JPH0663862A - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

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JPH0663862A
JPH0663862A JP24578592A JP24578592A JPH0663862A JP H0663862 A JPH0663862 A JP H0663862A JP 24578592 A JP24578592 A JP 24578592A JP 24578592 A JP24578592 A JP 24578592A JP H0663862 A JPH0663862 A JP H0663862A
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JP
Japan
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polishing
carrier plate
plate
carrier
guide roller
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JP24578592A
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English (en)
Inventor
Yoshio Nakamura
由夫 中村
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Fujikoshi Machinery Corp
Original Assignee
Fujikoshi Machinery Corp
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Publication date
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Priority to US08/105,534 priority patent/US5361545A/en
Publication of JPH0663862A publication Critical patent/JPH0663862A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/34Accessories
    • B24B37/345Feeding, loading or unloading work specially adapted to lapping

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 複数のポリッシング装置を小スペースでレイ
アウトし、キャリアプレートの供給・排出を容易に、か
つ効率的に行う。 【構成】 搬入されたキャリアプレートを定盤の回転に
よりセンターローラ16とガイドローラ18との間で挟
持する位置まで搬送し、次いで同様にして最奥部から2
番目のガイドローラ18とセンターローラ16との間で
キャリアプレート20を挟持するというように順次定盤
の奥側からキャリアプレート20をセンターローラ16
と各複数のガイドローラ18との間でセットするポリッ
シング装置12A〜12Dを複数並設する。第1番目の
ポリッシング装置12Aの搬入位置および各ポリッシン
グ装置間に、キャリアプレート20の搬送装置34を設
け、最下流のポリッシング装置12Dのキャリアプレー
ト20の排出位置からキャリアプレートを順次排出する
排出装置34を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来からシリコンウエハの表面を鏡面仕
上げするポリッシング装置が知られている。このシリコ
ンウエハ(以下単にウエハという)はワックスを用いて
キャリアプレートに接着して、このキャリアプレートを
ポリッシング装置の研磨クロスが貼られた定盤に接触す
るように反転して供給し、キャリアプレートを研磨クロ
ス方向に押圧するとともに、スラリーを供給しつつ定盤
を回転させてウエハ表面を鏡面加工(ポリッシング加
工)している。ポリッシング加工は、キャリアプレート
を押圧するウエイトの大きさ、研磨時間、研磨クロスの
粗さおよびスラリーの粒子の粗さにより仕上げに差が生
ずる。このため、複数のポリッシング装置を用い、ウエ
イト、研磨クロスの粗さおよびスラリーの粒子の粗さを
徐々に小さくして仕上げていく方法が採られている。
【0003】一方、ポリッシング装置にキャリアプレー
トを自動的に定盤上にワークを供給するために、コンベ
ヤによりキャリアプレートを搬送し、コンベヤに沿って
進退するチャックによりキャリアプレートをポリッシン
グ装置に供給するワーク供給装置が知られている(特公
昭63−20674号公報)。なお、チャックの後端に
は、キャリアプレートと重量バランスする重りが必要で
あった。この重りは、キャリアプレートの重さにより異
なっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記キャリアプレート
を複数のポリッシング装置に順次供給してポリッシング
加工を行う際に、作業者が搬送することもある。しか
し、近年ウエハの口径が大きくなってきているため、こ
れに伴ってウエハを接着するキャリアプレートも大型化
し、重量も重くなってきており、作業者が手で持ち運び
していたのでは、キャリアプレートやウエハを落として
しまうこともある。また、作業者にも危険が伴う。ま
た、上記ワークの供給装置を用いてる場合に、コンベヤ
に沿って進退するため、装置の全長が長くなり、かつ複
雑になってしまう。また、キャリアプレートの重さの違
いにより、重量の調節も必要である。複数のポリッシン
グ装置を並設した際に、上記ワークの供給装置を用いて
キャリアプレートの供給を行うと、各ポリッシング装置
の間隔を大きく確保しなければならない。このため、各
装置間でキャリアプレートを搬送することができない。
また、ポリッシング装置からのキャリアプレートの排出
にも別途排出装置が必要となってしまう。一方、長時間
の使用により、各ポリッシング装置の定盤上に貼られた
研磨クロスがスラリーにより目詰まりを起こし、別工程
として研磨クロスの目詰まりの解消が必要である。
【0005】そこで、本発明は、複数のポリッシング装
置を小スペースでレイアウトすることができ、キャリア
プレートの供給・排出が容易に、かつ効率的に行える研
磨装置を提供することを目的とする。また、他の目的と
しては、定盤上の研磨クロスの目詰まりを解消する、目
詰まり解除機構を有する研磨装置を提供することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は次の構成を備える。すなわち、上面に研磨
クロスを貼り付け、回転可能な定盤と、定盤の中央に設
けたセンターローラと、定盤の周辺に所定間隔をおいて
複数個配置され、ウエハを裏面に貼り付けたキャリアプ
レートを、センターローラとの間で挟持する位置および
フリーとする位置との間にわたって移動可能に設けられ
たガイドローラを具備し、定盤上のキャリアプレート搬
入位置に対して定盤回転方向の最奥部のガイドローラを
キャリアプレートの挟持位置に移動して、搬入位置に搬
入されたキャリアプレートを定盤の回転によりセンター
ローラと前記ガイドローラとの間で挟持する位置まで搬
送し、次いで同様にして最奥部から2番目のガイドロー
ラとセンターローラとの間でキャリアプレートを挟持す
るというように順次定盤の奥側からキャリアプレートを
センターローラと各複数のガイドローラとの間でセット
し、次いでキャリアプレートをトップリングにより定盤
に押圧しつつ定盤を回転させて研磨するポリッシング装
置を複数並設し、第1番目のポリッシング装置の定盤上
のキャリアプレートの前記搬入位置にキャリアプレート
を搬入する搬入装置を設け、各ポリッシング装置間に、
上流側のポリッシング装置のキャリアプレート排出位置
からキャリアプレートを受け取り、下流側のポリッシン
グ装置のキャリアプレートの搬入位置にキャリアプレー
トを順次搬入するキャリアプレートの搬送装置を設け、
最下流のポリッシング装置のキャリアプレートの排出位
置からキャリアプレートの順次排出する排出装置を設け
たことを特徴とする。また、各ポリッシング装置からの
キャリアプレートの排出位置を、搬入位置に対して定盤
回転方向の最奥部のガイドローラとセンターローラとで
挟持されるキャリアプレートの位置としても良い。ま
た、各ポリッシング装置からのキャリアプレートの排出
位置を搬入位置に対して同一の位置に設定すると共に、
並設するポリッシング装置の台数を各ポリッシング装置
に装着させるキャリアプレートの数と同数としても良
い。さらに、各ポリッシング装置の定盤上に貼られた研
磨クロスの目詰まりを除去するために、キャリアプレー
トとほぼ同径の円板の下面に毛を植設したブラシを、各
ポリッシング装置の定盤に供給するための所定位置に配
置し、各ポリッシング装置の供給装置からブラシを定盤
上に供給し、このブラシをセンターローラと所定位置の
ガイドローラとにより挟持させ、このブラシをトップリ
ングにより定盤の研磨クロスに押圧しつつ定盤を回転さ
せ、研磨クロスの目詰まりを除去するようにしても良
い。
【0007】
【作用】作用について説明する。第1番目のポリッシン
グ装置の定盤上のキャリアプレート搬入位置に対して定
盤回転方向の最奥部のガイドローラをキャリアプレート
の挟持位置に移動して、搬入位置に搬入されたキャリア
プレートを定盤の回転によりセンターローラと前記ガイ
ドローラとの間で挟持する位置まで搬送し、次いで同様
にして最奥部から2番目のガイドローラとセンターロー
ラとの間でキャリアプレートを挟持するというように順
次定盤の奥側からキャリアプレートをセンターローラと
各複数のガイドローラとの間でセットし、次いでキャリ
アプレートをトップリングにより定盤に押圧しつつ定盤
を回転させて研磨する。そして、第1番目のポリッシン
グ装置のキャリアプレート排出位置からキャリアプレー
トを受け取り、第2番目のポリッシング装置のキャリア
プレートの搬入位置にキャリアプレートを順次搬入す
る。
【0008】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例について添付図
面に基づいて詳細に説明する。図1は4台のポリッシン
グ装置を配置した状態を示す概略的平面図である。図2
は4台のポリッシング装置を配置した状態を示す概略的
正面図である。4台のポリッシング装置12A、12
B、12C、12Dが配置されている。各ポリッシング
装置12A、12B、12C、12Dは、第1次研磨、
第2次研磨、第3次研磨、仕上げ研磨の各工程を行う。
このため、各ポリッシング装置12A、12B、12
C、12Dは、研磨クロスの粗さおよびスラリーの粒度
が異なり、第1次研磨、第2次研磨、第3次研磨、仕上
げ研磨と徐々に微細となる。
【0009】ポリッシング装置の基台11の凹部11a
には定盤14が配置され、この定盤14は駆動軸(図示
せず)により駆動するものである。この定盤14の中心
にはセンターローラ16が配置されている。定盤14の
周縁にガイドローラ18が4個配置されている。このガ
イドローラ18とセンターローラ16との間にキャリア
プレート20が保持されるものである。なお、キャリア
プレート20の裏面には、ウエハ22がワックスにより
貼り付けられている(図3参照)。ガイドローラ18と
センターローラ16との間に保持されたキャリアプレー
ト20は、上方からトップリング24により押さえられ
る。トップリング24は上下に昇降可能、かつ回転可能
に吊設されている。また、トップリング24内には重り
が収納され、トップリング24の自重により押圧するも
のである。なお、各ポリッシング装置12A、12B、
12C、12Dのトップリング24は、第1次研磨、第
2次研磨、第3次研磨および仕上げ研磨と重量を徐々に
軽くしてある。
【0010】ポリッシング装置12A、12B、12
C、12Dは定盤14およびセンターローラ16が駆動
するものであり、これらの駆動によりキャリアプレート
20と該キャリアプレート20を定盤14方向に押圧す
るトップリング24とがガイドローラ18に保持された
状態でその場で自転して研磨を行う(図1では、ガイド
ローラ18を点線で示す)。なお、定盤14には研磨ク
ロスが貼られており、この研磨クロス上にスラリーを供
給して研磨を行う。
【0011】図3および図4を参照してガイドローラに
ついて説明する。ガイドローラ18は定盤14の周縁部
に位置し、このガイドローラ18は支持アーム26によ
り支持されている。この支持アーム26の後端部分に
は、ポリッシング装置の基台11方向に延出している。
この基台11上には固定ベース27が固定され、この固
定ベース27上には定盤14方向に微調整可能な、断面
U状のベースプレート28が設けられている。このベー
スプレート28の起立する側板28a、28a間に支持
アーム26の後端が位置し、軸29を介して軸止めされ
ている。この軸29は基台11と平行である。支持アー
ム26の先端には回動軸30が垂下し、この回動軸30
の先端にボールベアリングを介して回動可能にガイドロ
ーラ18が設けられている。支持アーム26の中途部に
は、基台11内に配置されたシリンダ32のシリンダロ
ッドの先端32aが下方から当接している。このため、
シリンダロッドを突出させると、支持アーム26が軸2
9を中心に回動してガイドローラ18を定盤14から離
れる方向に移動させることとなる。支持アーム26が水
平状態(ガイドローラ18が降下した状態、保持位置)
では、センターローラ16とガイドローラ18との間で
キャリアプレート20を保持することができる。一方、
シリンダ32を駆動して支持アーム26を突き上げて支
持アーム26の先端を上昇させると、ガイドローラ18
が定盤14から離れた状態となる(フリー位置とす
る)。このフリー位置では、キャリアプレート20はセ
ンターローラ16とガイドローラ18とにより保持され
ることなく、定盤14の回転により共に移動する。
【0012】各ポリッシング装置12A、12B、12
C、12Dの間、第1次研磨用のポリッシング装置12
Aの搬入側、および仕上げ研磨を行うポリッシング装置
12Dの搬出側にも搬送装置34が設けられている。搬
送装置34の構造について、図5および図6を参照して
説明する。図5に示すように、基台36上に昇降シリン
ダ38が設けられている。この昇降シリンダ38のシリ
ンダロッド38aは、昇降フレーム40に連結部材41
を介して連結されている。昇降フレーム40は、側面転
倒L字状であり、鉛直方向の垂直部40Aと水平の水平
部40Bとから構成されている。連結部材41は、垂直
部40Aの中途部内側に設けられている。また、昇降フ
レーム40は、垂直部40Aの外側に設けられたガイド
部材42、42を介して、ガイド43に案内されつつ昇
降する。昇降フレーム40の水平部40Bの中央には透
孔40bが形成されるとともに、また水平部40Bの上
面には、支持ケース44が設けられている。この支持ケ
ース44には下方から回転装置46が固定されるととも
に、この回転装置46の回転軸46aは支持ケース44
内のベアリング47に支持されている。回転装置46の
回転軸46a先端には、アームベース48が固定されて
いる。このため、回転装置46の回転により、アームベ
ース48を回転軸46aの軸線を中心に回転させること
ができる。アームベース48の幅方向の中途部に仕切り
板49が起立して設けられ、この仕切り板49により区
画された一方のアームベース48上には、ガイドレール
50、50がそれぞれ設けられている。このガイドレー
ル50、50上には、リニアガイド52a、52bが移
動可能に設けられている。そして、リニアガイド52
a、52bをアームシャフト54が貫通している。アー
ムシャフト54の先端には吸着装置56が設けられてい
る。リニアガイド52a、52bはアームシャフト54
の所定位置で軸線方向の移動が規制されているが、アー
ムシャフト54はリニアガイド52a、52bに支持さ
れた状態で軸線に沿って回動可能である。吸着装置56
は、3個の吸着盤56aが正三角形状に配置されてい
る。これら吸着盤56aは、負圧源に連繋しており、キ
ャリアプレート20を吸着する。前記リニアガイド52
a、52bのうち、後端側のリニアガイド50bに、連
結筒58を介してハウジング60が固定されている。こ
のハウジング60の後端側から回転モータ62が固定さ
れている。また、回転モータ62の回転軸62aがアー
ムシャフト54と連結している。このため、回転モータ
62の回動軸62aを回動させることにより、アームシ
ャフト54を回動させることができる。
【0013】前記アームベース48上の仕切り板49で
仕切られた他のアームベース48(アームシャフト54
が設けられていない部位)には、伸縮用シリンダ64が
固設されている。この伸縮用のシリンダ64のシリンダ
ロッド64aは後方に延出し、このシリンダロッド64
aの先端には小型の伸縮用のシリンダ65のシリンダロ
ッド65aの先端が連結部材66を介して連結されてい
る。小型の伸縮用シリンダ65は、連結部材67を介し
て前記ハウジング60に固定されている。このため、2
つのシリンダ64、65をそれぞれ駆動することによ
り、ハウジング60とともにアームシャフト54を進退
させることができる。
【0014】上述するように構成された搬送装置34
は、前記昇降シリンダ38により昇降フレーム40に固
定されている回転装置46、アームベース48、アーム
シャフト54、伸縮用のシリンダ64、65等が昇降す
る。また、回転装置46により、アームベース48上の
アームシャフト54等を回転させることができる。ま
た、回転モータ62によりアームシャフト54が回転す
る。一方、伸縮用のシリンダ64、65によりアームシ
ャフト54を進退させることができる。
【0015】各ポリッシング装置12A、12B、12
C、12Dの右側を搬入側とする。特に、搬入側の後側
をキャリアプレート20の供給位置Aとする。ここで、
ポリッシング装置12Aを例にキャリアプレート20の
供給方法について、図7〜図9を参照して説明する。 (1) 定盤14を回転させておく。そして、キャリアプレ
ート20の供給位置Aに対して定盤14の最奥位置Bの
ガイドローラ18aを保持位置にする。そして、定盤1
4の後側の供給位置Aに、第1のキャリアプレート20
aを供給すると、キャリアプレート20aがセンターロ
ーラ16とガイドローラ18aで保持される位置まで回
転して保持される(図7参照)。 (2) 続いて、キャリアプレート20aの時針回転方向に
位置するガイドローラ18bを保持位置とし、定盤14
の供給位置Aに、第2のキャリアプレート20bを供給
すると、キャリアプレート20bがセンターローラ16
とガイドローラ18bで保持される位置まで回転して保
持される(図8参照)。 (3) 次に、時針回転方向に位置するガイドローラ18c
を保持位置とし、定盤14の供給位置Aに、第3のキャ
リアプレート20cを供給すると、キャリアプレート2
0cがセンターローラ16とガイドローラ18cで保持
される位置まで回転して保持される。 (4) さらに、ガイドローラ18cの時針方向に位置する
ガイドローラ18dを保持位置とし、定盤14の供給位
置Aに第4のキャリアプレート20dを供給すると、キ
ャリアプレート20dがセンターローラ16とガイドロ
ーラ18dで保持される位置まで回転して保持される
(図9参照)。 上記(1) 〜(4) は各ポリッシング装置12の定盤14上
方の制御部17により制御される。
【0016】続いて、キャリアプレート20の排出方法
について説明する。まず、ポリッシング装置12Aの第
2のキャリアプレート20bが保持されている位置を排
出位置Cとする。この搬出位置Cから次のポリッシング
装置12Bにキャリアプレート20を移動する方法につ
て、搬送装置34の動きとともに説明する。 (5) 搬送装置34の昇降シリンダ38により昇降フレー
ム40を上昇させた状態で、回転装置46によりアーム
ベース48を回転させるとともに、伸縮用のシリンダ6
4を駆動して(このとき伸縮用のシリンダ65は後退し
た状態である)、吸着盤56aをキャリアプレート20
bの直上に位置させる。そして、昇降シリンダ38を駆
動して昇降フレーム40を降下させ、吸着盤56aをキ
ャリアプレート20bに当接させ吸着する。この状態
で、伸縮用のシリンダ65を若干駆動してキャリアプレ
ート20bを移動させ、定盤14からキャリアプレート
20bを剥がし易くする。同時に、センターローラ16
とガイドローラ18bで保持されているキャリアプレー
ト20bの保持された状態を解除することともなる。続
いて、昇降シリンダ38を駆動して昇降フレーム40を
上昇させ、回転装置46を駆動するとともに伸縮用のシ
リンダ64を伸縮させて、キャリアプレート20bをポ
リッシング装置12Bの供給位置Aに搬送する。そし
て、昇降シリンダ38を駆動して昇降フレーム40を降
下させ、キャリアプレート20bが定盤14に載置され
た際に、吸着盤56aの吸着を解除して、ポリッシング
装置12Bの定盤14の供給位置Aに上記(1) で示すよ
うに供給する。
【0017】(6) ここで、ポリッシング装置12Aのガ
イドローラ18cをフリー位置に移動すると、定盤14
の回転により、キャリアプレート20cが反時針回転方
向(定盤の回転方向)のセンターローラ16とガイドロ
ーラ18bで保持される位置まで回転して保持される。
この状態で、キャリアプレート20cを搬送装置34に
より吸着し、上記同様に隣接する次のポリッシング装置
12Bに供給する。 (7) 同様に、ガイドローラ18dをフリー位置に移動す
ると、定盤14の回転により、キャリアプレート20d
がセンターローラ16とガイドローラ18bで保持され
る。この状態で、キャリアプレート20dを搬送装置3
4により吸着し、隣接する次のポリッシング装置12B
に供給する。 (8) また同様に、ガイドローラ18aをフリー位置に移
動すると、定盤14の回転により、キャリアプレート2
0aがセンターローラ16とガイドローラ18bで保持
される。この状態で、キャリアプレート20bを搬送装
置34により吸着し、隣接する次のポリッシング装置1
2Bに供給する。上述する各ポリッシング装置12の制
御および搬送装置34の制御は制御装置17により行っ
ている。
【0018】上述するように、ポリッシング装置12A
〜12Dに上流側から下流側に送られる。そして、ポリ
ッシング装置12Aへのキャリアプレート20の供給
は、20a、20b、20c、20dの順番に供給され
る。そして、ポリッシング装置12Bへの供給は、ポリ
ッシング装置12Aの排出位置Cから取り出してキャリ
アプレート20b、20c、20d、20aの順番に供
給される。ポリッシング装置12Bからポリッシング装
置12Cへキャリアプレート20を供給する際には、キ
ャリアプレート20c、20d、20a、20bの順番
に供給される。ポリッシング装置12Cからポリッシン
グ装置12Dへキャリアプレート20を供給する際に
は、キャリアプレート20d、20a、20b、20c
の順番に供給される。そして、仕上げ研磨を行うポリッ
シング装置12Dから、仕上げたキャリアプレート20
を排出する際には、キャリアプレート20a、20b、
20c、20dの順番に排出されることとなる。したが
って、4台のポリッシング装置12A、12B、12
C、12Dの第1次研磨を行うポリッシング装置12A
に20a〜20dの順番で供給したキャリアプレート
が、仕上げ研磨を行うポリッシング装置12Dから排出
する際にも20a〜20dの順番で排出することができ
る。すなわち、キャリアプレート20の数と、並設する
ポリッシング装置12の数とを同数とするとともに、各
ポリッシング装置12A〜12Dの供給位置Aと排出位
置Cとがそれぞれ共通位置とすることにより、キャリア
プレート20・・・は、供給した順番に、排出すること
ができ、ウエハの管理上好適である。
【0019】定盤14上の研磨クロスの目詰まりを解消
するための目詰まり解除方法について、図1および図1
0を参照して説明する。各ポリッシング装置12A、1
2B、12C、12Dの定盤14上に貼り付けた研磨ク
ロス15はそれぞれ粗さが異なる。各研磨クロスをそれ
ぞれ15a、15b、15c、15dとする。そして、
各ポリッシング装置12A、12B、12C、12D
は、それぞれスラリーを用いて研磨を行うため、研磨ク
ロスに目詰まりがおこる。各研磨クロス15a、15
b、15c、15dの目詰まりを除去するために、ブラ
シ80を用いる。このブラシ80は、図11に示すよう
に、円板82の下面に毛84・・・が植設されている。
円板82はほぼキャリアプレート20と同一径である。
なお、ブラシ80の毛84・・・の硬さは、各研磨クロ
ス15a、15b、15c、15dの粗さに対応するも
のである。各ポリッシング装置12A、12B、12
C、12Dに用いるブラシ80を、それぞれ80a、8
0b、80c、80dとし、毛84・・・は順次柔らか
いものを用いる。また、各ポリッシング装置12A、1
2B、12C、12Dには、各ブラシ80a、80b、
80c、80dを載置するための載置台13a、13
b、13c、13dがそれぞれ設けられている。この載
置台13a、13b、13c、13dは、搬送するキャ
リアプレート20に付着しているスラリーの受けも兼用
している。このためポリッシング装置12Dの搬出側に
も載置台13eが設けられている。
【0020】ここで、ブラシ80を用いて研磨クロスの
目詰まりの除去方法について説明する。なお、各ポリッ
シング装置12A、12B、12C、12Dの除去方法
は同様であるため、ポリッシング装置12Aを例に説明
する。ポリッシング装置12Aの定盤14を駆動した状
態で、ガイドローラ18dを保持位置とし、載置台13
a上のブラシ80を定盤14の供給位置Aに搬送装置3
4により供給する。そして、センターローラ16とガイ
ドローラ18dとでブラシ80aが保持された状態で、
トップリング24を降下させてブラシ80aを押圧す
る。この状態で、定盤14を所定時間駆動することによ
り、ブラシ80aの毛84・・・により目詰まりが解消
される。目詰まりが解消された後、搬送装置34により
ブラシ80aを定盤14上から載置台13aへ移動させ
て、目詰まりの除去を終了する。その後、上記同様にポ
リッシング加工を行う。
【0021】上記実施例では、4台のポリッシング装置
12A〜12Dを配置した装置について説明したが、続
いてキャリアプレート20を供給した順番に搬出するポ
リッシング装置12について、図12を参照して説明す
る。ポリッシング装置12では、定盤14の供給位置A
に供給したキャリアプレート20が最奥位置Bから順番
に保持されるため、最奥位置Bからキャリアプレート2
0を順次取り出すようにすると、キャリアプレート20
を供給した順番に排出することができる。すなわち、最
奥位置Bを、排出位置とする。このようなポリッシング
装置12を上記実施例のように4台あるいは3台と複数
連結した場合も、同様にキャリアプレート20を供給し
た順番に排出することができる。以上本発明の好適な実
施例を挙げて種々説明したが、本発明は上記実施例に限
定されるものでなく、発明の精神を逸脱しない範囲内で
多くの改変を施し得ることはもちろんである。
【0022】
【発明の効果】本発明に係る、複数のポリッシング装置
を小スペースでレイアウトすることができ、キャリアプ
レートの供給・排出が容易である。また、各ポリッシン
グ装置の定盤上の研磨クロスの目詰まりを解消すること
ができる。また、キャリアプレートの供給した順番に、
排出することもでき、ウエハの管理上好適である等の著
効を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る4台のポリッシング装置を示す概
略的平面図である。
【図2】本発明に係る4台のポリッシング装置を示す概
略的正面図である。
【図3】ガイドローラの構造を示す断面説明図である。
【図4】ガイドローラの平面説明図である。
【図5】搬送装置の断面説明図である。
【図6】搬送装置の平面図である。
【図7】ポリッシング装置12Aにキャリアプレート2
0aを供給して保持した状態を示す説明図である。
【図8】ポリッシング装置12Aにキャリアプレート2
0aおよびキャリアプレート20bを供給して保持した
状態を示す説明図である。
【図9】ポリッシング装置12Aに4枚のキャリアプレ
ート20a〜20dを供給して保持した状態を示す説明
図である。
【図10】ブラシの側面図である。
【図11】ポリッシング装置へのキャリアプレートの供
給・排出状態を示す説明図である。
【符号の説明】
12 ポリッシング装置 14 定盤 16 センターローラ 18 ガイドローラ 20 キャリアプレート 34 搬送装置 38 昇降シリンダ 54 アームシャフト 56 吸着装置 60 ハウジング 62 回転モータ 64 伸縮用シリンダ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上面に研磨クロスを貼り付け、回転可能
    な定盤と、 定盤の中央に設けたセンターローラと、 定盤の周辺に所定間隔をおいて複数個配置され、ウエハ
    を裏面に貼り付けたキャリアプレートを、センターロー
    ラとの間で挟持する位置およびフリーとする位置との間
    にわたって移動可能に設けられたガイドローラを具備
    し、 定盤上のキャリアプレート搬入位置に対して定盤回転方
    向の最奥部のガイドローラをキャリアプレートの挟持位
    置に移動して、搬入位置に搬入されたキャリアプレート
    を定盤の回転によりセンターローラと前記ガイドローラ
    との間で挟持する位置まで搬送し、次いで同様にして最
    奥部から2番目のガイドローラとセンターローラとの間
    でキャリアプレートを挟持するというように順次定盤の
    奥側からキャリアプレートをセンターローラと各複数の
    ガイドローラとの間でセットし、次いでキャリアプレー
    トをトップリングにより定盤に押圧しつつ定盤を回転さ
    せて研磨するポリッシング装置を複数並設し、 第1番目のポリッシング装置の定盤上のキャリアプレー
    トの前記搬入位置にキャリアプレートを搬入する搬入装
    置を設け、 各ポリッシング装置間に、上流側のポリッシング装置の
    キャリアプレート排出位置からキャリアプレートを受け
    取り、下流側のポリッシング装置のキャリアプレートの
    搬入位置にキャリアプレートを順次搬入するキャリアプ
    レートの搬送装置を設け、 最下流のポリッシング装置のキャリアプレートの排出位
    置からキャリアプレートの順次排出する排出装置を設け
    たことを特徴とする研磨装置。
  2. 【請求項2】 各ポリッシング装置からのキャリアプレ
    ートの排出位置を、搬入位置に対して定盤回転方向の最
    奥部のガイドローラとセンターローラとで挟持されるキ
    ャリアプレートの位置としたことを特徴とする請求項1
    記載の研磨装置。
  3. 【請求項3】 各ポリッシング装置からのキャリアプレ
    ートの排出位置を搬入位置に対して同一の位置に設定す
    ると共に、並設するポリッシング装置の台数を各ポリッ
    シング装置に装着させるキャリアプレートの数と同数に
    したことを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
  4. 【請求項4】 各ポリッシング装置の定盤上に貼られた
    研磨クロスの目詰まりを除去するために、キャリアプレ
    ートとほぼ同径の円板の下面に毛を植設したブラシを、
    各ポリッシング装置の定盤に供給するための所定位置に
    配置し、 各ポリッシング装置の供給装置からブラシを定盤上に供
    給し、このブラシをセンターローラと所定位置のガイド
    ローラとにより挟持させ、このブラシをトップリングに
    より定盤の研磨クロスに押圧しつつ定盤を回転させ、研
    磨クロスの目詰まりを除去することを特徴とする請求項
    1、2または3記載の研磨装置。
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