレーム(7)に伝達されて、この上にのせられた
キャリア(3)を上下動させるようにして、前記従来装置
の問題点の解決を図ったものである。
(考案の効果) 以上のように本考案では、上下駆動源(5)を従来のよう
に外槽(1)の外部側面に設けることなく底部の外側に設
けており、外槽(1)と処理槽(2)間の左右の間隔長は従来
と変わることがない。従って上下駆動源(5)の幅だけ装
置の幅を小さくできるので設置スペースを小さくでき
る。
また本考案では上下駆動源(5)の動力を左右2本の揺動
棒(6)により揺動フレームに伝達しているので、構造材
は細くてすみ経済的となる。これに加えて本考案では揺
動棒(6)を外槽(1)の底部から通して外槽(1)と処理槽(2)
間に位置させている。従って、従来装置のように外槽
(1)の処理液面より上の位置に揺動棒(6)の引込み用開口
部(1c)を設ける必要がないため、開口部(1c)からの塵埃
を含んだ外部空気の外槽内部への吸込みを防止でき、半
導体ウェハの汚染を防止できる。また仮に揺動棒(6)と
スリーブ(8)間のシールが不十分であって、ここから外
部の含塵空気が吸い込まれても、スリーブ(8)の上端部
は処理槽(2)の上端部から下に位置して排風領域内に位
置するので問題になることがない。従って本考案によれ
ば従来装置における問題点は解決される。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来装置の説明図、第2図は本考案の一実施例
の説明図である。 (1)……空気清浄用外槽、(1a)……清浄空気の送入開
口、(1b)……排気口、(1c)……揺動棒引出し用開口部、
(2)……処理槽、(3)……キャリア、(4)……処理液、(5)
……上下駆動源、(5a)……上下駆動軸、(6)……揺動
棒、(7)……揺動フレーム、(8)……スリーブ、(9)……
連結桿。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】空気清浄用の外槽と、該外槽の内部に設け
    られたウエット処理槽と、該ウエット処理槽内に設けら
    れた半導体ウェハを搭載せしめるキャリアを上下動させ
    るための揺動フレームと、該揺動フレームを上下動させ
    る駆動源とを備えた半導体ウェハなどのウエット処理装
    置において、前記外槽をその底部から縦方向に貫通して
    該外槽と前記ウエット処理槽との側面の間隙内に達し、
    かつ上端部が前記ウエット処理槽の開口面より下方に位
    置するように設けられた複数のスリーブと、該複数のス
    リーブ内にそれぞれスライド可能に設けられると共に、
    その各上端部に前記揺動フレームが支持されかつ各下端
    部に前記駆動源が接続される複数の揺動棒とを備えたこ
    とを特徴とする半導体ウェハなどのウエット処理装置。
JP1989000207U 1989-01-05 1989-01-05 半導体ウェハなどのウエット処理装置 Expired - Lifetime JPH069495Y2 (ja)

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JP1989000207U JPH069495Y2 (ja) 1989-01-05 1989-01-05 半導体ウェハなどのウエット処理装置

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Publication Number Publication Date
JPH0291339U JPH0291339U (ja) 1990-07-19
JPH069495Y2 true JPH069495Y2 (ja) 1994-03-09

Family

ID=31199029

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JP1989000207U Expired - Lifetime JPH069495Y2 (ja) 1989-01-05 1989-01-05 半導体ウェハなどのウエット処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6183032U (ja) * 1984-11-05 1986-06-02

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JPH0291339U (ja) 1990-07-19

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