JPH0641914B2 - 選択励起を用いた発光分光分析計 - Google Patents
選択励起を用いた発光分光分析計Info
- Publication number
- JPH0641914B2 JPH0641914B2 JP59156346A JP15634684A JPH0641914B2 JP H0641914 B2 JPH0641914 B2 JP H0641914B2 JP 59156346 A JP59156346 A JP 59156346A JP 15634684 A JP15634684 A JP 15634684A JP H0641914 B2 JPH0641914 B2 JP H0641914B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- energy
- sample
- particles
- emission
- accelerated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2255—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident ion beams, e.g. proton beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、発光スペクトルから定量，定性分析を行う発
光分光分析計に関する。
光分光分析計に関する。
現在発光分光分析は、高感度な元素分析法として普及し
ている。この発光分光分析装置には従来から光源の種類
により、アーク法，スパーク法，プラズマジエツト法，
ＩＣＰ（誘導結合プラズマ）法などがある。発光分光分
析の発光線は、多数存在し、その密度が濃く、線が林立
しており、目的の分析線（通常１本あるいは２本）の元
素が他の元素の線と重なり合つて識別できない場合があ
る。そこで、この重なり合つている元素分析線を分離す
るため分解能を上げる必要がある。そこで、いずれの分
析法によつた場合でも、スペクトル分析には、大形の分
光器が使用されている。大形分光器が使用されるのは、
先にも述べた如く一般に発光スペクトルは、極めて多く
の発光像から成り、目的元素の分析線を分離する為に高
い分解能が必要とされるからである。例えば、鉄鋼を分
析する場合、発光スペクトル線は紫外・可視波長域だけ
で数千本にのぼる。従つて、通常、分解能５Å／mmの能
力を有する分光器が使用される。この大形分光器の制約
から、発光分析装置は、従来大形でかつ高価であつた。
また、最近では、新材料、原子力などの分野で希土類の
元素を分析する需要が高まつているが、希土類は極めて
多くの発光線を放出し、さらに分解能の高い分光器が要
求されるようになつてきている。
ている。この発光分光分析装置には従来から光源の種類
により、アーク法，スパーク法，プラズマジエツト法，
ＩＣＰ（誘導結合プラズマ）法などがある。発光分光分
析の発光線は、多数存在し、その密度が濃く、線が林立
しており、目的の分析線（通常１本あるいは２本）の元
素が他の元素の線と重なり合つて識別できない場合があ
る。そこで、この重なり合つている元素分析線を分離す
るため分解能を上げる必要がある。そこで、いずれの分
析法によつた場合でも、スペクトル分析には、大形の分
光器が使用されている。大形分光器が使用されるのは、
先にも述べた如く一般に発光スペクトルは、極めて多く
の発光像から成り、目的元素の分析線を分離する為に高
い分解能が必要とされるからである。例えば、鉄鋼を分
析する場合、発光スペクトル線は紫外・可視波長域だけ
で数千本にのぼる。従つて、通常、分解能５Å／mmの能
力を有する分光器が使用される。この大形分光器の制約
から、発光分析装置は、従来大形でかつ高価であつた。
また、最近では、新材料、原子力などの分野で希土類の
元素を分析する需要が高まつているが、希土類は極めて
多くの発光線を放出し、さらに分解能の高い分光器が要
求されるようになつてきている。
特開昭５７−１３３３４０号公報には、あるレベルより
大きなエネルギの励起光を試料に与えてその際に発生す
るフォトルミネッセンスを検出するようにした測定方法
が開示されている。しかし、これには、試料に入射され
る粒子ビームの粒子のエネルギレベルの上限を制限する
点については何も開示されていない。また、特開昭５０
−１２６４９０号公報には、選択励起波長のビームを放
出するモノクロメータが記載されているが、試料に入射
される粒子のエネルギレベルを如何に制御するかについ
ては何ら開示していない。
大きなエネルギの励起光を試料に与えてその際に発生す
るフォトルミネッセンスを検出するようにした測定方法
が開示されている。しかし、これには、試料に入射され
る粒子ビームの粒子のエネルギレベルの上限を制限する
点については何も開示されていない。また、特開昭５０
−１２６４９０号公報には、選択励起波長のビームを放
出するモノクロメータが記載されているが、試料に入射
される粒子のエネルギレベルを如何に制御するかについ
ては何ら開示していない。
本発明の目的は小形でかつ所望の分析線を得ることので
きる発光分光分析計を提供することにある。
きる発光分光分析計を提供することにある。
本発明は原子の特定の準位のみを選択的に励起して単純
なスペクトルを得ることにより、小形化し、所望の分析
線を得ようというものである。
なスペクトルを得ることにより、小形化し、所望の分析
線を得ようというものである。
以下、本発明の実施例について説明する。
第１図には、本発明の一実施例が示されている。
図において、チヤンバ１内の一方にイオン源２が設けら
れている。このイオン源２は陽極３に接続されている。
このイオン源２のイオン出射側に偏向電極４，５が設け
られている。また、イオン源２には電子源（フイラメン
ト）６から出力される電子ビーム７が加速供給されるよ
うに構成されており、この電子源６から供給された電子
によつてイオン源２はイオン形成し、このイオンを加速
して偏向電極で偏向して出射する。このイオン源２から
出射されるイオンビーム８の通路の途中に絶縁板１０に
設けられたエネルギー選択アイリス９が設けられてい
る。このエネルギー選択アイリス９を通つたイオンビー
ム８が試料保持台１１によつて支持された試料（ターゲ
ツト）１２に当り、この試料１２から出力光１３がチヤ
ンバ１に設けられた光用窓（石英板）を介して出力され
る。このチヤンバ１のイオン源２と対向する側にフラン
ジ１５が取付けられており、このフランジ１５に試料保
持台１０が設けられている。また、チヤンバ１のイオン
源２側の一部に排気口１６が設けられており、チヤンバ
１内が真空になるように図示されていない真空ポンプに
よつて、排気口１６よりエアを排気している。
れている。このイオン源２は陽極３に接続されている。
このイオン源２のイオン出射側に偏向電極４，５が設け
られている。また、イオン源２には電子源（フイラメン
ト）６から出力される電子ビーム７が加速供給されるよ
うに構成されており、この電子源６から供給された電子
によつてイオン源２はイオン形成し、このイオンを加速
して偏向電極で偏向して出射する。このイオン源２から
出射されるイオンビーム８の通路の途中に絶縁板１０に
設けられたエネルギー選択アイリス９が設けられてい
る。このエネルギー選択アイリス９を通つたイオンビー
ム８が試料保持台１１によつて支持された試料（ターゲ
ツト）１２に当り、この試料１２から出力光１３がチヤ
ンバ１に設けられた光用窓（石英板）を介して出力され
る。このチヤンバ１のイオン源２と対向する側にフラン
ジ１５が取付けられており、このフランジ１５に試料保
持台１０が設けられている。また、チヤンバ１のイオン
源２側の一部に排気口１６が設けられており、チヤンバ
１内が真空になるように図示されていない真空ポンプに
よつて、排気口１６よりエアを排気している。
このように構成されるものであるから、分析対象の試料
（例えば鉄鋼）はフランジ１５に固定された試料保持台
１１に装着される。フランジ１５により気密が保たれた
あと、チヤンバ１の内部は図示されていない真空ポンプ
により空気が排気され１０-4〜１０-6Torrの真空に保た
れる。その後、電子源６とイオン源２の間に数ＫＶの加
速電圧が印加される。いま、電子源６から電子ビーム７
が加速供給され、この供給された電子はイオン源２に高
速で衝突し、スパツタリング現象によりイオンを形成す
る。このようにして発生したイオンは（＋）電荷を持つ
ので（−）電位の電子源に向けて加速される。また、イ
オン源２におけるイオンは偏向電極４，５により偏向さ
れる。このイオンビーム８の内エネルギーの低いイオン
程、大きく偏向されるので、イオンの飛行方向に分散が
生じる。従つて、エネルギー選択アイリス９をもうける
ことにより、特定のエネルギーを有するイオンのみを選
別することができる。このエネルギー選択アイリス９を
通過したイオンは、試料保持台上の試料１２に衝突す
る。このときのイオンの衝突速度をｖとすると次の(1)
式のエネルギーにより試料がスパツタリングされ、かつ
励起される。
（例えば鉄鋼）はフランジ１５に固定された試料保持台
１１に装着される。フランジ１５により気密が保たれた
あと、チヤンバ１の内部は図示されていない真空ポンプ
により空気が排気され１０-4〜１０-6Torrの真空に保た
れる。その後、電子源６とイオン源２の間に数ＫＶの加
速電圧が印加される。いま、電子源６から電子ビーム７
が加速供給され、この供給された電子はイオン源２に高
速で衝突し、スパツタリング現象によりイオンを形成す
る。このようにして発生したイオンは（＋）電荷を持つ
ので（−）電位の電子源に向けて加速される。また、イ
オン源２におけるイオンは偏向電極４，５により偏向さ
れる。このイオンビーム８の内エネルギーの低いイオン
程、大きく偏向されるので、イオンの飛行方向に分散が
生じる。従つて、エネルギー選択アイリス９をもうける
ことにより、特定のエネルギーを有するイオンのみを選
別することができる。このエネルギー選択アイリス９を
通過したイオンは、試料保持台上の試料１２に衝突す
る。このときのイオンの衝突速度をｖとすると次の(1)
式のエネルギーにより試料がスパツタリングされ、かつ
励起される。
但し：ｍはイオンの質量 このようにして励起された原子からの発光は光用窓１４
から外部へ取り出され観測される。また、実際には、エ
ネルギー選択アイリス９の穴径から、エネルギーＥに幅
が生じる。なお、イオン源として、加速電子によるスパ
ツタリング現象を用いずに、Ｃｓなどの低沸点金属を加
熱して原子蒸気を得、電子衝突によりイオンを生成する
事も可能である。
から外部へ取り出され観測される。また、実際には、エ
ネルギー選択アイリス９の穴径から、エネルギーＥに幅
が生じる。なお、イオン源として、加速電子によるスパ
ツタリング現象を用いずに、Ｃｓなどの低沸点金属を加
熱して原子蒸気を得、電子衝突によりイオンを生成する
事も可能である。
本実施例における選択励起を次に説明する。例えばＮａ
のエネルギー準位の一部は第２図に示す如きである。こ
のＮａは常温ではボルツマン分布により、ほとんどの原
子が基底状態 に有する。外部からエネルギを与え、上位の準位に励起
すると、量子力学的に許容された準位間に遷移が起こ
り、エネルギー差ΔＥに対し、次の関係の波長の光が放
出される。
のエネルギー準位の一部は第２図に示す如きである。こ
のＮａは常温ではボルツマン分布により、ほとんどの原
子が基底状態 に有する。外部からエネルギを与え、上位の準位に励起
すると、量子力学的に許容された準位間に遷移が起こ
り、エネルギー差ΔＥに対し、次の関係の波長の光が放
出される。
ΔＥ＝ｈν ……………………(2) ここで、νは放出される光の振動数、ｈはプランクの定
数である。
数である。
本実施例における選択励起は、Ｅ２〜Ｅ３間の選択励起
により、Ｅ２〜Ｅ３間の原子準位を励起し、励起された
準位から低エネルギーの準位へ遷移する過程における光
の放出を観測するものである。この方法の特長は、Ｅ２
〜Ｅ３を狭く選ぶ事により、 の準位だけを励起することができ、最も単純な場合とし
ては、二本（あるいは一本）のみの発光線から成るスペ
クトルを得ることができる。この場合には、分光器は不
要となる。即ち、選択照射のエネルギー（Ｅ２〜Ｅ３の
中心エネルギーに対応）を変えることにより、元素固有
の発光線を得る事ができる。Ｅ２〜Ｅ３のエネルギー間
かくが狭い程、選択性は良くなる。
により、Ｅ２〜Ｅ３間の原子準位を励起し、励起された
準位から低エネルギーの準位へ遷移する過程における光
の放出を観測するものである。この方法の特長は、Ｅ２
〜Ｅ３を狭く選ぶ事により、 の準位だけを励起することができ、最も単純な場合とし
ては、二本（あるいは一本）のみの発光線から成るスペ
クトルを得ることができる。この場合には、分光器は不
要となる。即ち、選択照射のエネルギー（Ｅ２〜Ｅ３の
中心エネルギーに対応）を変えることにより、元素固有
の発光線を得る事ができる。Ｅ２〜Ｅ３のエネルギー間
かくが狭い程、選択性は良くなる。
第３図に、本発明の他の実施例が示されている。
図において、チヤンバ１００にはフランジ１０１が取り
付けられている。このフランジ１０１には試料保持台１
０２が取り付けられており、この試料保持台１０２に陰
極を形成する試料１０３が設けられている。この試料に
対向して陽極１０４が設けられている。この陽極１０４
と陰極１０３の近傍に磁場Ｈが図の方向に形成されてい
る。また、チヤンバ１００の一方に空気排気口１０５が
設けられており、他方にガス入口１０６が設られてい
る。また、チヤンバ１００には光用窓（石英板）１０７
が設けられており、試料１０３から出力される出力光１
０８を取り出せるように構成されている。
付けられている。このフランジ１０１には試料保持台１
０２が取り付けられており、この試料保持台１０２に陰
極を形成する試料１０３が設けられている。この試料に
対向して陽極１０４が設けられている。この陽極１０４
と陰極１０３の近傍に磁場Ｈが図の方向に形成されてい
る。また、チヤンバ１００の一方に空気排気口１０５が
設けられており、他方にガス入口１０６が設られてい
る。また、チヤンバ１００には光用窓（石英板）１０７
が設けられており、試料１０３から出力される出力光１
０８を取り出せるように構成されている。
また、陽極１０４にはチヨークコイル１０９とコンデン
サ１１０が接続されている。このチヨークコイル１０９
にはコンデンサ１１１と直流電源１１２の並列回路を介
して、チヨークコイル１１３が接続されている。このチ
ヨークコイル１１３の他端は陰１０３と共に接地されて
いる。またコンデンサ１１０の他端には高周波電源１１
４が接続されており、この高周波電源１１４は、コンデ
ンサ１１５を介して接地されている。
サ１１０が接続されている。このチヨークコイル１０９
にはコンデンサ１１１と直流電源１１２の並列回路を介
して、チヨークコイル１１３が接続されている。このチ
ヨークコイル１１３の他端は陰１０３と共に接地されて
いる。またコンデンサ１１０の他端には高周波電源１１
４が接続されており、この高周波電源１１４は、コンデ
ンサ１１５を介して接地されている。
このように構成される本実施例の場合、試料（金属）は
フランジ１０１に固定された試料保持台１０２に装着さ
れる。チヤンバ１００は空気排気口１０５より空気を排
気し、一度真空に排気したあと、ガス入口１０から、ア
ルゴン，ネオンなどの希ガスを導入する。このガスの圧
力は、１〜１０Torrであり、第１図図示実施例のように
高い真空度は要求されない。また、試料１０３には
（−）の電位が印加され、陽極１０４との間に放電を生
じさせる。通常の直流放電では、本実施例による装置で
実験したところ、最低１８０Ｖの放電維持電圧が必要で
あつた。しかし、磁場の印加により約６０Ｖの放電維持
電圧の低下が観測され、さらに高周波の印加により、約
１４５Ｖの放電維持電圧の低下が観測された。
フランジ１０１に固定された試料保持台１０２に装着さ
れる。チヤンバ１００は空気排気口１０５より空気を排
気し、一度真空に排気したあと、ガス入口１０から、ア
ルゴン，ネオンなどの希ガスを導入する。このガスの圧
力は、１〜１０Torrであり、第１図図示実施例のように
高い真空度は要求されない。また、試料１０３には
（−）の電位が印加され、陽極１０４との間に放電を生
じさせる。通常の直流放電では、本実施例による装置で
実験したところ、最低１８０Ｖの放電維持電圧が必要で
あつた。しかし、磁場の印加により約６０Ｖの放電維持
電圧の低下が観測され、さらに高周波の印加により、約
１４５Ｖの放電維持電圧の低下が観測された。
本実施例における選択励起はエネルギーの上限Ｅ１を決
めて原子の励起を行う方法である。第２図に示されるＮ
ａは常温では、ほとんどの原子が最下位レベルの基底準
位 にある。いま、Ｅ１に相当するエネルギーで励起する
と、基底準位に最も近い準位のみが励起され、これから
基底状態へ遷移する発光のみが観測される。基底準位へ
の遷移は、一般に共鳴遷移と呼ばれ、スペクトル線は共
鳴線と呼ばれる。従来の発光分析法では、イオン化準位
近くまで励起するのが通例であつたので、極めて多くの
スペクトル線が観測されていた。放電維持電圧の印加し
た磁場の強さによる変化が、高周波印加の有無とともに
第４図に示されている。図においてＡが直流放電のカー
ブ、Ｂが流プラス高周波放電のカーブである。ここで用
いた高周波は、１００ＭＨｚ、１０Ｗのものである。第
４図から高周波と磁場を印加して放電を行うと、放電維
持電圧が３５Ｖ程度に抑さえられる。このような特殊な
放電を行うと、通常の放電で励起される準位と比較し
て、はるかに低いエネルギーを持つ準位のみが選択的に
励起されることが分かつた。
めて原子の励起を行う方法である。第２図に示されるＮ
ａは常温では、ほとんどの原子が最下位レベルの基底準
位 にある。いま、Ｅ１に相当するエネルギーで励起する
と、基底準位に最も近い準位のみが励起され、これから
基底状態へ遷移する発光のみが観測される。基底準位へ
の遷移は、一般に共鳴遷移と呼ばれ、スペクトル線は共
鳴線と呼ばれる。従来の発光分析法では、イオン化準位
近くまで励起するのが通例であつたので、極めて多くの
スペクトル線が観測されていた。放電維持電圧の印加し
た磁場の強さによる変化が、高周波印加の有無とともに
第４図に示されている。図においてＡが直流放電のカー
ブ、Ｂが流プラス高周波放電のカーブである。ここで用
いた高周波は、１００ＭＨｚ、１０Ｗのものである。第
４図から高周波と磁場を印加して放電を行うと、放電維
持電圧が３５Ｖ程度に抑さえられる。このような特殊な
放電を行うと、通常の放電で励起される準位と比較し
て、はるかに低いエネルギーを持つ準位のみが選択的に
励起されることが分かつた。
第５図に示すように、一般の放電では、紫外可視波長領
域に極めて多くのスペクトル線が観測されるが、上記の
高周波と磁場を重畳した直流放電で励起すると、共鳴線
（基底準位からの遷移）のみが強く発光する事が分かつ
た。第６図は試料がｃｄの場合の発光スペクトルの一例
である。このように、各元素の共鳴線のみが主として発
光すると、多くの金属が混在する場合でも、スペクトル
は比較的単純となり高分解能の大形分光器を必要としな
い。分散能も２５Å／mm程度で良く、分光器の大きさも
１／５程度となる。
域に極めて多くのスペクトル線が観測されるが、上記の
高周波と磁場を重畳した直流放電で励起すると、共鳴線
（基底準位からの遷移）のみが強く発光する事が分かつ
た。第６図は試料がｃｄの場合の発光スペクトルの一例
である。このように、各元素の共鳴線のみが主として発
光すると、多くの金属が混在する場合でも、スペクトル
は比較的単純となり高分解能の大形分光器を必要としな
い。分散能も２５Å／mm程度で良く、分光器の大きさも
１／５程度となる。
本実施例では、真空ポンプでもロータリーポンプのみで
良く、発光源も小形で単純であり、システム全体として
もコンパクトでコストの低い発光分光分析計が実現され
る。
良く、発光源も小形で単純であり、システム全体として
もコンパクトでコストの低い発光分光分析計が実現され
る。
以上説明したように、本発明によれば、試料に入射され
る粒子のエネルギレベルの上限を低い値に制限したり、
上下限を限定したりすることによって励起エネルギを制
御することが可能になり、試料から放出される原子スペ
クトルの本数を低い値に留めることができるので、分解
能の低い発光分光分析計を使用することができる。
る粒子のエネルギレベルの上限を低い値に制限したり、
上下限を限定したりすることによって励起エネルギを制
御することが可能になり、試料から放出される原子スペ
クトルの本数を低い値に留めることができるので、分解
能の低い発光分光分析計を使用することができる。
第１図は本発明の発光分光分析計の実施例を示す図、第
２図は原子のエネルギー準位をＮａを例に示した図、第
３図は本発明の他の実施例を示す図、第４図は磁束密度
と放電維持電圧の関係を示す図、第５図は従来の発光分
析装置による発光スペクトルを示す図、第６図は本発明
による発光スペクトルを示す図である。 ２……イオン源、４，５……偏向電極、６……電子源、
１２……試料、１４……光用窓。
２図は原子のエネルギー準位をＮａを例に示した図、第
３図は本発明の他の実施例を示す図、第４図は磁束密度
と放電維持電圧の関係を示す図、第５図は従来の発光分
析装置による発光スペクトルを示す図、第６図は本発明
による発光スペクトルを示す図である。 ２……イオン源、４，５……偏向電極、６……電子源、
１２……試料、１４……光用窓。
Claims (3)
- 【請求項１】特定のエネルギ幅を持つエネルギ範囲に加
速された粒子を試料に衝突させ、特定のエネルギ範囲に
入るエネルギレベルのみを選択的に励起し、選択的に励
起された準位からの発光を観測することにより、定量あ
るいは定性分析を行うようにした発光分光分析計におい
て、特定のエネルギ幅を持つエネルギ範囲に加速された
粒子を選択する手段を含んでなり、該選択する手段は、
加速された粒子ビームの通路に配置されて該粒子ビーム
を偏向させる偏向電極と、該偏向電極と前記試料を結ぶ
粒子ビームの通路に配置され粒子を通過させる開口を備
え該開口以外の部分での粒子の通過を拒止する選択手段
とを含んでなることを特徴とする発光分光分析計。 - 【請求項２】特定のエネルギ幅を持つエネルギ範囲に加
速された粒子を試料に衝突させ、特定のエネルギ範囲に
入るエネルギレベルのみを選択的に励起し、選択的に励
起された準位からの発行を観測することにより、定量あ
るいは定性分析を行うようにした発光分光分析計におい
て、特定のエネルギ幅を持つエネルギ範囲に粒子を加速
する手段を含んでなり、該加速する手段は、粒子を加速
する電極と、該電極間に磁場を印加する手段とを含んで
なることを特徴とする発光分光分析計。 - 【請求項３】特許請求の範囲第２項記載の発光分光分析
計において、粒子を加速する電極は直流放電に高周波放
電を重畳可能に構成されていることを特徴とする発光分
光分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59156346A JPH0641914B2 (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 選択励起を用いた発光分光分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59156346A JPH0641914B2 (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 選択励起を用いた発光分光分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6134444A JPS6134444A (ja) | 1986-02-18 |
| JPH0641914B2 true JPH0641914B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=15625750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59156346A Expired - Lifetime JPH0641914B2 (ja) | 1984-07-26 | 1984-07-26 | 選択励起を用いた発光分光分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0641914B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193038A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 固体元素分析方法およびその装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5039594A (ja) * | 1973-08-13 | 1975-04-11 | ||
| US3891853A (en) * | 1974-03-20 | 1975-06-24 | Baxter Laboratories Inc | Energy compensated spectrofluorometer |
| JPS57133340A (en) * | 1981-02-12 | 1982-08-18 | Fujitsu Ltd | Measuring method for compensating effect distribution for semi-insulating gaas crystal |
-
1984
- 1984-07-26 JP JP59156346A patent/JPH0641914B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6134444A (ja) | 1986-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0103586B1 (en) | Sputter initiated resonance ionization spectrometry | |
| EP2006672B1 (en) | Gas analyzer | |
| US6750449B2 (en) | Sampling and analysis of airborne particulate matter by glow discharge atomic emission and mass spectrometries | |
| EP1875486B1 (en) | Method for controlling space charge-driven ion instabilities in electron impact ion sources | |
| EP0698281B1 (en) | Method of plasma mass analysis with reduced space charge effects | |
| TW201626431A (zh) | 離子化裝置及包含離子化裝置的質譜儀 | |
| US11764026B2 (en) | Electron source | |
| US3939344A (en) | Prefilter-ionizer apparatus for use with quadrupole type secondary-ion mass spectrometers | |
| US4812040A (en) | Hollow cathode plasma plume | |
| JPH11345591A (ja) | サイクロイド質量分析計及びそれに使用されるイオナイザ― | |
| US11443933B1 (en) | Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) with ion trapping | |
| Pisonero et al. | A double microsecond-pulsed glow discharge ion source | |
| Colodner et al. | Ion sources for analysis of inorganic solids and liquids by MS | |
| JPH0641914B2 (ja) | 選択励起を用いた発光分光分析計 | |
| US5763877A (en) | Analyzer using plasma and analysis method using plasma, interface used for the same and sample introducing component used for the same | |
| Sawatzky et al. | Method for Studying Sputtered Particles by Emission Spectroscopy | |
| JPH08210979A (ja) | グロー放電発光分光分析方法およびそれに用いる装置 | |
| JPH0628998A (ja) | 質量分析装置 | |
| Steiner et al. | Glow discharge optical spectroscopy and mass spectrometry | |
| Mathur et al. | Probing interatomic potentials by ion translational energy spectrometry: A new crossed molecular beams apparatus | |
| Harrison et al. | Trace element analysis by glow discharge mass spectrometry | |
| Bogaerts | Glow Discharge Optical Spectroscopy and Mass Spectrometry | |
| JPH07122229A (ja) | 質量分析装置 | |
| Broekaert | Optical emission spectrometry with glow discharges | |
| Fabian | Mass spectrometry and its applications in metallurgy and materials science |