JPH0655148A - ガラス基板洗浄装置 - Google Patents
ガラス基板洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0655148A JPH0655148A JP21007492A JP21007492A JPH0655148A JP H0655148 A JPH0655148 A JP H0655148A JP 21007492 A JP21007492 A JP 21007492A JP 21007492 A JP21007492 A JP 21007492A JP H0655148 A JPH0655148 A JP H0655148A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- cleaning
- cassette
- washing
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス基板群の完全なる精密洗浄を達し得
る。簡単な構成での自動化を行い得る。 【構成】 ガラス基板２群を収納するカセット３を載置
するローダ部１００と、洗浄槽２７とこの洗浄槽２７内
にガラス基板２群を浸漬させる洗浄治具２２とを備える
洗浄部２００と、空のカセット３を載置するアンローダ
部３００と、前記ローダ部１００のカセット３からガラ
ス基板２群を取り出し、前記洗浄部２００の洗浄治具２
２に前記ガラス基板２群を受けわたし、洗浄後に前記洗
浄治具２２からガラス基板２群を取り出して前記アンロ
ーダ部３００のカセット３に収納する移載装置２０とを
備える。
る。簡単な構成での自動化を行い得る。 【構成】 ガラス基板２群を収納するカセット３を載置
するローダ部１００と、洗浄槽２７とこの洗浄槽２７内
にガラス基板２群を浸漬させる洗浄治具２２とを備える
洗浄部２００と、空のカセット３を載置するアンローダ
部３００と、前記ローダ部１００のカセット３からガラ
ス基板２群を取り出し、前記洗浄部２００の洗浄治具２
２に前記ガラス基板２群を受けわたし、洗浄後に前記洗
浄治具２２からガラス基板２群を取り出して前記アンロ
ーダ部３００のカセット３に収納する移載装置２０とを
備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板洗浄装置に
係り、たとえば液晶表示基板に用いられるガラス基板の
洗浄装置に関するものである。
係り、たとえば液晶表示基板に用いられるガラス基板の
洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示基板に用いられるガラス基板
は、その表面においてフォトリソグラフィ技術等を用い
て微細加工された電子部品等を形成しなければならない
ことから、精密洗浄がなされなければならない。
は、その表面においてフォトリソグラフィ技術等を用い
て微細加工された電子部品等を形成しなければならない
ことから、精密洗浄がなされなければならない。
【０００３】一方において、このガラス基板の精密洗浄
は、液晶表示基板の大量生産の目的から、複数枚をまと
めて同時になされることが要望されている。
は、液晶表示基板の大量生産の目的から、複数枚をまと
めて同時になされることが要望されている。
【０００４】このようなことから、従来では、複数枚か
らなるガラス基板群をカセットに収納し、このカセット
毎を洗浄槽に浸漬して洗浄を行うようになっていた。
らなるガラス基板群をカセットに収納し、このカセット
毎を洗浄槽に浸漬して洗浄を行うようになっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来によるガラス基板の洗浄は、そのガラス基板を
収納するカセットを完全に清浄させた状態で使用して
も、該カセットの移動中に異物が付着したり、あるいは
収納してあるガラス基板群の振動等によりカセットその
ものが摩耗しその摩耗屑がカセットやガラス基板に付着
してしまうことを免れなかった。
うな従来によるガラス基板の洗浄は、そのガラス基板を
収納するカセットを完全に清浄させた状態で使用して
も、該カセットの移動中に異物が付着したり、あるいは
収納してあるガラス基板群の振動等によりカセットその
ものが摩耗しその摩耗屑がカセットやガラス基板に付着
してしまうことを免れなかった。
【０００６】このため、ガラス基板群をカセット毎に洗
浄槽に浸漬した場合、そのまま洗浄槽に異物あるいは摩
耗屑が洗浄液内に溶け込み、該洗浄液を汚染させること
から、完全なる精密洗浄を達し得ないという問題点が残
されていた。
浄槽に浸漬した場合、そのまま洗浄槽に異物あるいは摩
耗屑が洗浄液内に溶け込み、該洗浄液を汚染させること
から、完全なる精密洗浄を達し得ないという問題点が残
されていた。
【０００７】また、ガラス基板群のカセット毎の洗浄槽
への浸漬は人手によっていたため、作業効率の劣化をも
たらし、簡単な構成での自動化が要望されていた。
への浸漬は人手によっていたため、作業効率の劣化をも
たらし、簡単な構成での自動化が要望されていた。
【０００８】それ故、本発明はこのような事情に基づい
てなされたものであり、その目的とするところのもの
は、ガラス基板群の完全なる精密洗浄を達し得るガラス
基板洗浄装置を提供することにある。
てなされたものであり、その目的とするところのもの
は、ガラス基板群の完全なる精密洗浄を達し得るガラス
基板洗浄装置を提供することにある。
【０００９】また、本発明の他の目的は、簡単な構成で
の自動化を行い得るガラス基板洗浄装置を提供すること
にある。
の自動化を行い得るガラス基板洗浄装置を提供すること
にある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、基本的には、ガラス基板群を収納
するカセットを載置するローダ部と、洗浄槽とこの洗浄
槽内にガラス基板群を浸漬させる洗浄治具とを備える洗
浄部と、空のカセットを載置するアンローダ部と、前記
ローダ部のカセットからガラス基板群を取り出し、前記
洗浄部の洗浄治具に前記ガラス基板群を受けわたし、洗
浄後に前記洗浄治具からガラス基板群を取り出して前記
アンローダ部のカセットに収納する移載装置と、を備え
ることを特徴とするものである。
るために、本発明は、基本的には、ガラス基板群を収納
するカセットを載置するローダ部と、洗浄槽とこの洗浄
槽内にガラス基板群を浸漬させる洗浄治具とを備える洗
浄部と、空のカセットを載置するアンローダ部と、前記
ローダ部のカセットからガラス基板群を取り出し、前記
洗浄部の洗浄治具に前記ガラス基板群を受けわたし、洗
浄後に前記洗浄治具からガラス基板群を取り出して前記
アンローダ部のカセットに収納する移載装置と、を備え
ることを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】このように構成したガラス基板洗浄装置は、移
載装置によって、ガラス基板群がローダ部のカセットか
ら取り出され、さらに洗浄部の洗浄治具に受けわたされ
て、洗浄後にアンローダ部のカセットに収納されるよう
になっている。
載装置によって、ガラス基板群がローダ部のカセットか
ら取り出され、さらに洗浄部の洗浄治具に受けわたされ
て、洗浄後にアンローダ部のカセットに収納されるよう
になっている。
【００１２】このため、カセットは全く洗浄槽に浸漬さ
れることがなくなり、カセットによる洗浄液の汚染を完
全になくすことができるようになる。したがって、ガラ
ス基板群の完全なる精密洗浄を達し得ることができる。
れることがなくなり、カセットによる洗浄液の汚染を完
全になくすことができるようになる。したがって、ガラ
ス基板群の完全なる精密洗浄を達し得ることができる。
【００１３】そして、ローダ部からアンローダ部へのガ
ラス基板群の搬送は移載装置によって行われ、また、こ
の移載装置から受けわたされたガラス基板群の洗浄槽へ
の浸漬は洗浄治具によって行っていることから、簡単な
構成で自動化を達し得ることができる。
ラス基板群の搬送は移載装置によって行われ、また、こ
の移載装置から受けわたされたガラス基板群の洗浄槽へ
の浸漬は洗浄治具によって行っていることから、簡単な
構成で自動化を達し得ることができる。
【００１４】
【実施例】図１は、本発明によるガラス基板洗浄装置の
一実施例を示す全体構成図であり、（ａ）は正面図、
（ｂ）は（ａ）のｂ−ｂ線における断面図である。
一実施例を示す全体構成図であり、（ａ）は正面図、
（ｂ）は（ａ）のｂ−ｂ線における断面図である。
【００１５】同図において、まず、ローダ部１００があ
り、このローダ部１００にはカセット３をセットするよ
うになってる。このカセット３には複数のガラス基板２
が垂直かつ平行に収納されている。そして、各ガラス基
板２の全ては後に詳述する手段によってカセット３に対
して上方に持ち上げられ、これによって、カセット３か
ら突出されるようになっている。
り、このローダ部１００にはカセット３をセットするよ
うになってる。このカセット３には複数のガラス基板２
が垂直かつ平行に収納されている。そして、各ガラス基
板２の全ては後に詳述する手段によってカセット３に対
して上方に持ち上げられ、これによって、カセット３か
ら突出されるようになっている。
【００１６】前記カセット３の上方には、移載装置２０
が配置され、この移載装置２０によって前記各ガラス基
板２の全てが把持されるようになっている。そして、各
ガラス基板２の全てを把持した移載装置２０はガイドレ
ール２８、２９にガイドされて洗浄部２００側（図中Ｘ
方向）に移動できるようになっている。
が配置され、この移載装置２０によって前記各ガラス基
板２の全てが把持されるようになっている。そして、各
ガラス基板２の全てを把持した移載装置２０はガイドレ
ール２８、２９にガイドされて洗浄部２００側（図中Ｘ
方向）に移動できるようになっている。
【００１７】洗浄部２００は、たとえば４個の洗浄槽２
７が順次並設されてなり、前記移載装置２０は、各洗浄
槽２７に位置づけられた際に、前記ガラス基板２を洗浄
槽２７内に浸漬しその後該ガラス基板２を取り出すま
で、その移動を停止するようになっている。
７が順次並設されてなり、前記移載装置２０は、各洗浄
槽２７に位置づけられた際に、前記ガラス基板２を洗浄
槽２７内に浸漬しその後該ガラス基板２を取り出すま
で、その移動を停止するようになっている。
【００１８】各洗浄槽２７には洗浄治具２２を備えてな
り、この洗浄治具２２は、前記移載装置２０からガラス
基板２の全てを受けわたされるようになっており、その
後に、洗浄治具支柱２３に沿って移動し、前記ガラス基
板２を洗浄槽２７に浸漬しその後該ガラス基板２を取り
出すようになっている。
り、この洗浄治具２２は、前記移載装置２０からガラス
基板２の全てを受けわたされるようになっており、その
後に、洗浄治具支柱２３に沿って移動し、前記ガラス基
板２を洗浄槽２７に浸漬しその後該ガラス基板２を取り
出すようになっている。
【００１９】このようにして、全ての洗浄槽２７におい
て各洗浄がなされたガラス基板２の全ては、移載装置２
０に受けわたされ、この移載装置２０によってアンロー
ダ部３００に移動され、このアンローダ部３００に備え
られているカセット３に収納されるようになっている。
て各洗浄がなされたガラス基板２の全ては、移載装置２
０に受けわたされ、この移載装置２０によってアンロー
ダ部３００に移動され、このアンローダ部３００に備え
られているカセット３に収納されるようになっている。
【００２０】ここで、さらに、前記ローダ部１００、移
載装置２０、洗浄部２００、アンローダ部３００、につ
いて以下詳述する。
載装置２０、洗浄部２００、アンローダ部３００、につ
いて以下詳述する。
【００２１】ローダ部１００ 図２（ａ）に示すように、カセットベース１があり、こ
のカセットベース１にはカセット３を載置できるように
なっている。このカセット３内には複数のガラス基板２
が垂直にかつ平行状態を保って等間隔に収納されてい
る。
のカセットベース１にはカセット３を載置できるように
なっている。このカセット３内には複数のガラス基板２
が垂直にかつ平行状態を保って等間隔に収納されてい
る。
【００２２】なお、このカセット３は、ガラス基板２を
収納した状態で洗浄前の他の工程から運搬され、このカ
セットベース１に配置されるものである。
収納した状態で洗浄前の他の工程から運搬され、このカ
セットベース１に配置されるものである。
【００２３】そして、カセットベース１の下方には、前
記ガラス基板２をカセット３に対して上方に移動させ、
これによりカセット３から該ガラス基板２を突出させる
機構が配置されている。
記ガラス基板２をカセット３に対して上方に移動させ、
これによりカセット３から該ガラス基板２を突出させる
機構が配置されている。
【００２４】すなわち、モータ４があり、このモータ４
の駆動によってボールねじ５が回転し、つめサポート７
を介してつめ８が上下動（図中Ａ、Ｂ方向）するように
なっている。このつめ８は、カセット３の底面に形成さ
れた孔に挿入されているもので、ガイド６に案内される
前記つめサポート７に支持されたものとなっている。
の駆動によってボールねじ５が回転し、つめサポート７
を介してつめ８が上下動（図中Ａ、Ｂ方向）するように
なっている。このつめ８は、カセット３の底面に形成さ
れた孔に挿入されているもので、ガイド６に案内される
前記つめサポート７に支持されたものとなっている。
【００２５】ここで、前記つめ８は、同図（ａ）のｂ−
ｂ線における断面を示す図２（ｂ）に示すように、それ
ぞれのガラス基板２の下端辺を支持するように構成さ
れ、その詳細を同図（ｃ）に示すように、解放端側に角
度θ1の広がりをもち、さらに幅Ｗ1、深さＨ1を有する
溝８Ａが形成されて構成されたものとなっている。
ｂ線における断面を示す図２（ｂ）に示すように、それ
ぞれのガラス基板２の下端辺を支持するように構成さ
れ、その詳細を同図（ｃ）に示すように、解放端側に角
度θ1の広がりをもち、さらに幅Ｗ1、深さＨ1を有する
溝８Ａが形成されて構成されたものとなっている。
【００２６】幅Ｗ1としては、ガラス基板２の厚さに対
して約０．０５ｍｍ程度大きく、深さＨ1としては、幅
Ｗ1の５〜６倍に設定するのが好適である。
して約０．０５ｍｍ程度大きく、深さＨ1としては、幅
Ｗ1の５〜６倍に設定するのが好適である。
【００２７】このようにして、カセット３に対して上方
に移動された各ガラス基板２は、その両側の側端辺をそ
れぞれ移載装置２０が備えるアーム９および１０によっ
て把持されるようになっている。
に移動された各ガラス基板２は、その両側の側端辺をそ
れぞれ移載装置２０が備えるアーム９および１０によっ
て把持されるようになっている。
【００２８】移載装置２０ 図３（ａ）に示すように、アーム９および１０における
把持部には駒１１、１２、１３が配置され、この駒１
１、１２、１３によって、前記ガラス基板２の両側端辺
を挟持するようになっている。
把持部には駒１１、１２、１３が配置され、この駒１
１、１２、１３によって、前記ガラス基板２の両側端辺
を挟持するようになっている。
【００２９】駒１１、１２、１３のそれぞれは、同図
（ｂ）に示すように、ほぼ円柱形状部材の周側面にガラ
ス基板２の配置ピッチに応じた間隔に溝が形成されたも
のであり、この溝は、解放端側に角度θ3の広がりをも
ち、さらに幅Ｗ2、深さＨ2を有するものとなっている。
幅Ｗ2としては、前記幅Ｗ1の１．３〜１．５倍に、深さ
Ｈ2としては、幅Ｗ1の３〜４倍に設定するのが好適であ
る。
（ｂ）に示すように、ほぼ円柱形状部材の周側面にガラ
ス基板２の配置ピッチに応じた間隔に溝が形成されたも
のであり、この溝は、解放端側に角度θ3の広がりをも
ち、さらに幅Ｗ2、深さＨ2を有するものとなっている。
幅Ｗ2としては、前記幅Ｗ1の１．３〜１．５倍に、深さ
Ｈ2としては、幅Ｗ1の３〜４倍に設定するのが好適であ
る。
【００３０】なお、アーム９の先端部にはガラス基板２
の下端辺を係止させるための係止部１４が備えられ、こ
れにより、該ガラス基板２がアーム９および１０からず
り落ちないように構成されている。
の下端辺を係止させるための係止部１４が備えられ、こ
れにより、該ガラス基板２がアーム９および１０からず
り落ちないように構成されている。
【００３１】アーム９および１０のそれぞれの他端部
は、移載機構部２０Ａに連結され、この移載機構部２０
の駆動によって、前記アーム９および１０の開き角度が
支点１８、１９を中心として変化するようになってい
る。すなわち、ガラス基板２を把持する際は図中Ｃ方向
にアーム９および１０が偏移し、その把持を解く際は図
中Ｄ方向に偏移するようになってる。
は、移載機構部２０Ａに連結され、この移載機構部２０
の駆動によって、前記アーム９および１０の開き角度が
支点１８、１９を中心として変化するようになってい
る。すなわち、ガラス基板２を把持する際は図中Ｃ方向
にアーム９および１０が偏移し、その把持を解く際は図
中Ｄ方向に偏移するようになってる。
【００３２】また、アーム９および１０を連結する移載
機構部２０Ａは、エアーシリンダ１６によって支点１７
を中心に回動できるようになっており、これによって、
アーム９および１０が把持するガラス基板２にたとえば
角度θ2の傾きを与えることができるようになってい
る。
機構部２０Ａは、エアーシリンダ１６によって支点１７
を中心に回動できるようになっており、これによって、
アーム９および１０が把持するガラス基板２にたとえば
角度θ2の傾きを与えることができるようになってい
る。
【００３３】図１（ａ）に示すように、移載装置２０が
ローダ部１００においてカセット３からガラス基板２を
取り出す場合は、前記移載機構部２０Ａは傾きを有しな
いが（θ2＝０）、洗浄部２００側に移動される際は、
上述の角度でガラス基板２が傾けられるようになる。洗
浄槽２７からガラス基板２を引き出す際に、ガラス基板
２に付着されている洗浄水を最下方に位置付けられてい
る角部から流し落すためであり、これにより、ガラス基
板２面に残存する洗浄固体物の残存領域をできるだけ少
なくするようにしている。
ローダ部１００においてカセット３からガラス基板２を
取り出す場合は、前記移載機構部２０Ａは傾きを有しな
いが（θ2＝０）、洗浄部２００側に移動される際は、
上述の角度でガラス基板２が傾けられるようになる。洗
浄槽２７からガラス基板２を引き出す際に、ガラス基板
２に付着されている洗浄水を最下方に位置付けられてい
る角部から流し落すためであり、これにより、ガラス基
板２面に残存する洗浄固体物の残存領域をできるだけ少
なくするようにしている。
【００３４】なお、移動機構部２０Ａの上述した角度θ
2は、アンロード部３００においては０になり、ガラス
基板２をカセットに収納するようになる。
2は、アンロード部３００においては０になり、ガラス
基板２をカセットに収納するようになる。
【００３５】洗浄部２００ 図４に示すように、移載装置２０からガラス基板２の受
けわたしを行う洗浄治具２２があり、この洗浄治具２２
には、図３（ｂ）に示したと同様の構成からなる駒２
４、２５、２６が備えられている。この駒２４、２５、
２６は、ガラス基板２を傾かせたまま（図３に示した角
度と同一）でその受けわたしができるような配置となっ
ており、また、洗浄治具２２はガラス基板２をそのまま
の状態にして洗浄槽２７に浸漬できるようになってい
る。
けわたしを行う洗浄治具２２があり、この洗浄治具２２
には、図３（ｂ）に示したと同様の構成からなる駒２
４、２５、２６が備えられている。この駒２４、２５、
２６は、ガラス基板２を傾かせたまま（図３に示した角
度と同一）でその受けわたしができるような配置となっ
ており、また、洗浄治具２２はガラス基板２をそのまま
の状態にして洗浄槽２７に浸漬できるようになってい
る。
【００３６】すなわち、洗浄治具２２は支柱２３をガイ
ドとして、洗浄槽２７内に移動（図中Ｆ方向）でき、浸
漬による洗浄後に元の位置に移動（図中Ｅ方向）できる
ようになっている。
ドとして、洗浄槽２７内に移動（図中Ｆ方向）でき、浸
漬による洗浄後に元の位置に移動（図中Ｅ方向）できる
ようになっている。
【００３７】アンローダ部３００ 上述したローダ部１００と同様の構成からなり、その操
作においてローダ部１００と逆になっているにすぎない
ものである。
作においてローダ部１００と逆になっているにすぎない
ものである。
【００３８】このアンローダ部３００におけるカセット
３には洗浄されたガラス基板２が収納され、ガラス基板
２はカセット３ごと搬送され、次の工程で処理される。
３には洗浄されたガラス基板２が収納され、ガラス基板
２はカセット３ごと搬送され、次の工程で処理される。
【００３９】上述した実施例のようなガラス基板洗浄装
置によれば、移載装置２０によって、ガラス基板２がロ
ーダ部１００のカセット３から取り出され、さらに洗浄
部２００の洗浄治具２２に受けわたされて、洗浄後にア
ンローダ部３００のカセット３に収納されるようになっ
ている。
置によれば、移載装置２０によって、ガラス基板２がロ
ーダ部１００のカセット３から取り出され、さらに洗浄
部２００の洗浄治具２２に受けわたされて、洗浄後にア
ンローダ部３００のカセット３に収納されるようになっ
ている。
【００４０】このため、カセット３は全く洗浄槽２７に
浸漬されることがなくなり、カセット３による洗浄液の
汚染を完全になくすことができるようになる。したがっ
て、ガラス基板２の完全なる精密洗浄を達し得ることが
できる。
浸漬されることがなくなり、カセット３による洗浄液の
汚染を完全になくすことができるようになる。したがっ
て、ガラス基板２の完全なる精密洗浄を達し得ることが
できる。
【００４１】そして、ローダ部１００からアンローダ部
３００へのガラス基板２の搬送は移載装置２０によって
行われ、また、この移載装置２０から受けわたされたガ
ラス基板２の洗浄槽２７への浸漬は洗浄治具２２によっ
て行っていることから、簡単な構成で自動化を達し得る
ことができる。
３００へのガラス基板２の搬送は移載装置２０によって
行われ、また、この移載装置２０から受けわたされたガ
ラス基板２の洗浄槽２７への浸漬は洗浄治具２２によっ
て行っていることから、簡単な構成で自動化を達し得る
ことができる。
【００４２】上述したガラス基板洗浄装置は、たとえば
液晶表示基板に用いられるガラス基板を洗浄する場合に
適用させたものであるが、必ずしも液晶表示基板に用い
られるガラス基板にのみ適用させる必要がないことはい
うまでもない。
液晶表示基板に用いられるガラス基板を洗浄する場合に
適用させたものであるが、必ずしも液晶表示基板に用い
られるガラス基板にのみ適用させる必要がないことはい
うまでもない。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によるガラス基板洗浄装置によれば、ガラス基板
群の完全なる精密洗浄を達し得ることができる。また、
簡単な構成での自動化を行い得ることができる。
本発明によるガラス基板洗浄装置によれば、ガラス基板
群の完全なる精密洗浄を達し得ることができる。また、
簡単な構成での自動化を行い得ることができる。
【図１】 （ａ）は、本発明によるガラス基板洗浄装置
の一実施例を示す全体概略図、（ｂ）は、（ａ）のｂ−
ｂ線における断面図である。
の一実施例を示す全体概略図、（ｂ）は、（ａ）のｂ−
ｂ線における断面図である。
【図２】 （ａ）は、本発明によるガラス基板洗浄装置
におけるローダ部の一実施例を示す構成図、（ｂ）は、
該ローダ部のつめを、さらに（ｃ）は該つめの詳細を示
す説明図である。
におけるローダ部の一実施例を示す構成図、（ｂ）は、
該ローダ部のつめを、さらに（ｃ）は該つめの詳細を示
す説明図である。
【図３】 （ａ）は、本発明によるガラス基板洗浄装置
における移載装置の一実施例を示す構成図、（ｂ）は該
移載装置に備えられる駒の詳細を示す説明図である。
における移載装置の一実施例を示す構成図、（ｂ）は該
移載装置に備えられる駒の詳細を示す説明図である。
【図４】 本発明によるガラス基板洗浄装置における洗
浄部の一実施例を示す構成図である。
浄部の一実施例を示す構成図である。
２…ガラス基板、３…カセット、２０…移載装置、２２
…洗浄治具、２７…洗浄槽、１００…ローダ部、２００
…洗浄部、３００…アンローダ部。
…洗浄治具、２７…洗浄槽、１００…ローダ部、２００
…洗浄部、３００…アンローダ部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松山 茂 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所茂原工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 ガラス基板群を収納するカセットを載置
するローダ部と、洗浄槽とこの洗浄槽内にガラス基板群
を浸漬させる洗浄治具とを備える洗浄部と、空のカセッ
トを載置するアンローダ部と、前記ローダ部のカセット
からガラス基板群を取り出し、前記洗浄部の洗浄治具に
前記ガラス基板群を受けわたし、洗浄後に前記洗浄治具
からガラス基板群を取り出して前記アンローダ部のカセ
ットに収納する移載装置と、を備えることを特徴とする
ガラス基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21007492A JPH0655148A (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | ガラス基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21007492A JPH0655148A (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | ガラス基板洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0655148A true JPH0655148A (ja) | 1994-03-01 |
Family
ID=16583392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21007492A Pending JPH0655148A (ja) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | ガラス基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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| WO2022172880A1 (ja) | 2021-02-10 | 2022-08-18 | 三菱ケミカル株式会社 | アルデヒドによるニトリルヒドラターゼの反応性向上 |
-
1992
- 1992-08-06 JP JP21007492A patent/JPH0655148A/ja active Pending
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