JPH0652753B2 - 基板搬出入装置 - Google Patents
基板搬出入装置Info
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- JPH0652753B2 JPH0652753B2 JP60099507A JP9950785A JPH0652753B2 JP H0652753 B2 JPH0652753 B2 JP H0652753B2 JP 60099507 A JP60099507 A JP 60099507A JP 9950785 A JP9950785 A JP 9950785A JP H0652753 B2 JPH0652753 B2 JP H0652753B2
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- Japan
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- finger
- fingers
- cassette
- carrier
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
- H01L21/67265—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は基板搬出入装置に係るものである。
一般にウエハに対して加工または測定を行なう装置には
ウエハを多数収納したキャリアが設置されている。ウエ
ハはキャリアから装置の加工または測定セクションに供
給され、そこで加工または測定を終了した後再びキャリ
アに収納され、キャリアごと次の工程にまわされる。
ウエハを多数収納したキャリアが設置されている。ウエ
ハはキャリアから装置の加工または測定セクションに供
給され、そこで加工または測定を終了した後再びキャリ
アに収納され、キャリアごと次の工程にまわされる。
キャリアからウエハを搬出またはキャリアに搬入するた
めにベルトコンベア式の搬送装置か、またはハンド式の
搬送装置が使用されている。本発明はハンド式の搬送装
置が使用される基板搬出入装置に係るものである。
めにベルトコンベア式の搬送装置か、またはハンド式の
搬送装置が使用されている。本発明はハンド式の搬送装
置が使用される基板搬出入装置に係るものである。
［従来技術］ ハンド式の搬送装置はキャリア内に多数収納されている
ウエハから所望箇所のウエハを取り出すために隣接する
ウエハとウエハとの間にフィンガーを隣接ウエハに接触
させずに挿入しなければならず、そのためウエハの位置
を正確に検知する必要がある。このためウエハハンドラ
はウエハ位置検知機構を組み込んでいる。第３図にウエ
ハハンドラにウエハ位置検出装置を組込んだ従来のハン
ド式の搬送装置を示す。
ウエハから所望箇所のウエハを取り出すために隣接する
ウエハとウエハとの間にフィンガーを隣接ウエハに接触
させずに挿入しなければならず、そのためウエハの位置
を正確に検知する必要がある。このためウエハハンドラ
はウエハ位置検知機構を組み込んでいる。第３図にウエ
ハハンドラにウエハ位置検出装置を組込んだ従来のハン
ド式の搬送装置を示す。
図において、１はレーザ光源、２はレーザ光、４はミラ
ー、５はフィンガー、６はキャリア、７はウエハ、８は
ガラスロッド８１とホトセンサ８２；８３とから成るセ
ンサ、10；12はハンドアーム、11；13は軸、15はハンド
アーム伸縮駆動部、16はハンドラ回転機構、17はハンド
ラ昇降機構である。
ー、５はフィンガー、６はキャリア、７はウエハ、８は
ガラスロッド８１とホトセンサ８２；８３とから成るセ
ンサ、10；12はハンドアーム、11；13は軸、15はハンド
アーム伸縮駆動部、16はハンドラ回転機構、17はハンド
ラ昇降機構である。
カセット６内には多数のウエハ７が収納されている。フ
ィンガー５を搬出すべき所望のウエハと隣接するウエハ
との間に挿入するためには、ウエハの位置を正確に検知
する必要がある。そこでウエハハンドラにウエハ位置検
知機構を組み込んで使用する。ウエハ位置検知機構の基
本的な構成は、レーザ源１と、カセット６の裏側に配置
されたガラスロッド８１と、レーザ源１から出たレーザ
２をガラスロッド８１に向けて射出するミラー４と、ガ
ラスロッドに入射したレーザを検出するためのホトセン
サ８２；８３から成っている。
ィンガー５を搬出すべき所望のウエハと隣接するウエハ
との間に挿入するためには、ウエハの位置を正確に検知
する必要がある。そこでウエハハンドラにウエハ位置検
知機構を組み込んで使用する。ウエハ位置検知機構の基
本的な構成は、レーザ源１と、カセット６の裏側に配置
されたガラスロッド８１と、レーザ源１から出たレーザ
２をガラスロッド８１に向けて射出するミラー４と、ガ
ラスロッドに入射したレーザを検出するためのホトセン
サ８２；８３から成っている。
この構成でウエハハンドラが仮に上方から下方に移動す
るとすればその移動距離内に、ウエハが存在すればレー
ザ光２はウエハによりさえぎられるのでロッド８１に入
射せず、ホトセンサ８２；８３は光を検出しない。ウエ
ハが存在しなければホトセンサ８２；８３はロッド８１
に入射した光を検出する。従って検知光の最も少い位置
がウエハの中心位置となる。
るとすればその移動距離内に、ウエハが存在すればレー
ザ光２はウエハによりさえぎられるのでロッド８１に入
射せず、ホトセンサ８２；８３は光を検出しない。ウエ
ハが存在しなければホトセンサ８２；８３はロッド８１
に入射した光を検出する。従って検知光の最も少い位置
がウエハの中心位置となる。
このように、従来の位置検知機構はウエハとウエハ位置
検知機構との間で上下方向の距離を相対的に変化させて
ウエハの有無を調べていた。しかし、ウエハとウエハ位
置検知機構との相対的移動を精確に行なうための機構は
複雑な構成とならざるを得ない。
検知機構との間で上下方向の距離を相対的に変化させて
ウエハの有無を調べていた。しかし、ウエハとウエハ位
置検知機構との相対的移動を精確に行なうための機構は
複雑な構成とならざるを得ない。
［発明が解決しようとする問題点と解決手段］ 本発明の目的は、ハンド式の搬送位置を利用した、簡単
な構成で精確なウエハ等の基板の搬出入を保証する基板
搬出入装置を提供することである。
な構成で精確なウエハ等の基板の搬出入を保証する基板
搬出入装置を提供することである。
この目的を達成するため本発明の基板搬出入装置は、基
板をカセット内に収納または前記カセットから取出すた
めのフィンガーと、前記フィンガーを前記カセット内に
侵入または前記カセットから退避させるために利用され
るハンド機構と、前記フィンガーに沿って出射される光
ビームを発生するための光源と、前記カセット内を前記
基板によって遮られることなく通過してきた前記光ビー
ムを検出する光センサを有し、前記光センサの出力を利
用して前記フィンガーを前記ハンド機構によって前記カ
セット内に侵入させる際の前記フィンガーと前記カセッ
トの位置関係を調整する基板搬出入装置において、前記
光ビームを前記フィンガーに対して平行移動するビーム
平行移動機構を設けたことを特徴とする。
板をカセット内に収納または前記カセットから取出すた
めのフィンガーと、前記フィンガーを前記カセット内に
侵入または前記カセットから退避させるために利用され
るハンド機構と、前記フィンガーに沿って出射される光
ビームを発生するための光源と、前記カセット内を前記
基板によって遮られることなく通過してきた前記光ビー
ムを検出する光センサを有し、前記光センサの出力を利
用して前記フィンガーを前記ハンド機構によって前記カ
セット内に侵入させる際の前記フィンガーと前記カセッ
トの位置関係を調整する基板搬出入装置において、前記
光ビームを前記フィンガーに対して平行移動するビーム
平行移動機構を設けたことを特徴とする。
前記ビーム平行移動機構としては、前記光ビームの光路
中で回動するように設けられたガラス板を有するもの等
を用いることができる。
中で回動するように設けられたガラス板を有するもの等
を用いることができる。
［実施例］ 第１図において１は細いビーム径をもち、直進性のすぐ
れたレーザ光を提供するレーザ光源、２は１によって発
せられたレーザ光、３はレーザ光の光路に回動するよう
設置したガラス板、４はこの回動ガラス板３によって平
行移動したレーザ光路をウエハ間へ向け射出するための
反射ミラー、５はウエハ間に挿入し、キャリア６からウ
エハを引き出し、また収納するためのフィンガー、６は
ウエハを収納しているキャリア、７はウエハ、８は反射
ミラー４からウエハ間に射出されたレーザ光をウエハが
通過または阻止することによって光路内のウエハの有無
を検知するため、レーザ光の強弱を電気信号に変換する
光センサ、９はキャリアを支えるキャリア台10〜16はフ
ィンガーを動かすための機構部分（詳細は後述）、17は
フィンガー５に対してキャリア６の相対位置を変化さ
せ、目的位置のウエハとそれに隣接するウエハとの間に
フィンガー５を位置させるためのキャリア上下機構であ
る。10，12はハンドアーム、11，13，14は軸、15はハン
ドアーム伸縮駆動部、16はハンドラ回転機構である。第
２図において、18〜20は第１図におけるガラス板３の三
通りの位置を指示する。21〜23は位置18〜20の位置にあ
るガラス板によって屈折し、平行移動させられたレーザ
光路である。
れたレーザ光を提供するレーザ光源、２は１によって発
せられたレーザ光、３はレーザ光の光路に回動するよう
設置したガラス板、４はこの回動ガラス板３によって平
行移動したレーザ光路をウエハ間へ向け射出するための
反射ミラー、５はウエハ間に挿入し、キャリア６からウ
エハを引き出し、また収納するためのフィンガー、６は
ウエハを収納しているキャリア、７はウエハ、８は反射
ミラー４からウエハ間に射出されたレーザ光をウエハが
通過または阻止することによって光路内のウエハの有無
を検知するため、レーザ光の強弱を電気信号に変換する
光センサ、９はキャリアを支えるキャリア台10〜16はフ
ィンガーを動かすための機構部分（詳細は後述）、17は
フィンガー５に対してキャリア６の相対位置を変化さ
せ、目的位置のウエハとそれに隣接するウエハとの間に
フィンガー５を位置させるためのキャリア上下機構であ
る。10，12はハンドアーム、11，13，14は軸、15はハン
ドアーム伸縮駆動部、16はハンドラ回転機構である。第
２図において、18〜20は第１図におけるガラス板３の三
通りの位置を指示する。21〜23は位置18〜20の位置にあ
るガラス板によって屈折し、平行移動させられたレーザ
光路である。
第１図の構成において、レーザ光源１から発せられたレ
ーザ光２は回動ガラス板３により屈折し、進路を変えら
れたのち反射ミラー４にてウエハ７、またはフィンガー
５に平行に射出される。レーザ光路上に障害物がある
と、レーザ光は散乱され、光センサ８に入射する光量が
少くなることによつてセンサー出力が低下して光路上に
ウエハがあることを示す。
ーザ光２は回動ガラス板３により屈折し、進路を変えら
れたのち反射ミラー４にてウエハ７、またはフィンガー
５に平行に射出される。レーザ光路上に障害物がある
と、レーザ光は散乱され、光センサ８に入射する光量が
少くなることによつてセンサー出力が低下して光路上に
ウエハがあることを示す。
ウエハ間に安全にフィンガーを挿入するためにはフィン
ガーとウエハとの位置関係を知る必要がある。フィンガ
ーの位置を知るためにはフィンガーにウエハをのせてそ
のウエハを検出して位置を知ればよい。回動ガラス板は
任意の位置に回転でき、制御装置はその角度を知ること
ができる。フィンガーを縮めた状態で、キャリア台９を
光センサ８の位置よりも上方へ移動させ、反射ミラー４
と光センサ８の間にはフィンガー５の上に載せたウエハ
７のみが存在するという状態にしてガラス板を回動させ
光センサ出力の下り始めの回転角を記憶し、そしてウエ
ハの厚さ方向の中心を計算し、その値からフィンガーの
位置を計算する。次にフィンガー上のウエハを取り除
き、キャリア台を降下させ所望のウエハがフィンガーの
位置より少し上にくるように、あらかじめ大まかにセッ
トされているウエハの位置データに従ってキャリアを停
止させる。この状態でガラス板を回動させフィンガー上
のウエハの位置を求めた場合と同様の方法で、所望のウ
エハとその下側のウエハの位置を求める。
ガーとウエハとの位置関係を知る必要がある。フィンガ
ーの位置を知るためにはフィンガーにウエハをのせてそ
のウエハを検出して位置を知ればよい。回動ガラス板は
任意の位置に回転でき、制御装置はその角度を知ること
ができる。フィンガーを縮めた状態で、キャリア台９を
光センサ８の位置よりも上方へ移動させ、反射ミラー４
と光センサ８の間にはフィンガー５の上に載せたウエハ
７のみが存在するという状態にしてガラス板を回動させ
光センサ出力の下り始めの回転角を記憶し、そしてウエ
ハの厚さ方向の中心を計算し、その値からフィンガーの
位置を計算する。次にフィンガー上のウエハを取り除
き、キャリア台を降下させ所望のウエハがフィンガーの
位置より少し上にくるように、あらかじめ大まかにセッ
トされているウエハの位置データに従ってキャリアを停
止させる。この状態でガラス板を回動させフィンガー上
のウエハの位置を求めた場合と同様の方法で、所望のウ
エハとその下側のウエハの位置を求める。
先に求めたフィンガーの位置と２枚のウエハ位置とを比
較しフィンガーが挿入可能かどうか判断する。挿入でき
ないと判断したならば、目的の位置までのずれ量を計算
し、キャリア台をずれ量分だけ移動させて再度ウエハの
位置検知を行う。これを数回繰り返せばフィンガーとキ
ャリアはフィンガー挿入可能な位置関係に落ちつく。そ
こでフィンガーをキャリア内に挿入しウエハの搬送を実
施する。
較しフィンガーが挿入可能かどうか判断する。挿入でき
ないと判断したならば、目的の位置までのずれ量を計算
し、キャリア台をずれ量分だけ移動させて再度ウエハの
位置検知を行う。これを数回繰り返せばフィンガーとキ
ャリアはフィンガー挿入可能な位置関係に落ちつく。そ
こでフィンガーをキャリア内に挿入しウエハの搬送を実
施する。
上述した過程においてレーザ光の遮断長が過渡に長い場
合はウエハが傾いていると判断し搬送を中止する。
合はウエハが傾いていると判断し搬送を中止する。
上記の実施例では光束平行移動手段として回動ガラス板
を使用しているが、これの代りに反射ミラー４を上下動
するようにしてもよいし、または反射ミラー４の位置に
ポリゴンミラーとｆ−θレンズとの組合せを使用しても
よい。
を使用しているが、これの代りに反射ミラー４を上下動
するようにしてもよいし、または反射ミラー４の位置に
ポリゴンミラーとｆ−θレンズとの組合せを使用しても
よい。
なお、キャリアとフィンガーとレーザ光路の三者の間の
相対距離をレーザ光路の移動範囲内において変化させる
機構をウエハハンドラに設けることによりこれら三者の
調整を自動化できる。さらにキャリア内でウエハが傾い
ていたり、ハンド上でウエハがレーザ光路に対し傾いて
いたりした場合（ウエハの傾いている状態はウエハ搬送
の安全を妨げる）、レーザ光路を平行移動させてウエハ
がレーザ光を遮断している距離を測ることによって傾き
を計算することも可能である。
相対距離をレーザ光路の移動範囲内において変化させる
機構をウエハハンドラに設けることによりこれら三者の
調整を自動化できる。さらにキャリア内でウエハが傾い
ていたり、ハンド上でウエハがレーザ光路に対し傾いて
いたりした場合（ウエハの傾いている状態はウエハ搬送
の安全を妨げる）、レーザ光路を平行移動させてウエハ
がレーザ光を遮断している距離を測ることによって傾き
を計算することも可能である。
第１図の実施例ではキャリア６を可動とし、フィンガー
５と位置検出装置（部材１，２，３，４，８から成る）
は固定であったが、キャリア６を固定して、フィンガー
と位置検出装置とを可動とするか、または三者すべてを
可動としてもよい。
５と位置検出装置（部材１，２，３，４，８から成る）
は固定であったが、キャリア６を固定して、フィンガー
と位置検出装置とを可動とするか、または三者すべてを
可動としてもよい。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、上述のようなビー
ム平行移動機構を設けたため、基板とフィンガーの位置
検出を精確に行ない、精確な基板の搬出入を行なうこと
ができる。
ム平行移動機構を設けたため、基板とフィンガーの位置
検出を精確に行ない、精確な基板の搬出入を行なうこと
ができる。
第１図は本発明の第１の実施例の略図である。 第２図は第１図の実施例の光束平行移動手段の説明図で
ある。 第３図は従来のウエハ位置検出装置を組込んだハンドラ
を使用するウエハ搬送装置の略図である。 図中、 １：レーザ光源、２：レーザ光、 ３：回動ガラス板、４：反射ミラー、 ５：フィンガー、６：キャリア、７：ウエハ、 ８：光センサ、９：キャリア台、 10；12：ハンドアーム、11；13；14：軸、 15：ハンドアーム伸縮駆動部、 16：ハンドラ回転機構、17：キャリア上下機構。
ある。 第３図は従来のウエハ位置検出装置を組込んだハンドラ
を使用するウエハ搬送装置の略図である。 図中、 １：レーザ光源、２：レーザ光、 ３：回動ガラス板、４：反射ミラー、 ５：フィンガー、６：キャリア、７：ウエハ、 ８：光センサ、９：キャリア台、 10；12：ハンドアーム、11；13；14：軸、 15：ハンドアーム伸縮駆動部、 16：ハンドラ回転機構、17：キャリア上下機構。
Claims (2)
- 【請求項１】基板をカセット内に収納または前記カセッ
トから取出すためのフィンガーと、前記フィンガーを前
記カセット内に侵入または前記カセットから退避させる
ために利用されるハンド機構と、前記フィンガーに沿っ
て出射される光ビームを発生するための光源と、前記カ
セット内を前記基板によって遮られることなく通過して
きた前記光ビームを検出する光センサを有し、前記光セ
ンサの出力を利用して前記フィンガーを前記ハンド機構
によって前記カセット内に侵入させる際の前記フィンガ
ーと前記カセットの位置関係を調整する基板搬出入装置
において、前記光ビームを前記フィンガーに対して平行
移動するビーム平行移動機構を設けたことを特徴とする
基板搬出入装置。 - 【請求項２】前記ビーム平行移動機構は前記光ビームの
光路中で回動するように設けられたガラス板を有するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の基板搬出入
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60099507A JPH0652753B2 (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 基板搬出入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60099507A JPH0652753B2 (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 基板搬出入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61258444A JPS61258444A (ja) | 1986-11-15 |
| JPH0652753B2 true JPH0652753B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=14249173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60099507A Expired - Lifetime JPH0652753B2 (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 基板搬出入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0652753B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07115773B2 (ja) * | 1986-01-29 | 1995-12-13 | 株式会社ニコン | 基板搬送装置 |
| JP3075561B2 (ja) * | 1989-01-27 | 2000-08-14 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | カセット内のウェハ取出し制御方式 |
| CH680275A5 (ja) * | 1990-03-05 | 1992-07-31 | Tet Techno Investment Trust |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60774B2 (ja) * | 1976-08-04 | 1985-01-10 | 富士通株式会社 | パターン検査方式 |
| JPS5720444A (en) * | 1980-07-11 | 1982-02-02 | Citizen Watch Co Ltd | Feeding device for semiconductor wafer |
| JPS58111705A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-02 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | 光学式測定装置 |
| JPS59175740A (ja) * | 1983-03-25 | 1984-10-04 | Telmec Co Ltd | ウエハ検出装置 |
-
1985
- 1985-05-13 JP JP60099507A patent/JPH0652753B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61258444A (ja) | 1986-11-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |