JPH0694900A - 真空光学系 - Google Patents

真空光学系

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JPH0694900A
JPH0694900A JP4242232A JP24223292A JPH0694900A JP H0694900 A JPH0694900 A JP H0694900A JP 4242232 A JP4242232 A JP 4242232A JP 24223292 A JP24223292 A JP 24223292A JP H0694900 A JPH0694900 A JP H0694900A
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JP
Japan
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vacuum
vacuum container
optical system
soft
stage
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Application number
JP4242232A
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English (en)
Inventor
Hiroaki Nagai
宏明 永井
Yoshiaki Horikawa
嘉明 堀川
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Priority to US08/118,246 priority patent/US5432831A/en
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空容器の真空排気及び大気開放の前後にお
いて光学系のアライメントが狂わない、小型且つコンパ
クトな真空光学系を提供する。 【構成】 真空容器(5,13;605;703,71
2)は、真空中に置かれるべき光学系部分を格納してい
る。真空容器内に備えられた光学系載置部材(6,1
4;607;704,713)は、真空容器内の気圧変
化に伴う真空容器の変形により真空容器に変位が生じて
も、光学系に伝達される変位量が光学系に要求される精
度を越えない程度の変位量の小さい部分で支持されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空中で使用する光学
系を格納する真空容器を備えた真空光学系、例えば軟X
線を用いた光学系に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、放射光等の軟X線の光源の進歩に
より、軟X線光学の研究が盛んになってきた。半導体露
光装置については、集積回路の微細化に伴って転写され
る線幅も一層細くなり、露光に用いられる光の波長が紫
外光から軟X線の領域に迫ってきている。顕微鏡につい
ては、生体観察に適するといわれる波長22Åから44
Åの所謂「水の窓」領域での観察が注目されている。
又、分析装置については軟X線領域に元素の吸収端が多
数存在していることより、元素分析への応用が試みられ
ている。
【0003】軟X線は、大気による吸収が大きいため、
光学系を真空中で組む必要があるが、光学系の支持手段
としては真空フランジに取付けられたマニピュレータや
真空容器に直接取付けたステージがあり、これらを用い
てアライメントを行っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の真空
光学系においては、a)図14に示すように、光学系の
取付台であるステージが真空容器又は真空フランジと兼
用又はこれらに直接取付けられており、大気中でのアラ
イメント後に真空排気を行うと、図15に示すように、
大気圧による真空容器の変形のためにアライメントが狂
ったり、b)真空状態で真空容器内にある移動機構とし
てのステージ等を駆動するためには、放熱対策が必要な
真空用モータや高電圧を用いるPZT素子が必要となる
ため、装置全体が大きくなったり、c)軟X線による観
察においては、光電子増倍管等の高電圧を用いる検出器
が必要とする高真空に達するまでに長時間を必要とした
り、d)観察対象物を封じ込めるための薄膜や、軟X線
観察の際不必要な光を除去するために用いる超薄膜フィ
ルタや、軟X線を真空容器外に取り出す薄膜の窓等が真
空排気の際の急激な空気の流れによって破壊されたりす
る等の問題があり、必ずしも使い勝手が良いと言えなか
った。
【0005】本発明は、従来の技術の有するこのような
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、コンパクトで而も使い勝手の良い真空光学系を
提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による真空光学系
は、真空容器内の気圧変化に伴う真空容器の変形により
真空容器に変位が生じても、使用されるべき光学系に伝
達される変位量がその光学系に要求される精度から定ま
る所定の変動誤差量を越えない程度の変位伝達量の小さ
い部分で支持された、光学系載置部材を真空容器内に備
えている。
【0007】
【作用】この真空光学系によれば、真空容器の真空排気
及び大気開放の前後において光学系のアライメントを保
持することができる。即ち、例えば、図1及び2に示す
如く、光学系達成部材であるプレート上に全光学系があ
る場合、真空容器の変位による該部材の変形量が光学系
に要求される精度よりも小さければ、真空容器の真空排
気及び大気開放の前後において光学系のアライメント精
度は保持される。
【0008】光学系載置部材上に設置された移動機構を
有する装置と真空容器に取付けられた駆動機構とを、真
空容器の変形を吸収し得る手段を有する動力伝達機を用
いて接続すれば、真空容器が変形しても移動機構には変
位が伝わらないため、光学系のアライメントに狂いが生
じることなく外部から移動機構を駆動することができ、
構造が簡単でコンパクトな装置となる。
【0009】軟X線源から発した軟X線を対象物に集光
させる軟X線レンズによって収束された軟X線を検出す
る軟X線検出器と、軟X線検出器を格納する検出器用真
空容器と、前記真空容器と検出器用真空容器とを接続す
るパイプと、このパイプの途中に設けられていて前記両
真空容器間を真空的に絶縁し得るゲートバルブとを備え
ることにより、観察に必要な真空度に到達するまでの時
間が短くて済み、又真空容器内の急激な空気の流れを軽
減することができる。
【0010】このように本発明によれば、真空排気の前
後において容器が変形しても真空容器内の光学系のアラ
イメントが狂うことはなく、又外部から真空容器内の移
動機構を操作できるコンパクトな真空光学となる。更
に、軟X線観察時には、真空排気の時間が短く内部の薄
膜構造を破壊しない装置となる。
【0011】尚、本発明は、軟X線光学系のみならず、
真空中で使用される総ゆる光学系例えば紫外光や可視光
を用いる光学系にも適用され得る。
【0012】
【実施例】以下、図面を参照にして本発明の実施例につ
いて説明する。図3及び4は本発明による軟X線光学系
の第1実施例の平面図及び側面図である。本実施例では
光学系として軟X線顕微鏡を採用し、軟X線光源として
レーザプラズマ光源を用い、真空容器及び排気用ターボ
分子ポンプは防振台上に設置されている。1はX線源と
なる金属ターゲット、2は回転楕円面形状のコンデンサ
レンズ、3はシュヴァルツシルト型対物レンズ、4は可
視光の反射ミラーであって、これらは真空容器5中に置
かれたプレート6上のステージ7,8,9,10に夫々
設置されている。プレート6は角型真空容器5では変形
の少ない底板の端部5a,5b,5cに3点で支持され
ている。又、11は入射X線とは異なる波長で発光する
蛍光面付マイクロチャンネルプレート(以下、MCPと
いう)等の軟X線検出器、12は入射レーザの波長の光
に対する反射防止膜をコーティングした可視光の反射ミ
ラーで真空容器13中におかれたプレート14上のステ
ージ15,16に夫々設置されている。プレート14も
プレート6と同様に真空容器13の底板の端部13a,
13b,13cに3点で支持されている。17は真空容
器5と真空容器13とを接続するパイプ、18は真空容
器5と真空容器13を真空的に絶縁して夫々独立の真空
系として機能するようにすることのできるゲートバルブ
である。ゲートバルブ18は、真空容器5,真空容器1
3内が共に大気又は共に真空のとき開閉可能となってお
り、大気下で光学系のアライメントやフォーカシングが
行えるようになっている。又、パイプ17の中には複数
の遮光板19が収められている。20は可視光源、21
は入射レーザの波長の光に対する反射防止膜をコーティ
ングした可視接眼レンズ、22は高出力パルスYAGレ
ーザ、23は光ファイバ、24は集光レンズ、25は試
料、26は試料用ステージ、27は光学系全体を担持す
る防振台、28は真空紫外光除去用の軟X線フィルタで
ある。
【0013】可視光反射ミラー4は、金属ターゲット1
とコンデンサレンズ2との間の軟X線光路に挿脱自在に
配置されていて、可視光源20から真空容器5に入射し
た可視光を反射してこれを上記軟X線と実質的に同じ光
軸に沿って導き対物レンズ3に入射せしめる。又、可視
光反射ミラー12は、対物レンズ3と軟X線検出器11
との間の軟X線光路に挿脱自在に配置されていて、対物
レンズ3からの可視光を反射して上記軟X線の光軸から
分離せしめ、これを軟X線検出器11の受光面と共役な
位置に結像せしめる。可視光反射ミラー12により分離
された光路上の可視光像は、接眼レンズ21を介して真
空容器13の外側から観察できる。これらが可視光用の
観察系をなしている。尚、真空容器5と真空容器13の
排気系は、図5に示すように、ロータリーポンプ20
1,202とターボ分子ポンプ203,204と排気径
の断面積が可変となるコンダクタンスバルブ205,2
06と複数個所に配置されたバタフライバルブ207と
から成っている。
【0014】高出力パルスYAGレーザ22からのレー
ザ光を、光ファイバ23で、レーザ光の波長に対する反
射防止膜をコーティングした集光レンズ24の直前まで
導き、集光レンズ24によって金属ターゲット1に集光
させる。ターゲット1からでた軟X線は、コンデンサレ
ンズ2によって試料25上に集光し、試料25を透過・
回折した軟X線は、対物レンズ3によって軟X線検出器
11上に収束され、検出器の蛍光面を介して観察される
ようになっている。尚、コンデンサレンズ2は無酸素銅
の回転楕円面鏡であり、又、軟X線を反射させることに
よって対物レンズ3を構成するシュヴァルツシルト光学
系は、所定の波長域の軟X線に対して反射率分布を持つ
多層膜を被覆してなるものであるが、これらは可視光に
対しても大きな反射率を有するため、可視光用レンズと
しても使用できる。
【0015】図6は、真空容器301内のプレート30
0上に設置されたステージ(移動機構)302を真空容
器外から操作するための機構の概略図である。回転導入
端子303及びユニバーサルジョイント304を用いて
真空容器内のステージ302のマイクロメータ305を
駆動しており、回転導入端子306とフレキシブルシャ
フト307でマイクロメータ308を駆動している。3
09はユニバーサルジョイント304及びフレキシブル
シャフト307を回転させるためのハンドルである。
【0016】図7は、真空容器401内のプレート40
2上に固定し得るステージ403を真空容器外から操作
するための機構の概略図である。ステージ403は支持
台404Aの長手軸方向に沿った面上に設けられてお
り、支持台404Aの端部には、プレート402に対し
て垂直方向に長手軸方向が向くように配置された固定端
子(ビス止め,ネジ止め等)が設けられていて、支持台
404Aはその固定端子を介して固定台405上に固定
支持されている。固定台405上には更にマイクロメー
タ406が設けられていて、図示しない回転導入端子及
びユニバーサルジョイントを用いて真空容器401の外
部から操作できるようになっている。又、ステージ40
3の一端にはワイヤー407が接続されており、このワ
イヤーの他端はプーリ408,409を介してマイクロ
メータ406に接続されている。ステージ403は、マ
イクロメータ406を操作することによりワイヤー40
7,プーリ409,408を介して、支持台404Aの
長手軸方向に沿って上下動せしめられる。
【0017】更に、上記支持台404Aを取外し、代わ
りにプレート402に対して長手軸が或る所定の角度θ
だけ傾いて設置できるように端部に固定端子が設けられ
た支持台404Bを、固定台405に固定支持させる。
かくして、図8に示すように、マイクロメータ406を
操作することにより、ステージ403をプレート402
に対し角度θ方向へ移動させることが可能となる。
【0018】このように、複数の支持台404A,40
4B等を用いることにより、ステージ403の移動方向
を任意に設定することが可能である。又、支持台404
A,404Bと固定台405とを保持する固定端子を段
階的に固定できるような固定溝付きレールを設置して、
図7から図8への変更を上述の如き支持台の取外し交換
による方式ではなく、支持台の端部と固定台405との
接続位置の移動によって行う方式にすれば、支持台の長
手軸方向の傾き角θを任意に選択することが可能とな
る。
【0019】図9は、真空容器501内のプレート50
0上に固定されたステージ502を真空容器外から操作
するための機構の概略図で、直線導入端子503の先端
のヒッカケ504で、ステージ502の溝部505を押
引することによってステージ502を駆動する。ヒッカ
ケ504と溝部505の間には遊びがあって、真空容器
501が変形してもステージ502が移動しないように
なっている。又、ステージ502には鋼球502aを取
り付けた板バネ506を、ステージの取付け台507に
はステージの移動方向と直角に508aが切ってあるレ
ール508を取り付けてあるので、ステージ502は設
定された幾つかの位置に確実に停止するようになってい
る。図6から図9までの機構はステージ間の取り合い、
マイクロメータの位置,ステージの駆動精度等に応じて
図4のステージに用いられている。更に、各ステージの
マイクロメータの目盛りやステージの位置が大気中から
目視できるように真空容器には窓が付けてある。尚、上
記説明において、ステージ及びステージ支持台の如き被
動部材は移動機構を、ハンドル,回転導入端子及び直線
導入端子の如き部材は駆動機構を、又ユニバーサルジョ
イントやフレキシブルシャフトの如き移動機構と駆動機
構をつないで動力を伝達する部材は動力電圧機構を夫々
構成する。
【0020】本実施例は上記の如く構成されているが、
次にその作用を説明する。まず、真空容器5,13内を
真空排気せずにゲートバルブ18を開き可視光ミラー
4,12を軟X線光路内に挿入すると、可視光源20を
発した可視光は、可視光ミラー4によって光路を曲げら
れ、コンデンサレンズ2に導かれる。コンデンサレンズ
2に導かれた可視光はコンデンサレンズ2により集光さ
れ、試料25を照明する。試料25を透過・回折した可
視光は対物レンズ3に導かれ、対物レンズ3に導かれた
可視光は対物レンズ3による収束作用を受け、可視光ミ
ラー12でその光路を曲げられた後軟X線検出器11の
受光面と共役な位置に試料像として拡大結像せしめられ
る。そして、この試料像が接眼レンズ21を通して肉眼
で観察される。従って、操作者は可視光による試料25
の像の観察が可能になると共に、この可視光による観察
を行いながら、図6乃至9に例示したような機構を利用
して、アライメントやフォーカシングを行うことができ
る。
【0021】次に、ゲートバルブ18を閉じて真空排気
を行うが、プレート16,14は夫々真空容器5,13
の底板の端部5a,5b,5c;13a,13b,13
cで接しているだけなので、真空容器の変形に対して
も、プレート16,14上の光学系のアライメントが狂
うことはない。又、各ステージを駆動する動力の伝達
は、前述の動力伝達機構を用いて行われるので、真空容
器側板が変形してもフレキシブルシャフト307の変形
やユニバーサルジョイント304の伸縮によって、ステ
ージに不必要な力が加わらないため、アライメントが狂
うことはない。
【0022】真空排気に際しては、先ずコンダクタンス
バルブ205,206を閉じた状態でロータリーポンプ
201,202を始動し、コンダクタンスバルブ20
5,206を徐々に開きながら真空排気を行うが、この
ように真空排気が徐々に行われれば、真空容器内に激し
い気体の流れは生じないため、衝撃によってアライメン
トが狂ったり、内部の薄膜構造が破壊されたりすること
はない。かくして、各真空容器内部の真空度が数torrま
で達すると、コンダクタンスバルブ205,206を全
開にしても、もはや内部に激しい気体の流れは生じな
い。又、この真空度に達するまでにはさほど時間が掛か
らないため、コンダクタンスバルブ205,206を徐
々に開きながら排気することによる時間のロスは、観察
可能な高真空度に達するまでにかかる時間の割合に対し
て小さい。
【0023】真空容器間のパイプ17に設置されたゲー
トバルブ18は排気初期においては他方の真空容器から
気体が流れ込むのをおさえ、内部の薄膜構造の破壊を防
ぐと共に、2系統で真空排気を行うことができるため検
出器を常に高真空に保つことが可能となり、真空排気開
始から観察までの時間を大幅に短縮できる。
【0024】コンダクタンス(流動抵抗の逆数)の小さ
いパイプ17で真空容器5,13を接続することにより
差動排気が可能となり、真空容器5内が軟X線の発生・
透過に必要な1×10-4torrの真空度の状態でゲートバ
ルブ18を開いても、真空容器13内の真空度は1×1
-6torrに保つことができ、真空容器5内が高真空状態
になるまで長時間待つ必要がない。接続パイプ17は、
コンダクタンスを小さくするためには内径が小さいこと
が望ましいが、内径を小さくするとパイプ内面での可視
光及び真空紫外光の乱反射が増大する。遮光板19は乱
反射を防ぐと共にパイプ17のコンダクタンスを小さく
する役割を果たしている。
【0025】次に、可視光反射ミラー4のみを軟X線の
光路外に退避させ、真空容器5,13が所定の真空度に
達した後ゲートパルプ18を開き、パルスレーザ22か
らのレーザ光を集光レンズ24で金属ターゲット1に集
光させ、軟X線を含んだ白色のプラズマ光を発生させ
る。発生した前記プラズマ光はコンデンサレンズ2によ
り収束され、試料25を照明する。試料25を透過・回
折したプラズマ光は対物レンズ3に導かれ、対物レンズ
3の収束作用を受け、可視光反射ミラー12で光路を曲
げられた後軟X線検出器11と共役な位置に結像せしめ
られ、可視光接眼レンズ21によって肉眼で観察され
る。このとき、可視光反射ミラー12の反射防止膜と接
眼レンズ21の透過防止膜とにより、レーザ光の波長の
光はカットされ、スペックルパタンのない良好な可視像
が得られる。
【0026】この場合、高出力パルスレーザ22を集光
レンズ24の直前までファイバ23で導いているので、
レーザ光の光路は露出しておらず安全であり、且つレー
ザを防振台の上に設置しなくてもよいため防振台が小さ
くて済む。又、通常防振台の下部は空間になっているの
で、ここにレーザ22本体を置くと軟X線顕微鏡システ
ム全体としてコンパクトになる。更に、検出器11とし
て入射レーザの光と異なる波長で発光する蛍光面付のM
CPを用いているので、観察し易い。
【0027】尚、本実施例では、プレート6,14を真
空容器の底板端部で支持しているが、変位が小さい部分
であれば底面,側面,上面に拘らず他の位置でプレート
は支持されてもよい。
【0028】又、本実施例ではステージ等の駆動機構を
全て真空容器外から操作可能となっているが、真空容器
のスペース,光学系等の必要に応じた機構のみ真空容器
外から操作し、その他の機構は従来例の駆動機構でもよ
い。又、コンデンサレンズに回転楕円鏡,対物レンズに
シュヴァルツシルト光学系を用いたが、これに限定する
ことなくウォルター光学系や、ゾーンプレート光学系等
を用いてもよい。又、ゲートバルブ18は真空容器5と
真空容器13の何れかに直接接続されていてもよい。
【0029】又、本実施例では排気系はロータリーポン
プ,ターボ分子ポンプを2組用いたが、図10に示した
如く1組のポンプを用いて、各バルブを適当に開閉する
ことによって、二つの真空容器の排気を行うようにして
もよい。更に、可視光反射ミラーの反射防止膜と可視光
接眼レンズの透過防止膜は何れか一方でもよい。
【0030】図11は第2実施例の要部を示している。
本実施例では光学系としてX線縮小露光装置を採用し、
軟X線光源としては放射光光源を用い、真空容器及び排
気用ターボ分子ポンプは定盤の上に設置されている。図
中、601は定盤,602は定盤601の上に固定され
た金属棒,603はOリング,604はOリング603
を締め付けている治具で、金属棒602とOリング60
3と治具604で真空を保持する真空容器605の一部
を構成している。606はバネで、真空容器605を支
えている。607は光学系を保持するのに十分な剛性を
備えた金属板で、金属棒602に固定されている。60
8はOリング603を押さえるためのOリング押さえで
ある。治具604を締めれば、その締付け力はOリング
押さえ608を伝わってOリング603を押圧する。押
圧されたOリング603は、真空容器605の内側と外
側とをつなぐ金属棒602の周囲の隙間を遮断するよう
に変形し、真空容器605内の真空を保持する。609
はシュヴァルツシルト型コンデンサレンズ、610はX
線マスク、611はシュヴァルツシルト型縮小投影レン
ズ、612はウエハであって、これらは、図示しないス
テージによって、金属板607上に設置されている。
又、613はベリリウム製の軟X線用透過窓である。真
空容器605には、小排気量のロータリーポンプ614
と大排気量のロータリーポンプ615とターボ分子ポン
プ616が接続されている。617はバタフライバルブ
である。
【0031】本実施例は、上記の如く構成されている
が、その作用は次の通りである。先ず、小排気量のロー
タリーポンプ614を始動し、真空容器605の排気を
開始する。ロータリーポンプ614の排気能力は小さい
ため、真空容器内に激しい気体の流れが生じることはな
く、従って衝撃によって軟X線透過窓613が破壊され
ることはない。真空容器内の真空度が数torrまで達した
段階で大排気量のロータリーポンプ615に切り替えて
も、もはや内部に激しい気体の流れが生じることはな
い。又、この真空度に達するまでにはさほど時間が掛か
らないため、小排気量のロータリーポンプ614で徐々
に排気することによる時間のロスは、露光可能な高真空
度に達するまでにかかる時間の割合に対して小さい。
【0032】又、真空容器605内の圧力変動に伴う容
器の変形はバネ606が吸収するため、金属棒603が
変形することはない。従って、金属棒603に固定され
た光学系を設置した金属板607は、真空容器605の
排気前後で定盤601に対して、変位することはない。
【0033】本実施例においては、コンデンサレンズと
縮小投影レンズにシュヴァルツシルト光学系を用いてい
るが、ウォルター光学系等の他の軟X線光学系を用いて
もよい。又、本実施例では、金属棒602は定盤601
の上に設けられていたが、例えば定盤を横にした壁に金
属棒602を横付けしてやり、真空容器605の底面を
振動を吸収するバネなどで支える構成としても、真空容
器605の変形に際し金属板607は金属棒602を介
して壁に固定されていて、その変形の影響を受けないの
で良い。従って、この金属棒602によってのみ支持さ
れた金属板607上に配設されているコンデンサレンズ
609,X線マスク610,縮小投影レンズ611及び
ウエハ612もまた真空にすることによって生じる真空
容器の変形の影響を受けない。更に金属棒602を上述
の如き上付け,横付け以外の場合でも同様である。
【0034】図12及び13は、本発明による軟X線光
学系の第3実施例の要部の平面図及び側面図である。本
実施例では光学系として、生物用軟X線顕微鏡を採用
し、軟X線光源としてレーザプラズマ光源を用い、真空
容器及び排気用ターボ分子ポンプは防振台上に設置され
ている。図中、701は金属ターゲット,702はウォ
ルター型コンデンサレンズであって、これらは軟X線用
の照明系を構成していると共に、空気による軟X線の吸
収を出来るだけ避けるために真空容器703中におかれ
たプレート704上にステージ705,706を用いて
夫々設置されている。そして、コンデンサレンズ702
により収束される軟X線は、真空容器703に設けられ
たSi3 4 の薄膜製の窓707から出射して空気中に
おかれた試料708を照射するようになっている。70
9はコンデンサレンズ702と同じ構造のシュヴァルツ
シルト型対物レンズ、710はCCDを用いた軟X線検
出器、711は軟X線検出器710の前面に配置された
可視光及び真空紫外光カット用の軟X線フィルタとして
用いるベリリウム薄膜であって、これらは軟X線用の拡
大結像系を構成していると共に、空気による軟X線の吸
収を出来るだけ避けるために、真空容器712中に置か
れたプレート713上にステージ714,715,71
6を用いて夫々設置されている。そして、試料708を
透過・回折した軟X線は真空容器712に設けられたS
3 4 の薄膜製の窓717から入射して対物レンズ7
09により軟X線検出器710上収束されるようになっ
ている。尚、対物レンズ709を構成するシュヴァルツ
シルト光学系は、「水の窓」領域の波長の軟X線に対し
て高い反射率を持つNi/Ti多層膜を被膜してなって
いる。718は図示しない手段によって金属ターゲット
701とコンデンサレンズ702との間の光路に挿脱自
在に配置されている入射レーザ光の波長の光に対する透
過防止膜をコーティングした厚さ10μmの硝子板であ
る。
【0035】高出力パルスYAGレーザ719からのレ
ーザ光を光ファイバ720で真空容器703内の集光レ
ンズ721へ導き、集光レンズ721によって金属ター
ゲット701に集光させ、プラズマ光を発生させる。光
ファイバ720の端部と集光レンズ721は、プレート
704上に図示しないステージを介して設置されてい
る。これらが軟X線光源系をなしている。集光レンズ7
21と金属ターゲット701の間にはレーザ径よりも大
きな孔のある遮光板724が、遮光板724と集光レン
ズ721の間にはレーザの波長の光に対する反射防止膜
をコーティングした硝子板725が配置されている。遮
光板724は、少なくとも金属ターゲット701から飛
散する電子,イオン,中性粒子などの汚染物質が遮光板
の孔以外からは硝子板725や集光レンズ721に直接
付着しないようにするだけの大きさを持ち、硝子板72
5の径は少なくとも遮光板724の孔から飛散してきた
金属ターゲット701からの汚染物質が直接集光レンズ
721に付着しないようにするだけの大きさを持つ。
【0036】又、本実施例においても、第1実施例と同
様に、プレート704は真空容器703の底板の端部7
03a,703b,703c,703dにより、プレー
ト713は真空容器712の底板の端部712a,71
2b,712c,712dにより、夫々支持されてい
る。更に、各ステージは図6乃至9に示した如き機構等
を用いて真空容器の外部から移動させることができるよ
うになっている。
【0037】本実施例は上述の如く構成されているか
ら、先ず、真空容器703,712を真空排気せずに図
示しない手段によって可視光によるアライメント及びフ
ォーカシングを行った後に真空排気を行っても、プレー
ト704,705が夫々変位しないため、アライメント
が狂うことはない。
【0038】次に、硝子板718を軟X線の光路内に挿
入し、軟X線フィルタ711を軟X線の光路外に退避さ
せ、真空容器703,712内が所定の真空度に達した
後、パルスレーザ719からのレーザ光を集光レンズ7
21で集光させ、軟X線を含んだ白色のプラズマ光を発
生させる。レーザを光ファイバ720で真空容器703
内に導いているため、レーザの光路が大気中になく極め
て安全である。発生したプラズマ光は硝子板718に入
射するが、ここで軟X線やターゲット701からの前記
汚染物質がカットされるため、可視光によるアライメン
ト,フォーカシング及び観察時には試料708に不必要
な軟X線の被爆が生じず、後の軟X線観察時まで、生き
たままの状態で生物試料を保つことができる。又、ター
ゲット701からの汚染物質はコンデンサ等の光学系で
弾性反射してくるため、後段のX線透過窓707等に付
着するか又はこれを破壊することがあるので、このよう
に可視光観察のときに飛散する汚染物質をカットするこ
とが好ましい。又、硝子板725を外部から移動させる
ことができるので、硝子板725に汚染粒子が付着して
も真空を開放せずに新しい面をターゲットへ向けること
ができる。
【0039】本実施例では、軟X線や汚染物質をカット
するための硝子板718を金属ターゲット701とコン
デンサレンズ702の間に配置しているが、コンデンサ
レンズ702の直後に配置してもよい。又、コンデンサ
レンズ,対物レンズにシュヴァルツシルト光学系を用い
たが、これに限定されることなくウォルター光学系や、
ゾーンプレート光学系等を用いても良い。更に、各光学
系をステージに複数積載し、本実施例に用いた駆動機構
によってレボルバー方式又はスライド方式で交換すると
観察対象に適当な光学系を真空を開放することなく外部
から選択する事が出来る。
【0040】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、真空容器の
真空排気及び大気開放の前後において光学系のアライメ
ントが狂うことなく、装置全体を小型且つコンパクトに
構成することができる。使い勝手の良い真空光学系を提
供することができる。尚、本発明は軟X線光学系のみに
限定されるものではなく、真空中で使用する総ての光学
系、例えば真空紫外光や可視光にも適用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による真空光学系において真空容器内が
大気圧状態にある場合の光学系のアライメント状態を示
す説明図である。
【図2】図1に示した真空容器内が真空状態にある場合
の光学系のアライメント状態を示す説明図である。
【図3】本発明による真空光学系の第1実施例の平面図
である。
【図4】図1の側面図である。
【図5】第1実施例に用いられる真空排気装置の一例の
ブロック図である。
【図6】第1実施例に適用され得る移動機構,駆動機構
及び動力伝達機構の一例を示す構成図である。
【図7】第1実施例に適用され得る移動機構及び動力伝
達機構の他の例の一使用状態を示す構成図である。
【図8】図7に示された例の他の使用状態を示す構成図
である。
【図9】第1実施例に適用され得る移動機構,駆動機構
及び動力伝達機構の更に他の例を示す構成図である。
【図10】第1実施例に用いられる真空排気装置の他の
例のブロック図である。
【図11】本発明による真空光学系の第2実施例の側面
図である。
【図12】本発明による真空光学系の第3実施例の平面
図である。
【図13】図12の側面図である。
【図14】従来の真空光学系において真空容器内が大気
圧状態にある場合の光学系のアライメント状態を示す説
明図である。
【図15】図14に示した真空容器内が真空状態にある
場合の光学系のアライメント状態を示す説明図である。
【符号の説明】
1・・・・金属ターゲット, 2・・・・コンデン
サレンズ,3・・・・対物レンズ, 4・・
・・可視光反射ミラー,5・・・・真空容器,
6・・・・プレート,7・・・・ターゲット用ステージ,
8・・・・コンデンサ用ステージ,9・・・・対物レン
ズ用ステージ, 10・・・・反射ミラー用ステージ,
11・・・・軟X線検出器, 12・・・・可視光
反射ミラー,13・・・・真空容器, 1
4・・・・プレート,15・・・・検出器用ステージ,
16・・・・反射ミラー用ステージ,17・・・・真空容器接
続用パイプ, 18・・・・ゲートバルブ,19・・・・遮
光板, 20・・・・可視光観察用光
源,21・・・・可視接眼レンズ, 22・・・・高
出力パルスYAGレーザ,23・・・・光ファイバ
24・・・・集光レンズ,25・・・・試料,
26・・・・試料用ステージ,27・・・・防
振台, 28・・・・軟X線フィルタ,
201・・・・ロータリーポンプ, 202・・・・ロー
タリーポンプ,203・・・・ターボ分子ポンプ,
204・・・・ターボ分子ポンプ,205・・・・コンダクタン
スバルブ, 206・・・・コンダクタンスバルブ,20
7・・・・バタフライバルブ, 300・・・・プレー
ト,301・・・・真空容器, 302・・・・
ステージ,303・・・・回転導入端子, 30
4・・・・ユニバーサルジョイント,305・・・・マイクロメ
ータ, 306・・・・回転導入端子,307・・・・
フレキシブルシャフト, 308・・・・マイクロメー
タ,309・・・・ハンドル, 401・・・・
真空容器,402・・・・プレート, 40
3・・・・ステージ,404A,404B・・・・支持台,
405・・・・固定台,406・・・・マイクロメータ,
407・・・・ワイヤー408,409・・・・プーリ,
500・・・・プレート,501・・・・真空容器,
502・・・・ステージ,503・・・・直線
導入端子, 504・・・・ヒッカケ,505・・
・・ステージ溝部, 506・・・・板バネ,60
1・・・・定盤, 602・・・・金属棒,
603・・・・Oリング, 604・・・・Oリ
ング締め付け用治具,605・・・・真空容器,
606・・・・バネ,607・・・・金属板,
608・・・・Oリング押さえ,609・・・・コンデ
ンサレンズ, 610・・・・X線マスク,611・・
・・縮小投影レンズ, 612・・・・ウエハ,61
3・・・・軟X線透過窓, 614・・・・ロータリ
ーポンプ,615・・・・ロータリーポンプ, 61
6・・・・ターボ分子ポンプ,617・・・・バタフライバル
ブ, 701・・・・金属ターゲット,702・・・・コ
ンデンサレンズ, 703・・・・真空容器,704
・・・・プレート, 705・・・・ターゲット
用ステージ,706・・・・コンデンサ用ステージ, 7
07・・・・軟X線透過窓,708・・・・試料,
709・・・・対物レンズ,710・・・・軟X線検出
器, 711・・・・軟X線フィルタ,712・・
・・真空容器, 713・・・・プレート,7
14・・・・対物レンズ用ステージ, 715・・・・検出器
用ステージ,716・・・・フィルタ用ステージ, 7
17・・・・軟X線透過窓,718・・・・硝子板,
719・・・・高出力パルスレーザ,720・・・・光
ファイバ, 721・・・・集光レンズ,72
2・・・・光ファイバー用ステージ, 723・・・・集光レン
ズ用ステージ,724・・・・遮光板,
725・・・・硝子板,726・・・・防振台
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年11月5日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による真空光学系
は、真空容器内の気圧変化に伴う真空容器の変形により
真空容器に変位が生じても、使用されるべき光学系に伝
達される変位量がその光学系に要求される精度から定ま
る所定の変動誤差量を越えない程度の変位量の小さい部
分で支持された、光学系載置部材を真空容器内に備えて
いる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】
【作用】この真空光学系によれば、真空容器の真空排気
及び大気開放の前後において光学系のアライメントを保
持することができる。即ち、例えば、図1及び2に示す
如く、光学系載置部材であるプレート上に光学系がある
場合、真空容器の変形による該部材を支持する部分の変
形量が光学系に要求される精度よりも小さければ、真空
容器の真空排気及び大気開放の前後において光学系のア
ライメント精度は保持される。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】このように本発明によれば、真空排気の前
後において容器が変形しても真空容器内の光学系のアラ
イメントが狂うことはなく、又外部から真空容器内の移
動機構を操作できるコンパクトな真空光学となる。更
に、軟X線観察時には、真空排気の時間が短く内部や真
空容器の窓などの薄膜構造を破壊しない装置となる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】図9は、真空容器501内のプレート50
0上に固定されたステージ502を真空容器外から操作
するための機構の概略図で、直線導入端子503の先端
のヒッカケ504で、ステージ502の溝部505を押
引することによってステージ502を駆動する。ヒッカ
ケ504と溝部505の間には遊びがあって、真空容器
501が変形してもステージ502が移動しないように
なっている。又、ステージ502には鋼球502aを取
り付けた板バネ506を、ステージの取付け台507に
はステージの移動方向と直角に508aが切ってあるレ
ール508を取り付けてあるので、ステージ502は設
定された幾つかの位置に確実に停止するようになってい
る。図6から図9までの機構はステージ間の取り合い、
マイクロメータの位置,ステージの駆動精度等に応じて
図4のステージに用いられている。更に、各ステージの
マイクロメータの目盛りやステージの位置が大気中から
目視できるように真空容器には窓が付けてある。尚、上
記説明において、ステージ及びステージ支持台の如き被
動部材は移動機構を、ハンドル,回転導入端子及び直線
導入端子の如き部材は駆動機構を、又ユニバーサルジョ
イントやフレキシブルシャフトの如き移動機構と駆動機
構をつないで動力を伝達する部材は動力伝達機構を夫々
構成する。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】次に、可視光反射ミラー4のみを軟X線の
光路外に退避させ、真空容器5,13が所定の真空度に
達した後ゲートバルブ18を開き、パルスレーザ22か
らのレーザ光を集光レンズ24で金属ターゲット1に集
光させ、軟X線を含んだ白色のプラズマ光を発生させ
る。発生した前記プラズマ光はコンデンサレンズ2によ
り収束され、試料25を照明する。試料25を透過・回
折したプラズマ光は対物レンズ3に導かれ、対物レンズ
3の収束作用を受け、可視光反射ミラー12で光路を曲
げられた後軟X線検出器11と共役な位置に結像せしめ
られ、可視光接眼レンズ21によって肉眼で観察され
る。このとき、可視光反射ミラー12の反射防止膜と接
眼レンズ21の透過防止膜とにより、レーザ光の波長の
光はカットされ、スペックルパタンのない良好な可視像
が得られる。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0037
【補正方法】変更
【補正内容】
【0037】本実施例は上述の如く構成されているか
ら、先ず、真空容器703,712を真空排気せずに図
示しない手段によって可視光によるアライメント及びフ
ォーカシングを行った後に真空排気を行っても、プレー
ト704,705が夫々アライメント誤差許容量よりも
変位が小さいため、アライメントが狂うことはない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // G01J 3/02 Z 9215−2G

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空中で使用する光学系を格納する真空
    容器を備えた真空光学系において、前記真空容器内の気
    圧変化に伴う前記真空容器の変形により前記真空容器に
    変位が生じても前記光学系に伝達される変位量が前記光
    学系に要求される精度から定まる所定の変動誤差量を越
    えない程度の変位量の小さい部分で支持された、少なく
    とも前記光学系を載置した部材を前記真空容器内に備え
    ていることを特徴とする真空光学系。
JP4242232A 1992-09-10 1992-09-10 真空光学系 Pending JPH0694900A (ja)

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US08/431,325 US5533083A (en) 1992-09-10 1995-04-28 Vacuum optical system

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