JPH0656762U - Substrate visual inspection device - Google Patents
Substrate visual inspection deviceInfo
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- JPH0656762U JPH0656762U JP28893U JP28893U JPH0656762U JP H0656762 U JPH0656762 U JP H0656762U JP 28893 U JP28893 U JP 28893U JP 28893 U JP28893 U JP 28893U JP H0656762 U JPH0656762 U JP H0656762U
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- substrate
- inspected
- light
- observer
- holder
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】コンパクト且つ簡単な構成で、被検査基板の表
面及び裏面に存するごみ及び傷等の異物の検出能力を向
上させる基板外観検査装置を提供する。
【構成】光源６３から発光した照明光が、フレネルレン
ズ６５を介して集光された後、Ｘ−Ｙステージ６７のホ
ルダ７７に保持された被検査基板６９に対して所定角度
だけ傾斜した状態で照明されるように構成されている。
ホルダ７７には、このホルダ７７に保持された被検査基
板６９の裏面に対して所定角度だけ傾斜して対面配置さ
れ、且つ、この被検査基板６９を透過した光の一部を吸
収すると共に残りを観察者の眼Ｅに対して離間する方向
に反射することによって、被検査基板上に存在するごみ
及び傷等の異物のみを際立たせるように構成された黒色
平滑板７９が設けられている。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a substrate appearance inspection device having a compact and simple structure and improving the ability to detect foreign matter such as dust and scratches on the front and back surfaces of a substrate to be inspected. The illumination light emitted from a light source 63 is condensed through a Fresnel lens 65 and then tilted by a predetermined angle with respect to a substrate 69 to be inspected held by a holder 77 of an XY stage 67. It is configured to be illuminated.
The holder 77 is disposed so as to face the back surface of the substrate 69 to be inspected held by the holder 77 at a predetermined angle, and absorbs a part of the light transmitted through the substrate 69 to be inspected while remaining the same. Is provided in the direction away from the eye E of the observer to provide a black smooth plate 79 configured to highlight only foreign matter such as dust and scratches present on the substrate to be inspected.
Description
【０００１】[0001]
本考案は、例えば、ウェハ又は液晶ガラス板等の基板の外観を検査するための 基板外観検査装置に関する。 The present invention relates to a substrate appearance inspection device for inspecting the appearance of a substrate such as a wafer or a liquid crystal glass plate.
【０００２】[0002]
従来、この種の装置では、被検査基板の表面に観察用照明光を照射して、基板 表面から反射した反射光の光学的変化を目視観察することによって、基板表面の 外観検査が行われている。被検査基板の表面に、ごみ及び傷等の異物が存在して いる場合、この異物から散乱光が発生して、基板表面から反射した反射光に強度 差が生じる。観察者は、かかる強度差を検知して基板表面に存在する異物の目視 観察を行う。 Conventionally, in this type of device, the surface of the substrate to be inspected is irradiated with illumination light for observation, and the visual change of the reflected light reflected from the substrate surface is visually observed to perform visual inspection of the substrate surface. There is. When foreign matter such as dust and scratches is present on the surface of the substrate to be inspected, scattered light is generated from the foreign matter and the reflected light reflected from the surface of the substrate has a difference in intensity. The observer detects the difference in intensity and visually observes the foreign matter existing on the substrate surface.
【０００３】[0003]
最近、特願平４−１３２５７７号明細書中に示すように、基板の種類を問わず 、マクロ観察とミクロ観察との切換えを短時間且つ高精度に行うことができると 共に、マクロ観察時に発見された基板上の複数の欠陥部分を連続的且つ高精度に ミクロ観察することができるコンパクトな基板外観検査装置が提案されている（ 以下、引例１と称する）。 Recently, as shown in Japanese Patent Application No. 4-132577, it was discovered that macro observation and micro observation can be switched with high accuracy in a short time regardless of the type of substrate, and it was discovered during macro observation. A compact substrate visual inspection apparatus has been proposed that enables microscopic observation of a plurality of defective portions on the formed substrate continuously and with high accuracy (hereinafter referred to as Reference 1).
【０００４】 かかる装置は、図３に示すように、単一の装置本体１に、マクロ観察系３と、 ミクロ観察系５と、これら観察系３、５の間を移動して被検査基板１５をマクロ 観察系３又はミクロ観察系５の観察領域内に位置付ける機能を有するスケール付 きＸ−Ｙステージ７と、マクロ観察系３及びミクロ観察系５相互間の相対座標を 表示する座標表示装置９とを備えている。As shown in FIG. 3, such an apparatus comprises a macroscopic observation system 3, a microscopic observation system 5, and a substrate to be inspected 15 which is moved between these observation systems 3 and 5 in a single apparatus body 1. X-Y stage 7 with scale having a function of positioning the inside of the observation area of the macro observation system 3 or the micro observation system 5, and a coordinate display device 9 for displaying relative coordinates between the macro observation system 3 and the micro observation system 5. It has and.
【０００５】 Ｘ−Ｙステージ７は、装置本体１の下部にＸ方向に延出して設けられた一対の ガイド１１上に摺動自在に載置されており、このＸ−Ｙステージ７の一側に設け られたステージハンドル１３によってＸ方向あるいはＹ方向に移動可能に構成さ れている。The XY stage 7 is slidably mounted on a pair of guides 11 provided in the lower portion of the apparatus main body 1 so as to extend in the X direction, and one side of the XY stage 7 is provided. The stage handle 13 provided at the position is movable in the X direction or the Y direction.
【０００６】 マクロ観察系３は、装置本体１の上部であって、Ｘ方向一端側に一対のガイド １１に対面して配置されており、Ｘ−Ｙステージ７によってマクロ観察系３の観 察領域内に位置付けられた被検査基板１５の表面全体に亘って斑なくマクロ照明 光（即ち、シャーカステン照明光）を照明するマクロ照明ユニット１７と、かか る被検査基板１５上にスポット照明光を照明するスポット照明装置１９とを備え ている。The macro observation system 3 is arranged above the apparatus main body 1 at one end side in the X direction so as to face the pair of guides 11. The observation area of the macro observation system 3 is controlled by the XY stage 7. A macro illumination unit 17 for illuminating the macro illumination light (that is, the Schaukasten illumination light) uniformly over the entire surface of the inspected substrate 15 positioned inside, and illuminating the spot illumination light on the inspected substrate 15 And a spot illuminating device 19 for performing the same.
【０００７】 ミクロ観察系５は、装置本体１の上部であってＸ方向他端側に一対のガイド１ １に対面して配置されており、倍率の異なる複数の対物レンズ２１が交換可能に 取付けられた回転式レボルバ２３と例えば三眼鏡筒２５とを有する顕微鏡２７を 備えている。The micro observation system 5 is arranged on the upper end of the apparatus main body 1 on the other end side in the X direction so as to face the pair of guides 11, and a plurality of objective lenses 21 having different magnifications are replaceably attached. A microscope 27 having a rotary revolver 23 and a trinocular lens barrel 25, for example, is provided.
【０００８】 座標表示装置９は、顕微鏡２７の対物光軸及びスポット照明装置１９のスポッ ト位置相互のＸ−Ｙステージ７上における相対座標を表示する機能を有しており 、Ｘ軸アドレスカウンタ２９とＹ軸アドレスカウンタ３１とを備えている。The coordinate display device 9 has a function of displaying relative coordinates of the objective optical axis of the microscope 27 and the spot positions of the spot illumination device 19 on the XY stage 7, and the X-axis address counter 29. And a Y-axis address counter 31.
【０００９】 このような装置では、マクロ観察系３において発見された被検査基板１５の欠 陥部分をスポット照明位置（Ｓ）に整合させた後は、被検査基板１５をＸ−Ｙス テージ７に乗せたままで、座標表示装置９のカウンター値を確認するだけで、簡 単且つ高精度に、ミクロ観察系５の対物光軸下に欠陥部分を整合させることがで きる。In such an apparatus, after the defective portion of the substrate 15 to be inspected found in the macro observation system 3 is aligned with the spot illumination position (S), the substrate 15 to be inspected is moved to the XY stage 7. The defect portion can be aligned below the objective optical axis of the micro-observation system 5 simply and with high accuracy simply by checking the counter value of the coordinate display device 9 while still being mounted on.
【００１０】 また、特願平４−１５８１２６号明細書中に示すように、被検査基板の表面全 体に斑なくＰ偏光又はＳ偏光の照明光を選択的に照射して、Ｓ／Ｎ比の高い基板 観察を行うことができる基板外観検査装置も提案されている（以下、引例２と称 する）。Further, as shown in Japanese Patent Application No. 4-158126, the entire surface of the inspected substrate is selectively irradiated with P-polarized or S-polarized illumination light without unevenness, and the S / N ratio is increased. A substrate appearance inspection device capable of observing high-quality substrates has also been proposed (hereinafter referred to as Reference 2).
【００１１】 かかる装置は、図４に示すように、被検査基板３３の表面にＰ偏光又はＳ偏光 の照明光を照射する照射手段３５と、被検査基板３３を保持する保持手段３７と 、この保持手段３７を照明光軸を含み被検査基板３３に垂直な面内で回動させる 傾斜機構３９とを備えている。As shown in FIG. 4, the apparatus includes an irradiation unit 35 for irradiating the surface of the inspection target substrate 33 with P-polarized or S-polarized illumination light, and a holding unit 37 for holding the inspection target substrate 33. And a tilting mechanism 39 for rotating the holding means 37 in a plane including the illumination optical axis and perpendicular to the substrate 33 to be inspected.
【００１２】 照射手段３５は、照明光を発光する光源４１と、この光源４１から発光された 照明光を集束させるフレネルレンズ４３と、このフレネルレンズ４３を介して導 光された照明光に対して所定の光学的特性を与えて被検査基板３３の表面に照明 する第１の偏光板４５とを備えている。この第１の偏光板４５は、受光した照明 光に対して適宜選択的にＰ偏光又はＳ偏光の光学的特性を与える機能を有してい る。The irradiating unit 35 emits illumination light, a light source 41, a Fresnel lens 43 for converging the illumination light emitted from the light source 41, and illumination light guided through the Fresnel lens 43. The first polarizing plate 45 is provided for illuminating the surface of the substrate 33 to be inspected by giving predetermined optical characteristics. The first polarizing plate 45 has a function of selectively and selectively giving an optical characteristic of P-polarized light or S-polarized light to the received illumination light.
【００１３】 保持手段３７は、被検査基板３３よりも広範囲な保持面４７ａを有する保持台 ４７と、この保持台４７の保持面４７ａ上に突設された複数の吸着保持部４９と を備えている。被検査基板３３を保持台４７上に載置すると、被検査基板３３は 、その裏面に当接した複数の吸着保持部４９によって吸着保持される。この結果 、被検査基板３３は、保持台４７上に固定される。The holding means 37 includes a holding base 47 having a holding surface 47 a wider than the substrate 33 to be inspected, and a plurality of suction holding portions 49 projecting from the holding surface 47 a of the holding base 47. There is. When the substrate 33 to be inspected is placed on the holding table 47, the substrate 33 to be inspected is suction-held by the plurality of suction-holding portions 49 which are in contact with the back surface thereof. As a result, the substrate 33 to be inspected is fixed on the holding table 47.
【００１４】 傾斜機構３９は、保持台４７の一端側に取り付けられており、かかる一端側を 中心に保持台４７の他端側を図中矢印Ａ方向に揺動させる機能を有している。傾 斜機構３９を駆動して保持台４７を揺動させることによって、保持台４７上に固 定された被検査基板３３は、照明光軸Ｂに対して所定の角度（具体的には、０度 〜４０度の範囲）に傾斜される。The tilting mechanism 39 is attached to one end side of the holding table 47, and has a function of swinging the other end side of the holding table 47 in the direction of arrow A in the figure around the one end side. By driving the tilt mechanism 39 and swinging the holding table 47, the substrate 33 to be inspected fixed on the holding table 47 has a predetermined angle (specifically, 0) with respect to the illumination optical axis B. The angle is in the range of 40 degrees to 40 degrees.
【００１５】 また、保持台４７の保持面４７ａ上には、第２の偏光板５１が設けられている 。この第２の偏光板５１は、被検査基板３３を透過した照明光の偏光方向に対し てクロスニコルとなるように、調節可能に構成されている。Further, a second polarizing plate 51 is provided on the holding surface 47 a of the holding table 47. The second polarizing plate 51 is adjustable so as to be crossed Nicol with respect to the polarization direction of the illumination light transmitted through the substrate 33 to be inspected.
【００１６】 更に、観察者の目Ｄの前には、第３の偏光板５３が設けられており、この第３ の偏光板５３は、被検査基板３３の表面及び裏面から反射した反射光の偏光方向 に対してクロスニコルとなるように、調節可能に構成されている。Further, a third polarizing plate 53 is provided in front of the eyes D of the observer, and the third polarizing plate 53 is provided for the reflected light reflected from the front and back surfaces of the substrate 33 to be inspected. It is configured to be adjustable so that it becomes crossed Nicols with respect to the polarization direction.
【００１７】 従って、被検査基板３３を透過した照明光は、この照明光の偏光方向に対して クロスニコルになるように調節された第２の偏光板５１で打消され、保持台４７ の保持面４７ａからの背景光の発生が防止される。また、第３の偏光板５３を被 検査基板３３から反射した反射光（基板表面及び裏面の双方からの反射光）の偏 光方向（Ｐ偏光）に対してクロスニコルになるように調節することによって、被 検査基板３３の表面及び裏面から反射した反射光は、かかる第３の偏光板５３で 遮光され、観察者の目Ｄには、被検査基板３３の表面に存在する異物Ｃから発生 した散乱光のみが投影される。Therefore, the illumination light transmitted through the substrate 33 to be inspected is canceled by the second polarizing plate 51 adjusted so as to be crossed Nicols with respect to the polarization direction of the illumination light, and the holding surface of the holding table 47 is held. Generation of background light from 47a is prevented. In addition, the third polarizing plate 53 is adjusted so as to be crossed Nicols with respect to the polarization direction (P-polarized light) of the reflected light reflected from the inspection target substrate 33 (reflected light from both the front and back surfaces of the substrate). Thus, the reflected light reflected from the front surface and the back surface of the substrate 33 to be inspected is shielded by the third polarizing plate 53, and generated in the eyes D of the observer from the foreign substance C existing on the surface of the substrate 33 to be inspected. Only scattered light is projected.
【００１８】 ところで、上述した装置に適用される被検査基板は、一般に液晶基板やガラス ウェハ等の透明若しくは半透明の基板であり、照明光は、その一部が基板の表面 で反射され、残りは基板を透過してステージ表面で反射されると共に基板の裏面 で反射される。By the way, the substrate to be inspected applied to the above-mentioned device is generally a transparent or semi-transparent substrate such as a liquid crystal substrate or a glass wafer, and the illumination light is partially reflected on the surface of the substrate and the rest is left. Is transmitted through the substrate, reflected on the front surface of the stage, and reflected on the back surface of the substrate.
【００１９】 この結果、引例１の装置において、観察者にとっては、基板表裏面及びステー ジ表面からの反射光を受けるため、基板表面に存在する異物からの散乱光を検知 することができなくなるという弊害が生じる。また、一般にステージ表面の加工 精度も悪いことから、反射光中には、このステージ表面の凹凸や塗装斑による散 乱光も混入し、異物からの散乱光の検知精度が低下するという弊害も生じる。As a result, in the device of Reference 1, since the observer receives the reflected light from the front and back surfaces of the substrate and the front surface of the stage, it becomes impossible for the observer to detect the scattered light from the foreign matter existing on the substrate surface. Harm occurs. In addition, since the processing accuracy of the stage surface is generally poor, scattered light due to the unevenness of the stage surface and coating spots will also be mixed into the reflected light, and the detection accuracy of scattered light from foreign matter will also deteriorate. .
【００２０】 また、引例２の装置では、Ｓ／Ｎ比の高い基板観察を行うことは可能であるが 、そのための光学部品点数が多くなって装置の構成が複雑になり、製造コストが 上昇してしまうという問題もある。Further, with the apparatus of Reference 2, it is possible to observe a substrate with a high S / N ratio, but the number of optical components for that purpose increases, the apparatus configuration becomes complicated, and the manufacturing cost increases. There is also the problem of being lost.
【００２１】 そこで、例えば、図５に示すように構成された装置が提案されている（なお、 説明上、装置全体の構成は省略している）。この装置において、被検査基板５５ を保持するホルダ５７の中心部には、開口５７ａが形成されており、かかる開口 ５７ａの周囲のホルダ５７上に被検査基板５５を載置保持させるように構成され ている。更に、観察者５９から見てホルダ５７の裏面後方には、このホルダ５７ と並列して且つホルダよりも拡大した表面領域を有し、背面光の発生を抑制する 黒色板６１が配置されている。Therefore, for example, an apparatus configured as shown in FIG. 5 has been proposed (for the sake of explanation, the overall configuration of the apparatus is omitted). In this apparatus, an opening 57a is formed in the center of a holder 57 that holds a substrate 55 to be inspected, and the substrate 57 to be inspected is placed and held on the holder 57 around the opening 57a. ing. Further, behind the back surface of the holder 57 as seen from the observer 59, a black plate 61 is arranged in parallel with the holder 57 and having a surface area larger than the holder and suppressing back light generation. .
【００２２】 しかしながら、かかる大きな黒色板６１を引例１及び２の装置に配置させる場 合には、ある程度の占有領域を必要とする関係上、装置全体が大きくなり、構成 上不利である。However, when such a large black plate 61 is arranged in the devices of References 1 and 2, the entire device becomes large because it requires a certain occupied area, which is disadvantageous in terms of configuration.
【００２３】 本考案は、このような課題を解決するためになされ、その目的は、コンパクト 且つ簡単な構成で、被検査基板の表面及び裏面に存するごみ及び傷等の異物の検 出能力を向上させる基板外観検査装置を提供することにある。The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to improve the ability to detect foreign matters such as dust and scratches on the front and back surfaces of a substrate to be inspected with a compact and simple structure. An object is to provide a substrate visual inspection device.
【００２４】[0024]
このような目的を達成するために、本考案は、被検査基板表面に照明光を照射 し、その表面からの反射光の光学的変化を検出することによって、被検査基板上 に存在する欠陥部分を観察する基板外観検査装置において、 In order to achieve such an object, the present invention irradiates the surface of the substrate to be inspected with illumination light and detects the optical change of the reflected light from the surface to detect the defective portion existing on the substrate to be inspected. In the board appearance inspection device for observing
【００２５】 前記被検査基板に対して所定角度だけ傾斜させた状態で対面配置され、且つ、 この被検査基板を透過した光の一部を吸収すると共に残りを観察者の眼に対して 離間する方向に反射することによって、前記被検査基板上に存在する欠陥部分の みを際立たせるように構成された光吸収性反射手段を備える。[0025] The substrate is arranged face-to-face in a state of being inclined at a predetermined angle with respect to the substrate to be inspected, and absorbs a part of the light transmitted through the substrate to be inspected while separating the rest from the eyes of the observer. The optical absorptive reflecting means is configured so as to highlight only the defective portion existing on the substrate to be inspected by reflecting in the direction.
【００２６】[0026]
基板外観検査の際、被検査基板上に照射された照明光は、その一部が被検査基 板を透過して、この被検査基板に対して所定角度だけ傾斜させた状態で対面配置 された光吸収性反射手段に照射される。光吸収性反射手段に照射された照明光は 、その一部は吸収され、残りは観察者の眼に対して離間する方向に反射される。 During the visual inspection of the board, a part of the illumination light irradiated on the board to be inspected is transmitted through the board to be inspected, and is arranged facing the board to be inspected at a predetermined angle. The light absorbing reflecting means is irradiated. The illumination light emitted to the light-absorbing reflecting means is partially absorbed and the rest is reflected in a direction away from the observer's eye.
【００２７】[0027]
以下、本考案の一実施例に係る基板外観検査装置について、図１を参照して説 明する。 Hereinafter, a board appearance inspection apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【００２８】 図１に示すように、本実施例の基板外観検査装置は、光源６３から発光した照 明光が、フレネルレンズ６５を介して集光された後、Ｘ−Ｙステージ６７上に保 持された例えばガラス等の透明部材から成る被検査基板６９に対して所定角度だ け傾斜した状態で照明されるように構成されている。As shown in FIG. 1, in the substrate appearance inspection apparatus of this embodiment, after the illumination light emitted from the light source 63 is condensed through the Fresnel lens 65, it is held on the XY stage 67. The substrate 69 to be inspected, which is made of a transparent member such as glass, is illuminated at a predetermined angle.
【００２９】 Ｘ−Ｙステージ６７は、Ｙ方向に移動可能に構成されたＹステージ７１と、こ のＹステージ７１上に設けられた一対のガイド７３に沿ってＸ方向に移動可能に 構成されたＸステージ７５と、このＸステージ７５上に設けられ、被検査基板６ ９の周縁部を保持可能に構成されたホルダ７７と、を備えている。 この結果、ホルダ７７に保持された被検査基板６９は、Ｘ−Ｙステージ６７の 移動に伴って所定方向に任意に移動される。The XY stage 67 is configured to be movable in the X direction along a Y stage 71 configured to be movable in the Y direction and a pair of guides 73 provided on the Y stage 71. An X stage 75 and a holder 77 which is provided on the X stage 75 and is configured to be able to hold the peripheral edge of the substrate 69 to be inspected are provided. As a result, the inspected substrate 69 held by the holder 77 is arbitrarily moved in a predetermined direction along with the movement of the XY stage 67.
【００３０】 また、ホルダ７７には、このホルダ７７に保持された被検査基板６９の裏面に 対して所定角度だけ傾斜して対面配置され且つこの被検査基板６９を透過した光 の一部を吸収すると共に残りを観察者の眼Ｅに対して離間する方向に反射するよ うに構成された黒色平滑板７９が設けられている。 なお、所定角度だけ傾斜させて配置された黒色平滑板７９は、その表面が平滑 状に加工された光吸収材料によって形成されている。Further, the holder 77 is arranged so as to face the back surface of the inspected substrate 69 held by the holder 77 by a predetermined angle and absorbs a part of the light transmitted through the inspected substrate 69. In addition, a black smooth plate 79 is provided so as to reflect the rest in a direction away from the observer's eye E. The black smooth plate 79, which is arranged so as to be inclined by a predetermined angle, is made of a light absorbing material whose surface is processed to be smooth.
【００３１】 このような構成を有する基板外観検査装置において、光源６３からフレネルレ ンズ６５を介して被検査基板６９上に照明光を照射すると、被検査基板６９の表 裏面から反射した反射照明光は、図中符号Ｒ1 、Ｒ2 で示す方向に進む。また、 被検査基板６９を透過した照明光は、黒色平滑板７９に到達し、ここで、その一 部は吸収され、残りは黒色平滑板７９の表面で反射して図中符号Ｒ3 、Ｒ4 で示 す方向（即ち、観察者の眼Ｅに対して離間する方向）に進む。 なお、本実施例に適用された被検査基板６９の反射率は、その表裏面において 約４％とし、また、黒色平滑板７９の反射率も約４％と仮定する。In the substrate visual inspection device having such a configuration, when the illumination light is emitted from the light source 63 through the Fresnel lens 65 onto the inspection substrate 69, the reflected illumination light reflected from the front and back surfaces of the inspection substrate 69 is generated. , And proceed in the directions indicated by reference signs R 1 and R 2 . Further, the illumination light transmitted through the substrate 69 to be inspected reaches the black smooth plate 79, where a part of the light is absorbed and the rest is reflected on the surface of the black smooth plate 79 and denoted by R 3 and R in the figure. Proceed in the direction indicated by 4 (that is, the direction away from the observer's eye E). It is assumed that the substrate 69 to be inspected applied to this embodiment has a reflectance of about 4% on its front and back surfaces, and that the black smooth plate 79 also has a reflectance of about 4%.
【００３２】 このように照明光が被検査基板６９上に照射された際、被検査基板６９の表面 に、例えばごみ及び傷等の異物が存在した場合、かかる異物から散乱光Ｓが発生 する。図１には、異物から発生した散乱光Ｓが全方位について均等の強度を有し ているように図示してあるが、実際には、異物の形状や大きさ、あるいは、照明 光の振動方向によって複雑な光強度分布を呈示する。As described above, when the inspection target substrate 69 is irradiated with the illumination light, and foreign substances such as dust and scratches are present on the surface of the inspection target substrate 69, scattered light S is generated from the foreign substances. In FIG. 1, the scattered light S generated from the foreign matter is illustrated as having a uniform intensity in all directions. However, in reality, the shape and size of the foreign matter, or the vibration direction of the illumination light. Presents a complicated light intensity distribution.
【００３３】 このような状態において、被検査基板６９の外観を検査する場合、観察者は、 眼Ｅを介して被検査基板６９の表面を目視観察するわけであるが、通常、観察者 の眼Ｅは、図１に示された位置に置かれている場合が多く、観察者の眼Ｅには、 被検査基板６９の表裏面からの反射光及び黒色平滑板７９からの反射光は、直接 、入り込むことはない。In such a state, when inspecting the appearance of the substrate 69 to be inspected, the observer visually observes the surface of the substrate 69 to be inspected through the eye E. In many cases, E is placed at the position shown in FIG. 1, and the reflected light from the front and back surfaces of the substrate 69 to be inspected and the reflected light from the black smooth plate 79 are directly reflected by the eye E of the observer. , Never get in.
【００３４】 しかも、黒色平滑板７９は高い光吸収率を有しているため、この黒色平滑板７ ９面からの反射光は、その光強度が大幅に弱められた状態に規制される。更に、 黒色平滑板７９はその表面が平滑状に加工されているため、かかる面から散乱光 は発生しない。Moreover, since the black smooth plate 79 has a high light absorption rate, the reflected light from the surface of the black smooth plate 79 is regulated in a state where the light intensity thereof is significantly weakened. Further, since the surface of the black smooth plate 79 is processed to be smooth, scattered light is not generated from this surface.
【００３５】 このため、観察者は、暗い背景の中で被検査基板６９に存する異物からの散乱 光Ｓのみを確認することができ、結果的に、ごみ及び傷等の異物の検出能力を向 上させることができる。Therefore, the observer can confirm only the scattered light S from the foreign matter existing on the substrate 69 to be inspected in the dark background, and as a result, the foreign matter such as dust and scratches can be detected. Can be raised.
【００３６】 なお、黒色平滑板７９の全面に反射防止コートを施して、被検査基板６９に対 して並列配置させることも考えられるが、全面に反射防止コートを施すための費 用がかかるため、装置の製造コストが上昇してしまうと共に、完全に反射を防止 させることは困難である。 従って、本実施例のように、黒色平滑板７９を傾斜配置させて、その反射光の 方向を観察者の眼Ｅに対して離間させる構成の方が現実的である。Although it is possible to apply an antireflection coating to the entire surface of the black smooth plate 79 and to arrange the black smooth plate 79 in parallel with the substrate 69 to be inspected, it is costly to apply the antireflection coating to the entire surface. However, it is difficult to completely prevent reflection as well as increase the manufacturing cost of the device. Therefore, as in the present embodiment, it is more realistic to arrange the black smooth plate 79 in an inclined manner so that the direction of the reflected light is separated from the eye E of the observer.
【００３７】 次に、本考案の変形例に係る基板外観検査装置について、図２を参照して説明 する。なお、説明に際し、本変形例に係る部分のみを図示して他の構成は図１を 参照することとする。Next, a substrate appearance inspection apparatus according to a modified example of the present invention will be described with reference to FIG. It should be noted that, in the description, only the portion according to the present modification is illustrated and other configurations are referred to FIG. 1.
【００３８】 図２に示すように、本変形例に適用された黒色平滑板７９は、その一側面が断 面ノコギリ歯状に形成されており、かかる側面を被検査基板６９に対面させ且つ 被検査基板６９に並列配置して構成されている。As shown in FIG. 2, the black smooth plate 79 applied to the present modification has one side surface formed in a sawtooth shape and has a side surface facing the substrate 69 to be inspected. It is arranged in parallel with the inspection board 69.
【００３９】 このように構成することによって、被検査基板６９と黒色平滑板７９との配置 に要するスペースを縮減させることが可能となり、装置のコンパクト化を達成す ることができる。With this configuration, the space required for disposing the inspected substrate 69 and the black smooth plate 79 can be reduced, and the device can be made compact.
【００４０】 更に、図中点線Ｒで示すように、黒色平滑板７９のノコギリ歯状面から反射し た反射光は、観察者の眼Ｅに対して大幅に離間した方向に進行するため、かかる 黒色平滑板７９からの光が眼Ｅに直接入り込むことはない。Further, as indicated by a dotted line R in the figure, the reflected light reflected from the sawtooth surface of the black smooth plate 79 travels in a direction largely separated from the eye E of the observer, and thus the reflected light is generated. Light from the black smooth plate 79 does not enter the eye E directly.
【００４１】 このため、観察者は、暗い背景の中で被検査基板６９に存する異物からの散乱 光Ｓ（図１参照）のみを確認することができ、結果的に、ごみ及び傷等の異物の 検出能力を向上させることができる。Therefore, the observer can confirm only the scattered light S (see FIG. 1) from the foreign matter existing on the inspected substrate 69 in the dark background, and as a result, the foreign matter such as dust and scratches. The detection ability of can be improved.
【００４２】 ただし、ノコギリ歯状面の歯端から乱反射光が発生するため、観察者には、何 本かの線が確認されるが、その光強度は大幅に弱められているため、観察に支障 を来すことはない。However, since the diffuse reflection light is generated from the tooth end of the sawtooth surface, some lines are observed by the observer, but the light intensity is considerably weakened, and therefore, the observation is difficult. It will not cause any problems.
【００４３】[0043]
【考案の効果】 本考案は、被検査基板に対して所定角度だけ傾斜させた状態で対面配置された 光吸収性反射手段を備えているため、この被検査基板を透過した光を吸収すると 共に観察者の眼に対して離間する方向に反射することができる。この結果、被検 査基板上に存在する欠陥部分のみ他の部分に比べて際立たせることが可能となり 、かかる欠陥部分の検出能力を向上させることができる。EFFECTS OF THE INVENTION Since the present invention includes the light-absorptive reflecting means which is arranged face-to-face with being tilted at a predetermined angle with respect to the substrate to be inspected, it absorbs light transmitted through the substrate to be inspected. It can be reflected in a direction away from the observer's eyes. As a result, only the defective portion existing on the substrate to be inspected can be made more prominent than other portions, and the detection capability of such defective portion can be improved.
【図１】本考案の一実施例に係る基板外観検査装置の構
成を概略的に示す図。FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a substrate visual inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１に示す黒色平滑板の他の例を示す図。FIG. 2 is a diagram showing another example of the black smooth plate shown in FIG.
【図３】特願平４−１３２５７７号明細書中に示された
基板外観検査装置の構成を概略的に示す図。FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a board appearance inspection device disclosed in Japanese Patent Application No. 4-132577.
【図４】特願平４−１５８１２６号明細書中に示された
基板外観検査装置の構成を概略的に示す図。FIG. 4 is a diagram schematically showing the configuration of a board appearance inspection device shown in Japanese Patent Application No. 4-158126.
【図５】被検査基板の後方に黒色板を配置して、異物か
らの散乱光のコントラストを高めるように改良された装
置の一部を拡大して示す図であって、（ａ）は、その側
面図、（ｂ）は、その正面図。FIG. 5 is an enlarged view showing a part of an apparatus in which a black plate is arranged behind a substrate to be inspected to improve the contrast of scattered light from a foreign matter, and (a) is, The side view and (b) are the front views.
６３…光源、６５…フレネルレンズ、６７…Ｘ−Ｙステ
ージ、６９…被検査基板、７７…ホルダ、７９…黒色平
滑板、Ｅ…眼。63 ... Light source, 65 ... Fresnel lens, 67 ... XY stage, 69 ... Inspected substrate, 77 ... Holder, 79 ... Black smooth plate, E ... Eye.
Claims (1)
表面からの反射光の光学的変化を検出することによっ
て、被検査基板上に存在する欠陥部分を観察する基板外
観検査装置において、 前記被検査基板に対して所定角度だけ傾斜させた状態で
対面配置され、且つ、この被検査基板を透過した光の一
部を吸収すると共に残りを観察者の眼に対して離間する
方向に反射することによって、前記被検査基板上に存在
する欠陥部分のみを際立たせるように構成された光吸収
性反射手段を備えていることを特徴とする基板外観検査
装置。1. A substrate appearance inspection apparatus for observing a defective portion existing on a substrate to be inspected by illuminating the surface of the substrate to be inspected with illumination light and detecting an optical change of reflected light from the surface. It is placed face to face with the substrate to be inspected at a predetermined angle, and absorbs part of the light transmitted through the substrate to be inspected and reflects the rest in a direction away from the observer's eyes. By so doing, the substrate visual inspection apparatus is provided with a light-absorptive reflecting means configured to highlight only the defective portion existing on the substrate to be inspected.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28893U JPH0656762U (en) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | Substrate visual inspection device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28893U JPH0656762U (en) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | Substrate visual inspection device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0656762U true JPH0656762U (en) | 1994-08-05 |
Family
ID=11469722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28893U Pending JPH0656762U (en) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | Substrate visual inspection device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0656762U (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005283582A (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | System and method for inspecting semiconductor component |
| JP2010237016A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Inspection method |
| JP2016045039A (en) * | 2014-08-21 | 2016-04-04 | バンドー化学株式会社 | Foreign body inspection device, foreign body inspection system, and foreign body inspection method |
-
1993
- 1993-01-08 JP JP28893U patent/JPH0656762U/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005283582A (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | System and method for inspecting semiconductor component |
| JP2010237016A (en) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Inspection method |
| JP2016045039A (en) * | 2014-08-21 | 2016-04-04 | バンドー化学株式会社 | Foreign body inspection device, foreign body inspection system, and foreign body inspection method |
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