JPH0645224A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH0645224A JPH0645224A JP4193638A JP19363892A JPH0645224A JP H0645224 A JPH0645224 A JP H0645224A JP 4193638 A JP4193638 A JP 4193638A JP 19363892 A JP19363892 A JP 19363892A JP H0645224 A JPH0645224 A JP H0645224A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- exposure
- rotation
- substrate
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ステージ位置決め後の位置変化によって露光
装置の解像力が低下するのを防ぐ。 【構成】 ステージ７位置決め直後のステージの回転量
と露光直前のステージの回転量とを回転量検出装置１０
によって検出する。露光制御部１１は両回転量を比較
し、その差が許容範囲内でない場合にウェハに対する露
光を中止する。 【効果】 ウェハ内の任意のショット領域に対する露光
中にステージ位置が変化して解像が劣化することを未然
に防ぐことができる。
装置の解像力が低下するのを防ぐ。 【構成】 ステージ７位置決め直後のステージの回転量
と露光直前のステージの回転量とを回転量検出装置１０
によって検出する。露光制御部１１は両回転量を比較
し、その差が許容範囲内でない場合にウェハに対する露
光を中止する。 【効果】 ウェハ内の任意のショット領域に対する露光
中にステージ位置が変化して解像が劣化することを未然
に防ぐことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子や液晶基板
等の製造に用いる露光装置に関するものであり、特にス
テップアンドリピート方式の露光装置のステージ装置に
おいて回転誤差による位置決め精度の低下を防ぐための
ものである。
等の製造に用いる露光装置に関するものであり、特にス
テップアンドリピート方式の露光装置のステージ装置に
おいて回転誤差による位置決め精度の低下を防ぐための
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の装置は、図２に示すよう
な構成であった。即ち、光源１から射出した光束は、シ
ャッター２、照明光学系３を介してマスク（レチクル）
４をほぼ均一に照明する。レチクル４を透過した照明光
は、投影光学系５を介して２次元方向に移動可能なステ
ージ７上に載置された基板（ウェハ）６上にレチクル４
の像を露光する。このときステージ７は、レーザ干渉計
等の位置検出装置８によって位置検出され、ステージ駆
動装置を含む位置決め制御装置９によって所定の位置に
位置決めされ、ステージ７に載置されたウェハ６を露光
位置に位置決めする。さらに、ステージ７は、差動干渉
計等の回転量検出装置１０によってその移動に伴う回転
誤差を検出し、位置決め制御装置９によって所定の位置
に位置決めされる構成となっている。位置決め制御装置
９によってウェハ６が露光位置に位置決めされると、露
光制御部１１からの信号によってシャッター２を駆動
し、ウェハ６への露光が行われる。
な構成であった。即ち、光源１から射出した光束は、シ
ャッター２、照明光学系３を介してマスク（レチクル）
４をほぼ均一に照明する。レチクル４を透過した照明光
は、投影光学系５を介して２次元方向に移動可能なステ
ージ７上に載置された基板（ウェハ）６上にレチクル４
の像を露光する。このときステージ７は、レーザ干渉計
等の位置検出装置８によって位置検出され、ステージ駆
動装置を含む位置決め制御装置９によって所定の位置に
位置決めされ、ステージ７に載置されたウェハ６を露光
位置に位置決めする。さらに、ステージ７は、差動干渉
計等の回転量検出装置１０によってその移動に伴う回転
誤差を検出し、位置決め制御装置９によって所定の位置
に位置決めされる構成となっている。位置決め制御装置
９によってウェハ６が露光位置に位置決めされると、露
光制御部１１からの信号によってシャッター２を駆動
し、ウェハ６への露光が行われる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の如
き従来の技術では、仮にステージを取り巻く環境（温
度、湿度等）が変化したり、ステージの機械部分が劣化
したりした場合にステージの位置決め精度が低下するこ
とになり、位置決め後のステージが回転する虞がある。
ステージを位置決めした後はウェハに対する露光を行う
ため、露光中にステージが回転（ステージ位置が変化）
すると露光装置の解像力に悪影響を及ぼすことになる。
き従来の技術では、仮にステージを取り巻く環境（温
度、湿度等）が変化したり、ステージの機械部分が劣化
したりした場合にステージの位置決め精度が低下するこ
とになり、位置決め後のステージが回転する虞がある。
ステージを位置決めした後はウェハに対する露光を行う
ため、露光中にステージが回転（ステージ位置が変化）
すると露光装置の解像力に悪影響を及ぼすことになる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記問題点解決のため本
発明では、基板（６）を載置して平面内を移動可能なス
テージ（７）の回転量を検出するとともにステージ
（７）を平面内の複数の位置に位置決めし、基板（６）
上の異なる位置にマスク（４）の像を露光する露光装置
において、基板（６）を複数の位置の夫々に位置決めし
た際のステージの回転量と露光前のステージの回転量と
を求め、両回転量に基づいて露光を中止する露光制御手
段（１１）を備えることとした。
発明では、基板（６）を載置して平面内を移動可能なス
テージ（７）の回転量を検出するとともにステージ
（７）を平面内の複数の位置に位置決めし、基板（６）
上の異なる位置にマスク（４）の像を露光する露光装置
において、基板（６）を複数の位置の夫々に位置決めし
た際のステージの回転量と露光前のステージの回転量と
を求め、両回転量に基づいて露光を中止する露光制御手
段（１１）を備えることとした。
【０００５】また、基板（６）を載置して平面内を移動
可能なステージ（７）の回転量を検出するとともにステ
ージ（７）を平面内の複数の位置に位置決めし、基板
（６）上の異なる位置にマスク（４）の像を露光する露
光装置において、複数の基板（６）のうちの１の基板に
対する露光に先立って、ステージ（７）を平面内の少な
くとも１ヶ所に位置決めした際のステージの回転量と、
位置決めから所定時間経過後のステージの回転量とを求
め、両回転量に基づいて１の基板に対する露光を中止す
る露光制御手段（１１）を備えることとした。
可能なステージ（７）の回転量を検出するとともにステ
ージ（７）を平面内の複数の位置に位置決めし、基板
（６）上の異なる位置にマスク（４）の像を露光する露
光装置において、複数の基板（６）のうちの１の基板に
対する露光に先立って、ステージ（７）を平面内の少な
くとも１ヶ所に位置決めした際のステージの回転量と、
位置決めから所定時間経過後のステージの回転量とを求
め、両回転量に基づいて１の基板に対する露光を中止す
る露光制御手段（１１）を備えることとした。
【０００６】
【作用】本発明では、位置決めした後にステージの回転
量（ヨーイング）が変化した場合に、基板に対する露光
を中止する構成としたため、露光中のステージ位置の変
化によって露光装置の解像力が劣化することを防ぐこと
が可能となる。
量（ヨーイング）が変化した場合に、基板に対する露光
を中止する構成としたため、露光中のステージ位置の変
化によって露光装置の解像力が劣化することを防ぐこと
が可能となる。
【０００７】
【実施例】図１は、本発明の実施例による露光装置の概
略的な構成を示す図である。基本的な構成は図２に示す
従来の装置と同様であるが、回転量検出装置１０で検出
したステージの回転量に関する情報を露光制御部１１に
出力する点で異なる。先ず、位置決め制御装置９で所定
位置にステージ７を位置決めする。このときのステージ
の回転量を回転量検出装置１０によって求めて露光制御
部１１に出力する。次に、露光直前のステージの回転量
を求めて露光制御部１１に出力する。露光制御部１１は
求めた両回転量を比較し、両回転量の差が許容範囲を越
えている場合はステージの位置が変化したとしてシャッ
ター２に対する信号を出力せず、露光を中止する。その
後は常時、若しくは所定間隔でステージ７の回転量を検
出しておき、ステージの位置が変化しない（安定した）
と判断した場合にシャッター２を駆動してウェハ６に対
する露光を行う。
略的な構成を示す図である。基本的な構成は図２に示す
従来の装置と同様であるが、回転量検出装置１０で検出
したステージの回転量に関する情報を露光制御部１１に
出力する点で異なる。先ず、位置決め制御装置９で所定
位置にステージ７を位置決めする。このときのステージ
の回転量を回転量検出装置１０によって求めて露光制御
部１１に出力する。次に、露光直前のステージの回転量
を求めて露光制御部１１に出力する。露光制御部１１は
求めた両回転量を比較し、両回転量の差が許容範囲を越
えている場合はステージの位置が変化したとしてシャッ
ター２に対する信号を出力せず、露光を中止する。その
後は常時、若しくは所定間隔でステージ７の回転量を検
出しておき、ステージの位置が変化しない（安定した）
と判断した場合にシャッター２を駆動してウェハ６に対
する露光を行う。
【０００８】上記実施例では、ステップアンドリピート
方式の露光装置におけるステージのステッピング毎（ウ
ェハに対するショット毎）にステージの回転量を検出す
る構成としたが、装置のスループットを考慮すると露光
制御部１１を以下に述べる制御を行う構成とすればよ
い。即ち、あるウェハに対して露光を行うに先立って
（若しくは所定のロット数毎に）、ステージを任意の位
置に移動して位置決めし、その位置で位置決め直後のス
テージの回転量と、位置決め後所定時間経過後のステー
ジの回転量とを検出する。露光制御部１１は、このとき
の両回転量を比較して、上記と同様に露光を制御する。
この場合のステージの回転量を検出する位置はステージ
の移動可能範囲内の１ヶ所でも複数ヶ所でもいずれでも
構わない。
方式の露光装置におけるステージのステッピング毎（ウ
ェハに対するショット毎）にステージの回転量を検出す
る構成としたが、装置のスループットを考慮すると露光
制御部１１を以下に述べる制御を行う構成とすればよ
い。即ち、あるウェハに対して露光を行うに先立って
（若しくは所定のロット数毎に）、ステージを任意の位
置に移動して位置決めし、その位置で位置決め直後のス
テージの回転量と、位置決め後所定時間経過後のステー
ジの回転量とを検出する。露光制御部１１は、このとき
の両回転量を比較して、上記と同様に露光を制御する。
この場合のステージの回転量を検出する位置はステージ
の移動可能範囲内の１ヶ所でも複数ヶ所でもいずれでも
構わない。
【０００９】尚、ステージの回転量の検出は、上記の
他、ウェハに対するステップ露光の途中に行う構成とし
ても構わない。
他、ウェハに対するステップ露光の途中に行う構成とし
ても構わない。
【００１０】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ステージ
が不安定な状態にあることを予め判断し、ウェハに対す
る露光中にステージの位置が変化して露光装置の解像力
に悪影響を及ぼすことを未然に防ぐことが可能となる。
また、その結果ステージの位置決め精度が低下するのを
防ぐことも可能となる。
が不安定な状態にあることを予め判断し、ウェハに対す
る露光中にステージの位置が変化して露光装置の解像力
に悪影響を及ぼすことを未然に防ぐことが可能となる。
また、その結果ステージの位置決め精度が低下するのを
防ぐことも可能となる。
【００１１】その他、本発明の構成をとれば、ステージ
の機械構成の劣化や、露光装置が備える環境調整装置の
異常をも発見することも可能となる。
の機械構成の劣化や、露光装置が備える環境調整装置の
異常をも発見することも可能となる。
【図１】本発明の実施例による露光装置の概略的な構成
を示す図
を示す図
【図２】従来の技術による露光装置の概略的な構成を示
す図
す図
７ ステージ ９ 位置決め制御装置 10 回転量検出装置 11 露光制御部
Claims (2)
- 【請求項１】 基板を載置して平面内を移動可能なステ
ージの回転量を検出するとともに前記ステージを前記平
面内の複数の位置に位置決めし、前記基板上の異なる位
置にマスクの像を露光する露光装置において、 前記基板を前記複数の位置の夫々に位置決めした際の前
記ステージの回転量と前記露光前の前記ステージの回転
量とを求め、前記両回転量に基づいて前記露光を中止す
る露光制御手段を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 基板を載置して平面内を移動可能なステ
ージの回転量を検出するとともに前記ステージを前記平
面内の複数の位置に位置決めし、前記基板上の異なる位
置にマスクの像を露光する露光装置において、 複数の前記基板のうちの１の基板に対する露光に先立っ
て、前記ステージを前記平面内の少なくとも１ヶ所に位
置決めした際の前記ステージの回転量と、前記位置決め
から所定時間経過後の前記ステージの回転量とを求め、
前記両回転量に基づいて前記１の基板に対する露光を中
止する露光制御手段を備えたことを特徴とする露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4193638A JPH0645224A (ja) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4193638A JPH0645224A (ja) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0645224A true JPH0645224A (ja) | 1994-02-18 |
Family
ID=16311273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4193638A Pending JPH0645224A (ja) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645224A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09186074A (ja) * | 1996-01-04 | 1997-07-15 | Canon Inc | 露光装置および方法 |
-
1992
- 1992-07-21 JP JP4193638A patent/JPH0645224A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09186074A (ja) * | 1996-01-04 | 1997-07-15 | Canon Inc | 露光装置および方法 |
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