JPH0691151B2 - 半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位置決め装置 - Google Patents
半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位置決め装置Info
- Publication number
- JPH0691151B2 JPH0691151B2 JP62299053A JP29905387A JPH0691151B2 JP H0691151 B2 JPH0691151 B2 JP H0691151B2 JP 62299053 A JP62299053 A JP 62299053A JP 29905387 A JP29905387 A JP 29905387A JP H0691151 B2 JPH0691151 B2 JP H0691151B2
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- Japan
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- wafer
- centering
- positioning device
- holder
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- Jigs For Machine Tools (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体ウエハに成膜,エッチング等の各種
プロセス処理を行うウエハ処理装置に対してロボット操
作によりウエハカセットから1枚宛取り出したウエハを
前記処理装置へ受け渡しするウエハ搬送機器を対象に、
ウエハ搬送途上でウエハをロボットに装着したウエハ保
持具のセンタリング位置へ正しく修正保持させるための
ウエハセンタリング位置決め装置に関する。
プロセス処理を行うウエハ処理装置に対してロボット操
作によりウエハカセットから1枚宛取り出したウエハを
前記処理装置へ受け渡しするウエハ搬送機器を対象に、
ウエハ搬送途上でウエハをロボットに装着したウエハ保
持具のセンタリング位置へ正しく修正保持させるための
ウエハセンタリング位置決め装置に関する。
まず第5図,第6図により通常使用されている頭記ウエ
ハ搬送用ロボットの構成,並びにウエハカセットとウエ
ハ処理装置との間で行うウエハ搬送動作に付いて説明す
る。図において、1は複数枚のウエハ2を上下段に並べ
て収容したカセット、3はプラズマCVD装置等のプロセ
ス反応室に連なるロードロック室、4はロードロック室
3の前段に設けた中継準備室、5a,5bは中継準備室4の
入口,出口側通路を仕切るゲート弁、6は中継準備室内
に配備して室外より搬入されたウエハを受容保持する中
継トレーである。なお中継トレーに受け渡しされたウエ
ハは図示されてないウエハ搬送装置により反応室内に搬
入される。ここで中継準備室4に入口に対向して室外側
にはウエハ搬送機器としてのロボット7が設置されてい
る。
ハ搬送用ロボットの構成,並びにウエハカセットとウエ
ハ処理装置との間で行うウエハ搬送動作に付いて説明す
る。図において、1は複数枚のウエハ2を上下段に並べ
て収容したカセット、3はプラズマCVD装置等のプロセ
ス反応室に連なるロードロック室、4はロードロック室
3の前段に設けた中継準備室、5a,5bは中継準備室4の
入口,出口側通路を仕切るゲート弁、6は中継準備室内
に配備して室外より搬入されたウエハを受容保持する中
継トレーである。なお中継トレーに受け渡しされたウエ
ハは図示されてないウエハ搬送装置により反応室内に搬
入される。ここで中継準備室4に入口に対向して室外側
にはウエハ搬送機器としてのロボット7が設置されてい
る。
このロボット7は周知のメカニカルパンタグラフ型ロボ
ットであって、その構成は駆動部71と、駆動部の出力軸
に結合されて上下(Z方向),旋回(θ方向)操作され
るアーム72と、アーム72の上で左右方向に直線移動操作
されるアーム73と、該アーム73の先端に取付けたウエハ
保持具74とから構成されたものであり、かかる構成でア
ーム72,73を移動操作することにより、ウエハ保持具74
をX,Y,Zの座標系上で移動操作することができる。また
該ロボット7はウエハ保持具74におけるウエハ吸着面の
センタ01を基準点として所望の動きを与えるように運転
制御部に与えたプログラム指令による数値制御で移動操
作される。一方、ウエハ保持具74はウエハ吸着トレーと
してそのトレーの面上にウエハ2をフェースアップに吸
着保持する真空吸着機構75の吸引穴が開口している。
ットであって、その構成は駆動部71と、駆動部の出力軸
に結合されて上下(Z方向),旋回(θ方向)操作され
るアーム72と、アーム72の上で左右方向に直線移動操作
されるアーム73と、該アーム73の先端に取付けたウエハ
保持具74とから構成されたものであり、かかる構成でア
ーム72,73を移動操作することにより、ウエハ保持具74
をX,Y,Zの座標系上で移動操作することができる。また
該ロボット7はウエハ保持具74におけるウエハ吸着面の
センタ01を基準点として所望の動きを与えるように運転
制御部に与えたプログラム指令による数値制御で移動操
作される。一方、ウエハ保持具74はウエハ吸着トレーと
してそのトレーの面上にウエハ2をフェースアップに吸
着保持する真空吸着機構75の吸引穴が開口している。
かかる構成でロボット7の操作によりカセット1から所
定の順位で1枚のウエハ2を取り出してウエハ保持具74
の上面に吸着保持させ、矢印Pの搬送経路をたどって開
放したゲート弁5bを通じて中継準備室4内に搬入し、こ
こでウエハ2を中継トレー6に受け渡す。なお中継トレ
ー6は、その中央部がロボット7側のウエハ保持具74と
干渉し合わないように切欠いた2分割の受け皿構造であ
り、その周縁には内周側に傾斜したテーパ付きガイド部
を備えている。ここで中継トレー6へのウエハ受け渡し
が済むと、ロボット7のウエハ保持具74を室外に後退さ
せ,ゲート弁5bを閉じた上で中継準備室4を真空排気す
る。次いでロードロック室3との間のゲート弁5aを開
き、図示されてないロードロック室側に配備のウエハ搬
送装置により中継トレー6上に受容保持されているウエ
ハ2を受取り、ここから図示されてないプロセス反応室
内へ送り込む。ここで所定のウエハ処理が済み、ウエハ
が搬出経路を通じて室外に搬出されると、続いて前記と
同様にロボット7の操作で次に処理するウエハ2がカセ
ット1より取り出されて中継準備室4に送りこまれる。
定の順位で1枚のウエハ2を取り出してウエハ保持具74
の上面に吸着保持させ、矢印Pの搬送経路をたどって開
放したゲート弁5bを通じて中継準備室4内に搬入し、こ
こでウエハ2を中継トレー6に受け渡す。なお中継トレ
ー6は、その中央部がロボット7側のウエハ保持具74と
干渉し合わないように切欠いた2分割の受け皿構造であ
り、その周縁には内周側に傾斜したテーパ付きガイド部
を備えている。ここで中継トレー6へのウエハ受け渡し
が済むと、ロボット7のウエハ保持具74を室外に後退さ
せ,ゲート弁5bを閉じた上で中継準備室4を真空排気す
る。次いでロードロック室3との間のゲート弁5aを開
き、図示されてないロードロック室側に配備のウエハ搬
送装置により中継トレー6上に受容保持されているウエ
ハ2を受取り、ここから図示されてないプロセス反応室
内へ送り込む。ここで所定のウエハ処理が済み、ウエハ
が搬出経路を通じて室外に搬出されると、続いて前記と
同様にロボット7の操作で次に処理するウエハ2がカセ
ット1より取り出されて中継準備室4に送りこまれる。
ところで前記のウエハ搬送過程では、ウエハ搬送機器と
してのロボット7による中継トレー6への受け渡しの際
にしばしば中継トレー6に対するウエハ2の受け渡し位
置がずれ、ここに中継トレー6のテーパガイド面滑り具
合の不安定さ等が加わってウエハが中継トレー6上で斜
め姿勢に引っ掛かる等の受け渡しミスの生じることがあ
る。なおこのようなウエハ受け渡し位置のずれ発生の原
因は、ウエハ外径寸法の公差等の他にカセット1内での
ウエハ2の収容位置のずれ,ロボット7のウエハ保持具
74でカセット1からウエハ2を吸着して取り出す際の滑
り等でウエハ保持具74に対してウエハ2が正しいセンタ
リング位置に保持されないことが要因となるもので、こ
のようなセンタリング位置にずれがあるとロボット7の
動作精度が如何に高くても中継トレー6への受け渡し位
置にずれが生じるようになる。しかもこのような移し替
えミスが生じると後段でのウエハ搬送工程に支障を来す
ので、その都度装置の運転を停止して作業員によるウエ
ハ位置修正をしなければならない等、装置全体でのスル
ープットの低下をもたらす。
してのロボット7による中継トレー6への受け渡しの際
にしばしば中継トレー6に対するウエハ2の受け渡し位
置がずれ、ここに中継トレー6のテーパガイド面滑り具
合の不安定さ等が加わってウエハが中継トレー6上で斜
め姿勢に引っ掛かる等の受け渡しミスの生じることがあ
る。なおこのようなウエハ受け渡し位置のずれ発生の原
因は、ウエハ外径寸法の公差等の他にカセット1内での
ウエハ2の収容位置のずれ,ロボット7のウエハ保持具
74でカセット1からウエハ2を吸着して取り出す際の滑
り等でウエハ保持具74に対してウエハ2が正しいセンタ
リング位置に保持されないことが要因となるもので、こ
のようなセンタリング位置にずれがあるとロボット7の
動作精度が如何に高くても中継トレー6への受け渡し位
置にずれが生じるようになる。しかもこのような移し替
えミスが生じると後段でのウエハ搬送工程に支障を来す
ので、その都度装置の運転を停止して作業員によるウエ
ハ位置修正をしなければならない等、装置全体でのスル
ープットの低下をもたらす。
この発明は上記の点にかんがみ成されたものであり、そ
の目的はウエハ搬送機器の操作によりカセットから取り
出したウエハを、プロセス処理装置へ受け渡しする以前
のウエハ搬送途上でウエハ保持具に対し正しいセンタリ
ング位置に修正保持させるようにしたウエハ搬送機器の
ウエハハンドリング位置決め装置を提供することにあ
る。
の目的はウエハ搬送機器の操作によりカセットから取り
出したウエハを、プロセス処理装置へ受け渡しする以前
のウエハ搬送途上でウエハ保持具に対し正しいセンタリ
ング位置に修正保持させるようにしたウエハ搬送機器の
ウエハハンドリング位置決め装置を提供することにあ
る。
上記の目的を達成するために、本発明によれば、ロボッ
トアームの先端の上面側に取り付けた吸着式ウエハ保持
具を装備し、ロボットアームの操作によりカセットから
取出したウエハをウエハ処理装置へ受け渡しする半導体
ウエハ搬送機器に対し、ウエハ搬送の途上でウエハをウ
エハ保持具に対してセンタリング位置に修正保持させる
ウエハセンタリング位置決め装置であって、ウエハ保持
具の移動軌跡上に配備した案内基台と、該案内基台のセ
ンタに対して点対象に分散位置して基台面より上方に突
出し起立し、かつ案内基台の半径方向へ可動にガイド支
持された複数本のセンタリングピンと、各センタリング
ピンを同時に同量だけ半径方向へ移動操作する駆動部と
から成り、ウエハ搬送途上でウエハ保持具を前記案内基
台のセンタ位置に移動させ、ここでウエハの吸着を一旦
解除した状態で前記センタリングピンをウエハの周縁に
引き寄せてウエハをウエハ保持具上のセンタリング位置
に修正移動し、この位置でウエハをウエハ保持具へ再度
吸着保持させると共に、前記駆動部が各センタリングピ
ンの基部と嵌合し合うスクロール溝を有する案内基台の
センタに同心配備されたカム板と、該カム板を回転操作
する駆動モータとから成るものとする。
トアームの先端の上面側に取り付けた吸着式ウエハ保持
具を装備し、ロボットアームの操作によりカセットから
取出したウエハをウエハ処理装置へ受け渡しする半導体
ウエハ搬送機器に対し、ウエハ搬送の途上でウエハをウ
エハ保持具に対してセンタリング位置に修正保持させる
ウエハセンタリング位置決め装置であって、ウエハ保持
具の移動軌跡上に配備した案内基台と、該案内基台のセ
ンタに対して点対象に分散位置して基台面より上方に突
出し起立し、かつ案内基台の半径方向へ可動にガイド支
持された複数本のセンタリングピンと、各センタリング
ピンを同時に同量だけ半径方向へ移動操作する駆動部と
から成り、ウエハ搬送途上でウエハ保持具を前記案内基
台のセンタ位置に移動させ、ここでウエハの吸着を一旦
解除した状態で前記センタリングピンをウエハの周縁に
引き寄せてウエハをウエハ保持具上のセンタリング位置
に修正移動し、この位置でウエハをウエハ保持具へ再度
吸着保持させると共に、前記駆動部が各センタリングピ
ンの基部と嵌合し合うスクロール溝を有する案内基台の
センタに同心配備されたカム板と、該カム板を回転操作
する駆動モータとから成るものとする。
上記の構成で、案内基台には例えば4本のセンタリング
ピンが基台上に分散開口した半径方向のガイド溝内にガ
イド支持されており、また駆動部は各センタリングピン
の基部と嵌合し合うスクロール溝を有する案内基台のセ
ンタに同心配備されたカム板と、該カム板を回転操作す
る駆動モータとから成る。
ピンが基台上に分散開口した半径方向のガイド溝内にガ
イド支持されており、また駆動部は各センタリングピン
の基部と嵌合し合うスクロール溝を有する案内基台のセ
ンタに同心配備されたカム板と、該カム板を回転操作す
る駆動モータとから成る。
ここでカセットから取り出したウエハをウエハ処理装置
へ受け渡しする搬送途上でウエハ保持具をセンタリング
位置決め装置へ移送し、ここで案内基台のセンタ位置に
ウエハ保持具のセンタを合わせて停止した上でウエハの
吸着を一旦解く。一方、案内基台側ではセンタリングピ
ンが基台の外周側に後退待機しており、ここで駆動モー
タによりカム板を回転操作すると、複数本の各センタリ
ングピンは工作機械のスクロールチャックと同様に同時
に同量だけ案内基台のガイド溝に沿って求心移動し、こ
の過程でセンタリングピンがウエハの外周縁を挟み込ん
で案内基台のセンタ位置へ引き寄せるようになる。これ
によりウエハ保持具上に自由状態に搭載されているウエ
ハはセンタリングピンによる前記の引き寄せ操作でウエ
ハ保持具のセンタリング位置に移動し、カセットからの
取出し過程で生じたセンタリング位置のずれが正しい位
置に修正されることになる。したがってこの修正位置で
ウエハをウエハ保持具に再度吸着保持させ、続いてロボ
ット操作によりウエハ搬送を再開させることにより、ウ
エハを処理装置側の中継トレーへ移し替えミスなしに正
しく受け渡すことができる。しかも前記のセンタリング
ピンの引き寄せ操作により、同じ装置でウエハサイズの
変更,ウエハ外径公差のバラツキ等にもフレキシブルに
対応させることが可能である。
へ受け渡しする搬送途上でウエハ保持具をセンタリング
位置決め装置へ移送し、ここで案内基台のセンタ位置に
ウエハ保持具のセンタを合わせて停止した上でウエハの
吸着を一旦解く。一方、案内基台側ではセンタリングピ
ンが基台の外周側に後退待機しており、ここで駆動モー
タによりカム板を回転操作すると、複数本の各センタリ
ングピンは工作機械のスクロールチャックと同様に同時
に同量だけ案内基台のガイド溝に沿って求心移動し、こ
の過程でセンタリングピンがウエハの外周縁を挟み込ん
で案内基台のセンタ位置へ引き寄せるようになる。これ
によりウエハ保持具上に自由状態に搭載されているウエ
ハはセンタリングピンによる前記の引き寄せ操作でウエ
ハ保持具のセンタリング位置に移動し、カセットからの
取出し過程で生じたセンタリング位置のずれが正しい位
置に修正されることになる。したがってこの修正位置で
ウエハをウエハ保持具に再度吸着保持させ、続いてロボ
ット操作によりウエハ搬送を再開させることにより、ウ
エハを処理装置側の中継トレーへ移し替えミスなしに正
しく受け渡すことができる。しかも前記のセンタリング
ピンの引き寄せ操作により、同じ装置でウエハサイズの
変更,ウエハ外径公差のバラツキ等にもフレキシブルに
対応させることが可能である。
第1図ないし第4図は本発明実施例を示すものであり、
第1図,第2図は装置全体図、第3図,第4図はウエハ
センタリング位置決め装置の詳細構造を示す平面図,お
よび側断面図を示すものであり、第5図,第6図に対応
する同一部材には同じ符号が付してある。
第1図,第2図は装置全体図、第3図,第4図はウエハ
センタリング位置決め装置の詳細構造を示す平面図,お
よび側断面図を示すものであり、第5図,第6図に対応
する同一部材には同じ符号が付してある。
すなわち、この発明によりロボット7の側方にはロボッ
トアームに取付けられたウエハ保持具74の移動軌跡上に
符号8で示すウエハセンタリング位置決め装置がロボッ
ト本体に支持具9を介して装着配備されている。このセ
ンタリング位置決め装置8は案内基台10と、基台10の上
面側へ突出するように分散配備して半径方向がガイド支
持された4本のセンタリングピン11と、各センタリング
ピン11を同時に同じ量だけ半径方向に移動操作する駆動
部12とから構成されている。
トアームに取付けられたウエハ保持具74の移動軌跡上に
符号8で示すウエハセンタリング位置決め装置がロボッ
ト本体に支持具9を介して装着配備されている。このセ
ンタリング位置決め装置8は案内基台10と、基台10の上
面側へ突出するように分散配備して半径方向がガイド支
持された4本のセンタリングピン11と、各センタリング
ピン11を同時に同じ量だけ半径方向に移動操作する駆動
部12とから構成されている。
ここでセンタリング位置決め装置8の詳細構造を第3
図,第4図により説明すると、まず案内基台10はその上
面にセンタ02を中心として90度間隔にセンタリングピン
11が嵌合する4本の半径方向に伸びたガイド溝13が開口
しており、各ガイド溝13に1本ずつセンタリングピン11
がガイド支持されている。また前記した駆動部12は、案
内基台10の下面側にセンタを合わせて同心配備されたカ
ム板14と、該カム板14を回転操作する駆動モータ15との
組合せから成り、かつカム板14にはセンタリングピン11
の基部と嵌合し合う4本のスクロール溝16が形成されて
いる。かかる駆動部の機構は工作機械等に装備のスクロ
ールチャックと同様な機構であり、駆動モータ15でカム
板14を回転操作することにより、その回転方向に応じて
4本のセンタリングピン11が同時に同量だけガイド溝13
に沿って矢印Q方向に前進,後退移動することになる。
またカム板14は駆動モータ15の駆動軸17に対してラジア
ル軸受18,スラストスリップ板19,および押圧付勢ばね20
で構成されるばね付勢式の継手を介して結合されてい
る。この継手を用いることにより、モータ駆動の際にカ
ム板14に所定トルク以上の負荷が掛かると、カム板14は
モータ駆動軸17に対してスリップするようになる。
図,第4図により説明すると、まず案内基台10はその上
面にセンタ02を中心として90度間隔にセンタリングピン
11が嵌合する4本の半径方向に伸びたガイド溝13が開口
しており、各ガイド溝13に1本ずつセンタリングピン11
がガイド支持されている。また前記した駆動部12は、案
内基台10の下面側にセンタを合わせて同心配備されたカ
ム板14と、該カム板14を回転操作する駆動モータ15との
組合せから成り、かつカム板14にはセンタリングピン11
の基部と嵌合し合う4本のスクロール溝16が形成されて
いる。かかる駆動部の機構は工作機械等に装備のスクロ
ールチャックと同様な機構であり、駆動モータ15でカム
板14を回転操作することにより、その回転方向に応じて
4本のセンタリングピン11が同時に同量だけガイド溝13
に沿って矢印Q方向に前進,後退移動することになる。
またカム板14は駆動モータ15の駆動軸17に対してラジア
ル軸受18,スラストスリップ板19,および押圧付勢ばね20
で構成されるばね付勢式の継手を介して結合されてい
る。この継手を用いることにより、モータ駆動の際にカ
ム板14に所定トルク以上の負荷が掛かると、カム板14は
モータ駆動軸17に対してスリップするようになる。
次に上記構成によるウエハのセンタリング位置決め動作
に付いて説明する。ウエハ2はロボット7の操作により
ウエハ保持具74を介してカセットより一枚宛取り出さ
れ、続くロボットアームの旋回操作による搬送行程の途
上でプロセス処理装置へ受け渡す以前にウエハセンタリ
ング位置決め装置9へ移送され、ここで後述するセンタ
リング修正操作を行った後にプロセス処理装置側に移送
してその中継トレー6に受け渡しされる。
に付いて説明する。ウエハ2はロボット7の操作により
ウエハ保持具74を介してカセットより一枚宛取り出さ
れ、続くロボットアームの旋回操作による搬送行程の途
上でプロセス処理装置へ受け渡す以前にウエハセンタリ
ング位置決め装置9へ移送され、ここで後述するセンタ
リング修正操作を行った後にプロセス処理装置側に移送
してその中継トレー6に受け渡しされる。
すなわちカセット1から取り出したウエハ2がロボット
操作によりウエハ保持具74の上面に吸着保持されたまま
ウエハセンタリング位置決め装置8まで移送されると、
ここでウエハ保持具74をそのウエハ吸着面のセンタ01が
案内基台10のセンタ02と一致するように両者を位置合わ
せして停止し、この位置でウエハ2の吸着を一旦釈放す
る。次に駆動モータ15でカム板14を回転操作し、案内基
台10の外周側に待機位置していた4本のセンタリングピ
ン11をガイド溝13に沿って同時に同量だけウエハ2を外
周より挟み込むようにセンタ02に向けて引き寄せ移動操
作する。これによりカセット1からウエハ2を取り出す
過程でウエハ保持具74との間に生じたセンタリング位置
のずれがセンタリングピン11の引き寄せ過程で修正移動
され、ウエハ2はウエハ保持具74の上でそのセンタ01に
正しくセンタリング位置されるようになる。
操作によりウエハ保持具74の上面に吸着保持されたまま
ウエハセンタリング位置決め装置8まで移送されると、
ここでウエハ保持具74をそのウエハ吸着面のセンタ01が
案内基台10のセンタ02と一致するように両者を位置合わ
せして停止し、この位置でウエハ2の吸着を一旦釈放す
る。次に駆動モータ15でカム板14を回転操作し、案内基
台10の外周側に待機位置していた4本のセンタリングピ
ン11をガイド溝13に沿って同時に同量だけウエハ2を外
周より挟み込むようにセンタ02に向けて引き寄せ移動操
作する。これによりカセット1からウエハ2を取り出す
過程でウエハ保持具74との間に生じたセンタリング位置
のずれがセンタリングピン11の引き寄せ過程で修正移動
され、ウエハ2はウエハ保持具74の上でそのセンタ01に
正しくセンタリング位置されるようになる。
このようにしてセンタリング位置の修正操作が行われる
と、次にウエハ保持具74でウエハ2を再度吸着保持し、
ここからロボット7を再始動してウエハ保持具74をプロ
セス処理装置側の中継トレー6に対する指定の受け渡し
位置まで移送し、ここでウエハ保持具の吸着を解いてウ
エハ2を中継トレー6へ受け渡しする。しかもこの受け
渡し搬送過程では、当初にカセット1から取出した際に
生じたセンタリング位置のずれ分が前記のセンタリング
操作により修正されており、これによりウエハ2は受け
渡しミスの発生なしに中継トレー6に対してそのセンタ
リング位置に精度よく受け渡すことができる。
と、次にウエハ保持具74でウエハ2を再度吸着保持し、
ここからロボット7を再始動してウエハ保持具74をプロ
セス処理装置側の中継トレー6に対する指定の受け渡し
位置まで移送し、ここでウエハ保持具の吸着を解いてウ
エハ2を中継トレー6へ受け渡しする。しかもこの受け
渡し搬送過程では、当初にカセット1から取出した際に
生じたセンタリング位置のずれ分が前記のセンタリング
操作により修正されており、これによりウエハ2は受け
渡しミスの発生なしに中継トレー6に対してそのセンタ
リング位置に精度よく受け渡すことができる。
なお、前記構成においてセンタリングピン11の移動範囲
をあらかじめ十分大きく設定して置くことにより、直径
の異なる各種サイズのウエハに対してもフレキシブルに
対応させることができる。また先記のセンタリングピン
引き寄せ操作の過程でセンタリングピン11を介してウエ
ハ2に過大な力が加わるとウエハが破損するおそれがあ
るが、かかる点前述のようにカム板14と駆動モータ15の
駆動軸との間をばね付勢式継手を介して結合し、所定値
以上の負荷に対してはカム板がスリップするように構成
したことにより、ウエハ2を4本のセンタリングピン11
で挟持した際に過大な力がウエハに加わるのを巧みに逃
がすことができる。
をあらかじめ十分大きく設定して置くことにより、直径
の異なる各種サイズのウエハに対してもフレキシブルに
対応させることができる。また先記のセンタリングピン
引き寄せ操作の過程でセンタリングピン11を介してウエ
ハ2に過大な力が加わるとウエハが破損するおそれがあ
るが、かかる点前述のようにカム板14と駆動モータ15の
駆動軸との間をばね付勢式継手を介して結合し、所定値
以上の負荷に対してはカム板がスリップするように構成
したことにより、ウエハ2を4本のセンタリングピン11
で挟持した際に過大な力がウエハに加わるのを巧みに逃
がすことができる。
以上述べたようにこの発明によれば、上記の構成を採用
した結果、ロボット操作でカセットよりウエハを取り出
す過程で生じたウエハ保持具に対するウエハの位置のず
れを、そのウエハ搬送経路の途上に配備したセンタリン
グ位置決め装置で正しいセンタリング位置に修正した上
で次の工程へ搬送させることができ、これによりウエハ
をウエハ処理装置側へ受け渡しさせる際にその中継トレ
ーへ受け渡しミスなしに位置精度よく,かつ円滑に受け
渡すことができる。しかもそのセンタリング位置修正を
センタリングピンの引き寄せ操作により行うので、ウエ
ハサイズの変更,ウエハ外径公差のバラツキ等にもフレ
キシブルに対応させることができる。
した結果、ロボット操作でカセットよりウエハを取り出
す過程で生じたウエハ保持具に対するウエハの位置のず
れを、そのウエハ搬送経路の途上に配備したセンタリン
グ位置決め装置で正しいセンタリング位置に修正した上
で次の工程へ搬送させることができ、これによりウエハ
をウエハ処理装置側へ受け渡しさせる際にその中継トレ
ーへ受け渡しミスなしに位置精度よく,かつ円滑に受け
渡すことができる。しかもそのセンタリング位置修正を
センタリングピンの引き寄せ操作により行うので、ウエ
ハサイズの変更,ウエハ外径公差のバラツキ等にもフレ
キシブルに対応させることができる。
第1図,第2図は本発明実施例の全体構成を示す平面配
置図,およびその側面図、第3図,第4図はそれぞれ第
1図におけるウエハセンタリング位置決め装置の詳細構
造を示す平面図,および側断面図、第5図,第6図は従
来実施されているカセットとプロセス処理装置との間の
ウエハ搬送系統図である。各図において、 1:カセット、2:ウエハ、3:ウエハ処理装置のロードロッ
ク室、4:中継準備室、6:中継トレー、7:ウエハ搬送機器
としてのロボット、74:ウエハ保持具、75:ウエハ吸着機
構、8:ウエハセンタリング位置決め装置、10:案内基
台、11:センタリングピン、12:駆動部、13:ガイド溝、1
4:カム板、15:駆動モータ、16:スクロール溝、01:ウエ
ハ保持具のセンタ、02:案内基台のセンタ。
置図,およびその側面図、第3図,第4図はそれぞれ第
1図におけるウエハセンタリング位置決め装置の詳細構
造を示す平面図,および側断面図、第5図,第6図は従
来実施されているカセットとプロセス処理装置との間の
ウエハ搬送系統図である。各図において、 1:カセット、2:ウエハ、3:ウエハ処理装置のロードロッ
ク室、4:中継準備室、6:中継トレー、7:ウエハ搬送機器
としてのロボット、74:ウエハ保持具、75:ウエハ吸着機
構、8:ウエハセンタリング位置決め装置、10:案内基
台、11:センタリングピン、12:駆動部、13:ガイド溝、1
4:カム板、15:駆動モータ、16:スクロール溝、01:ウエ
ハ保持具のセンタ、02:案内基台のセンタ。
Claims (3)
- 【請求項1】ロボットアームの先端の上面側に取り付け
た吸着式ウエハ保持具を装備し、ロボットアームの操作
によりカセットから取出したウエハをウエハ処理装置へ
受け渡しする半導体ウエハ搬送機器に対し、ウエハ搬送
の途上でウエハをウエハ保持具に対してセンタリング位
置に修正保持させるウエハセンタリング位置決め装置で
あって、ウエハ保持具の移動軌跡上に配備した案内基台
と、該案内基台のセンタに対して点対象に分散位置して
基台面より上方に突出し起立し、かつ案内基台の半径方
向へ可動にガイド支持された複数本のセンタリングピン
と、各センタリングピンを同時に同量だけ半径方向へ移
動操作する駆動部とから成り、ウエハ搬送途上でウエハ
保持具を前記案内基台のセンタ位置に移動させ、ここで
ウエハの吸着を一旦解除した状態で前記センタリングピ
ンをウエハの周縁に引き寄せてウエハをウエハ保持具上
のセンタリング位置に修正移動し、この位置でウエハを
ウエハ保持具へ再度吸着保持させると共に、前記駆動部
が各センタリングピンの基部と嵌合し合うスクロール溝
を有する案内基台のセンタに同心配備されたカム板と、
該カム板を回転操作する駆動モータとから成ることを特
徴とする半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位
置決め装置。 - 【請求項2】特許請求の範囲第1項記載のウエハセンタ
リング位置決め装置において、案内基台には4本のセン
タリングピンが基台上に分散開口した半径方向のガイド
溝内にガイド支持されていることを特徴とする半導体ウ
エハ搬送機器のウエハセンタリング位置決め装置。 - 【請求項3】特許請求の範囲第1項記載のウエハセンタ
リング位置決め装置において、カム板が駆動モータ軸に
対して所定トルク以上の負荷が加わった際にスリップす
るばね付勢式の継手を介して結合されていることを特徴
とする半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位置
決め装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62299053A JPH0691151B2 (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62299053A JPH0691151B2 (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位置決め装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01140739A JPH01140739A (ja) | 1989-06-01 |
JPH0691151B2 true JPH0691151B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=17867598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62299053A Expired - Lifetime JPH0691151B2 (ja) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | 半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位置決め装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0691151B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3058289B2 (ja) * | 1991-03-19 | 2000-07-04 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | ウエハのプリアライメント方式 |
US6183189B1 (en) * | 1998-11-27 | 2001-02-06 | Chartered Semiconductor Manufacturing, Ltd. | Self aligning wafer chuck design for wafer processing tools |
JP4603209B2 (ja) * | 2001-08-23 | 2010-12-22 | 株式会社アドバンテスト | ウエハ搬送用の位置決め固定装置 |
JP3969349B2 (ja) | 2003-04-18 | 2007-09-05 | ソニー株式会社 | ディスクセンターリング装置 |
JP5953870B2 (ja) * | 2012-03-28 | 2016-07-20 | 富士通株式会社 | ハンドリング装置及びハンドリング方法 |
JP7034700B2 (ja) * | 2017-12-21 | 2022-03-14 | Towa株式会社 | 搬送装置、樹脂成形装置及び樹脂成形品製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56155451A (en) * | 1980-04-30 | 1981-12-01 | Sharp Corp | Electronic computer |
JPS57134757A (en) * | 1981-02-12 | 1982-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Self-diagnosis system for microcomputer |
JPS60205757A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-17 | Toshiba Corp | プログラム暴走検出方法 |
-
1987
- 1987-11-27 JP JP62299053A patent/JPH0691151B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56155451A (en) * | 1980-04-30 | 1981-12-01 | Sharp Corp | Electronic computer |
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JPS60205757A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-17 | Toshiba Corp | プログラム暴走検出方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01140739A (ja) | 1989-06-01 |
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