JPH0675383A - Washing method for conductive base body for electrophotographic sensitive body - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To prevent the generation of coating defects and image defects by placing a base body on a base body fixing base formed by using a water absorptive material after pulling up from ordinary temp. pure water (drying) and subjecting the inside surface and faucet joint worked parts of the base body to drying (draining). CONSTITUTION:The base body 1 subjected to a rinsing treatment in rinsing tanks 21, 31, 41 are immersed into an ordinary temp. immersing tank 50 filled with the ordinary temp. pure water or ion exchange water. This base body is pulled up and is dried. The base body 1 subjected to the pulling up from the ordinary temp. pure water and the drying is placed on the base body fixing base 2 formed by using the water absorptive material, where the drying of the residual water on the inside surface of the base body and in the faucet joint worked parts thereof is executed. Prescribed clean air is blown from an air nozzle 3 to the inside surface of the base body placed on the base body fixing base 2. Consequently, the residual moisture on the inside surface of the base body is displaced to the lower part and is absorbed together with the remaining moisture in the faucet joint worked parts to the base body fixing base formed by using the water absorptive material, by which the drying treatment of the inside surface of the base body is executed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体の導電性
基体の洗浄方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for cleaning a conductive substrate of an electrophotographic photoreceptor.

【０００２】[0002]

【従来の技術】一般的に電子写真感光体は、ドラム状導
電性基体上に感光層を形成したものである。このドラム
状導電性基体は円筒状のアルミを鏡面加工又は板状のア
ルミをインパクト成形することにより作成される。鏡面
加工又はインパクト成形中に基体表面には、切削油のミ
スト、空気中のダスト、切粉等が付着するため、基体表
面を洗浄処理して除去した後に、縮合多環顔料、アゾ顔
料等の電荷発生物質、樹脂の結着剤等から成る電荷発生
層及びヒドラゾン系又はアリールアミン系電荷輸送物
質、樹脂の結着剤、酸化防止剤等から成る電荷輸送層を
順次塗布・積層し、乾燥して感光層を形成する。2. Description of the Related Art Generally, an electrophotographic photosensitive member is one in which a photosensitive layer is formed on a drum-shaped conductive substrate. This drum-shaped conductive substrate is formed by mirror-finishing cylindrical aluminum or impact-forming plate-shaped aluminum. Cutting oil mist, dust in the air, chips, etc. adhere to the surface of the substrate during mirror surface processing or impact molding, so after removing the substrate surface by washing, condensation polycyclic pigments, azo pigments, etc. A charge generation layer composed of a charge generation material, a resin binder, etc. and a charge transfer layer composed of a hydrazone or arylamine charge transport material, a resin binder, an antioxidant, etc. are sequentially applied, laminated and dried. To form a photosensitive layer.

【０００３】電荷発生層及び電荷輸送層は、上述した電
荷発生層及び電荷輸送層を構成する物質をそれぞれ含有
する塗布液にドラム状導電性基体を公知の方法で浸漬す
ることによって該基体の表面に形成される。ここでおこ
なう浸漬塗布方法としては、特に制限はなく公知の方法
が使用し得るが、例えば特開昭４９−１３０７３６、特
開昭５７−５０４７及び特開昭５９−４６１７１に開示
される方法が挙げられる。The charge-generating layer and the charge-transporting layer are prepared by immersing the drum-shaped conductive substrate in a coating solution containing the above-mentioned substances constituting the charge-generating layer and the charge-transporting layer by a known method. Is formed. The dip coating method carried out here is not particularly limited and known methods can be used. Examples thereof include the methods disclosed in JP-A-49-130736, JP-A-57-5047 and JP-A-59-46171. To be

【０００４】浸漬塗布方法において、前処理である導電
性基体表面の洗浄が不十分であると、その表面に油、ダ
スト等が残り、塗布の際にハジキ、シミ等の塗布欠陥の
原因となる。このような電子写真感光体上に発生した欠
陥は、コピー画像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン画像
のムラ等となって現われ、画像品質に悪影響を及ぼし、
かような電子写真感光体は実用に適さないものである。In the dip coating method, if the surface of the conductive substrate, which is a pretreatment, is insufficiently cleaned, oil, dust and the like remain on the surface and cause coating defects such as cissing and stains during coating. . Defects generated on such an electrophotographic photosensitive member appear as black spots, white spots, and halftone image unevenness in a copy image, which adversely affects image quality.
Such an electrophotographic photoreceptor is not suitable for practical use.

【０００５】基体表面の洗浄としては、通常有機溶媒
中、又は必要に応じて加温された有機溶媒中に基体を浸
漬処理又は超音波の作用下で浸漬処理する浸漬洗浄；基
体を溶媒に浸漬中又は基体に溶媒をシャワーリングしな
がらブラシ、スポンジ等により物理的に擦する接触洗
浄；溶媒を高圧下でスリットより基体表面に噴出するジ
ェット洗浄及び溶媒蒸気中に基体を挿入する蒸気洗浄が
挙げられ、これらの単独又は組合せにより基体表面の洗
浄がおこなわれている。The surface of the substrate is usually washed by dipping or dipping the substrate in an organic solvent or an organic solvent heated if necessary under the action of ultrasonic waves; dipping the substrate in a solvent. Contact cleaning in which the solvent is physically rubbed with a brush, sponge, etc. while showering the medium or the substrate; jet cleaning in which the solvent is jetted from the slit to the substrate surface under high pressure and vapor cleaning in which the substrate is inserted into the solvent vapor. The surface of the substrate is cleaned by using these alone or in combination.

【０００６】ここで使用される溶媒としては、メチレン
クロライド、エチレンクロライド、１，１，１−トリク
ロルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチレン
等の塩素系溶剤、フロン−１１２、フロン−１１３等の
フッ素系溶剤、該フッ素系溶剤とメタノール、メチレン
クロライド等との混合溶剤、ベンゼン、トルエン、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、石油系
炭化水素等及びこれらの混合物が挙げられる。これらの
溶剤中には引火性、発火性を有するもの、人体に有害で
あるので使用許容濃度が低いもの、洗浄能力が低いもの
が含まれており、最も一般的に使用されている溶剤は、
１，１，１−トリクロルエタンである。しかしながら、
１，１，１−トリクロルエタンは、洗浄能力が高い、取
扱いが容易等の長所があるものの、地球温暖化、オゾン
層の破壊等を引起す物質の一つであると推考され、フロ
ンとともに全世界でその削減が決定されており、１，
１，１−トリクロルエタンの代替洗浄液の提供又は代替
洗浄法の開発が要求されている。Examples of the solvent used here include chlorine-based solvents such as methylene chloride, ethylene chloride, 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene and perchlorethylene, and fluorine-based solvents such as CFC-112 and CFC-113. Solvents, mixed solvents of the fluorine-based solvent and methanol, methylene chloride, etc., benzene, toluene, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, petroleum hydrocarbons and the like, and mixtures thereof. These solvents include those that are flammable and ignitable, those that have a low permissible concentration because they are harmful to the human body, and those that have a low cleaning ability.The most commonly used solvents are:
It is 1,1,1-trichloroethane. However,
Although 1,1,1-trichloroethane has the advantages of high cleaning ability and easy handling, it is considered to be one of the substances that cause global warming and ozone layer depletion. The reduction has been decided in the world,
It is required to provide an alternative cleaning solution for 1,1-trichloroethane or to develop an alternative cleaning method.

【０００７】１，１，１−トリクロルエタン等の有機溶
媒を用いる洗浄の代替として、純水又は界面活性剤含有
水に浸漬洗浄する、所謂水洗浄が提案されている。As an alternative to cleaning using an organic solvent such as 1,1,1-trichloroethane, so-called water cleaning has been proposed, in which immersion cleaning is performed in pure water or water containing a surfactant.

【０００８】前述の有機溶媒による洗浄後の乾燥は、空
気中への開放により溶媒が瞬時に蒸発して乾燥が完了す
るが、水洗浄の場合は、常温における水の蒸発速度が遅
いので、空気中のダストが付着したり、乾燥ムラ、シミ
が導電性基体表面に生じたりする傾向があり、この導電
性基体を用いて製造した電子写真感光体は、コピー画像
に黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン等の画像欠陥を生じる
ことが度々ある。In the drying after washing with the organic solvent described above, the solvent is instantly evaporated by opening to the air to complete the drying, but in the case of water washing, the evaporation rate of water at room temperature is slow, There is a tendency for dust inside to adhere, uneven drying, and stains to occur on the surface of the conductive substrate.Electrophotographic photoreceptors produced using this conductive substrate have black spots, white spots, and half spots on copy images. Image defects such as tones often occur.

【０００９】洗浄処理された導電性基体表面の乾燥処理
として、濯き処理後に、１５〜３５℃の常温純水に該基
体と浸漬・引上げることにより乾燥させる方法が提案さ
れている。比較的蒸発・乾燥の速い３５℃以上の温純水
よりも低い温度の常温純水を用いる理由としては、導電
性基体材料としてのアルミニウム合金としてはその加工
性、画像形成能等を考慮して比較的純度の高いアルミニ
ウム合金が使用されている。純度の高いアルミニウムは
反応性が高く、温水浸漬槽内に溜まる水蒸気と基体の表
面が反応して水酸化物、水和物等が生成することがあ
る。この表面に生成した水酸化物、水和物等はぬれ性等
の物理的特性の変化を生じせしめ、感光材塗布の際の塗
布欠陥の原因となり、コピー画像において黒点、白点の
画像欠陥原因となり、且つ良品率の低下の原因となるた
めである。As a drying treatment for the surface of the conductive substrate that has been washed, there has been proposed a method in which after rinsing, the substrate is dipped in normal temperature pure water at 15 to 35 ° C. and pulled up to be dried. The reason for using room temperature pure water having a temperature lower than that of hot pure water of 35 ° C. or higher, which is relatively quick to evaporate and dry, is that aluminum alloy as a conductive substrate material has a relatively good workability and image forming ability. A high-purity aluminum alloy is used. Aluminum with high purity has high reactivity, and the water vapor accumulated in the hot water immersion tank may react with the surface of the substrate to form a hydroxide, a hydrate or the like. Hydroxides, hydrates, etc. formed on this surface cause changes in physical properties such as wettability, which causes coating defects when coating photosensitive materials, and causes of image defects such as black spots and white spots in copy images. This is also the cause of a decrease in the yield rate.

【００１０】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、常温純
水を使用するため、基体表面に比べ比較的粗度の粗い基
体内面や加工形状の複雑なインロー加工部においては乾
燥が不充分となり、残水分が次の感光層塗布工程におい
て、塗布液に混入し、塗布欠陥を発生する要因となり、
ひいては塗布液劣化の原因となる。However, since pure water at room temperature is used, the inner surface of the substrate, which is relatively rougher than the surface of the substrate, and the spigot-processed portion having a complicated processing shape, are not sufficiently dried, and residual water content remains. In the next photosensitive layer coating step, it becomes a factor that mixes in the coating liquid and causes coating defects,
As a result, it causes deterioration of the coating liquid.

【００１１】そこで、乾燥不充分となりやすい基体内面
及びインロー加工部の確実な乾燥を行うことによって、
画像欠陥の発生の無い、良質な画像特性の有機電子写真
感光体基体の提供が望まれている。Therefore, by surely drying the inner surface of the substrate and the spigot processed portion which are liable to be insufficiently dried,
It is desired to provide an organic electrophotographic photosensitive member substrate having high-quality image characteristics without causing image defects.

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者等の鋭意研究の
結果、有機電子写真感光体用導電性基体表面の水洗浄に
おいて、濯ぎ工程後の乾燥工程において、常温純水引上
（乾燥）の後に、水吸収性材料を用いた基体固定台の上
に基体を載せ、基体内面及びインロー加工部の乾燥（水
切り）を行うことにより、乾燥が充分に行なえ、基体の
残水分が塗布液に混入する恐れがなくなることを見出し
た。その結果として、塗布欠陥、画像欠陥の生じない有
機電子写真感光体を高良品率で製造し得ることを見出
し、この知見に基づいて本発明を成すに至った。Means for Solving the Problems As a result of earnest studies by the present inventors, in washing the surface of a conductive substrate for an organic electrophotographic photoreceptor with water, in a drying step after a rinsing step, normal temperature pure water is pulled up (dried). After that, the base is placed on the base fixing table using a water-absorbent material, and the inner surface of the base and the spigot processing part are dried (drained) to ensure sufficient drying, and the residual water content of the base is mixed in the coating liquid. I found that there was no fear of doing it. As a result, they have found that an organic electrophotographic photosensitive member free from coating defects and image defects can be manufactured with a high yield rate, and have completed the present invention based on this finding.

【００１３】[0013]

【作用】図１は本発明の洗浄方法の概略を示す図であ
る。切削加工又はインパクト成形された基体１はレール
３に配置されたロボットハンド２に指示されている。第
１の洗浄槽１１は純水、イオン交換水又は界面活性剤含
有イオン交換水又は純水の洗浄液１８で満たされてお
り、該洗浄液はヒーター１６により４０〜６０℃に加熱
されており、且つ洗浄槽１１底部には超音波発信器１７
が備付けられ、基体浸漬時に超音波が発振するようにな
っている。洗浄槽１１にはパイプ１２から洗浄液がタン
ク（図示せず）より定常的に送り込まれている。洗浄に
よって基体表面から除去された油、ダスト、切粉が分散
している洗浄液は配管１９からポンプ１４によりフィル
ター１５を経て循環し、ダスト、切粉等はフィルター１
５に補足される。基体の浸漬によりオーバーフローする
液は配管１３から排出される。排出された洗浄液は排液
処理装置（図示せず）により処理される。1 is a diagram showing the outline of the cleaning method of the present invention. The base body 1 that has been cut or impact-formed is instructed by the robot hand 2 that is arranged on the rail 3. The first cleaning tank 11 is filled with a cleaning liquid 18 of pure water, ion-exchanged water, or ion-exchanged water containing a surfactant or pure water, and the cleaning liquid is heated to 40 to 60 ° C. by a heater 16, and An ultrasonic transmitter 17 is provided at the bottom of the cleaning tank 11.
Is provided so that ultrasonic waves are oscillated when the substrate is dipped. A cleaning liquid is constantly fed into the cleaning tank 11 from a pipe (not shown) through a pipe 12. The cleaning liquid in which the oil, dust, and chips removed from the surface of the substrate by the cleaning is dispersed is circulated from the pipe 19 through the filter 15 by the pump 14, and the dust, chips, etc. are filtered by the filter 1.
5 is supplemented. The liquid that overflows due to the immersion of the substrate is discharged from the pipe 13. The discharged cleaning liquid is processed by a drainage processing device (not shown).

【００１４】第２のリンス槽２１、第３のリンス槽３１
及び第４のリンス槽４１にはそれぞれリンス液２５，３
５，４５としてイオン交換水又は純水が満されていて濯
ぎ処理がなされる。それぞれのリンス槽底部には超音波
発振器２４，３４，４４が配備され、各リンス槽の洗浄
液は、それぞれ配管２６，３６，４６からポンプ２２，
３２，４２によりフィルター２３，３３，４３を経て循
環し、該フィルターによって、ダスト、切粉等が補足さ
れる。リンス液はタンク６０よりリンス槽４１に供給さ
れ、第４のリンス槽４１からのオーバーフローにより第
３のリンス槽３１にリンス液が供給され、第３のリンス
槽３１からのオーバーフローにより、第２のリンス槽２
１にリンス液が供給され、且つ第２のリンス槽２１から
オーバーフローする液は配管２７から排出され、排液処
理装置で処理される。図１の方法において界面活性剤含
有水の洗浄液で満された洗浄槽は少なくとも１槽あれば
良い。The second rinse tank 21 and the third rinse tank 31
And rinse liquids 25 and 3 in the fourth rinse tank 41, respectively.
Ion-exchanged water or pure water is filled as 5, 45 and a rinsing process is performed. Ultrasonic oscillators 24, 34, 44 are provided at the bottoms of the respective rinse tanks, and cleaning liquids for the respective rinse tanks are supplied from the pipes 26, 36, 46 to the pump 22,
It circulates through the filters 23, 33 and 43 by 32 and 42, and dust, cutting chips, etc. are supplemented by the filters. The rinse liquid is supplied from the tank 60 to the rinse tank 41, the rinse liquid is supplied to the third rinse tank 31 by the overflow from the fourth rinse tank 41, and the second rinse liquid is supplied by the overflow from the third rinse tank 31. Rinse tank 2
The rinsing liquid is supplied to No. 1 and the liquid overflowing from the second rinsing tank 21 is discharged from the pipe 27 and treated by the drainage treatment device. In the method of FIG. 1, at least one cleaning tank may be filled with the cleaning solution containing the surfactant-containing water.

【００１５】本発明で使用する界面活性剤としては、基
体を腐蝕することのないノニオン系界面活性剤及び／又
はアニアン系界面活性剤が使用し得、その具体例として
は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレン・ポリオキシプロピレン・ブロックコ
ポリマー型及びノニルフェノールポリオキシエチンエー
テルのノニオン系界面活性剤及びアルキルベンゼン、高
級アルコール、α−オレフィン等の硫酸塩、ケイ酸塩、
炭酸塩又はリン酸塩のアニオン系界面活性剤が挙げられ
る。The surfactant used in the present invention may be a nonionic surfactant and / or an anionic surfactant that does not corrode the substrate. Specific examples thereof include polyoxyethylene alkylphenyl. Nonionic surfactants of ether, polyoxyethylene / polyoxypropylene / block copolymer type and nonylphenol polyoxyethyne ether, and alkylbenzenes, higher alcohols, sulfates such as α-olefins, silicates,
Examples thereof include carbonate or phosphate anionic surfactants.

【００１６】又、洗浄助剤（ビルダー）として、炭酸ナ
トリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリ
ウム、ケイ酸ナトリウム、硫酸ナトリウム等の無機ビル
ダー、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロー
ス、有機アミン等の有機ビルダーを洗浄液に添加しても
良い。As a cleaning aid (builder), an inorganic builder such as sodium carbonate, sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium silicate or sodium sulfate, or an organic builder such as carboxymethyl cellulose, methyl cellulose or organic amine is added to the cleaning liquid. You may.

【００１７】本発明の洗浄液の界面活性剤の濃度は０．
５〜３０％、好ましくは４〜１５％である。The concentration of the surfactant in the cleaning solution of the present invention is 0.
It is 5 to 30%, preferably 4 to 15%.

【００１８】本発明の第１の洗浄槽における洗浄時間
（浸漬時間）は、０．５〜１０分間、好ましくは１．５
〜５分間で、第２〜第４のリンス槽における浸漬時間も
それぞれ０．５〜１０分間、好ましくは１．５〜５分間
である。尚、浸漬中、必要に応じて、基体を揺動させて
も良い。The cleaning time (immersion time) in the first cleaning tank of the present invention is 0.5 to 10 minutes, preferably 1.5.
~ 5 minutes, the immersion time in the second to fourth rinse tanks is also 0.5 to 10 minutes, preferably 1.5 to 5 minutes. Note that the base body may be swung if necessary during the immersion.

【００１９】リンス槽２１，３１，４１で濯ぎ処理がな
された基体１は、常温純水又はイオン交換水が満されて
いる常温水浸漬槽５０に浸漬され、引き上げられて、乾
燥処理が施される。常温水浸漬槽では純水又はイオン交
換水が１５〜３５℃、好ましくは２５〜３０℃に保たれ
ている。The substrate 1 rinsed in the rinse tanks 21, 31, 41 is immersed in a room temperature water immersion tank 50 filled with room temperature pure water or ion-exchanged water, lifted, and dried. It Pure water or ion-exchanged water is kept at 15 to 35 ° C, preferably 25 to 30 ° C in the room temperature water immersion tank.

【００２０】純水又はイオン交換水の温度が３５℃を超
えると、水による基体（アルミ）の腐食が生じ易くな
り、又１５℃未満になると、乾燥に時間がかかり乾燥ム
ラやシミが生じ易くなる。本発明の常温純水への浸漬時
間は０．５〜５分、好ましくは１〜３分である。尚、浸
漬中に必要に応じて基体を揺動させても良い。If the temperature of pure water or ion-exchanged water exceeds 35 ° C., corrosion of the substrate (aluminum) by water is likely to occur, and if it is less than 15 ° C., it takes a long time to dry and uneven drying and stains are likely to occur. Become. The immersion time in the room temperature pure water of the present invention is 0.5 to 5 minutes, preferably 1 to 3 minutes. Note that the base body may be swung during dipping if necessary.

【００２１】次いで、常温純水引上げ乾燥を施された基
体１は、図２に示すように、水吸収性材料を用いた基体
固定台２の上に置かれ、基体内面及びインロー加工部の
残水分の乾燥を行う。基体固定台２の上に置かれた基体
内面には、エアーノズル３から５kg／cm² 以上のクリー
ンエアーが吹き付けられる。その結果、基体内面の残水
分は下部へ押しやられ、水吸収性材料を用いた基体固定
台にインロー部分の残水分と共に吸収され、基体内面の
乾燥処理が施される。本発明を実施することにより残水
分を散乱させることなく基体内面の乾燥処理が行なえ
る。Next, as shown in FIG. 2, the substrate 1 that has been subjected to normal temperature pure water pull-up and drying is placed on a substrate fixing base 2 using a water-absorbing material, and the inner surface of the substrate and the rest of the spigot processing part are left. Dry the water. Clean air of 5 kg / cm ² or more is blown from the air nozzle 3 onto the inner surface of the substrate placed on the substrate fixing base 2. As a result, the residual moisture on the inner surface of the substrate is pushed downward, and is absorbed together with the residual moisture in the spigot portion by the substrate fixing base using a water-absorbing material, and the inner surface of the substrate is dried. By carrying out the present invention, the inner surface of the substrate can be dried without scattering residual water.

【００２２】図３〜５は、本発明の洗浄工程における乾
燥に使用する基体固定台の実施例を示す概略図である。
水吸収性材料全てで基体固定台を構成することは、強度
・加工性・再利用性コスト性を考えると非常に困難であ
る。このため、基体固定台の一部を水吸収性材料を用い
て構成する。 その一例としてシート状に加工した水吸
収性材料４１を固定台治具２０、２１で挟んだもの（図
３）、輪状に加工した水吸収性材料４２を固定台治具２
２の基体インロー部と接する部分にまいたもの（図
４）、スポンジ状に加工された水吸収性材料４３を、基
体内面及びインロー加工部に接するよう加工したものを
固定台治具２３に取りつけたもの（図５）などが挙げら
れる。又、本発明は以上の基体固定台に限定されるもの
ではない。また、一度使用された水吸収性材料は、熱風
加熱乾燥等を施され再利用又は廃棄される。3 to 5 are schematic views showing an embodiment of a substrate fixing base used for drying in the cleaning step of the present invention.
It is very difficult to construct the base fixing base with all the water-absorbing materials in view of strength, processability, reusability and cost. Therefore, a part of the base fixing base is made of a water absorbing material. As an example thereof, a sheet-shaped water-absorbent material 41 is sandwiched between fixing base jigs 20 and 21 (FIG. 3), and a ring-shaped water-absorbing material 42 is fixed base jig 2.
2 is attached to the base table inlay part (FIG. 4), and the sponge-shaped water-absorbent material 43 processed so as to contact the inner surface of the base and the inlay processed part is attached to the fixture base jig 23. The ones (Fig. 5) are included. Further, the present invention is not limited to the above base fixing base. In addition, the water-absorbent material that has been used once is subjected to hot air heating drying, etc., and then reused or discarded.

【００２３】図２〜５に示した水吸収性材料は、水吸収
性物質から成っており、ダスト等の発生により洗浄後の
基体を再汚染させることのないもので、水吸収性の高い
ものである。例えば、（イ）紙、（ロ）不織布（再汚染
防止のための接着剤を使用していないもので、材質とし
ては、綿、麻、絹等の天然繊維、レーヨン、ナイロン、
ポリエステル等の吸収性、親水性に富む合成繊維が挙げ
られ、これらの繊維を「朝シャンタオル」に代表される
極細繊維に仕上げたものが好ましい）、（ハ）スポンジ
（材質としては、海綿、ポリビニルアルコール、ポリエ
チレン、ウレタン、軟質塩化ビニル樹脂、ナイロン、ポ
リエステル、ポリプロピレン等が挙げられる）を例示し
得る。上述のような材質の物質にポリアクリル酸ソーダ
に代表される高分子水吸収剤を含有させたものは、吸収
性が更に高まり、基体表面がより効果的に乾燥されるの
で好ましい。The water-absorbent material shown in FIGS. 2 to 5 is made of a water-absorbent substance, does not recontaminate the substrate after cleaning due to generation of dust or the like, and has a high water-absorbent property. Is. For example, (a) paper, (b) non-woven fabric (not using an adhesive for preventing recontamination, the material is natural fiber such as cotton, hemp, silk, rayon, nylon,
Synthetic fibers such as polyester, which are highly absorbent and hydrophilic, are preferred. It is preferable to finish these fibers into ultrafine fibers typified by "morning Shan towel", (c) sponge (material: sponge, Examples thereof include polyvinyl alcohol, polyethylene, urethane, soft vinyl chloride resin, nylon, polyester, polypropylene, and the like. It is preferable to use a substance made of the above-mentioned material containing a polymer water absorbent represented by sodium polyacrylate because the absorbency is further enhanced and the surface of the substrate is more effectively dried.

【００２４】水吸収性材料は、その吸収性を増すために
はそれらの表面積（吸収面積）が大きい方が良く、接触
部分に小突起を配列したブラシ状やクレープ状のものが
好ましい。 上述のクリーンエアーによる乾燥処理時間
は０．５〜１０分間、好ましくは１〜５分間である。The water-absorbent material preferably has a large surface area (absorption area) in order to increase its absorbability, and a brush-like or crepe-like material in which small protrusions are arranged at the contact portion is preferable. The drying treatment time with the above-mentioned clean air is 0.5 to 10 minutes, preferably 1 to 5 minutes.

【００２５】洗浄処理された導電性基体表面に公知の方
法で感光層を形成する。例えば、浸漬塗布法、リング方
式塗布法又はスプレー塗布法によって、洗浄処理された
導電性基体表面に電荷発生層を形成し、次いで、電荷発
生層の上に浸漬塗布法又はスプレー塗布法によって電荷
輸送層を形成する。A photosensitive layer is formed on the surface of the conductive substrate that has been washed by a known method. For example, a charge generating layer is formed on the surface of the conductive substrate that has been subjected to the cleaning treatment by a dip coating method, a ring coating method or a spray coating method, and then the charge transport layer is formed on the charge generating layer by a dip coating method or a spray coating method. Form the layers.

【００２６】本発明で用いる電子写真感光体の導電性基
体としては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレ
ス、真ちゅう等の金属の円筒状基体又は薄膜シート、ま
たはアルミニウム、錫合金、酸化インジウム等をポリエ
ステルフィルムあるいは紙、金属フィルムの円筒状基体
などに蒸着したものが上げられる。As the electroconductive substrate of the electrophotographic photosensitive member used in the present invention, a cylindrical substrate or thin film sheet of a metal such as aluminum, copper, nickel, stainless steel or brass, or a polyester film of aluminum, tin alloy, indium oxide or the like is used. Alternatively, it may be vapor-deposited on paper, a cylindrical substrate of a metal film, or the like.

【００２７】感光体層の接着性改良、塗布性改良、基体
上の欠陥の被覆及び基体から電荷発生層への電荷注入性
改良などのために下引き層が設けられることが有る。下
引き層の材料としては、ポリアミド、共重合ナイロン、
カゼイン、ポリビニルアルコール、セルロース、ゼラチ
ン等の樹脂が知られている。これらを各種有機溶媒に溶
解し、膜厚が０．１〜５μｍ程度になるように導電性円
筒状基体上に塗布される。An undercoat layer may be provided for the purpose of improving the adhesion of the photoreceptor layer, improving the coating property, covering defects on the substrate, improving the charge injection property from the substrate to the charge generating layer, and the like. As the material of the undercoat layer, polyamide, copolymer nylon,
Resins such as casein, polyvinyl alcohol, cellulose and gelatin are known. These are dissolved in various organic solvents and coated on a conductive cylindrical substrate so that the film thickness is about 0.1 to 5 μm.

【００２８】電荷発生層は、光照射により電荷を発生す
る電荷発生材料を主成分とし、必要に応じて公知の結合
剤、可塑剤、増感剤を含有し、膜厚が１．０μｍ以下
（乾燥膜厚）となるように導電性円筒状基体又は下引き
層の上に塗布される。The charge generation layer contains a charge generation material which generates charges upon irradiation with light as a main component, and if necessary, a known binder, plasticizer and sensitizer, and has a film thickness of 1.0 μm or less ( It is applied on the conductive cylindrical substrate or the undercoat layer so as to have a dry film thickness).

【００２９】電荷発生材料としては、ペリレン系顔料、
多環キノン系顔料、フタロシアニン顔料、金属フタロシ
アニン系顔料、スクエアリウム色素、アズレニウム色
素、チアピリリウム色素、及びカルバゾール骨格、スチ
リルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベン
ゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノ
ン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾ
ール骨格又はジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ
顔料などが挙げられる。As the charge generating material, a perylene pigment,
Polycyclic quinone pigments, phthalocyanine pigments, metal phthalocyanine pigments, squarylium dyes, azurenium dyes, thiapyrylium dyes, and carbazole skeletons, styrylstilbene skeletons, triphenylamine skeletons, dibenzothiophene skeletons, oxadiazole skeletons, fluorenone skeletons, bis Examples thereof include azo pigments having a stilbene skeleton, a distyryl oxadiazole skeleton, or a distyryl carbazole skeleton.

【００３０】電荷輸送層は、電荷発生材料が発生した電
荷を受け入れこれを輸送する能力を有する電荷輸送材
料、シリコーン系レベリング剤及び結着剤を必須成分と
し、必要に応じて公知の可塑剤、増感剤などを含有し、
乾燥膜厚５〜７０μｍとなるように電荷発生層の上に塗
布される。The charge transport layer contains, as essential components, a charge transport material capable of receiving and transporting charges generated by the charge generating material, a silicone-based leveling agent and a binder, and if necessary, a known plasticizer, Contains sensitizers,
It is applied on the charge generation layer so as to have a dry film thickness of 5 to 70 μm.

【００３１】電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリル
エチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムア
ルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポ
リビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキソ
ジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジ
エチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス
（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリル
アントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾ
ン類、ヒドラゾン誘導体等の電子供与性物質、或いはフ
ルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデ
ノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、イ
ンデノピリジニン誘導体、チオキサントン誘導体、ベン
ゾ［ｃ］シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導
体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノン等の電子受
容性物質などが挙げられる。As the charge transport material, poly-N-vinylcarbazole and its derivative, poly-γ-carbazolylethylglutamate and its derivative, pyrene-formaldehyde condensate and its derivative, polyvinylpyrene, polyvinylphenanthrene, oxazole derivative, Electron donation of oxodiazole derivatives, imidazole derivatives, 9- (p-diethylaminostyryl) anthracene, 1,1-bis (4-dibenzylaminophenyl) propane, styrylanthracene, styrylpyrazoline, phenylhydrazones, hydrazone derivatives, etc. Substance or fluorenone derivative, dibenzothiophene derivative, indenothiophene derivative, phenanthrenequinone derivative, indenopyridinine derivative, thioxanthone derivative, benzo [c] cinnoline Conductor, phenazine oxide derivatives, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, Puromaniru, chloranil, and electron accepting substance benzoquinone and the like.

【００３２】電荷輸送層を構成する結着剤としては、電
荷輸送材料と相溶性を有するものであれば良く、例えば
ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミ
ド、ポリエステル、ポリケトン、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリ
ルアミド、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げら
れる。As the binder constituting the charge transport layer, any binder having compatibility with the charge transport material may be used, and examples thereof include polycarbonate, polyvinyl butyral, polyamide, polyester, polyketone, epoxy resin, polyurethane, polyvinyl ketone and polystyrene. , Polyacrylamide, phenol resin, phenoxy resin and the like.

【００３３】本発明の方法で製造された電子写真感光体
はハジキ、シミ等による画像への黒ポチ、白ポチの発生
がほとんどなく、良品率が高い、更に、洗浄工程におい
て、有機溶媒を使用しないので、有機溶媒の使用による
大気汚染、人体への影響、高い引火性及び発火性による
爆発の危険等がない。The electrophotographic photosensitive member produced by the method of the present invention has almost no black spots or white spots on the image due to cissing or stains, and has a high yield rate. Further, an organic solvent is used in the washing step. Therefore, there is no risk of air pollution due to the use of organic solvents, effects on the human body, explosion due to high flammability and ignition.

【００３４】[0034]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【００３５】実施例１ 図１で示した方法により、切削加工した円筒状基体を洗
浄処理した。第１の洗浄層の洗浄液として、ＣＷ−５５
２０（第一工業製薬（株）製）の５％イオン交換水溶液
を用い、第２〜４のリンス槽のリンス液として、イオン
交換水を用いた。第１の洗浄槽の洗浄液は４０℃に加温
されており、第２〜４のリンス槽のリンス液の温度はそ
れぞれ２５℃であった。第１の洗浄槽及び第２乃至第４
のリンス槽への浸漬時間はそれぞれ２分間であった。 Example 1 A cylindrical substrate that had been cut was washed by the method shown in FIG. As a cleaning liquid for the first cleaning layer, CW-55
20 (manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was used, and ion-exchanged water was used as the rinse liquid in the second to fourth rinse tanks. The cleaning liquid in the first cleaning tank was heated to 40 ° C., and the temperatures of the rinse liquids in the second to fourth rinse tanks were 25 ° C., respectively. First cleaning tank and second to fourth
The immersion time in the rinse tank was 2 minutes.

【００３６】次いで、濯ぎ工程の終了した基体に、綿を
素材とした不織布ベンコットＭ−３（旭化成工業（株）
製）製の水吸収性材料４１を固定台治具２０、２１で挟
んだ、図３に示した方式の基体固定台の上に置き、基体
内面にエアーノズルから６kg／cm² のクリーンエアーを
２分間吹きつけて基体内面乾燥を行なった。その後クリ
ーン度をクラス１００に保ったクリーンエアーを１分間
基体全面に吹きつけて乾燥を終了した。Next, a non-woven fabric made of cotton, Bemcot M-3 (Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) was applied to the substrate after the rinsing process.
Placed on a base fixing base of the method shown in FIG. 3 in which a water absorbing material 41 made of) is sandwiched between fixing base jigs 20 and 21, and 6 kg / cm ² of clean air is applied to the inner surface of the base from an air nozzle. The inner surface of the substrate was dried by spraying for 2 minutes. After that, clean air whose cleanness was maintained at class 100 was blown onto the entire surface of the substrate for 1 minute to complete the drying.

【００３７】得られた円筒状基体を公知の浸漬塗布方法
により下記Ａ液を円筒状基体の表面に乾燥後の膜厚０．
５μｍになるように浸漬塗布し、７５℃の温度で１時間
乾燥し、更に下記Ｂ液をＡ液が塗布された円筒状基体の
表面に乾燥後の薄膜２０μｍになるように浸漬塗布し、
７５℃の温度で１時間乾燥した。The obtained cylindrical substrate was coated with the following solution A on the surface of the cylindrical substrate by a known dip coating method to obtain a film thickness of 0.
It is applied by dip coating to a thickness of 5 μm, dried at a temperature of 75 ° C. for 1 hour, and further, the following liquid B is dip-coated on the surface of the cylindrical substrate coated with liquid A so that the dried thin film has a thickness of 20 μm,
It was dried at a temperature of 75 ° C. for 1 hour.

【００３８】Ａ液 ジブロムアンスアンスロン２重量部、ブチラール樹脂
［エスレックＢＭ−２、セキスイ化学（株）製］２重量
部、シクロヘキサノン２３０重量部をボールミルにて８
分間分散処理して得られた液。2 parts by weight of liquid A dibromoanthanthrone, 2 parts by weight of butyral resin [ESREC BM-2, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.], and 230 parts by weight of cyclohexanone were mixed with a ball mill to obtain 8 parts.
Liquid obtained by dispersion treatment for minutes.

【００３９】Ｂ液 ヒドラゾン系電荷輸送材［ＡＢＰＨ、日本化薬（株）
製］１重量部、ポリカーボネート樹脂［パンライトＬ−
１２５０、帝人化成（株）製］１重量部をジクロルエタ
ン８重量部に溶解して得られた液。 Liquid B hydrazone charge transport material [ABPH, Nippon Kayaku Co., Ltd.
1 part by weight, polycarbonate resin [Panlite L-
1250, manufactured by Teijin Kasei Co., Ltd.] 1 part by weight dissolved in 8 parts by weight of dichloroethane.

【００４０】得られた電子写真感光体５０本を回転用治
具に装着し複写機［ＳＦ−８１００、シャープ（株）
製］に搭載してコピーを取り画像評価を行なった。結果
を表１に示す。Fifty electrophotographic photoconductors thus obtained were mounted on a rotating jig and used as a copying machine [SF-8100, manufactured by Sharp Corporation].
[Production] and made a copy for image evaluation. The results are shown in Table 1.

【００４１】実施例２ 第２〜４のリンス槽のリンス液として純水を及び乾燥方
式として図５の方式を用いた以外は実施例１と同様の方
法にて円筒状基体を洗浄処理し、次いで、実施例１と同
じ方法で感光層を塗布し、得られた電子写真感光体５０
本を実施例１と同じ方法にて画像評価をおこなった。結
果を表１に示す。 Example 2 A cylindrical substrate was washed in the same manner as in Example 1 except that pure water was used as the rinse liquid in the second to fourth rinse tanks and the method shown in FIG. 5 was used as the drying method. Then, a photosensitive layer was applied in the same manner as in Example 1 to obtain an electrophotographic photoreceptor 50.
The book was subjected to image evaluation in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【００４２】図５の方式のスポンジ状に加工された水吸
収性材料４３の素材としては、ポリビニルアルコールを
用いたスポンジを使用した。As the raw material of the water-absorbent material 43 processed into the sponge shape of the system shown in FIG. 5, a sponge made of polyvinyl alcohol was used.

【００４３】〈比較例１〉実施例１と同様の方法にて円
筒状基体を洗浄処理し、常温純水引上乾燥ののちは、本
発明を用いず、実施例１と同じ方法で感光層を塗布し、
得られた有機電子写真感光体５０本を実施例１と同じ方
法にて画像評価を行なった。結果を表１に示すが、実施
例１、２に比較して画像（塗布）欠陥が多く認められ
た。 Comparative Example 1 A cylindrical substrate was washed in the same manner as in Example 1 and dried at room temperature with pure water. After that, the photosensitive layer was formed in the same manner as in Example 1 without using the present invention. Apply
Image evaluation was performed on 50 obtained organic electrophotographic photoconductors by the same method as in Example 1. The results are shown in Table 1. As compared with Examples 1 and 2, many image (coating) defects were recognized.

【００４４】〈比較例２〉更に、洗浄処理をしない円筒
状基体の表面に実施例１と同様の方法で感光体層を形成
した。得らえた電子写真感光体１０本を実施例１と同様
の方法で画像評価をおこなった。結果を表１に示す。 Comparative Example 2 Further, a photoreceptor layer was formed on the surface of the cylindrical substrate which was not washed by the same method as in Example 1. Image evaluation was performed on the ten electrophotographic photosensitive members obtained in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【００４５】参考例１ 更に、実施例１と同様に「水洗浄」を行ない、乾燥工程
において、６０℃の温純水槽に２分間浸漬、次いで引上
乾燥を行なった。得られた円筒状基体の表面に実施例１
と同様の方法で感光層を形成し、得られた電子写真感光
体５０本を実施例１と同様の方法で画像評価を行なっ
た。結果を表１に示す。 Reference Example 1 Further, "water washing" was carried out in the same manner as in Example 1, and in the drying step, it was immersed in a warm pure water tank at 60 ° C for 2 minutes and then pulled up and dried. Example 1 was formed on the surface of the obtained cylindrical substrate.
A photosensitive layer was formed by the same method as described above, and 50 electrophotographic photosensitive members obtained were subjected to image evaluation by the same method as in Example 1. The results are shown in Table 1.

【００４６】[0046]

【表１】 [Table 1]

【００４７】[0047]

【発明の効果】本発明の方法は、洗浄不良によるハジ
キ、シミ及び乾燥不良による乾燥ムラ、シミ等の発生が
防止され、良品率においても、従来の１，１，１−トリ
クロルエタン洗浄液を使用する場合とほとんど同じ良品
率の低下が防止され、実用可能な高収率で電子写真感光
体が得られる。更に、洗浄液として有機溶剤を使用しな
いので、有機溶剤の使用による大気汚染、人体への影
響、高い引火性及び発火性による爆発の危険、特に、
１，１，１−トリクロルエタン、フロン洗浄液としての
使用による地球温暖化及びオゾン層の破壊等の問題が解
消される。EFFECTS OF THE INVENTION The method of the present invention prevents the occurrence of cissing and stains due to poor cleaning and uneven drying and stains due to poor drying, and the conventional 1,1,1-trichloroethane cleaning solution is used even in a good product rate. Almost the same as in the case of the above, the reduction of the non-defective rate is prevented, and the electrophotographic photosensitive member can be obtained in a practically high yield. Furthermore, since no organic solvent is used as a cleaning liquid, air pollution due to the use of an organic solvent, effects on the human body, risk of explosion due to high flammability and ignition, especially,
Problems such as global warming and ozone layer depletion due to the use of 1,1,1-trichloroethane and CFC cleaning liquid are solved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の洗浄方法の工程を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing steps of a cleaning method of the present invention.

【図２】本発明の洗浄工程における乾燥に使用する水吸
収性材料を用いた基体固定台の概略図である。FIG. 2 is a schematic view of a base fixing base using a water-absorbent material used for drying in the cleaning step of the present invention.

【図３】図２の実施例を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing the embodiment of FIG.

【図４】図２の他の実施例を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic view showing another embodiment of FIG.

【図５】図２の他の実施例を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic view showing another embodiment of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 導電性基体 10 加熱装置 11 第１の洗浄槽 14 第１の洗浄槽の超音波発振器 15 第１の洗浄槽の洗浄液 21 第２のリンス槽 31 第３のリンス槽 41 第４のリンス槽 50 常温水浸漬槽 60 リンス液タンク 1 Conductive Substrate 10 Heating Device 11 First Cleaning Tank 14 Ultrasonic Oscillator for First Cleaning Tank 15 Cleaning Solution for First Cleaning Tank 21 Second Rinse Tank 31 Third Rinse Tank 41 Fourth Rinse Tank 50 Room temperature water immersion tank 60 Rinse liquid tank

フロントページの続き (72)発明者 新居 和幸 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内Front page continuation (72) Inventor Kazuyuki Arai 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 電子写真感光体用導電性基体を水及び／
又は界面活性剤含有水を用いて洗浄し、次いで濯ぎ処理
した後に常温純水に浸漬、引き上げることによる乾燥を
行った後に、水吸収性材料を用いた基体固定台上に該基
体を戴置して乾燥を行うことを特徴とする電子写真感光
体用導電性基体の洗浄方法。1. A conductive substrate for an electrophotographic photosensitive member is formed from water and / or
Alternatively, the substrate is washed with water containing a surfactant, then rinsed, immersed in normal temperature pure water, and dried by pulling it up, and then the substrate is placed on a substrate fixing table using a water-absorbing material. A method for cleaning a conductive substrate for an electrophotographic photoreceptor, which comprises performing drying by drying. 【請求項２】 水吸収性材料を用いた基体固定台が、シ
ート状に加工した水吸収性材料を上下の固定台治具に挟
んでなる構成よりなることを特徴とする請求項１記載の
電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法。2. The base fixing base made of a water absorbing material is constituted by sandwiching the sheet-shaped water absorbing material between upper and lower fixing base jigs. A method for cleaning a conductive substrate for an electrophotographic photoreceptor. 【請求項３】 水吸収性材料を用いた基体固定台が、輪
状に加工した水吸収性材料を固定台治具の基体インロー
部と接する部分に巻いた構成よりなることを特徴とする
請求項１記載の電子写真感光体用導電性基体の洗浄方
法。3. A base fixing base made of a water-absorbent material, wherein the water-absorbing material processed into a ring shape is wound around a portion of the fixing base jig in contact with the base inlay portion. 2. A method for cleaning a conductive substrate for an electrophotographic photosensitive member according to 1. 【請求項４】 水吸収性材料を用いた基体固定台が、ス
ポンジ状に加工した水吸収性材料を、基体内面及びイン
ロー加工部に接するように加工して固定台治具にとり付
けてなる構成よりなることを特徴とする請求項１記載の
電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法。4. A structure in which a base fixing base made of a water-absorbent material is formed by processing a water-absorbing material processed into a sponge shape so as to come into contact with the inner surface of the base and a spigot processing portion, and is attached to a fixing base jig. The method for cleaning a conductive substrate for an electrophotographic photosensitive member according to claim 1, comprising: