JPH0641171A - 均質触媒の配位子としてのフェロセニルジホスフィン - Google Patents
均質触媒の配位子としてのフェロセニルジホスフィンInfo
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Abstract
たは非置換もしくは置換フェニル;R2 およびR3 は、
同一または異なり、C1 −C12アルキル、またはC1 −
C4 アルキル、−SiR4 R5 R6 、ハロゲン、−SO
3 M、などで置換されているフェニル;基−PR2 R3
は式(II);R4 、R5 およびR6 は、それぞれ互いに
独立して、C1 −C12アルキル、フェニル;R7 および
R8 はフェニルなど;またはR7 とR8 は、一緒になっ
て、テトラメチレンなど;R9 はアルキルなど;Mは水
素またはアルカリ金属;X- は一塩基酸のアニオン;*
は不整炭素原子)で示されるラセミ体、ジアステレオマ
ーまたはジアステレオマーの混合物の形態の化合物、そ
の製法および不整水素化の触媒としての用途。 【化11】 【効果】上記錯体触媒はプロキラルオレフィン類を短い
反応時間で高い光学収率で不整水素化する。
Description
異性体の形態での1−[2−(ジフェニルホスフィノ)
フェロセニル]アルキリデンホスフィン類、それらの製
造方法、それらの配位子を含むイリジウムおよびロジウ
ム錯体ならびにプロキラル不飽和化合物の均質水素化の
ためのエナンチオ区別水素化触媒としてのそれらの用途
に関する。
合成の遷移金属錯体のための配位子としてのキラルなフ
ェロセニルホスフィン、すなわち[(R)−[(S)−
2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチル]
ジフェニルホスフィンの調製は、T.Hayashi らによりBu
ll.Soc.Jpn.,53,1136-1151に記載されている。我々の研
究は、それらの配位子を含むロジウム錯体でのプロキラ
ルな化合物の均質水素化は光学収率が低いことを明らか
にした。
共フェニルでない場合には、同一または7倍も短い反応
時間でエナンチオ選択が実質的に強められることが、今
見い出された。
発明は式(I):
ニルまたは1ないし3個の、C1 −C4 アルキルもしく
はC1 −C4 アルコキシ基により置換されているフェニ
ルであり;R2 およびR3 は、同一であり、そしてC1
−C12アルキル、C5 −C12シクロアルキル、C1 −C
4 アルキル−もしくはC1 −C4 アルコキシ−置換−C
5 −C12シクロアルキル、またはC1 −C4 アルキル、
C1 −C4 アルコキシ、−SiR4 R5 R6 、ハロゲ
ン、−SO3 M、−CO2 M、−PO3 M、−NR7 R
8 および−[+ NR 7 R8 R9 ]X- よりなる群から選
択される1ないし3個の同一もしくは異なる基により置
換されているフェニルであるか;あるいはR2 およびR
3 は、異なり、そしてC1 −C12アルキル、C5 −C12
シクロアルキルまたはC1 −C4 アルキル−もしくはC
1 −C4 アルコキシ−置換−C5 −C12シクロアルキル
あるいはC1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、
−SiR4 R5 R6 、ハロゲン、−SO3 M、−CO2
M、−PO3 M、−NR7 R8および−[+ NR 7 R8
R9 ]X- よりなる群から選択される1ないし3個の同
一もしくは異なる基により置換されているフェニルであ
り;基−PR2 R3 は式(II):
6 は、それぞれ互いに独立して、C1−C12アルキルま
たはフェニルであり;R7 およびR8 は水素、C1 −C
12アルキルまたはフェニルであるか;またはR7 とR8
は、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレンま
たは3−オキサ−1,5−ペンチレンであり;R9 は水
素またはC1 −C4 アルキルであり;Mは水素またはア
ルカリ金属であり;X-は一塩基酸のアニオンであり;
そして*は不整炭素原子である)で示されるラセミ体、
ジアステレオマーまたはジアステレオマーの混合物の形
態での化合物に関する。
であり、かつ好適には1ないし4個の炭素原子を含む。
代表例はメチル、エチル、n−およびイソプロピル、n
−、iso−およびtert−ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチルならびにオクチルである。メチルおよび
エチルが好適であり、メチルが特に好適である。
2個の置換基を含む。アルキル置換基は代表的にはメチ
ル、エチル、n−およびイソプロピル、n−、iso−
およびtert−ブチルであってよく、メチルおよびエ
チルが好適である。アルコキシ置換基はメトキシ、エト
キシ、n−およびイソプロポキシ、n−、isoおよび
tert−ブトキシであってよい。メトキシおよびエト
キシが好適である。
たは分岐鎖であり、かつ好適には1ないし8個、最も好
適には1ないし4個の炭素原子を含む。代表例はメチ
ル、エチル、n−およびイソプロピル、n−、iso−
およびtert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシルならびにド
デシルである。メチル、エチル、n−およびイソプロピ
ルならびにn−、iso−およびtert−ブチルが好
適である。R2 およびR3 が同一であり、かつアルキル
である場合には、イソプロピルまたはtert−ブチル
が最も好適である。
好適には5ないし8個、最も好適には5または6個の環
員炭素原子を含む。シクロアルキルの例はシクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、シクロデシルおよびシクロドデシルである。シクロ
ペンチルおよびシクロヘキシルが好適であり、シクロヘ
キシルが特に好適である。
のアルキルまたはアルコキシ基により置換されていても
よい。そのような置換基の例は上記に示されている。メ
チルおよびエチルが好適であり、メトキシおよびエトキ
シもまた好適である。置換シクロアルキルは代表的には
メチル−およびメトキシシクロペンチルならびにメチル
−およびメトキシシクロヘキシルである。
適には1または2個の置換基を含む。フェニルが2また
は3個の置換基を含む場合には、それらは同一または異
なるものである。
上記に示されている。フェニルの好適なアルキルおよび
アルコキシ置換基の例は、メチルおよびエチルならびに
メトキシおよびエトキシである。
適には−F、−Clおよび−Brよりなる群から選択さ
れてよい。
であってよく、好適には1ないし8個、最も好適には1
ないし4個の炭素原子を含む。アルキル置換基の例は上
記に示されている。好適なアルキルはメチル、エチル、
n−プロピル、n−ブチルおよびtert−ブチルであ
る。置換基−SiR4 R5 R6 は最も好適にはトリメチ
ルシリルである。
および−PO3 Mのなかで、基−SO3 Mが好適であ
る。Mは好適にはH、Li、NaおよびKである。
には1ないし6個、最も好適には1ないし4個の炭素原
子を含む。アルキルは好適には直鎖である。好適な例は
メチル、エチル、n−プロピルおよびn−ブチルであ
る。アルキルとしてのR9 は好適にはメチルである。
にはCl- 、Br- またはカルボン酸のアニオン、代表
的にはホーマート、アセタート、トリクロロアセタート
またはトリフェニルアセタートである。
ン−1−イル、3−メチルフェン−1−イル、4−メチ
ルフェン−1−イル、2−もしくは4−エチルフェン−
1−イル、2−もしくは4−イソプロピルフェン−1−
イル、2−もしくは4−tert−ブチルフェン−1−
イル、2−メトキシフェン−1−イル、3−メトキシフ
ェン−1−イル、4−メトキシフェン−1−イル、2−
もしくは4−エトキシフェン−1−イル、4−トリメチ
ルシリルフェン−1−イル、2−もしくは4−フルオロ
フェン−1−イル、2,4−ジフルオロフェン−1−イ
ル、2−もしくは4−クロロフェン−1−イル、2,4
−ジクロロフェン−1−イル、2,4−ジメチルフェン
−1−イル、3,5−ジメチルフェン−1−イル、2−
メトキシ−4−メチルフェン−1−イル、3,5−ジメ
チル−4−メトキシフェン−1−イル、3,5−ジメチ
ル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−も
しくは4−アミノフェン−1−イル、2−もしくは4−
メチルアミノフェン−1−イル、2−もしくは4−(ジ
メチルアミノ)フェン−1−イル、2−もしくは4−S
O3 H−フェン−1−イル、2−もしくは4−SO3 N
a−フェン−1−イル、2−もしくは4[+ NH 3 Cl
- ]−フェン−1−イル、3,4,5−トリメチルフェ
ン−1−イルまたは2,4,6−トリメチルフェン−1
−イルである。
好適にはシクロヘキシル、2−もしくは4−メチルフェ
ン−1−イル、2−もしくは4−メトキシフェン−1−
イル、2−もしくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1
−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フ
ェン−1−イルまたは3,5−ジメチル−4−メトキシ
フェン−1−イルである。
合には、R2 は好適にはフェニルであり、そしてR3 は
好適にはシクロヘキシル、2−もしくは4−メチルフェ
ン−1−イル、2−もしくは4−メトキシフェン−1−
イル、4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,
5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イ
ル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル
または4−tert−ブチル−フェン−1−イルであ
る。
よびR3 は同一の置換基であり、かつシクロヘキシルで
ある。本発明の他の好適な実施態様において、R2 およ
びR3 は同一の置換基であり、かつtert−ブチルま
たはo−アニシルである。
R2 はフェニルであり、そしてR3はo−アニシルであ
る。
(I)のR1 はメチルであり、R2およびR3 はそれぞ
れシクロヘキシルである。
(I)の化合物の製造方法であって、式(III ):
と同義である)で示される化合物を,上昇した温度で不
活性溶媒の存在下に反応させることを特徴とする方法を
提供する。
によりBull.Chem.Soc.Jpn.,53,1136-1151 に記載されて
いる。式(III )の化合物の製造法もまたこの文献に記
載されているか、または同様な方法で実施することがで
きる。式(IV)のホスフィンは公知であるか、または同
様な手法による公知の方法により得ることができる。
0から100℃の範囲であってよい。適切な溶媒は極性
プロトン性および非プロトン性であり、単独または二種
もしくはそれ以上の溶媒の混合物として用いられてよ
い。溶媒の代表例はメタノールおよびエタノールのよう
なアルカノール類ならびにギ酸および酢酸のようなカル
ボン酸類である。
がラセミ体、立体異性体の混合物または立体異性体とし
て用いられかどうかに依り、ラセミ体、立体異性体の混
合物または立体異性体として得られる。立体異性体の混
合物は公知の方法、好適にはクロマトグラフィーの方法
により、その立体異性体に分割することができる。
法、代表的には蒸留、抽出、結晶化および/またはクロ
マトグラフィー法により分離、精製することができる。
ウム錯体の配位子としての用途に適切である。本発明の
他の目的として、本発明は式(V)または(VI):
ン類または一つのC5 −C12ジエンであり;ZはCl、
BrまたはIであり;A1 - はオキシ酸または錯体酸の
アニオンであり;M1 はRhまたはIrであり;そして
Yは式(I)のジホスフィンである)で示される錯体に
関する。式(IV)の錯体が好適である。
ような好適性および例示が適用される。オレフィンとし
てのX1 は好適には2ないし6個、最も好適には2ない
し4個の炭素原子を含む。エチレンが特に好適である。
更なる例はプロペンおよび1−ブテンである。ジエンと
してのX1 は好適には5ないし8個の炭素原子を含む。
ジエンは鎖状または単環もしくは双環ジエンであってよ
い。ジエンの二つのオレフィン基は好適には一つまたは
二つのCH2 基を介して結合している。代表例は1,3
−ペンタジエンン、シクロペンタジエン、1,5−ヘキ
サジエン、1,4−シクロヘキサジエン、1,4−もし
くは1,5−ヘプタジエン、1,4−もしくは1,5−
シクロヘプタジエン、1,4−もしくは1,5−オクタ
ジエン、1,4−もしくは1,5−シクロオクタジエ
ン、ノルボルナジエンである。X1は好適には二つのエ
チレン、1,5−ヘキサジエン、1,5−シクロオクタ
ジエンまたはノルボルナジエンである。
ある。式(VI)のA1 -の代表例はClO4 -、FSO3 -、
CH3 SO3 -、CF3 SO3 -、BF4 -、PF6 -、SbC
l6 -、ASF6 -およびSbF6 -である。好適なA1 -はC
lO4 -、FSO3 -、BF4 -、PF6 -およびSbF6 -であ
る。
式(I)の化合物と式[M1 (X1)Z]2 またはM1
(X1 )2 + A1 -(式中、M1 、X1 、ZおよびA1 -は
上記と同義である)で示される金属錯体との当量の反応
から得られる。この金属錯体はとりわけヨーロッパ特許
公開第0302021 号および米国特許5011995 号において知
られている。
アルゴン雰囲気下に、好都合には0から40℃、好適に
は室温で実施される。溶媒または溶媒の混合物を、同時
に用いることが有利であり、それは好都合には炭化水素
類(ベンゼン、トルエン、キシレン)、ハロゲン化炭化
水素類(メチレンクロリド、クロロホルム、クロロベン
ゼン)、アルカノール類(メタノール、エタノール、エ
チレングリコールモノエチルエーテル)およびエーテル
類(ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレング
リコールモノエチルエーテル)またはその混合物類であ
る。新規な錯体は通常の方法により分離、精製すること
ができる。または水素化の前にその場所で調製し、次い
で水素化触媒として直接に溶解した形態で用いることも
できる。
テロ原子二重結合を含むプロキラルな化合物、代表的に
はC=C、C=N、C=O、C=C−NおよびC=C−
Oから選択される基を有する化合物のエナンチオ区別水
素化の均質触媒の用途として卓越して適切である[とり
わけK.E.Koenig, The] Applicability of AsymmetricHo
mogeneous Catalysis, James D.Morrison(編集), Asy
mmetric Synthesis,Vol.5, Academic Press, 1985 ]。
このような化合物の例はプロキラルオレフィン類、エナ
ミン類、イミン類およびケトン類である。驚くべき高収
量が、また通常の定量的化学転換においては短い反応時
間で得られる。特に、この新規な錯体で得られる非常に
高い光学収率は驚くべきことである。エナンチオマー過
剰率(ee)は90%を超えてよい。式(V)および(V
I )の錯体のラセミ体、立体異性体または立体異性体の
混合物を用いることができ、立体異性体または立体異性
体の混合物が好適である。
重結合または炭素/ヘテロ原子二重結合、特にC=C、
C=N、C=O、C=C−NまたはC=C−O基を含む
プロキラルな化合物の不整水素化のための均質触媒とし
ての式(V)および(VI)新規な錯体の使用に関する。
好適な用途は非対称な、炭素二重結合類、ケチミン類お
よびケトン類の水素化のためのものである。式(V)お
よび(VI)のイリジウム錯体はプロキラルなN−アリル
ケチミン類を光学活性第二アミンへの水素化のための触
媒としてまた好適である。式(V)および(VI)のロジ
ウム錯体は炭素二重結合、例えばプロキラルな炭素二重
結合の水素化のための触媒として好適に用いられてい
る。
均質反応条件下での炭素二重結合または炭素/ヘテロ原
子二重結合を含む化合物の不整水素化の方法であって、
温度範囲−20℃ないし+80℃、水素圧104 ないし
107 Paそして式(V)または(VI)の錯体の触媒量の
存在下に該化合物を水素化することを特徴とする方法を
提供する。
られているそれらである。非対称ケチミン類およびケト
ン類は公知である。適切なN−アリルケチミンはとりわ
けヨーロッパ特許公開0256982 号に開示されている。N
−脂肪族ケチミン類はとりわけヨーロッパ特許公 0301
457 号に開示されている。そのようなイミン類は相当す
る不整なケトン類(それらは公知であり、公知の方法で
得られる)から製造することができる。適切な置換され
たアルケン類は上述したK.E.Koenigの出版物に記載され
ている。
50℃、好適には水素圧が105 から6・106 Paで行
われる。
I)の錯体に対し水素化されるべき化合物(基質)のモ
ル比が10000ないし20、さらに好適には5000
ないし20、特に2000ないし40、最も好適には1
000ないし50であるように選択される。
イリジウム触媒を用いる場合に、追加的なアンモニウム
またはアルカリ金属クロリド、ブロミドもしくはヨード
の同時使用を含む。この量は、式(V)または(VI)の
錯体に基づいて、代表的には0.1ないし100、好適
には1ないし50そして最も好適には2ないし20当量
であってよい。ヨウ化物の添加が好適である。アンモニ
ウムは好適にはアルキル基に1ないし6個の炭素原子を
含むテトラアルキルアンモニウムであり、好適なアルカ
リ金属はリチウム、ナトリウムおよびカリウムである。
ことができる。単独または混合して用いることのできる
適切な溶媒は、代表的には脂肪族および芳香族炭化水素
類(ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン);メタノ
ール、エタノール、プロパノールおよびブタノールのよ
うなアルコール類;ジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチル
エーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンのよう
なエーテル類;メチレンクロリド、クロロホルム、1,
1,2,2−テトラクロロエタンおよびクロロベンゼン
のようなハロゲン化炭化水素類;エチルアセタート、ブ
チルロラクトンまたはバレロラクトンのようなエステル
類およびラクトン類;ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドおよびN−メチルピロリドンのようなカル
ボキサミド類およびラクタム類である。好適な混合物類
はアルコール類と芳香族炭化水素類、代表的にはメタノ
ール/ベンゼンまたはメタノール/トルエンのそれらで
ある。好適な溶媒はメタノールそれ自身またはベンゼン
とトルエンの混合物である。
び農芸化学分野において生物学的に活性な化合物の製造
の有用な中間体である、光学的に純粋な化合物を得るこ
とを可能にする。従って、例えば除草管理のために使用
できる殺草性の5−イミダゾールカルボン酸誘導体(ヨ
ーロッパ特許公開0207563 号)は第二アミン、特にN−
カルボアルコキシメチルアミン類から製造することがで
きる。光学的に純粋なα−アミノカルボキシラート類は
ペプチド合成に適切である。有用な合成成分である光学
的に純粋なα−アミノカルボン酸類は不飽和アミノカル
ボン酸から得ることができる。
るものである。反応はアルゴン雰囲気下に行われた。化
学変換率はガスクロマトグラフィー[カラムDB17/
30W(15m ):JCW Scientific INC.,USA 社製、温
度プログラム:60/分220℃まで、△T:10℃・
分-1]により測定した。光学収率およびエナチオマー過
剰率の測定は同様にガスクロマトグラフィー[カラムCh
irasil-Val、50m:Alltech,USA 社製、T:150℃、
等温]により測定した。
−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]}エチル
ジシクロヘキシルホスフィン(A) {(R)−1−[(S)−2−(ジフェニルホスフィ
ノ)フェロセニル]}エチル アセタート((R)−
(S)−PPFOAc)[Bull.Chem.Soc.Jpn., に従い
調製した。]3.88g (8.5mmol)、酢酸60mlお
よびジシクロヘキシルホスフィン1.9ml(9.35mmo
l)を、アルゴン雰囲気下に25mlのシュレンクフラス
コ中に順次に仕込み、次いで撹拌しながら50℃まで
2.5時間加熱した。冷却した反応溶液にジエチルエー
テル100mlを加えた。エーテル相を分離し、飽和食塩
水および炭酸水素ナトリウム水溶液で順次に繰り返し抽
出した。水相を合せ、さらに一回ジエチルエーテルで抽
出した。エーテル相を乾燥し、濃縮した。塩基性アルミ
ナでのクロマトグラフィー(溶媒:ヘキサン/酢酸エチ
ル9:1)により精製し、つづく熱エタノールからの再
結晶により、橙色の結晶としてA4.2g (81%)を
得た。 [α]D 20 :−349(c=1.025、CH3 C
l);mp:95−100℃;31P-NMR (CDCl3): 15.7
(d,J=30),-25.8(d,J=30).
−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]}エチル
ビス(2−メトキシフェニル)ホスフィン(B) ビス(2−メトキシフェニル)ホスフィン0.42g
(1.68mmol)を用いて、実施例A1で述べた一般方
法をくりかえした。橙色の結晶としてB496mg(46
%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):-21.6(d,J=11),-25.3(d,J=11).
[(S)−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニ
ル]}エチル フェニル−(2−メトキシフェニル)ホ
スフィン(C) フェニル−(2−メトキシフェニル)ホスフィン0.3
6g (1.68mmol)を用いて、実施例A1で述べた一
般方法をくりかえした。橙色の結晶としてC555mg
(54%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):-6.1(d,J=16),-25.5(d,J=16)(一次立
体異性体);-7.9(d,J=14),-25.1(d,J=14)(二次立体異
性体)。
{(R)−1−[(S)−2−(ジフェニルホスフィ
ノ)フェロセニル]}エチル−ジシクロヘキシルホスフ
ィノロジウムテトラフロオロボラート](D) 25mlのシュレンクフラスコ中に、ビス(ノルボルナジ
エン)ロジウムテトラフルオロボラート100mg(0.
267mmol)をメタノール/メチレンクロリド(1:
1)混合溶媒10ml中にアルゴン雰囲気下で溶解し、次
いでA159mg(0.267mmol)を加えた。この反応
溶液を室温で60分間撹拌し、溶媒を高真空下に留去し
た。粗生成物をメチレンクロリド4mlに溶解した。ジエ
チルエーテル15mlを加え、沈殿させ、橙色の結晶とし
てD192mg(82%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):23.1(JRhP=153,JPP=36),52.6(JRhP=15
4,JPP=36).
−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]}エチル−
ジ−tert−ブチルホスフィン(E) (R)−(S)−PPFOAc1g (2.2mmol)およ
びジ−tert−ブチルホスフィン0.37g を用い
て、実施例A1で述べた一般方法をくりかえした。橙色
の結晶としてE704mg(59%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):49.9(d,J=50),-26.1(d,J=50).
−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]}エチル−
ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィン
(F) (R)−(S)−PPFOAc0.5g (1.1mmol)
およびビス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフ
ィン0.37g を用いて、実施例A1で述べた一般方法
をくりかえした。橙色の結晶としてF313mg(47
%)を得た。31 P−NMR (CDCl3):−6.8(d,J=
17),−25.0(d,J=17).
−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]}エチル−
ビス(4−メトキシフェニル)ホスフィン(G) (R)−(S)−PPFOAc0.548g (1.2
mmol)およびビス(4−メトキシフェニル)ホスフィン
0.29g (1.3mmol)を用いて、実施例A1で述べ
た一般方法をくりかえした。橙色の泡状物としてG0.
3g (39%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):2.5(d,J=17),-25.5(d,J=16).
[(S)−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニ
ル]}エチル−(2−メトキシフェニル)フェニルホス
フィン(H) ジアステレオアイソマーCの混合物2.793g を、
[Pd2 Cl2 (R)−(+)−C6 H4 CHCH3 N
(CH3 )2 )2 ]1.325g (2.3mmol)をメタ
ノール25mlに懸濁した懸濁液に加えた。得られた赤色
溶液を室温で30分間撹拌し、次いで濾過した。NH4
PF6 0.372g (2.3mmol)を水6mlに溶解した
溶液を徐々に滴下し、橙色の懸濁液をさらに16時間撹
拌した。濾過により黄色沈殿物を捕集し、メタノール
(50%)20mlおよびジエチルエーテル20mlで洗浄
した(濾液Iの処理は実施例A9で述べた)。アセトン
から二回再結晶して[Pd(R)−(+)−C6 H4 C
HCH3 N(CH3 )2 (H)]1.4g (61%)を
得た。31 P-NMR (CDCl3):57.0(d,J=43.8),4.7(d,J=43.8).
3 N(CH3 )2 (H)]1.2g(1.19mmol)を
アセトン9mlおよび塩酸(10N )0.8mlの混合物に
溶解し、還流温度で10分間撹拌した。次いで、室温で
水20mlを加えた。橙色の懸濁液を濃縮し、濾過した。
橙赤色固体を水で洗浄し、高真空下に乾燥した。この固
体をメタノール20mlに懸濁した懸濁液に、KCN3.
0g (46.1mmol)を添加した。水10mlおよびジク
ロロメタン15mlを加えると二相となった。有機相をM
gSO4 で乾燥し、濃縮した。橙色粉末のクロマトグラ
フィー(塩基性アルミナ、ヘキサン/酢酸エチル=9:
1)により、定量的に遊離配位子Hを得た。エタノール
からの再結晶により純粋なジアステレオアイソマー配位
子0.589g (81.4%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):-6.1(d,J=16),-25.5(d,J=16).
[(S)−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニ
ル]}エチル−(2−メトキシフェニル)フェニルホス
フィン(J) 実施例A8で述べた一般方法をくりかえした。実施例A
8で得た濾液Iを、NH4 PF6 0.5g (3.1mmo
l)を水6mlに溶解した溶液と反応させた。赤褐色沈殿
物を濾過により捕集し、メタノール(50%)20mlお
よびジエチルエーテル20mlで洗浄した。アセトン/ジ
エチルエーテルから二回再結晶して赤色結晶1.2g
(52%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):30.6(d,J=43.5),36.2(d,J=43.5). [Pd(R)−(+)−C6 H4 CHCH3 N(CH
3 )2 ](J)1.2g (1.19mmol)をKCNと実
施例A8に述べたように反応させ、純粋なジアステレオ
アイソマーJ0.617g (85%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):-7.9(d,J=14),-25.1(d,J=14).
2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]}エチル
−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン
(K) (R)−(S)−PPFOAc1.0g (2.2mmol)
およびビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフ
ィン0.82g(2.55mmol)を用いて、実施例1に
述べた一般方法をくりかえした。橙色の結晶としてK
1.20g (76%)を得た。31 P-NMR (CDCl3):6.6(d,J=24),-26.4(d,J=24) .
ルエステルの調製 [Rh(ノルボルナジエン)2 ]BF4 12.9mg
(0.034mmol)、A19.0mg(0.037mmol)
およびメタノール5mlからなる触媒溶液(アルゴン雰囲
気下で調製)を鋼鉄製キャピラリーでアルゴン雰囲気下
ガラス反応容器に移した。次いで、Z−メチル−2−ア
セトアミドシンナマート(基質)750mg(3.42mm
ol)およびメタノール5mlの溶液を同様な方法で加え
た。基質/触媒のモル比は100である。次いで、0.
1MPa の圧力の水素で三回のサイクルで水素化を行い、
水素圧力を0.108MPa に調節した。この反応混合物
を25℃で30分撹拌し、次いでフラスコへ移し、溶媒
をロータリーエバポレーターで留去した。化学転換率は
100%であり、N−アセチルアニリン メチルエステ
ルを94%のエナチオマー過剰率で得た。
ルエステルの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:B24.4mg(0.037mm
ol)、反応時間1時間、水素圧50bar 。転換率は10
0%であり、eeは83%(R)であった。
ルエステルの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:[Rh(ノルボルナジエン)
2 ]BF4 8.3mg(0.022mmol)、C(二つのス
テレオアイソマーの比は1)15mg(0.025mmo
l)、Z−メチル−2−アセトアミドシンナマート0.
49mg(2.22mmol)、反応時間2時間。転換率は1
00%であり、eeは79%(R)であった。
ナートの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:[Rh(ノルボルナジエン)
2 ]BF4 11.8mg(0.032mmol)、A20.7
mg(0.035mmol)、ジメチルイタコナート0.5mg
(3.2mmol)、反応時間30分。転換率は100%で
あり、eeは>95%であった。
ルエステルの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:[Rh(ノルボルナジエン)
Cl]2 3.9mg(0.0085mmol)、E10.3mg
(0.019mmol)、溶媒:トルエン/メタノール(1
0:1)11ml、水素圧15bar 、温度:0℃、反応時
間20時間。転換率は100%であり、eeは73.6
%(R)であった。
フェニル)−1−メトキシメチルエチルアミンの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:[Ir(1,5−シクロオク
タジエン)Cl]2 5.3mg(0.0079mmol)、A
10.2mg(0.017mmol)およびテトラヒドロフラ
ン/ジクロロメタン(1:1)の5ml中のテトラブチル
アンモニウムヨージド11.9mgからなる触媒溶液を調
製した。テトラヒドロフラン溶液中のN−(2’,6’
−ジメチルフェニル)−1−メトキシメチルエチレンジ
アミン1.5g (7.8mmol)からなる基質溶液を用い
た。水素化は圧力40bar の水素で行った。反応温度は
30℃であった。91時間後に、転換率は90%であ
り、eeは59%(R)であった。
フェニル)−1−メトキシメチルエチルアミンの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:[Ir(1,5−シクロオク
タジエン)Cl]2 5.3mg(0.0079mmol)およ
びG11.1mg(0.017mmol)からなる触媒溶液を
調製した。反応時間:20時間。転換率は100%であ
り、eeは56.6%(R)であった。
−フェニルアセトンの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:[Rh(ノルボルナジエン)
Cl]2 3.9mg(0.0082mmol);E9.7mg
(0.018mmol);メチルフェニルグリオキシラート
(基質)0.268mg(1.64mmol);溶媒トルエン
ン10ml; 水素40bar ;反応温度70℃;反応時間:
20時間。転換率は100%であり、eeは41%であ
った。
一般方法をくりかえした:アセトアミドケイ皮酸(基
質)0.83g (3.43mmol)。転換率は100%で
あり、eeは81%であった。
ルエステルの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:H18.3mg(0.037mm
ol)。転換率は100%であり、eeは79%であっ
た。
−ヒドロキシブチラートの調製 反応条件を以下のように変更して、実施例B1で述べた
一般方法をくりかえした:エチル−4−フェニル−2−
ヒドロキシブチラート(基質)0.352mg(1.7mm
ol);溶媒トルエンン/メタノール(1:1)10ml;
水素50bar ;反応温度50℃;反応時間:19時間。
転換率は100%であり、eeは44%(R)であっ
た。
Claims (48)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 (式中、R1 はC1 −C8 アルキル、フェニルまたは1
ないし3個の、C1 −C4 アルキルもしくはC1 −C4
アルコキシ基により置換されているフェニルであり;R
2 およびR3 は、同一であり、そしてC1 −C12アルキ
ル、C5 −C12シクロアルキル、C1 −C4 アルキル−
もしくはC1 −C4 アルコキシ−置換−C5 −C12シク
ロアルキル、またはC1 −C4 アルキル、C1 −C4 ア
ルコキシ、−SiR4 R5 R6 、ハロゲン、−SO3
M、−CO2 M、−PO3 M、−NR7 R8 および−
[+ NR 7 R8 R9 ]X- よりなる群から選択される1
ないし3個の同一もしくは異なる基により置換されてい
るフェニルであるか;あるいはR2 およびR3 は、異な
り、そしてC1 −C12アルキル、C5 −C12シクロアル
キル、C1 −C4 アルキル−もしくはC1 −C4 アルコ
キシ−置換−C5 −C12シクロアルキルあるいはC1 −
C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、−SiR4R5
R6 、ハロゲン、−SO3 M、−CO2 M、−PO3
M、−NR7 R8 および−[+ NR 7 R8 R9 ]X- よ
りなる群から選択される1ないし3個の同一もしくは異
なる基により置換されているフェニルであり;基−PR
2 R3 は式(II): 【化2】 で示される基であり;R4 、R5 およびR6 は、それぞ
れ互いに独立して、C1−C12アルキルまたはフェニル
であり;R7 およびR8 は水素、C1 −C12アルキルま
たはフェニルであるか;またはR7 とR8 は、一緒にな
って、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは3−オキ
サ−1,5−ペンチレンであり;R9 は水素またはC1
−C4 アルキルであり;Mは水素またはアルカリ金属で
あり;X-は一塩基酸のアニオンであり;そして*は不
整炭素原子である)で示されるラセミ体、ジアステレオ
マーまたはジアステレオマーの混合物の形態での化合
物。 - 【請求項2】 アルキルとしてのR1 が直鎖である請求
項1記載の式(I)の化合物。 - 【請求項3】R1 がC1 −C4 アルキルである請求項2
記載の式(I)の化合物。 - 【請求項4】R1 がメチルまたはエチルである請求項3
記載の式(I)の化合物。 - 【請求項5】R1 がフェニルまたは1ないし2個のC1
−C4 アルキルもしくはC1 −C4 アルコキシ基で置換
されているフェニルである請求項1記載の式(I)の化
合物。 - 【請求項6】 アルキルとしてのR2 およびR3 が直鎖
または分岐鎖である請求項1記載の式(I)の化合物。 - 【請求項7】 R2 およびR3 がC1 −C8 アルキルで
ある請求項6記載の式(I)の化合物。 - 【請求項8】 R2 およびR3 が同一であり、そしてイ
ソプロピルまたはtert−ブチルである請求項6記載
の式(I)の化合物。 - 【請求項9】 シクロアルキルとしてのR2 およびR3
が5ないし8個の環員炭素原子を含む請求項1記載の式
(I)の化合物。 - 【請求項10】 シクロアルキルとしてのR2 およびR
3 がシクロペンチルまたはシクロヘキシルである請求項
9記載の式(I)の化合物。 - 【請求項11】 置換フェニル基としてのR2 およびR
3 が、2−メチルフェン−1−イル、3−メチルフェン
−1−イル、4−メチルフェン−1−イル、2−または
4−エチルフェン−1−イル、2−または4−イソプロ
ピルフェン−1−イル、2−または4−tert−ブチ
ルフェン−1−イル、2−メトキシフェン−1−イル、
3−メトキシフェン−1−イル、4−メトキシフェン−
1−イル、2−または4−エトキシフェン−1−イル、
4−トリメチルシリルフェン−1−イル、2−または4
−フルオロフェン−1−イル、2,4−ジフルオロフェ
ン−1−イル、2−または4−クロロフェン−1−イ
ル、2,4−ジクロロフェン−1−イル、2,4−ジメ
チルフェン−1−イル、3,5−ジメチルフェン−1−
イル、2−メトキシ−4−メチルフェン−1−イル、
3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル、
3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1
−イル、2−または4−アミノフェン−1−イル、2−
または4−メチルアミノフェン−1−イル、2−または
4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−または
4−SO3 H−フェン−1−イル、2−または4−SO
3 Na−フェン−1−イル、2−または4[+ NH 3 C
l- ]−フェン−1−イル、3,4,5−トリメチルフ
ェン−1−イル及び2,4,6−トリメチルフェン−1
−イルよりなる群から選択される請求項1記載の式
(I)の化合物。 - 【請求項12】 R2 およびR3 がシクロヘキシル、2
−または4−メチルフェン−1−イル、2−または4−
メトキシフェン−1−イル、2−または4−(ジメチル
アミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−
(ジメチルアミノ)フェン−1−イルおよび3,5−ジ
メチル−4−メトキシフェン−1−イルよりなる群から
選択される同一の置換基である請求項1記載の式(I)
の化合物。 - 【請求項13】 R2 およびR3 が異なり、そしてR2
がフェニルであり、R3 がシクロヘキシル、2−または
4−メチルフェン−1−イル、2−または4−メトキシ
フェン−1−イル、4−(ジメチルアミノ)フェン−1
−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フ
ェン−1−イルおよび3,5−ジメチル−4−メトキシ
フェン−1−イルおよび4−tert−ブチル−フェン
−1−イルよりなる群から選択される請求項1記載の式
(I)の化合物。 - 【請求項14】 R2 およびR3 が同一の置換基であ
り、そしてシクロヘキシルである請求項1記載の式
(I)の化合物。 - 【請求項15】 R2 およびR3 が同一の置換基であ
り、そしてtert−ブチルまたはo−アニシルである
請求項1記載の式(I)の化合物。 - 【請求項16】 R2 がフェニルであり、そしてR3 が
o−アニシルである請求項1記載の式(I)の化合物。 - 【請求項17】 R1 がメチルであり、R2 およびR3
がそれぞれシクロヘキシルである請求項1記載の式
(I)の化合物。 - 【請求項18】 請求項1の式(I)の化合物の製造方
法であって、式(III ): 【化3】 で示される化合物と式(IV): 【化4】 (上記式中、R1 、R2 およびR3 は請求項1と同義で
ある)で示される化合物を、上昇した温度で不活性溶媒
の存在下に反応させることを特徴とする方法。 - 【請求項19】 式(V)または(VI): 【化5】 (式中、X1 は二つのC2 −C12オレフィン類または一
つのC5 −C12ジエンであり;ZはCl、BrまたはI
であり;A1 - はオキシ酸または錯体酸(complexacid)
のアニオンであり;M1 はRhまたはIrであり;そし
てYは請求項1の式(I)の化合物である)で示される
錯体。 - 【請求項20】 式(VI)の錯体である請求項19記載
の錯体。 - 【請求項21】 X1 が二つのエチレン、1,5−ヘキ
サジエン、1,5−シクロオクタジエンまたはノルボル
ナジエンである請求項19記載の錯体。 - 【請求項22】 ZがClまたはBrである請求項19
記載の錯体。 - 【請求項23】 ZがClO4 -、FSO3 -、CH3 SO
3 -、CF3 SO3 -、BF4 -、PF6 -、SbCl6 -、AS
F6 -およびSbF6 -よりなる群から選択される請求項1
9記載の錯体。 - 【請求項24】 アルキルとしてのR1 が直鎖である請
求項19記載の錯体。 - 【請求項25】 R1 がC1 −C4 アルキルである請求
項19記載の錯体。 - 【請求項26】 R1 がメチルまたはエチルである請求
項19記載の錯体。 - 【請求項27】 R1 がフェニルまたは1ないし2個の
C1 −C4 アルキルもしくはC1 −C4 アルコキシ基で
置換されているフェニルである請求項19記載の錯体。 - 【請求項28】 アルキルとしてのR2 およびR3 が直
鎖または分岐鎖である請求項19記載の錯体。 - 【請求項29】 R2 およびR3 がC1 −C8 アルキル
である請求項28記載の錯体。 - 【請求項30】 R2 およびR3 が同一であり、そして
イソプロピルまたはtert−ブチルである請求項28
記載の錯体。 - 【請求項31】 シクロアルキルとしてのR2 およびR
3 が5ないし8個の環員炭素原子を含む請求項19記載
の錯体。 - 【請求項32】 シクロアルキルとしてのR2 およびR
3 がシクロペンチルまたはシクロヘキシルである請求項
31記載の錯体。 - 【請求項33】 置換フェニル基としてのR2 およびR
3 が、2−メチルフェン−1−イル、3−メチルフェン
−1−イル、4−メチルフェン−1−イル、2−または
4−エチルフェン−1−イル、2−または4−イソプロ
ピルフェン−1−イル、2−または4−tert−ブチ
ルフェン−1−イル、2−メトキシフェン−1−イル、
3−メトキシフェン−1−イル、4−メトキシフェン−
1−イル、2−または4−エトキシフェン−1−イル、
4−トリメチルシリルフェン−1−イル、2−または4
−フルオロフェン−1−イル、2,4−ジフルオロフェ
ン−1−イル、2−または4−クロロフェン−1−イ
ル、2,4−ジクロロフェン−1−イル、2,4−ジメ
チルフェン−1−イル、3,5−ジメチルフェン−1−
イル、2−メトキシ−4−メチルフェン−1−イル、
3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル、
3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1
−イル、2−または4−アミノフェン−1−イル、2−
または4−メチルアミノフェン−1−イル、2−または
4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−または
4−SO3 H−フェン−1−イル、2−または4−SO
3 Na−フェン−1−イル、2−または4[+ NH 3 C
l- ]−フェン−1−イル、3,4,5−トリメチルフ
ェン−1−イル及び2,4,6−トリメチルフェン−1
−イルよりなる群から選択される請求項19記載の錯
体。 - 【請求項34】 R2 およびR3 がシクロヘキシル、2
−または4−メチルフェン−1−イル、2−または4−
メトキシフェン−1−イル、2−または4−(ジメチル
アミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−
(ジメチルアミノ)フェン−1−イルおよび3,5−ジ
メチル−4−メトキシフェン−1−イルよりなる群から
選択される同一の置換基である請求項19記載の錯体。 - 【請求項35】 R2 およびR3 が異なり、そしてR2
がフェニルであり、R3 がシクロヘキシル、2−または
4−メチルフェン−1−イル、2−または4−メトキシ
フェン−1−イル、4−(ジメチルアミノ)フェン−1
−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フ
ェン−1−イルおよび3,5−ジメチル−4−メトキシ
フェン−1−イルおよび4−tert−ブチル−フェン
−1−イルよりなる群から選択される請求項19記載の
錯体。 - 【請求項36】 R2 およびR3 が同一の置換基であ
り、そしてシクロヘキシルである請求項19記載の錯
体。 - 【請求項37】 R2 およびR3 が同一の置換基であ
り、そしてtert−ブチルまたはo−アニシルである
請求項19記載の錯体。 - 【請求項38】 R2 がフェニルであり、そしてR3 が
o−アニシルである請求項19記載の錯体。 - 【請求項39】 R1 がメチルであり、R2 およびR3
がそれぞれシクロヘキシルである請求項19記載の錯
体。 - 【請求項40】 炭素二重結合または炭素/ヘテロ原子
二重結合を含むプロキラルな化合物の不整水素化のため
の均質触媒としての請求項19記載の式(V)または
(VI)の錯体の用途。 - 【請求項41】 非対称な、炭素二重結合、ケチミンお
よびケトンの水素化のための請求項40記載の用途。 - 【請求項42】 式(V)および(VI)のロジウム錯体
を用いる非対称炭素二重結合の水素化のための請求項4
0記載の用途。 - 【請求項43】 均質反応条件下での炭素二重結合また
は炭素/ヘテロ原子二重結合を含む化合物の不整水素化
の方法であって、温度範囲−20℃ないし+80℃、水
素圧104 ないし107 Paおよび請求項19記載の式
(V)または(VI)の錯体の触媒量の存在下に該化合物
を水素化することを特徴とする方法。 - 【請求項44】 水素圧が105 から6・106 Paであ
る請求項43記載の方法。 - 【請求項45】 温度が−10から+50℃の範囲であ
る請求項43記載の方法。 - 【請求項46】 触媒の量が、式(V)または(VI)の
錯体に対し水素化されるべき化合物(基質)のモル比が
10000ないし20であるように選択される請求項4
3記載の方法。 - 【請求項47】 反応を溶媒の存在下に行う請求項43
記載の方法。 - 【請求項48】 溶媒がメタノールまたはメタノールと
ベンゼンまたはトルエンとの混合溶媒である請求項43
記載の方法。
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