JPH0684776A

JPH0684776A - 回転機構

Info

Publication number: JPH0684776A
Application number: JP23085492A
Authority: JP
Inventors: Yoshiharu Takizawa; 芳治滝沢; Yoshifumi Honma; 芳文本間; Tomohiro Sato; 友宏佐藤
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1992-08-31
Filing date: 1992-08-31
Publication date: 1994-03-25

Abstract

(57)【要約】【目的】基板を回転させる回転軸と処理に用いた液体を
受ける容器との隙間に液体の浸入の無い回転機構を与え
ることにある。【構成】基板を回転させる回転軸と処理に用いた液体を
受ける容器とのすきまに気体を供給する経路を設ける。【効果】基板を回転させるモータ回転軸周辺に水滴の侵
入を防止することが出来るため、モータの漏電やシャフ
ト，軸受等の腐食を防止しすることが出来る。又、軸受
部から発生した塵埃が洗浄を行うカップ内に侵入するこ
とを防止出来、洗浄処理時の再汚染を防止することが出
来る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板の回転処理装置に
用いる回転機構に係り、特にシリコン基板，ガラス基
板，アルミ基板の洗浄，フォトレジスト塗布，現像，剥
離，各種材料のエッチング処理、およびこれらの処理後
の乾燥処理に用いる回転機構に係る。

【０００２】

【従来の技術】従来技術では、実開平2−24537号記載の
様に、回転可能に設けたプレートの表面にウェハの外周
を取り囲むよう複数の支持片を設置し、その支持片にウ
ェハの周辺を保持するような段差を形成して、洗浄等の
液体を用いる処理を行っていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】洗浄等の液体を用いる
処理の後には、その液体を処理基板から除去する乾燥工
程が必須である。回転機構を持つ装置では、基板を高速
で回転させてそれにより発生する遠心力で基板に付着し
ている液体の除去を行う。例えば、図１において、基板
１はテーブル３上に設けられたホルダ４上に搭載され、
この状態で洗浄処理を受ける。処理後、テーブル３はモ
ータ６の回転により高速回転されてその表面上の洗浄液
が除去される。遠心力によって除去された洗浄液は、テ
ーブル３を取り囲むように形成されたカップ２によって
受け取られ、図に示されていない排水口よりカップ外に
流出される。

【０００４】これらの高速回転を行うモータ６は供給さ
れる電力を回転運動に変換するものであるため、洗浄液
等によっては、漏電や腐食等の好ましくない影響を受け
る。その為、洗浄処理を行うカップ内部とモータ６から
の回転を伝えるシャフト７及びシャフト受け８の雰囲気
を分離し、洗浄液等をシャフト７近傍に至らせない構造
とする必要がある。通常、雰囲気を分離する手段として
は、それを仕切る物をはさみ込むことによって達成され
る。たとえばＯリングやオイルシールなどが仕切るもの
として用いられる。しかし、高速回転する軸とカップと
の間の仕切りにこれらの物を用いた場合、そのシールが
回転の抵抗となり処理条件上好ましい回転数及び、その
回転数に到るまでの時間を得ることが困難となる。その
為、シールすること無く洗浄液等の浸入を防ぐ手段が必
要であった。

【０００５】その為、従来技術では図４に示すような構
造が取られていた。図４に示すテーブル受け９の上部に
はテーブル３が設けられている。また、その中心でシャ
フト受け８と結合しており、モータ６の回転によりテー
ブル受け９も回転される。このテーブル受け９の最外周
部はスカート形状のスカート部９ａとなっている。洗浄
液を受けるカップ２ｃにはカップ受け１０が設けられて
いる。このカップ受け１０の最内周部は円筒形状の円筒
部１０ａであり、スカート部９ａの内部に配置されてい
る。図４に示すように、テーブル受け９のスカート部９
ａはカップ受け１０の円筒部１０ａより外側であり、ス
カート部９ａとカップ受け１０のすきまより、円筒部１
０ａの上端部は高い位置にある。シャフト７の回転によ
り、シャフト受け８，テーブル受け９，スカート部９ａ
は回転されるが、この上下位置関係は回転によっても保
たれる。その為洗浄処理時の水滴１３はスカート部９ａ
の表面を移動し、カップ受け１０へと流れる。これらの
処理時に、処理基板１の裏面の乾燥性を向上させる目的
で、窒素ガスが１４ａの方向に供給されることもある。

【０００６】しかし、スカート部９ａと円筒部１０ａと
のギャップ１２は何もシールされていないため、そのギ
ャップ１２に浸入した水滴１３ｂはその動きを規制され
ることなく、その位置を水滴１３ｃ，水滴１３ｄと移動
させ、シャフトとのギャップ１１に浸入する。その為、
シャフト７を構成している材料などが錆びる等の問題が
生じていた。

【０００７】本発明の目的は、シャフト受け８とカップ
受け１０とのギャップ１１に水滴の浸入の無い回転機構
を与えることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、基板を回転させる回転軸と処理に用いた液体を受け
る容器とのすきまに気体を供給する経路を設けたもので
ある。

【０００９】

【作用】基板を回転させる回転軸と処理に用いた液体を
受ける容器とのすきまに気体を供給することにより、ギ
ャップ内の気体の圧力を正圧とすることができる。それ
によって、供給された気体はギャップ部へ浸入しようと
する液体の進行方向と逆方向に流れ、液体の浸入を妨げ
る力となる。

【００１０】

【実施例】以下本発明の実施例を図１より図３により説
明する。

【００１１】基板１はテーブル３上に設けられたホルダ
４上に搭載される。これらの基板１，テーブル３，ホル
ダ４の周囲はカップ２，２ａ，２ｂ，２ｃで囲まれてい
る。カップ２ｃの上部には、カップ受け１０が設けられ
ている。テーブル３は、テーブル受け９及びシャフト受
け８と接続されている。また、シャフト受け８はモータ
６のシャフト７と接続されている。カップ２ｃには接続
口５が設けられ、この接続口５には窒素ライン５ａが設
けられている。窒素ライン５ａはカップ２ｃの内部に形
成された窒素ライン５ｂと接続され、その経路はカップ
受け１０の窒素ライン５ｃ，５ｄと接続されている。窒
素ライン５ｃはカップ２ｃ内に窒素を吹き出す位置に吐
出口が設けられている。窒素ライン５ｄはシャフト受け
８とカップ受け１０とのギャップ１１に窒素を吹き出す
位置に吐出口が設けられている。テーブル受け９の外周
部にはスカート部９ａが設けられており、このスカート
部９ａとカップ受け１０との間には隙間が設けられてい
る。テーブル３から落下する水滴１３はこのスカート部
９ａの表面を流れてカップ２ｃへと流れ込んで行く。カ
ップ受け１０の内周部には円筒部１０ａが設けられてお
り、この円筒部10ａとシャフト受け８との間はギャップ
１１により隔てられいる。円筒部１０ａとスカート部９
ａとの間もギャップ１２によって隔てられている。ま
た、円筒部10ａの最高位部分の高さはスカート部９ａの
最低位部分の高さより、高い位置となっている。

【００１２】基板１は、ホルダ４に搭載された状態で図
に記されていない洗浄液吐出機構によって洗浄液を吐出
され、洗浄処理を受ける。処理後、テーブル３はモータ
６の回転により高速回転されて、回転で生ずる遠心力に
よってその表面上の洗浄液が除去される。遠心力によっ
て除去された洗浄液は、テーブル３を取り囲むように形
成されたカップ２によって受け取られる。またその一部
はテーブル受け９をつたわり、カップ２へ流れ込む。カ
ップ２に溜った洗浄液は図に示されていない排水口より
カップ外に流出される。

【００１３】テーブル３を回転するとき、接続口５から
窒素ガスが供給される。供給された窒素ガスは窒素ガス
方向１４の方向に沿って流れ、窒素ライン５ｃ及び窒素
ライン５ｄより吐出される。窒素ライン５ｃから吐出さ
れた窒素ガスは、窒素ガス方向１４ａの方向に流れる。
高速回転による遠心乾燥では基板中心部は遠心力が少な
いため、乾燥速度が遅くなる。この窒素ガスはその基板
１の裏面の乾燥を補助するために用いられる。窒素ライ
ン５ｄから吐出された窒素ガスはシャフト受け８とカッ
プ受け１０とのギャップ１１に沿って流れる。その流れ
方向を１４ｂおよび１４ｃに示す。ギャップ１１下方の
窒素ガス方向１４ｂ方向に流れる窒素ガスは、モータ６
とシャフト７の軸受部分から発生する塵埃が、ギャップ
１１からカップ２内に侵入することを防止する働きをす
る。ギャップ１１上方の窒素ガス方向１４ｃ方向に流れ
る窒素ガスはシャフト受け８とカップ受け１０のギャッ
プから、シャフト受け８と円筒部１０ａのギャップを経
由し、円筒部１０ａとスカート部９ａのギャップ１２へ
と流れる。更に、スカート部９ａとカップ受け１０との
ギャップを経由してカップ２内へ流れる。その時の窒素
ガスの方向を１４ｄに示す。テーブル受け９及びスカー
ト部９ａ表面を伝い流れる水滴１３はスカート部９ａと
カップ受け１０との隙間に浸入しようとするが、窒素ガ
ス方向１４ｄがその浸入を阻止する。これにより、シャ
フト受け８とカップ受け１０とのギャップ１１への水滴
の浸入を防止することが出来る。

【００１４】

【発明の効果】本発明によれば、基板を回転させるモー
タ回転軸周辺に水滴の侵入を防止することが出来るた
め、モータの漏電やシャフト、軸受等の腐食を防止しす
ることが出来る。又、軸受部から発生した塵埃が洗浄を
行うカップ内に侵入することを防止出来、洗浄処理時の
再汚染を防止することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の回転機構の平面図（ａ）及
び断面図（ｂ）である。

【図２】図１のＰ部の拡大断面図である。

【図３】図２のＱ部の拡大断面図である。

【図４】従来技術による回転機構の断面図である。

【符号の説明】

１…基板、２，２ａ，２ｂ，２ｃ…カップ、３…テーブ
ル、４…ホルダ、５…接続口、５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ
…窒素ライン、６…モータ、７…シャフト、８…シャフ
ト受け、９…テーブル受け、９ａ…スカート部、１０…
カップ受け、１０ａ…円筒部、１１，１２…ギャップ、
１３，１３ａ,１３ｂ,１３ｃ，１３ｄ…水滴、１４，１
４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ…窒素ガス方向。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を回転させながら液体を用いた処理を
行う回転機構において、基板を回転させる回転軸と処理
に用いた液体を受ける容器とのすきまに気体を供給し
て、そのすきまへの液体の浸入を防止したことを特徴と
する回転機構。
【請求項２】液体を用いた処理の後の乾燥工程に用いる
ことを特徴とする請求項１記載の回転機構。
【請求項３】液体を用いた処理が洗浄処理であることを
特徴とする請求項１又は請求項２記載の回転機構。
【請求項４】液体を用いた処理がフォトレジスト塗布処
理であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の
回転機構。
【請求項５】液体を用いた処理がフォトレジスト現像処
理であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の
回転機構。
【請求項６】液体を用いた処理が各種材料のエッチング
処理であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載
の回転機構。
【請求項７】液体を用いた処理がフォトレジスト剥離処
理であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の
回転機構。
【請求項８】供給する気体が大気であることを特徴とす
る請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の回転機
構。
【請求項９】供給する気体が窒素であることを特徴とす
る請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の回転機
構。
【請求項１０】供給する気体として処理基板の裏面の乾
燥に用いる気体を分岐して用いることを特徴とする請求
項１から請求項９のいずれか１項に記載の回転機構。
【請求項１１】処理を行う基板がシリコンウェハである
ことを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１
項に記載の回転機構。
【請求項１２】処理を行うシリコンウェハ基板が半導体
素子製造用の基板であることを特徴とする請求項１１記
載の回転機構。
【請求項１３】処理を行う基板がガラス板であることを
特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記
載の回転機構。
【請求項１４】処理を行うガラス基板が液晶表示素子製
造用基板であることを特徴とする請求項１３記載の回転
機構。
【請求項１５】処理を行うガラス基板がフォトマスク製
造用基板であることを特徴とする請求項１３記載の回転
機構。
【請求項１６】処理を行うガラス基板が磁気ディスク製
造用基板であることを特徴とする請求項１３記載の回転
機構。
【請求項１７】処理を行う基板がアルミ板であることを
特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記
載の回転機構。
【請求項１８】処理を行うアルミ基板が磁気ディスク製
造用基板であることを特徴とする請求項１７記載の回転
機構。