JPH0676292A - 光量制御装置 - Google Patents
光量制御装置Info
- Publication number
- JPH0676292A JPH0676292A JP4252071A JP25207192A JPH0676292A JP H0676292 A JPH0676292 A JP H0676292A JP 4252071 A JP4252071 A JP 4252071A JP 25207192 A JP25207192 A JP 25207192A JP H0676292 A JPH0676292 A JP H0676292A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- laser
- modulation element
- deflection
- light quantity
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- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 蛇行溝を露光する場合でも、レーザ光を一定
にして安定した露光を行うこと。 【構成】 Ａr(+)レーザ１から出射したレーザ光は、レ
ーザ光量を調整する光量変調素子２と、レーザ光をスイ
ッチングしてピットを露光するためのパルス変調素子３
と、蛇行溝を露光するためレーザ光に偏向角を与えるた
めの偏向素子４とを通過し、対物レンズ６の有効径いっ
ぱいにレーザ光を拡大するビームエキスパンダ５でビー
ム径を拡大し、対物レンズ６によって回転横移動してい
るレジスト板７上に集光して露光を行なう。露光するレ
ーザ光を安定化させる手段として、偏向変調素子４通過
後のレーザ光をビームスプリッタ等でサンプル光を抽出
してサンプル光の光量を検出素子９によって検出し、こ
の検出レベルによってレーザ光量を光量変調素子２で制
御する。
にして安定した露光を行うこと。 【構成】 Ａr(+)レーザ１から出射したレーザ光は、レ
ーザ光量を調整する光量変調素子２と、レーザ光をスイ
ッチングしてピットを露光するためのパルス変調素子３
と、蛇行溝を露光するためレーザ光に偏向角を与えるた
めの偏向素子４とを通過し、対物レンズ６の有効径いっ
ぱいにレーザ光を拡大するビームエキスパンダ５でビー
ム径を拡大し、対物レンズ６によって回転横移動してい
るレジスト板７上に集光して露光を行なう。露光するレ
ーザ光を安定化させる手段として、偏向変調素子４通過
後のレーザ光をビームスプリッタ等でサンプル光を抽出
してサンプル光の光量を検出素子９によって検出し、こ
の検出レベルによってレーザ光量を光量変調素子２で制
御する。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、光量制御装置に関し、より詳細
には、検出素子からの検出レベルを外部信号と比較して
一定となるように光量制御を行ない、露光レーザ光の安
定化を図るようにした音響光学変調器を用いた光量制御
装置に関する。例えば、光ディスク原盤露光機に適用さ
れるものである。
には、検出素子からの検出レベルを外部信号と比較して
一定となるように光量制御を行ない、露光レーザ光の安
定化を図るようにした音響光学変調器を用いた光量制御
装置に関する。例えば、光ディスク原盤露光機に適用さ
れるものである。
【０００２】
【従来技術】従来のレーザビームパワー制御装置におい
ては、レーザビームを出力する出力段に反射ミラーを設
け、該反射ミラーにより反射されたレーザビームを光デ
ィテクタにより検出し、該光ディテクタは入射レーザビ
ームの強度に応じた出力信号を発し、レーザパワー制御
回路を介してレーザ発振器の駆動電流を判断するもので
あった。しかしながら、レーザ発振器から対物レンズま
でに挿入された反射ミラーの温度や温度変化により反射
率が変化したリ、光学部品の透過率の低下することによ
り、安定した露光が行なわれないという問題点があっ
た。
ては、レーザビームを出力する出力段に反射ミラーを設
け、該反射ミラーにより反射されたレーザビームを光デ
ィテクタにより検出し、該光ディテクタは入射レーザビ
ームの強度に応じた出力信号を発し、レーザパワー制御
回路を介してレーザ発振器の駆動電流を判断するもので
あった。しかしながら、レーザ発振器から対物レンズま
でに挿入された反射ミラーの温度や温度変化により反射
率が変化したリ、光学部品の透過率の低下することによ
り、安定した露光が行なわれないという問題点があっ
た。
【０００３】この点を解決するために、例えば、特開平
３−１５４２３８号公報に「光ディスクカッティング装
置におけるレーザビームパワー制御装置」が提供されて
いる。この公報のものは、対物レンズへの入射レーザビ
ームまたは対物レンズを経たレーザビームの強度を検出
し、その検出レベルに応じてレーザ発生手段によるレー
ザ出力を制御するものである。しかしながら、このよう
な従来のものは、例えば、対物レンズからの反射光を検
出してパワー制御を行なう場合、レジスト板上にゴミ等
の欠陥があると、反射率が変化してしまい検出系はレー
ザパワーが変化したと誤検知してしまうので安定な露光
が行なえない。
３−１５４２３８号公報に「光ディスクカッティング装
置におけるレーザビームパワー制御装置」が提供されて
いる。この公報のものは、対物レンズへの入射レーザビ
ームまたは対物レンズを経たレーザビームの強度を検出
し、その検出レベルに応じてレーザ発生手段によるレー
ザ出力を制御するものである。しかしながら、このよう
な従来のものは、例えば、対物レンズからの反射光を検
出してパワー制御を行なう場合、レジスト板上にゴミ等
の欠陥があると、反射率が変化してしまい検出系はレー
ザパワーが変化したと誤検知してしまうので安定な露光
が行なえない。
【０００４】また、対物レンズへの入射ビームをビーム
スプリッタ等でサンプル光を抽出し、サンプル光に対し
てパワー制御を行なう場合には、例えばレジスト板上に
蛇行溝を形成するように露光する場合、露光するレーザ
ビームを対物レンズに対して偏向素子によって偏向角を
与えて対物レンズへ入射させることで蛇行溝（またはピ
ット）を露光するために、検出素子へ入射されるサンプ
ル光も偏向角を与えられた光となり、検出素子へ入射す
る位置が変わってしまう。そのため、検出素子は偏向さ
れたレーザ光すべてを検出するためには大型の検出素子
が必要となるが、検出素子の立ち上がり時間は受光面積
に比例して遅くなるため、高速でレーザ光を偏向させる
と追いつかなくなる場合がある。また、大型の検出素子
の場合、受光部の検出感度の均一性が重要であり、レー
ザ光の入射する位置によって検出感度が違うと、レーザ
光を安定に制御することができない。
スプリッタ等でサンプル光を抽出し、サンプル光に対し
てパワー制御を行なう場合には、例えばレジスト板上に
蛇行溝を形成するように露光する場合、露光するレーザ
ビームを対物レンズに対して偏向素子によって偏向角を
与えて対物レンズへ入射させることで蛇行溝（またはピ
ット）を露光するために、検出素子へ入射されるサンプ
ル光も偏向角を与えられた光となり、検出素子へ入射す
る位置が変わってしまう。そのため、検出素子は偏向さ
れたレーザ光すべてを検出するためには大型の検出素子
が必要となるが、検出素子の立ち上がり時間は受光面積
に比例して遅くなるため、高速でレーザ光を偏向させる
と追いつかなくなる場合がある。また、大型の検出素子
の場合、受光部の検出感度の均一性が重要であり、レー
ザ光の入射する位置によって検出感度が違うと、レーザ
光を安定に制御することができない。
【０００５】偏向素子によってレーザ光を偏向させるに
は、図３に示すように、偏向素子内にある結晶に超音波
を印加して回折光をつくる際に超音波駆動周波数を変え
ることで偏向角（回折角）を変えて行なう。しかし、偏
向角を変えると回折光である１次光の光量は、図２に示
すように変化するため、図４に示すように、安定したレ
ーザ光で露光することはできない。また、Ａr(+)レーザ
から出射したレーザ光は対物レンズまでの間に多数のミ
ラー変調素子等の光学部品が在存し、温湿度の変化等で
光軸の変動で透過率が低下してしまうので、Ａr(+)レー
ザ本体を光量制御しても安定した露光は行なえないとい
う問題点がある。
は、図３に示すように、偏向素子内にある結晶に超音波
を印加して回折光をつくる際に超音波駆動周波数を変え
ることで偏向角（回折角）を変えて行なう。しかし、偏
向角を変えると回折光である１次光の光量は、図２に示
すように変化するため、図４に示すように、安定したレ
ーザ光で露光することはできない。また、Ａr(+)レーザ
から出射したレーザ光は対物レンズまでの間に多数のミ
ラー変調素子等の光学部品が在存し、温湿度の変化等で
光軸の変動で透過率が低下してしまうので、Ａr(+)レー
ザ本体を光量制御しても安定した露光は行なえないとい
う問題点がある。
【０００６】
【目的】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、蛇行溝を露光する場合でもレーザ光を一定にし
て安定した露光を行なう光ディスク原盤露光機のレーザ
光の光量制御装置を提供することを目的としてなされた
ものである。
もので、蛇行溝を露光する場合でもレーザ光を一定にし
て安定した露光を行なう光ディスク原盤露光機のレーザ
光の光量制御装置を提供することを目的としてなされた
ものである。
【０００７】
【構成】本発明は、上記目的を達成するために、（１）
光ディスク原盤露光機の露光光学系において、レーザ光
を変調する光量変調素子と、該光量変調素子により変調
されたレーザ光に偏向角を与える偏向変調素子と、該偏
向変調素子の通過後のレーザ光からサンプル光を抽出
し、該サンプル光を検出する検出素子と、該検出素子で
検出されたサンプル光の受光レベルに応じて光量を制御
する制御回路とから成り、該制御回路からの制御信号を
前記光量変調素子へフィードバックして安定した露光レ
ーザ光を得ること、更には、（２）前記サンプル光は、
前記偏向変調素子の通過後に抽出されること、更には、
（３）前記（２）において、前記サンプル光は、前記偏
向変調素子の通過後の０次光であることを特徴としたも
のである。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
光ディスク原盤露光機の露光光学系において、レーザ光
を変調する光量変調素子と、該光量変調素子により変調
されたレーザ光に偏向角を与える偏向変調素子と、該偏
向変調素子の通過後のレーザ光からサンプル光を抽出
し、該サンプル光を検出する検出素子と、該検出素子で
検出されたサンプル光の受光レベルに応じて光量を制御
する制御回路とから成り、該制御回路からの制御信号を
前記光量変調素子へフィードバックして安定した露光レ
ーザ光を得ること、更には、（２）前記サンプル光は、
前記偏向変調素子の通過後に抽出されること、更には、
（３）前記（２）において、前記サンプル光は、前記偏
向変調素子の通過後の０次光であることを特徴としたも
のである。以下、本発明の実施例に基づいて説明する。
【０００８】図１は、本発明による光量制御装置の一実
施例を説明するための構成図で図中、１はＡr(+)レー
ザ、２は光量変調素子、３はパルス変調素子、４は偏向
変調素子、５はビームエキスパンダ、６は対物レンズ、
７はレジスト板、８はターンテーブル、９は検出素子、
１０は制御回路である。
施例を説明するための構成図で図中、１はＡr(+)レー
ザ、２は光量変調素子、３はパルス変調素子、４は偏向
変調素子、５はビームエキスパンダ、６は対物レンズ、
７はレジスト板、８はターンテーブル、９は検出素子、
１０は制御回路である。
【０００９】Ａr(+)レーザ１から出射したレーザ光は、
レーザ光量を調整する光量変調素子２と、レーザ光をス
イッチングしてピットを露光するためのパルス変調素子
３と、蛇行溝を露光するためのレーザ光に偏向角を与え
るための偏向変調素子４とを通過し、対物レンズ６の有
効径いっぱいにレーザ光を拡大するビームエキスパンダ
５でビーム径を拡大し、対物レンズ６によって回転横移
動しているレジスト板７上に集光して露光を行なってい
る。
レーザ光量を調整する光量変調素子２と、レーザ光をス
イッチングしてピットを露光するためのパルス変調素子
３と、蛇行溝を露光するためのレーザ光に偏向角を与え
るための偏向変調素子４とを通過し、対物レンズ６の有
効径いっぱいにレーザ光を拡大するビームエキスパンダ
５でビーム径を拡大し、対物レンズ６によって回転横移
動しているレジスト板７上に集光して露光を行なってい
る。
【００１０】露光するレーザ光を安定化させる手段とし
て、図１では偏向変調素子４通過後のレーザ光をビーム
スプリッタ等でサンプル光を抽出してサンプル光の光量
を検出素子９によって検出し、この検出レベルによって
レーザ光量を光量変調素子２で制御する。該サンプル光
は、偏向変調素子４通過後の０次光を抽出し、レーザ光
量制御を行なう。偏向変調素子４によって偏向されるレ
ーザ光は１次光であって、０次光は偏向されないので偏
向変調を行なっても、該０次光は検出素子９への入射位
置が移動することなくレーザ光量を検出することができ
る。
て、図１では偏向変調素子４通過後のレーザ光をビーム
スプリッタ等でサンプル光を抽出してサンプル光の光量
を検出素子９によって検出し、この検出レベルによって
レーザ光量を光量変調素子２で制御する。該サンプル光
は、偏向変調素子４通過後の０次光を抽出し、レーザ光
量制御を行なう。偏向変調素子４によって偏向されるレ
ーザ光は１次光であって、０次光は偏向されないので偏
向変調を行なっても、該０次光は検出素子９への入射位
置が移動することなくレーザ光量を検出することができ
る。
【００１１】また、偏向変調素子４で変調されたレーザ
光は、図２に示すような偏向角に対する光量特性（回折
特性）を有しており、本発明の場合、０次光の光量特性
に合わせて光量制御を行なえば、露光レーザ光である１
次光の光量制御を行なうことができる。また、図１中の
点線に示す位置、つまり対物レンズ入射直前の位置に偏
向変調素子４通過後の０次光を検出するように検出素子
９を配置すれば、露光光学系内にある光学部品が温度や
湿度等の変化により、レーザ光量が変化しても、対物レ
ンズ６へ入射する直前で検出し、レーザ光量制御を行な
うので、外乱によるレーザ光量変動をより低減して、安
定した露光レーザ光を得ることができる。
光は、図２に示すような偏向角に対する光量特性（回折
特性）を有しており、本発明の場合、０次光の光量特性
に合わせて光量制御を行なえば、露光レーザ光である１
次光の光量制御を行なうことができる。また、図１中の
点線に示す位置、つまり対物レンズ入射直前の位置に偏
向変調素子４通過後の０次光を検出するように検出素子
９を配置すれば、露光光学系内にある光学部品が温度や
湿度等の変化により、レーザ光量が変化しても、対物レ
ンズ６へ入射する直前で検出し、レーザ光量制御を行な
うので、外乱によるレーザ光量変動をより低減して、安
定した露光レーザ光を得ることができる。
【００１２】
【効果】以上の説明から明らかなように、本発明による
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１記載の光量制御装置は、常に検出素子か
らの検出レベルを外部信号と比較し、一定となるように
光量制御を行なうので、露光レーザ光は安定し、高品質
な安定した露光を行なうことができる。 （２）請求項２記載のサンプル光は、変調素子の最終段
である偏向変調素子通過後のレーザ光なので、他の変調
素子による変動を全て含んだ形で光量制御を行なうので
安定したレーザ光量の制御ができる。 （３）請求項３記載のサンプル光は、偏向変調素子通過
後の０次光を利用することで、偏向変調が行なわれても
検出素子への入射位置が変わらないので安定して高精度
な検出を行なうことができる。
と、以下のような効果がある。 （１）請求項１記載の光量制御装置は、常に検出素子か
らの検出レベルを外部信号と比較し、一定となるように
光量制御を行なうので、露光レーザ光は安定し、高品質
な安定した露光を行なうことができる。 （２）請求項２記載のサンプル光は、変調素子の最終段
である偏向変調素子通過後のレーザ光なので、他の変調
素子による変動を全て含んだ形で光量制御を行なうので
安定したレーザ光量の制御ができる。 （３）請求項３記載のサンプル光は、偏向変調素子通過
後の０次光を利用することで、偏向変調が行なわれても
検出素子への入射位置が変わらないので安定して高精度
な検出を行なうことができる。
【図１】 本発明による光量制御装置の一実施例を説明
するための構成図である。
するための構成図である。
【図２】 本発明による、偏向変調素子で変調されたレ
ーザ光の偏向角に対する光量特性を示す図である。
ーザ光の偏向角に対する光量特性を示す図である。
【図３】 従来の偏向変調素子による偏向状態を示す図
である。
である。
【図４】 従来の偏向変調素子による１次光の様子を示
す図である。
す図である。
１…Ａr(+)レーザ、２…光量変調素子、３…パルス変調
素子、４…偏向変調素子、５…ビームエキスパンダ、６
…対物レンズ、７…レジスト板、８…ターンテーブル、
９…検出素子、１０…制御回路である。
素子、４…偏向変調素子、５…ビームエキスパンダ、６
…対物レンズ、７…レジスト板、８…ターンテーブル、
９…検出素子、１０…制御回路である。
Claims (3)
- 【請求項１】 光ディスク原盤露光機の露光光学系にお
いて、レーザ光を変調する光量変調素子と、該光量変調
素子により変調されたレーザ光に偏向角を与える偏向変
調素子と、該偏向変調素子の通過後のレーザ光からサン
プル光を抽出し、該サンプル光を検出する検出素子と、
該検出素子で検出されたサンプル光の受光レベルに応じ
て光量を制御する制御回路とから成り、該制御回路から
の制御信号を前記光量変調素子へフィードバックして安
定した露光レーザ光を得ることを特徴とする光量制御装
置。 - 【請求項２】 前記サンプル光は、前記偏向変調素子の
通過後に抽出されることを特徴とする請求項１記載の光
量制御装置。 - 【請求項３】 前記サンプル光は、前記偏向変調素子の
通過後の０次光であることを特徴とする請求項２記載の
光量制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4252071A JPH0676292A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4252071A JPH0676292A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光量制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0676292A true JPH0676292A (ja) | 1994-03-18 |
Family
ID=17232149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4252071A Pending JPH0676292A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光量制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676292A (ja) |
-
1992
- 1992-08-27 JP JP4252071A patent/JPH0676292A/ja active Pending
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