JPH0652982U - 基板洗浄・乾燥用治具 - Google Patents

基板洗浄・乾燥用治具

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JPH0652982U
JPH0652982U JP9777691U JP9777691U JPH0652982U JP H0652982 U JPH0652982 U JP H0652982U JP 9777691 U JP9777691 U JP 9777691U JP 9777691 U JP9777691 U JP 9777691U JP H0652982 U JPH0652982 U JP H0652982U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 フォトマスク基板、ウエハー等の基板の洗浄
・乾燥時に基板保持溝の液残りによる表面汚れを防止し
た槽式基板洗浄・乾燥用治具を提供する。 【構成】 基板をＶ型保持溝で保持する槽式洗浄用治具
において、Ｖ型保持溝下部を被洗浄物の板厚未満に開口
し、かつ開口部が液逃溝と連設してなる保持片を有して
なる基板洗浄用治具。

Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本考案は、フォトマスク用ガラス基板、液晶ディスプレイ用基板、あるいはウ エハー等の槽式基板洗浄・乾燥用治具に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、フォトマスク基板やウエハー等の基板の洗浄・乾燥は、連続したＶ 型溝を有する保持片を下部及び左右側に設け、フォトマスク基板等をこれら３片 のＶ型溝に保持させ洗浄・乾燥していた。
【０００３】
【考案が解決しょうとする課題】
しかし、従来のＶ型溝を有した保持具では、特に下部に設けたＶ溝に洗浄時の 溶剤や水が残りやすく、これをそのまま蒸気乾燥、或いはすすぎ槽から引き上げ ながら乾燥した場合、残った溶剤あるいは水のため基板にシミがつき、再度の研 磨・洗浄が必要になる欠点がある。
【０００４】 本考案は、基板保持溝の液残りによる表面汚れを防止したフォトマスク基板、 ウエハー等の槽式基板洗浄・乾燥用治具を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】 そこで、本考案者は、前記目的を解決するため鋭意研究をおこなった結果、基 板をＶ型保持溝で保持する槽式洗浄用治具において、Ｖ型保持溝下部を被洗浄物 の板厚未満に開口し、かつ開口部が液逃溝と連設してなる保持片を有する構造に すれば前記目的が達成できるとの知見を得て本考案を完成した。
【０００６】 以下、図面に基づいて本考案を詳細に説明する。 図１は、本考案の洗浄・乾燥用治具の一部の正面図を示し、保持片１は、被洗 浄物４が保持されるＶ型保持溝２の下部から連設した液逃溝３を有している。
【０００７】 Ｖ型保持溝下部は、被洗浄物の板厚未満に開口され、下方に向かって広がる三 角形状をなした液逃溝３と連設されている。
【０００８】 液逃溝３との開口部は、各種基板厚により適宜決定される。
【０００９】 また液逃溝３の形状は、開口部より下方に向かって広がる三角形状であること が好ましく、三角形状の開口度は、１５度から１４０度が好ましい。１５度未満 では表面張力により溶液の液逃げが起きずらく、また１４０度を越えると製品加 工上好ましくない。
【００１０】 図２は、本考案の保持片の一部の斜視図であり、角部を面取してなめらかにす ることによって、基板との接触によるトラブルを防止したものである。
【００１１】 図３は、本考案の洗浄治具の一実施態様で、槽式箱状体の下部に液逃溝を有し た保持片１を設け、かつ左右側にＶ型保持片を設けてある。また、それぞれの保 持片は左右のサグリにより、それぞれ位置が移動可能で被洗浄物である基板の大 きさによりネジ止め位置が適宜決定できる。
【００１２】 基板を下部、左右側面の保持片で保持し、洗浄・乾燥すれば、洗浄・乾燥に用 いる液体が液逃溝に流出し保持部に液が残存することなく洗浄・乾燥による基板 下部のシミを防止することができる。
【００１３】
【考案の効果】
本考案によれば、特別な装置を用いることなく安価な構造により、基板保持片 に残る液滴を逃し、従来の洗浄・乾燥時のシミの発生を防止することができる。
【００１４】
【実施例】
図３に示す洗浄用治具において、下部保持片の形状を表１に示すように変化さ せ、１０枚の板厚０．６ｍｍのフォトマスク基板を保持し、純水で洗浄した後、 乾燥を行い基板下部のシミの発生を比較した。その結果、表１に示すように、三 角形状のものはシミが発生しなかったが、実験例５のＹ型では、表面張力により 液が逃げずシミが発生した。また実験例６の円形状の形状もすべてしみが発生し た。
【表１】
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案の洗浄・乾燥用治具の一部の正面図。
【図２】本考案の保持片の一部の斜視図。
【図３】本考案の洗浄・乾燥用治具の一実施態様の斜視
図。
【符号の説明】
１ 保持片 ２ Ｖ型保持溝 ３ 液逃溝 ４ 被洗浄物 ５ 面取部

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板をＶ型保持溝で保持する槽式洗浄用
    治具において、Ｖ型保持溝下部を被洗浄物の板厚未満に
    開口し、かつ開口部が液逃溝と連設してなる保持片を有
    してなる基板洗浄用治具。
  2. 【請求項２】 基板をＶ型保持溝で保持する槽式洗浄用
    治具において、Ｖ型保持溝下部を被洗浄物の板厚未満に
    開口し、かつ開口部が下方に向かって広がる三角形状を
    なした液逃溝と連設してなる保持片を有してなる基板洗
    浄用治具。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014056865A (ja) * 2012-09-11 2014-03-27 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板保持部材及びそれを備えた基板処理装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6020476U (ja) * 1983-07-20 1985-02-13 三菱自動車工業株式会社 車体の制振構造
JPS60168580A (ja) * 1984-02-10 1985-09-02 呉船産業株式会社 基板洗浄装置

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