JPH0640816A - 除草性ピリミジニルチオアクリル酸誘導体 - Google Patents

除草性ピリミジニルチオアクリル酸誘導体

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JPH0640816A
JPH0640816A JP27918092A JP27918092A JPH0640816A JP H0640816 A JPH0640816 A JP H0640816A JP 27918092 A JP27918092 A JP 27918092A JP 27918092 A JP27918092 A JP 27918092A JP H0640816 A JPH0640816 A JP H0640816A
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JP27918092A
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English (en)
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Toshio Goshima
敏男 五島
Yoshinori Kitagawa
芳則 北川
Hidenori Hayakawa
秀則 早川
Katsuhiko Shibuya
克彦 渋谷
Akira Watanabe
亮 渡辺
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Bayer CropScience KK
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Nihon Bayer Agrochem KK
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    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/541,3-Diazines; Hydrogenated 1,3-diazines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/02Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D239/24Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
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    • C07D239/38One sulfur atom
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 除草活性を有するピリミジニルチオアクリル
酸誘導体の提供。 【構成】 式(I)のピリミジニルチオアクリル酸誘導
体及び該化合物の除草剤としての利用,更に,式(I)
の化合物を製造するにあたっての出発原料となる式(V
I)の化合物,および同じく出発原料である式(IV)の
化合物の製造方法。 〔式中RはH,(置換)C1−6アルキル基,C
2−4アルケニル基,C2−4アルキニル基を;R
H,(置換)C1−6アルキル基を;R,RはC
1−4(ハロ)アルキル基,C1−4(ハロ)アルコキ
シ基,ハロゲン原子を;RはH,(置換)C1−6
ルキル基,フェニル基,ヘテロ環式基等を;示す〕

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なピリミジニルチオ
アクリル酸誘導体、その中間体、それらの製法及び除草
剤としての利用、並びに出発原料の製法に関する。
【0002】
【従来の技術】ある種のピリミジニルチオアクリル酸誘
導体が除草活性を有することは、すでに公知である。
(特開平3−52872号及び同3−135964号参
照)
【0003】
【発明が解決しようとする課題及び手段】下記式(I)
で表わされる新規なピリミジニルチオアクリル酸誘導体
が見い出された。式:
【化5】 式中、R1 は、水素原子、任意に置換されていてもよい
1-6 アルキル基、任意に置換されていてもよいC2-4
アルケニル基、又はC2-4 アルキニル基を示し、R
2 は、水素原子、又は任意に置換されていてもよいC
1-6 アルキル基を示し、R3 及びR4 は、夫々独立し
て、C1-4 アルキル基、C1-4 アルコキシ基、ハロゲノ
−C1-4 アルキル基、ハロゲノ−C1-4 アルコキシ基又
はハロゲン原子を示し、そして、R5 は、水素原子、任
意に置換されていてもよいC1-6 アルキル基、任意に置
換されていてもよいフェニル基、C2-4 アルケニル基、
2-4 アルキニル基、又は任意に置換されてもよいヘテ
ロ環式基を示す。また、式(I)で表されるピリミジニ
ルチオアクリル酸の、アルカリ金属塩、アルカリ土類金
属塩及び有機アンモニウム塩も本発明化合物に含まれ
る。
【0004】本発明の式(I)の化合物は、例えば、下
記の方法、製法a):R1 及びR5 が水素原子を示す場
合 式:
【化6】 式中、R2 ,R3 およびR4 は前記と同じ、で表わされ
る化合物とホルミル化剤とを反応させることにより得ら
れ、また
【0005】製法b):R1 が水素原子以外の基を示す
場合 式:
【化7】 式中、R2 ,R3 ,R4 及びR5 は前記と同じ、で表わ
される化合物と、 式:R6 −X (III) 式中、R6 はR1 の定義から、水素原子を除いたものを
示し、Xはハロゲン原子又は−O−SO2 −Mを示し、
ここでMはアルキル基又はアリール基を示す、で表わさ
れる化合物か又は硫酸ジメチル又は硫酸ジエチルとを反
応させることにより得られ、また、
【0006】製法c):R1 が水素原子を示し、R5
水素原子以外の基を示す場合: 式:
【化8】 式中、R2 及びR3 は前記と同じ、で表わされる化合物
と、式:
【化9】 式中、R2 は前記と同じ、R7 は、R5 の定義から水素
原子を除いたものを示す、で表わされる化合物とを反応
させることにより得られ、また
【0007】製法d):R2 が水素原子を示す場合:
【化10】 式中、R1 ,R3 ,R4 及びR5 は前記と同じ、R
8 は、任意に置換されていてもよいC1-6 アルキル基を
示す、で表わされる化合物を塩基性条件下で加水分解す
ることにより得られる。
【0008】本発明式(I)のピリミジニルチオアクリ
ル酸誘導体は、強力な除草作用を示す。本発明によれ
ば、式(I)の化合物は意外にも、驚くべきことには、
他の類似化合物に比し、実質的に極めて卓越した除草作
用を現わす。本発明に於ける式(I)及びその原料の各
式に於いて、C1-6 アルキル基は、メチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピル、n−(iso−,sec
−,tert−)ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル
等の直鎖又は分枝アルキルを示し、好ましくは、メチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−(is
o−,sec−,tert−)ブチルを示す。
【0009】C1-4 アルキル基並びに、C1-4 アルキル
を有する各基のC1-4 アルキル部分は、上記C1-6 アル
キル基で示した例示したC1-4 アルキルに相当する直鎖
又は分枝アルキルを示す。C2-4 アルケニル基は、ビニ
ル、アリル、1−プロペニル、1−(2−,3−)ブテ
ニル等を示し、好ましくは、ビニル、アリル、1−プロ
ペニルを示す。C2-4 アルキニル基は、エチニル、プロ
パルギル、1−プロピニル等を示し、好ましくはプロパ
ルギル、1−プロピニルを示す。ハロゲン原子及び、ハ
ロゲンを置換基として有する各基のハロゲン部分は、フ
ルオル、クロル、ブロム、ヨードを示し、好ましくは、
フルオル、クロル、ブロムを示す。5員のヘテロ環式基
は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子から選ばれるヘテ
ロ原子を1乃至2含む環状の基を示し、チエニル、フリ
ル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピロリル、イミダゾ
リル、ピラゾリル等を示す。6員のヘテロ環式基は、窒
素原子、硫黄原子又は酸素原子から選ばれるヘテロ原子
を1乃至2含む環状の基を示し、ピリジル、ピラジニ
ル、ピリミジニル、ピリダジニル、等を示す。
【0010】本発明式(I)の化合物に於いて、その好
ましい例は、R1 は水素原子を示すか又は、ハロゲン原
子、C1-4 アルコキシ基、C1-4 アルキルチオ基、アシ
ル基、任意に置換されていてもよいフェニル基、及び窒
素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれるヘテロ原子
を1〜2有する任意に置換されていてもよい5員又は6
員のヘテロ環式基より成る群から選ばれる任意の置換基
を有してもよいC1-6 アルキル基、ハロゲン原子により
置換されていてもよいC2-4 アルケニル基、ハロゲン原
子により置換されていてもよいC2-4 アルキニル基を示
し、R2 は、水素原子、C1-4 アルキル基、C1-2 アル
コキシ−C1-2 アルキル基、ベンジル基、又はアルカリ
付加塩を示し、R3 及びR4 は、夫々独立して、メチ
ル、エチル、メトキシ、エトキシ、ハロゲノ−C1-2
ルキル基、ハロゲノ−C1-2 アルコキシ又はクロルを示
し、R5 は、水素原子を示すか又は、ハロゲン原子、C
1-4 アルコキシ基、C1-4アルキルチオ基、アシル基及
び任意に置換されていてもよいフェニル基よりなる群か
ら選ばれる任意の置換基を有してもよいC1-6 アルキル
基、ハロゲン原子、C1-4 アルキル基及びC1-2 アルコ
キシ基から選ばれる任意の置換基を有してもよいフェニ
ル基、C3 アルケニル基、C3 アルキニル基又は窒素原
子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれるヘテロ原子を1
〜2有する任意に置換されていてもよい5員又は6員の
ヘテロ環式基を示す。
【0011】更に、特に好ましい例は、R1 は水素原子
を示すか又は、フルオル、クロル、メトキシ、エトキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、アセチル及びハロゲン、
1-4 アルキル又はC1-2 アルコキシ置換されていても
よいフェニル基、ピリジル基並びにチアゾリル基より成
る群から選ばれる任意の置換基を有してもよいC1-4
ルキル基、クロル置換されていてもよいC2-3 アルケニ
ル基、クロル置換されていてもよいC3 アルキニル基を
示し、R2 は水素原子、メチル基又はエチル基を示し、
3 及びR4 は、夫々、メトキシ基を示し、そしてR5
は、水素原子を示すか又は、フルオル、クロル、メトキ
シ、エトキシ、メチルチオ、エチルチオから選ばれる任
意の置換基を有してもよいC1-4 アルキル基、フルオ
ル、クロル、メチル及びメトキシから選ばれる任意の置
換基を有してもよいフェニル基、アリル基、プロパルギ
ル基、ピリジル基、チエニル基又はフリル基を示すとこ
ろの化合物。本発明式(I)の化合物の例として、後
記、合成例の化合物に加え、下記第1表の化合物を加え
ることができる。
【0012】
【表1】
【0013】
【表2】
【0014】
【表3】
【0015】
【表4】
【0016】
【表5】
【0017】
【表6】
【0018】
【表7】
【0019】
【表8】
【0020】
【表9】
【0021】
【表10】
【0022】製法a)に於いて、原料として、例えば、
2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニルチオ)酢
酸メチルと、ギ酸メチルを用いると、反応式は下記で表
わされる。
【化11】
【0023】製法b)において、原料として、例えば、
3−ヒドロキシ−2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリ
ミジニルチオ)アクリル酸メチルと、硫酸ジメチルを用
いると、反応式は下記で表わされる。
【化12】 製法c)に於いて、原料として、例えば、4,6−ジメ
トキシ−2−メルカプトピリミジンと2−クロロアセト
酢酸エチルを用いると、反応式は下記で表わされる。
【化13】
【0024】製法d)において、3−メトキシ−2−
(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニルチオ)クロト
ン酸エチルと水酸化ナトリウムを用いると、反応式は、
下記で表わされる。
【化14】
【0025】製法a)に於いて、原料の式(II)の化合
物は、前記R2 ,R3 ,R4 の定義に従ったものを表わ
し、好ましくは、前記のR2 ,R3 ,R4 の好例で示し
た定義と同様のものを示す。式(II)の化合物は、例え
ば特開平3−135963号に記載される方法により、
得られ、またその代表的化合物である2−(4,6−ジ
メトキシ−2−ピリミジニルチオ)酢酸メチルも公知の
ものである。式(II)の化合物の代表例としては、例え
ば2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニルチオ)
酢酸のメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n
−ペンチル等の各エステルを例示できる。
【0026】また式(II)の化合物は、製法e):式:
【化15】 式中、R3 及びR4 は前記と同じ、で表わされる化合物
と、 式:R2 −OH (VII) 式中、R2 は前記と同じ、で表わされる化合物とを反応
させることにより得られる。上記式(VI)の化合物は、
新規化合物であり、一般には
【0027】製法f):前記式(IV)で表わされる化合
物と 式:Y−CH2 CN (VIII) 式中、Yはハロゲン原子又はメチルスルホニルオキシ基
を示す、で表わされる化合物とを、反応させるか、
【0028】製法g): 式:
【化16】 式中、R3 ,R4 及びYは前記と同じ、で表わされる化
合物と、メルカプトアセトニトリルとを反応させること
により、得られる。上記式(IV)、(VIII)及び(IX)
の各化合物、並びにメルカプトアセトニトリルは、有機
化学の分野でよく知られた化合物である。上記式(IV)
の2−メルカプトピリミジン類は、例えば、特開昭50
−111083号、同51−125285号に記載の方
法である相当するハロゲン置換ピリミジン類と硫化水素
との反応により、得ることもできる。然しながら、斯る
公知方法は好収率で、2−メルカプトピリミジン類を得
ることができない。
【0029】本発明者等は、この欠点を克服した2−メ
ルカプトピリミジン類の製法を完成した。即ち、製法
h): 式:
【化17】 式中、R3 及びR4 は前記と同じ、で表わされる2−メ
タンスルホニルピリミジン類とチオール化剤とを反応さ
せることにより、前記式(IV)の2−メルカプトピリミ
ジン類を好収率で得ることができる。
【0030】製法a)に於けるホルミル化剤としては、
例えばギ酸メチル、オルトギ酸メチル等を例示できる。
製法b)に於ける式(Ia)の化合物は、製法a)によ
り、合成される本発明化合物である。式(III)の化合物
は、前記R6 ,Xの定義に従ったものを表わし、好まし
くは前記のR1 の好例で示した定義から水素原子を除い
たものを示し、Xの好例としてはクロル、ブロム、メタ
ンスルホニルオキシ又はp−トルエンスルホニルオキシ
を示す。また式(III)の化合物に加えて、アルキル化剤
として、硫酸ジメチル、硫酸ジエチルを例示することも
できる。式((III)の化合物は、一般には公知化合物で
あり、その代表例としては、沃化メチル、臭化エチル、
塩化ベンジル、塩化アリル等を例示できる。上記製法
c)に於いて式(V)の化合物は、前記R2 及びR7
定義と同様のものを示し、好ましくは、前記R2 の好ま
しい定義と同様のものを示し、R7 の好例としては、前
記R5 の好ましい定義から水素原子を除いたものを示
す。式(V)の化合物は、一般には、公知化合物であ
り、その代表例としては、2−クロロアセト酢酸エチ
ル、2−クロロアセト酢酸メチル、2−クロロベンゾイ
ル酢酸エチル等を示す。製法d)に於ける式(Ib)の
化合物は、上記製法a),b)及びc)により合成され
る本発明化合物である。
【0031】上記製法a)の実施に際しては、適当な希
釈剤として、すべての不活性な有機溶媒を挙げることが
できる。斯かる希釈剤の例としては、脂肪族、環脂肪族
および芳香族炭化水素類(場合によっては塩素化されて
もよい)例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エー
テル、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン;そ
の他、エーテル類例えば、ジエチルエーテル、メチルエ
チルエーテル、ジ−iso−プロピルエーテル、ジブチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン;ケトン
類例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチル−is
o−プロピルケトン、メチル−iso−ブチルケトン;
ニトリル類例えば、アセトニトリル、プロピオニトリ
ル;アルコール類例えば、メタノール、エタノール、i
so−プロパノール、ブタノール、エチレングリコー
ル;エステル類例えば、酢酸エチル、酢酸アミル;酸ア
ミド類例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド;スルホン、スルホキシド類例えば、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン;および塩基例えば、ピリジン
等をあげることができる。製法a)は、実質的に広い温
度範囲内において実施することができる。一般には、約
−80〜約150℃、好ましくは、約−10〜約100
℃の間で実施できる。また、該反応は常圧の下で行うこ
とが望ましいが、加圧または減圧下で操作することもで
きる。
【0032】製法a)を実施するに当たっては、例えば
後記実施例に詳述される通り、式(II)の化合物1モル
をメタル化しうる条件下で、ホルミル化剤の等モル乃至
2倍モルと反応させることにより、目的の化合物を得る
ことができる。上記製法b)の実施に際しては、適当な
希釈剤として製法a)で例示した不活性な溶媒を挙げる
ことができる。製法b)は、実質的に広い温度範囲内に
おいて、実施することができる。一般には、約−30〜
約150℃、好ましくは約−5〜80℃の間で実施でき
る。また、該反応は常圧の下で行なうことが望ましい
が、加圧また減圧下で操作することもできる。
【0033】製法b)を実施するに当たっては、例え
ば、後記実施例3で示される通り、式(Ia)の化合物
1モル当たり、式(III)の化合物、若しくは、場合によ
りアルキル化剤を等モル乃至1.5倍モル、不活性溶媒
中で反応させることにより、目的の化合物を得ることが
できる。上記製法c)の実施に際しては、適当な希釈剤
として、すべての不活性な有機溶媒を挙げることができ
る。斯かる希釈剤の例としては、水;脂肪族、環脂肪族
および芳香族炭化水素類(場合によっては塩素化されて
もよい)例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、石油エーテル、リグロイン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メチレンクロライド、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、エチ
レンクロライド、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン;
その他、エーテル類例えば、ジエチルエーテル、メチル
エチルエーテル、ジ−iso−プロピルエーテル、ジブ
チルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン(DM
E)、テトラヒドロフラン(THF)、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル(DGM);その他、ケトン類
例えばアセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチ
ル−iso−プロピルケトン、メチル−iso−ブチル
ケトン(MIBK);その他、ニトリル類例えば、アセ
トニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル;そ
の他アルコール類例えば、メタノール、エタノール、i
so−プロパノール、ブタノール、エチレングリコー
ル;その他、エステル類例えば、酢酸エチル、酢酸アミ
ル;その他、酸アミド類例えば、ジメチルホルムアミド
(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMA)、N−メ
チルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ノン、ヘキサメチルフォスフォリックトリアミド(HM
PA);その他、スルホン、スルホキシド類例えば、ジ
メチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン;その
他、および塩基例えば、ピリジン等をあげることができ
る。
【0034】製法c)は、酸結合剤の存在下で行うこと
ができ、斯かる酸結合剤としては、無機塩基としてアル
カリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩およびアルコラ
ート等例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム
を例示することができる。有機塩基として第3級アミン
類、ジアルキルアミノアニリン類及びピリジン類、例え
ば、トリエチルアミン、1,1,4,4−テトラメチル
エチレンジアミン(TMEDA)、N,N−ジメチルア
ニリン、N,N−ジエチルアニリン、ピリジン、4−ジ
メチルアミノピリジン(DMAP)、1,4−ジアザビ
シクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)及び1,
8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン
(DBU)等を挙げることができる。有機リチウム化合
物、例えば、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、s
ec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム、フ
ェニルリチウム、ジメチルカッパーリチウム、リチウム
ジイソプロピルアミド、リチウムシクロヘキシルイソプ
ロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミド、n−
ブチルリチウム+DABCO、n−ブチルリチウム+D
BU、n−ブチルリチウム+TMEDA等を挙げること
ができる。製法c)は、実質的に広い温度範囲内におい
て実施することができる。一般には、約−60〜約15
0℃、好ましくは、約−10〜約80℃の間で実施でき
る。また、該反応は常圧の下で行うことが望ましいが、
加圧または減圧下で操作することもできる。製法c)を
実施するにあたっては、例えば、式(IV)の化合物1モ
ルに対し、希釈剤例えばアセトニトリル中、1モル量乃
至1.5モル量の式(V)の存在下で反応させることに
よって目的化合物を得ることができる。
【0035】上記製法d)の実施に際しては、適当な希
釈剤として、すべての不活性な有機溶媒を挙げることが
できる。斯かる希釈剤の例としては、エーテル類例え
ば、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、ジ−i
so−プロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン(DME)、テトラヒドロフラン
(THF)、ジエチレングリコールジメチルエーテル
(DGM);その他、ケトン類例えばアセトン、メチル
エチルケトン(MEK)、メチル−iso−プロピルケ
トン、メチル−iso−ブチルケトン(MIBK);そ
の他、ニトリル類例えば、アセトニトリル、プロピオニ
トリル、アクリロニトリル;その他、アルコール類例え
ば、メタノール、エタノール、iso−プロパノール、
ブタノール、エチレングリコール;その他、エステル類
例えば、酢酸エチル、酢酸アミル;その他、酸アミド類
例えば、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルア
セトアミド(DMA)、N−メチルピロリドン、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ヘキサメチルフォ
スフォリックトリアミド(HMPA);その他、スルホ
ン、スルホキシド類例えば、ジメチルスルホキシド(D
MSO)、スルホラン;その他、および塩基例えば、ピ
リジン等をあげることができる。
【0036】製法d)は、酸結合剤の存在下で行うこと
ができ、斯かる酸結合剤としては、無機塩基としてアル
カリ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩およびアルコラ
ート等例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム
を例示することができる。無機アルカリ金属アミド類、
例えば、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウム
アミド等を挙げる事ができる。有機塩基として第3級ア
ミン類、ジアルキルアミノアニリン類及びピリジン類、
例えば、トリエチルアミン、1,1,4,4−テトラメ
チルエチレンジアミン(TEMDA)、N,N−ジメチ
ルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、ピリジン、4
−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、1,4−ジア
ザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)及び
1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−
エン(DBU)等を挙げることができる。有機リチウム
化合物、例えば、メチルリチウム、n−ブチルリチウ
ム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウ
ム、フェニルリチウム、ジメチルカッパーリチウム、リ
チウムジイソプロピルアミド、リチウムシクロヘキシル
イソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキシルアミ
ド、n−ブチルリチウム+DABCO、n−ブチルリチ
ウム+DBU、n−ブチルリチウム+TMEDA等を挙
げることができる。製法d)は、実質的に広い温度範囲
内において実施することができる。一般には、約−40
〜約100℃、好ましくは、約0〜約50℃の間で実施
できる。また、該反応は常圧の下で行うことが望ましい
が、加圧または減圧下で操作することもできる。製法
d)を実施するにあたっては、例えば、式(Ib)の化
合物1モルに対し、希釈剤例えば、水中で、1モル量乃
至2モル量の水酸化ナトリウムの存在下で反応させるこ
とによって目的化合物を得ることができる。
【0037】本発明の活性化合物は、除草剤として使用
することができる。雑草とは広義には、望ましくない場
所に生育するすべての植物を意味する。本発明化合物
は、使用濃度によって非選択性または選択性除草剤とし
て作用する。本発明の活性化合物は、例えば下記の植物
との間で使用できる。 双子葉雑草の属:カラシ(Sinapis) 、マメグンバイナズ
ナ(Lepidium)、ヤエムグラ・キヌタソウ(Galium)、ハコ
ベ(Stellaria) 、アカザ・アリタソウ(Chenopodium) 、
イラクサ(Urtica)、ハンゴンソウ・ノボロギク・キオン
(Senecio) 、ヒユ・ハゲイトウ(Amaranthus)、スベリヒ
ユ・マツバボタン(Portulaca) 、オナモミ(Xanthium)、
アサガオ(Ipomoea) 、ミチヤナギ(Polygonum) 、ブタク
サ(Ambrosia)、ノアザミ・フジアザミ(Cirsium) 、ノゲ
シ(Sonchus) 、ナス・ジャガイモ(Solanum) 、イヌガラ
シ(Rorippa) 、オドリコソウ(Lamium)、クワガタソウ・
イヌノフグリ(Veronica)、チョウセンアサガオ(Datur
a)、スミレ・パンジー(Viola) 、チシマオドロ(Galeops
is) 、ケシ(Papaver) 、ヤグルマギク(Centaurea) 、ハ
キダメギク(Galinsoga) 、キカシグサ(Rotala)、アゼナ
(Lindernia) 等々。
【0038】双子葉栽培植物の属:ワタ(Gossypium) 、
ダイズ(Glycine) 、フダンソウ・サトウダイコン(Bet
a)、ニンジン(Daucus)、インゲンマメ・アオイマダ(Pha
seolus) 、エンドウ(Pisum) 、ナス・ジャガイモ(Solan
um) 、アマ(Linum) 、サツマイモ・アサガオ(Ipomoe)、
ソラマメ・ナンテンハギ(Vicia) 、タバコ(Nicotian
a)、トマト(Lycopersicon)、ナンキンマメ(Arachis) 、
アブラナ・ハクサイ・カブラ・キャベツ(Brassica)、ア
キノノゲシ(Lactuca) 、キュウリ・メロン(Cucumis) 、
カボチャ(Cucurbita) 等々。
【0039】単子葉雑草の属:ヒエ(Echinochloa) 、エ
ノコロ・アワ(Setaria) 、キビ(Panicum) 、メヒシバ(D
igitaria) 、アワガエリ・チモシー(Phleum)、イチゴツ
ナギ・スズメノカタビラ(Poa) 、ウシノケグサ・トボシ
ガラ(Festuca) 、オヒシバ・シコクビエ(Eleusine)、ド
クムギ(Lolium)、キツネガヤ・イヌムギ(Bromus)、カラ
スムギ・オートムギ(エンバク)(Avena) 、カヤツリグ
サ・パピルス・シチトウイ・ハマスゲ(Cyperus) 、モロ
コシ(Sorghum) 、カモジグサ(Agropyron) 、コナギ(Mon
ochoria)、テンツキ(Fimbristylis)、オモダカ・クワイ
(Sagittaria)、ハリイ・クログワイ(Eleocharis)、ホタ
ルイ・ウキヤグラ・フトイ(Scirpus) 、スズメノヒエ(P
aspalum)、カモノハシ(Ischaemum) 、ヌカボ(Agrosti
s)、スズメノテッポウ(Alopecurus)、ギョウギシバ(Cyn
odon) 等々。 単子葉栽培植物の属:イネ(Oryza) 、トウモロコシ・ポ
ップコーン(Zea) 、コムギ(Triticum)、オオムギ(Horde
um) 、カラスムギ・オートムギ(エンバク)(Avena) 、
ライムギ(Secale)、モロコシ(Sorghum) 、キビ(Panicu
m) 、サトウキビ・ワセオバナ(Saccharum) 、パイナッ
プル(Ananas)、アスパラガス(Asparagus)、ネギ・ニラ
(Allium)等々。
【0040】本発明化合物の使用は、上記の植物に限定
されることはなく、他の植物に対しても同様に適用され
得る。また、使用濃度によって、活性化合物は、雑草を
非選択的に防除でき、例えば、工場等の産業用地、鉄道
軌道、道路そして植林地並びに非植林地等に於いて使用
できる。更に、活性化合物は、多年性植物栽培におい
て、雑草防除に使用でき、例えば、植林、鑑賞用植林、
果樹園、ブドウ園、カンキツ果樹園、ナッツ果樹園、バ
ナナ栽培場、コーヒー栽培場、茶栽培場、ゴム栽培場、
ギネアアブラヤシ栽培場、ココア栽培場、小果樹園及び
ホップ栽培地に適用でき、また一年生植物栽培に於い
て、選択的雑草防除のために、適用できる。
【0041】本発明の活性化合物は通常の製剤形態にす
ることができる。そして斯かる形態としては、液剤、エ
マルジョン、懸濁剤、水和剤、粉剤、泡沫剤、ペース
ト、粒剤、エアゾール、活性化合物浸潤−天然及び合成
物、マイクロカプセル、種子用被覆剤、燃焼装置を備え
た製剤(例えば燃焼装置としては、くん蒸及び煙霧カー
トリッジ、かん並びにコイル)、そしてULV〔コール
ドミスト(coldmist) 、ウォームミスト(warm mist)〕
を挙げることができる。これらの製剤は、公知の方法で
製造することができる。斯かる方法は、例えば、活性化
合物を、展開剤、即ち、液体希釈剤;液化ガス希釈剤;
固体希釈剤又は担体、場合によっては界面活性剤、即
ち、乳化剤及び/又は分散剤及び/又は泡沫形成剤を用
いて、混合することによって行なわれる。
【0042】展開剤として水を用いる場合には、例え
ば、有機溶媒はまた補助溶媒として使用することができ
る。液体希釈剤又は担体としては、概して、芳香族炭化
水素類(例えば、キシレン、トルエン、アルキルナフタ
レン等)、クロル化芳香族又はクロル化脂肪族炭化水素
類(例えば、クロロベンゼン類、塩化エチレン類、塩化
メチレン等)、脂肪族炭化水素類〔例えば、シクロヘキ
サン等、パラフィン類(例えば鉱油留分等)〕、アルコ
ール類(例えば、ブタノール、グリコール及びそれらの
エーテル、エステル等)、ケトン類(例えば、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン又は
シクロヘキサノン等)、強極性溶媒(例えば、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド等)そして水も挙
げることができる。液化ガス希釈剤又は担体は、常温常
圧でガスであり、その例としては、例えば、ブタン、プ
ロパン、窒素ガス、二酸化炭素、そしてハロゲン化炭化
水素類のようなエアゾール噴射剤を挙げることができ
る。
【0043】固体希釈剤としては、土壌天然鉱物(例え
ば、カオリン、クレー、タルク、チョーク、石英、アタ
パルガイド、モンモリロナイト又は珪藻土等)、土壌合
成鉱物(例えば、高分散ケイ酸、アルミナ、ケイ酸塩
等)を挙げることができる。粒剤のための固体担体とし
ては、粉砕且つ分別された岩石(例えば、方解石、大理
石、軽石、海泡石、白雲石等)、無機及び有機物粉の合
成粒、そして有機物質(例えば、おがくず、ココやしの
実のから、とうもろこしの穂軸そしてタバコの茎等)の
細粒体を挙げることができる。
【0044】乳化剤及び/又は泡沫剤としては、非イオ
ン及び陰イオン乳化剤〔例えば、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アルコールエ
ーテル(例えば、アルキルアリールポリグリコールエー
テル、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、アリー
ルスルホン酸塩等)〕、アルブミン加水分解生成物を挙
げることができる。分散剤としては、例えば、リグニン
サルファイト廃液、そしてメチルセルロースを包含す
る。固着剤も、製剤(粉剤、粒剤、乳剤)に使用するこ
とができ、斯かる固着剤としては、カルボキシメチルセ
ルロースそして天然及び合成ポリマー(例えば、アラビ
アゴム、ポリビニルアルコールそしてポリビニルアセテ
ート等)を挙げることができる。着色剤を使用すること
もでき、斯かる着色剤としては、無機顔料(例えば酸化
鉄、酸化チタンそしてプルシアンブルー)、そしてアリ
ザリン染料、アゾ染料又は金属フタロシアニン染料のよ
うな有機染料そして更に、鉄、マンガン、ボロン、銅、
コバルト、モリブデン、亜鉛のそれらの塩のような微量
要素を挙げることができる。
【0045】該製剤は、一般には、前記活性成分を0.
1〜95重量%、好ましくは0.5〜90重量%含有す
ることができる。本発明の活性化合物はそれ自体で、又
はそれらの製剤形態で、雑草防除のために、使用でき、
また公知除草剤との混合剤としても、使用でき、斯かる
混合剤は、最終的製剤形態又はタンクミックスの双方を
可能にしている。混合剤としての可能な組み合わせとし
ては、例えば、下記の公知除草剤を例示できる。
【0046】禾穀類栽培に於ける雑草防除に対して、4
−アミノ−6−(1,1−ジメチルエチル)−3−エチ
ルチオ−1,2,4−トリアジン−5(4H)−オン、
1−アミノ−6−エチルチオ−3−(2,2−ジメチル
プロピル)−1,3,5−トリアジン−2,4(1H,
3H)−ジオン、又はN−(2−ベンゾチアゾリル)−
N,N′−ジメチルウレア等々;さとうきび栽培に於け
る雑草防除に対して、4−アミノ−3−メチル−6−フ
ェニル−1,2,4−トリアジン−5(4H)−オン等
々;大豆栽培に於ける雑草防除に対して、4−アミノ−
6−(1,1−ジメチルエチル)−3−メチルチオ−
1,2,4−トリアジン−5(4H)−オン等々。
【0047】驚くべきことに、本発明化合物のいくつか
の混合剤はまた、相乗効果を現わす。本発明の活性化合
物を使用する場合、そのまま直接使用するか、又は散布
用調製液、乳剤、懸濁剤、粉剤、ペーストそして粒剤の
ような製剤形態で使用するか、又は更に希釈して調製さ
れた使用形態で使用することができる。活性化合物は、
液剤散布(watering)、噴霧(spraying atomising)、散粒
等で使用することができる。本発明活性化合物は、植物
の発芽前及び発芽後のいずれにも、使用することができ
る。またそれらは播種前に、土壊中に取り込まれること
もできる。活性化合物の濃度は、実質範囲内でかえるこ
とができる。それは、望むべき効果の性質によって、基
本的に異なる。除草剤として使用する場合、使用濃度と
しては、例えば、1ヘクタール当り、活性化合物とし
て、約0.01〜約10kg、好ましくは約0.05〜約
5kgを例示できる。次に本発明化合物の製造及び用途を
下記の実施例により、具体的に示すが、本発明はこれの
みに限定されるべきものではない。
【0048】
【実施例】
製造実施例:− 実施例1
【化18】 ジイソプロピルアミン(20.2g)を窒素ガス気流下
で、無水テトラヒドロフラン(200ml)に入れ、これ
にn−ブチルリチウム(1.6モル)のヘキサン溶液
(125ml)を、−78℃〜−60℃で滴下する。10
分間攪拌後、2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジ
ニルチオ)−酢酸メチル(25g)を無水テトラヒドロ
フラン(200ml)に溶かした溶液を、反応液に温度を
保ちながら滴下する。滴下終了後、30分間攪拌した
後、ギ酸メチル(8.7g)を、−78℃〜−60℃で
滴下する。徐々に室温まで上げ、更に10時間攪拌す
る。溶媒を減圧下に留去し、水(500ml)を加え、酢
酸エチルで数回洗浄する。水層を2N塩酸で、酸性とし
た後、酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すると、目的の3
−ヒドロキシ−2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミ
ジニルチオ)−アクリル酸メチル(14.2g)を得
る。mp.68〜72℃
【0049】実施例2
【化19】 カリウムtert−ブトキサイド(4.8g)と無水テ
トラヒドロフラン(100ml)の混合物に、室温で2−
(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニルチオ)−酢酸
エチル(10g)、ギ酸メチル(4.5g)、及び無水
テトラヒドロフラン(100ml)から成る混合物を室温
で滴下する。滴下終了後30分間加熱還流する。室温ま
で放冷した後、減圧下に溶媒を留去し、水(200ml)
を加え、酢酸エチルで数回洗浄する。水層を2N塩酸で
酸性とした後、酢酸エチルで抽出する。有機層を無水硫
酸ナトリウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去すると、
目的の3−ヒドロキシ−2−(4,6−ジメトキシ−2
−ピリミジニルチオ)−アクリル酸エチル(6.5g)
を得る。nD 201.5420
【0050】実施例3
【化20】 3−ヒドロキシ−2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリ
ミジニルチオ)−4−アクリル酸メチル(3g)、無水
炭酸カリウム(6.1g)、及び無水ジメチルホルムア
ミド(50ml)から成る混合物に、0℃で硫酸ジメチル
(2.8g)を滴下する。滴下終了後、徐々に室温まで
上げ、更に48時間攪拌する。水(200ml)を加え、
酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減
圧下に溶媒を留去する。得られた粗生成物をカラムクロ
マトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル)で精
製し、3−メトキシ−2−(4,6−ジメトキシ−2−
ピリミジニルチオ)アクリル酸メチル(2.9g)を得
る。mp.117.5〜119.5℃
【0051】実施例4
【化21】 4,6−ジメトキシ−2−メルカプトピリミジン(5.
2g)、2−クロロアセト酢酸エチル(5.2g)、及
び炭酸カリウム(5g)のアセトニトリル溶液を室温下
で15時間攪拌した。不溶物を濾去後、アセトニトリル
を減圧下に留去し、残渣をヘキサンにより抽出した。ヘ
キサン抽出物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル/ヘキサン)により精製して2−(4,6
−ジメトキシ−2−ピリミジニルチオ)アセト酢酸エチ
ル(5.1g)を得た。nD 201.5378
【0052】実施例5
【化22】 2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニルチオ)ア
セト酢酸エチル(2.8g)、tert−ブトキサイド
(1.2g)のDMF溶液に、氷冷下でジメチル硫酸
(2.8g)を加えた。反応液を室温下で15時間攪拌
した後、水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗乾
燥する。酢酸エチルを減圧下に留去して得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、3
−メトキシ−2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジ
ニルチオ)クロトン酸エチル(1.9g)を得た。m
p.101〜103.5℃
【0053】実施例1,2,3,4及び5と同様の方法
により、得られる式(I)化合物の代表例を、実施例1
〜5の化合物と共に第2表に示す。第2表は、式(I)
に基づく。
【0054】
【表11】
【0055】
【表12】
【0056】
【表13】
【0057】実施例6
【化23】 4,6−ジメトキシ−2−メチルスルホニルピリミジン
(50.0g)のアセトニトリル(400ml)溶液に攪
拌下、約70%の純度の水硫化ナトリウム・nH2
(35.0g)のメタノール溶液(250ml)を室温で
加える。室温で3時間攪拌し、溶媒を減圧下に留去し
て、残渣に水を加え、不溶物を濾去した後、濃塩酸で酸
性にすると、目的化合物が析出する。濾取後、水洗し、
乾燥すると、目的の4,6−ジメトキシ−2−メルカプ
トピリミジン(37.5g)を得る。このものは、純度
98%であり、収率95%である。mp.>300℃
【0058】参考例1 4,6−ジメトキシ−2−メル
カプトピリミジンの製法 2−クロロ−4,6−ジメトキシピリミジン(2.0
g)と、水硫化ナトリウム(2.30g)とを、メタノ
ール(40ml)に溶解し、12時間加熱還流する。冷却
後、溶媒を減圧下に留去し、水を加え、エーテルで抽出
する。エーテル抽出層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧下に留去し、2−クロロ−4,6−ジメ
トキシピリミジン(1.30g,mp.101〜102
℃)を得る。次いで、水層を濃塩酸にて、酸性(pH
2)にし、析出物を濾取し、乾燥し、目的の4,6−ジ
メトキシ−2−メルカプトピリミジン(0.48g)を
得る。収率24%
【0059】参考例2 4,6−ジメトキシ−2−メル
カプトピリミジンの製法 2−クロロ−4,6−ジメトキシピリミジン(2.0
g)と水硫化ナトリウム(2.3g)とをメタノールに
溶解し、室温下、3時間攪拌する。溶媒を減圧下に留去
後、水を加え、エーテル抽出し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を減圧下に留去し、2−クロロ−4,
6−ジメトキシピリミジン(1.95g,mp.101
〜102℃)を得る。水層を濃塩酸にて、酸性(pH
2)にし、析出物を濾取し、乾燥し、目的の4,6−ジ
メトキシ−2−メルカプトピリミジン(0.01g)を
得る。収率0.5%
【0060】実施例7
【化24】 4,6−ジメトキシ−2−メルカプトピリミジン(1
0.0g)、クロロアセトニトリル(4.4g)のアセ
トニトリル(100ml)の溶液に炭酸カリウム(10.
0g)を加え、2時間加熱還流する。放冷後、不溶物を
濾去し、アセトニトリルを減圧下に留去する。残渣をト
ルエンに溶解し、不溶物を濾去し、トルエンを減圧下に
留去する。残渣をエーテル−ヘキサン混合液で結晶化
し、目的の2−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニ
ルチオ)アセトニトリル(11.3g)を得る。mp.
102.5〜103.5℃
【0061】中間体合成例1
【化25】 1−(1):ブロモ酢酸エチル(167g)、4,6−
ジメトキシ−2−メルカプトピリミジン(172g)、
無水炭酸カリウム(152g)及びアセトニトリル(1
リットル)より成る混合物を5時間加熱還流する。冷却
後、溶媒を減圧下に留去し、水(1リットル)を加え、
酢酸エチルで3回抽出する。無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた後、減圧下に溶媒を留去し、得られた粗生成物を
ジイソプロピルエーテルから再結晶させると、目的の2
−(4,6−ジメトキシ−2−ピリミジニルチオ)酢酸
エチル(245g)を得る。mp.59〜61℃
【0062】1−(2):チオグリコール酸のエチルエ
ステル(120g)、4,6−ジメトキシ−2−メチル
スルホニルピリジン(214g)、無水炭酸カリウム
(166g)及びアセトニトリル(1リットル)より成
る混合物を5時間加熱還流する。冷却後、溶媒を減圧下
に留去し、水(1リットル)を加え、酢酸エチルで3回
抽出する。無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧下
に溶媒を留去し、得られた粗生成物をジイソプロピルエ
ーテルから再結晶させると、目的の2−(4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニルチオ)酢酸エチル(232
g)を得る。
【0063】1−(3):2−(4,6−ジメトキシ−
2−ピリミジニルチオ)アセトニトリル(1.1g)の
エタノール(15ml)溶液に氷冷下で塩酸飽和エタノー
ル(10ml)を加える。室温で一夜放置後、水(0.1
g)を加え、3時間攪拌する。エタノールを減圧留去
し、トルエンを加え、水洗する。トルエン層を乾燥後、
減圧下に溶媒を留去すると、目的の2−(4,6−ジメ
トキシ−2−ピリミジニルチオ)酢酸エチル(1.1
g)を得る。
【0064】生物試験例:下記に除草効力試験を例示す
る。 試験例1 畑地雑草に対する発芽前土壌処理試験 活性化合物の調製 担体:アセトン5重量部 乳化剤:ベンジルオキシポリグリコールエーテル1重量
部 活性化合物の調合剤は1重量部の活性化合物と、上述の
分量の担体および乳化剤とを混合し、乳剤として得られ
る。その調合剤の所定薬量を水で希釈して調製する。
【0065】試験方法 温室内において、畑土壌をつめた120cm2 ポットの表
層に、ヒエ、エノコログサ、アオビユ、ソバカズラの各
種子を播種覆土し、上記調製の所定薬量を各試験ポット
の土壌表層に均一に散布した。散布4週間後に除草効果
の程度を調査した。評価は無処理区に対する除草率10
0%を完全枯死とし、%表示で示す。
【0066】試験例2 畑地雑草に対する発芽後茎葉処理試験 温室内において、畑土壌をつめた120cm2 ポットに、
ヒエ、エノコログサ、アオビユ、ソバカズラの各種子を
播種覆土し、10日間育成した。その後、試験例1と同
様に調製した所定薬量を各試験ポットの供試植物の茎葉
部に均一に散布した。散布3週間後に、除草効果の程度
を調査した。試験例1及び同2の結果を第3表に示す。
【0067】
【表14】 雑草 A:ヒエ B:エノコログサ C:アオビユ D:ソバカズラ
【0068】比較C−1:
【化26】 除草評価5:無処理区に対し95%以上(枯死) 4: 〃 80%以上95%未満 3: 〃 50%以上80%未満 2: 〃 30%以上50%未満 1: 〃 10%以上30%未満 0: 〃 10%未満(効果なし)
【0069】
【発明の効果】本発明は実施例で示される通り、新規な
化合物を提供し、そして、そのうち該式(I)の化合物
は、卓越した除草作用を示す。また、式(I)の化合物
の出発物質の製法として、有利な方法をも、本発明は、
提供する。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式: 【化1】 式中、R1 は、水素原子、任意に置換されていてもよい
    1-6 アルキル基、任意に置換されていてもよいC2-4
    アルケニル基、又はC2-4 アルキニル基を示し、 R2 は、水素原子、任意に置換されていてもよいC1-6
    アルキル基を示し、 R3 及びR4 は、夫々独立して、C1-4 アルキル基、C
    1-4 アルコキシ基、ハロゲノ−C1-4 アルキル基、ハロ
    ゲノ−C1-4 アルコキシ基又はハロゲン原子を示し、そ
    して、 R5 は、水素原子、任意に置換されていてもよいC1-6
    アルキル基、任意に置換されていてもよいフェニル基、
    2-4 アルケニル基、C2-4 アルキニル基又は任意に置
    換されていてもよいヘテロ環式基を示す、で表わされる
    ピリミジニルチオアクリル酸誘導体並びに該誘導体のア
    ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及び有機アンモニウ
    ム塩。
  2. 【請求項2】 R1 が水素原子を示すか又は、ハロゲン
    原子、C1-4 アルコキシ基、C1-4 アルキルチオ基、ア
    シル基、任意に置換されていてもよいフェニル基、及び
    窒素原子、硫黄原子及び酸素原子から選ばれるヘテロ原
    子を1〜2有する任意に置換されていてもよい5員又は
    6員のヘテロ環式基より成る群から選ばれる任意の置換
    基を有してもよいC1-6 アルキル基、ハロゲン原子によ
    り置換されていてもよいC2-4 アルケニル基、ハロゲン
    原子により置換されていてもよいC2-4 アルキニル基を
    示し、 R2 が、水素原子、C1-4 アルキル基、C1-2 アルコキ
    シ−C1-2 アルキル基、ベンジル基、又はアルカリ付加
    塩を示し、 R3 及びR4 は、夫々独立して、メチル、エチル、メト
    キシ、エトキシ、ハロゲノ−C1-2 アルキル基、ハロゲ
    ノ−C1-2 アルコキシ又はクロルを示し、 R5 が水素原子を示すか又は、ハロゲン原子、C1-4
    ルコキシ基、C1-4 アルキルチオ基、アシル基及び任意
    に置換されていてもよいフェニル基よりなる群から選ば
    れる任意の置換基を有してもよいC1-6 アルキル基、ハ
    ロゲン原子、C1-4 アルキル基及びC1-2 アルコキシ基
    から選ばれる任意の置換基を有してもよいフェニル基、
    3 アルケニル基、C3 アルキニル基又は窒素原子、硫
    黄原子及び酸素原子から選ばれるヘテロ原子を1〜2有
    する任意に置換されていてもよい5員又は6員のヘテロ
    環式基を示すところの請求項1の化合物。
  3. 【請求項3】 R1 が水素原子を示すか、フルオル、ク
    ロル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、エチルチオ、
    アセチル及びハロゲン、C1-4 アルキル基又はC1-2
    ルコキシ置換されていてもよいフェニル基、ピリジル
    基、チエニル基並びにチアゾリル基より成る群から選ば
    れる任意の置換基を有してもよいC1-4アルキル基、ク
    ロル置換されていてもよいC2-3 アルケニル基、クロル
    置換されていてもよいC3 アルキニル基を示し、 R2 が水素原子、メチル又はエチルを示し、 R3 及びR4 が夫々メトキシを示し、そしてR5 が水素
    原子を示すか又は、フルオル、クロル、メトキシ、エト
    キシ、メチルチオ、エチルチオから選ばれる任意の置換
    基を有してもよいC1-4 アルキル基、フルオル、クロ
    ル、メチル及びメトキシから選ばれる任意の置換基を有
    してもよいフェニル基、アリル基、プロパルギル基、ピ
    リジル基、チエニル基又はフリル基を示すところの請求
    項1の化合物。
  4. 【請求項4】 請求項1のピリミジニルチオアクリル酸
    誘導体を有効成分として含有する除草剤。
  5. 【請求項5】 式: 【化2】 式中、R3 及びR4 は、夫々独立して、C1-4 アルキル
    基、C1-4 アルコキシ基、ハロゲノ−C1-4 アルキル
    基、ハロゲノ−C1-4 アルコキシ基又はハロゲン原子を
    示す、で表わされるピリミジニルチオアセトニトリル
    類。
  6. 【請求項6】 式: 【化3】 式中、R3 及びR4 は、夫々独立して、C1-4 アルキル
    基、C1-4 アルコキシ基、ハロゲノ−C1-4 アルキル
    基、ハロゲノ−C1-4 アルコキシ基又はハロゲン原子を
    示す、で表わされる2−メルカプトピリミジン類を製造
    するに、式: 【化4】 式中、R3 及びR4 は前記と同じ、 で表わされる2−メタンスルホニルピリミジン類と、チ
    オール化剤とを反応させることを特徴とする、2−メル
    カプトピリミジン類の製造方法。
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