JPH0636890A - プラズマ溶射トーチ - Google Patents
プラズマ溶射トーチInfo
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- JPH0636890A JPH0636890A JP4210906A JP21090692A JPH0636890A JP H0636890 A JPH0636890 A JP H0636890A JP 4210906 A JP4210906 A JP 4210906A JP 21090692 A JP21090692 A JP 21090692A JP H0636890 A JPH0636890 A JP H0636890A
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- Japan
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- plasma
- cathode
- tip
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- plasma generation
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶射粉体のプラズマジェットへの軸心供給及
びプラズマの安定性を損なうことなく、陰極への溶射粉
体の付着や陰極の溶損を防止する。 【構成】 先端にプラズマジェット噴口３を有するプラ
ズマ発生チャンバー２が設けられるとともに基部に絶縁
体４が接合されかつプラズマ発生チャンバー２に通ずる
作動ガス供給路５が設けられた陽極１と、絶縁体４の中
心部に貫設され先端がプラズマ発生チャンバー２内にあ
りかつ中心部に作動ガス及び溶射粉体供給路８が設けら
れた陰極９とを具えたプラズマ溶射トーチにおいて、陰
極９が冷却水通路１０を設けた銅製陰極９とその先端の
ＨｆＣ又はＺｒＣ１２とから構成され、かつプラズマ発
生チャンバー２内の陰極内面にＴｉＣコーティング膜１
３が形成されている。
びプラズマの安定性を損なうことなく、陰極への溶射粉
体の付着や陰極の溶損を防止する。 【構成】 先端にプラズマジェット噴口３を有するプラ
ズマ発生チャンバー２が設けられるとともに基部に絶縁
体４が接合されかつプラズマ発生チャンバー２に通ずる
作動ガス供給路５が設けられた陽極１と、絶縁体４の中
心部に貫設され先端がプラズマ発生チャンバー２内にあ
りかつ中心部に作動ガス及び溶射粉体供給路８が設けら
れた陰極９とを具えたプラズマ溶射トーチにおいて、陰
極９が冷却水通路１０を設けた銅製陰極９とその先端の
ＨｆＣ又はＺｒＣ１２とから構成され、かつプラズマ発
生チャンバー２内の陰極内面にＴｉＣコーティング膜１
３が形成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプラズマ溶射トーチに関
する。
する。
【０００２】
【従来の技術】陽極と陰極との間に電流を流して発生さ
せたプラズマをジェットとして噴出させるとともに同ジ
ェットの軸線に溶射粉体を供給して被加工物表面に溶射
皮膜を形成するプラズマ溶射トーチの縦断面図を図３に
示す。図３において、銅製の陽極１の軸線上にはプラズ
マ発生チャンバー２が設けられ、その先端にプラズマジ
ェット噴口３が開口されており、この陽極１の基部側に
は絶縁体４が固着されている。また陽極１には先端がプ
ラズマ発生チャンバー２内に通ずるように作動ガス供給
路５が設けられ、なお陽極１には冷却水通路６が設けら
れて、その冷却水入口部が陽極電流導入部７に形成され
ている。更に絶縁体４の中心部に、作動ガス及び溶射粉
体供給路８を備えたタングステン製の陰極９が貫設され
て、その先端がプラズマ発生チャンバー２内に挿入され
ており、なお陰極９には冷却水通路１０が設けられ、そ
の冷却水入口部が陰極電流導入部１１に形成されてい
る。
せたプラズマをジェットとして噴出させるとともに同ジ
ェットの軸線に溶射粉体を供給して被加工物表面に溶射
皮膜を形成するプラズマ溶射トーチの縦断面図を図３に
示す。図３において、銅製の陽極１の軸線上にはプラズ
マ発生チャンバー２が設けられ、その先端にプラズマジ
ェット噴口３が開口されており、この陽極１の基部側に
は絶縁体４が固着されている。また陽極１には先端がプ
ラズマ発生チャンバー２内に通ずるように作動ガス供給
路５が設けられ、なお陽極１には冷却水通路６が設けら
れて、その冷却水入口部が陽極電流導入部７に形成され
ている。更に絶縁体４の中心部に、作動ガス及び溶射粉
体供給路８を備えたタングステン製の陰極９が貫設され
て、その先端がプラズマ発生チャンバー２内に挿入され
ており、なお陰極９には冷却水通路１０が設けられ、そ
の冷却水入口部が陰極電流導入部１１に形成されてい
る。
【０００３】このようなプラズマ溶射トーチによりプラ
ズマ溶射を行うにあたっては、まず陽極１及び陰極９を
冷却するために冷却水通路６，１０に冷却水を流すとと
もに、作動ガス供給路５からプラズマ発生チャンバー２
へＡｒ，Ｈｅ，Ｎ2 ，Ｈ2 ガス又はこれらの混合ガス等
の作動ガスを流す。次に直流電源より陽極１に正、陰極
９に負の印加電圧を加え、続いて高周波電源より陽極１
と陰極９との間に高周波電圧を印加して両電極１，９間
に火花放電を発生させる。この火花放電により、先に印
加されている直流電源からの印加電圧によって陽極１と
陰極９との間にアーク１４が点孤して作動ガスをプラズ
マ化し、プラズマ発生チャンバー２には高温のプラズマ
が充満し、プラズマジェット噴口３から高温高速のプラ
ズマジェットとして噴出する。このプラズマジェットに
作動ガス及び溶射粉体供給路８を経てプラズマジェット
軸心に溶射粉体を供給するので、供給された溶射粉体の
粒子が効率良く加熱，加速されて溶射皮膜を形成する。
ズマ溶射を行うにあたっては、まず陽極１及び陰極９を
冷却するために冷却水通路６，１０に冷却水を流すとと
もに、作動ガス供給路５からプラズマ発生チャンバー２
へＡｒ，Ｈｅ，Ｎ2 ，Ｈ2 ガス又はこれらの混合ガス等
の作動ガスを流す。次に直流電源より陽極１に正、陰極
９に負の印加電圧を加え、続いて高周波電源より陽極１
と陰極９との間に高周波電圧を印加して両電極１，９間
に火花放電を発生させる。この火花放電により、先に印
加されている直流電源からの印加電圧によって陽極１と
陰極９との間にアーク１４が点孤して作動ガスをプラズ
マ化し、プラズマ発生チャンバー２には高温のプラズマ
が充満し、プラズマジェット噴口３から高温高速のプラ
ズマジェットとして噴出する。このプラズマジェットに
作動ガス及び溶射粉体供給路８を経てプラズマジェット
軸心に溶射粉体を供給するので、供給された溶射粉体の
粒子が効率良く加熱，加速されて溶射皮膜を形成する。
【０００４】しかしながら、このようなプラズマ溶射ト
ーチにおいては、アーク１４が陽極１と陰極９との間隙
の小さく両電極１，９の形状が鋭い箇所、つまり陰極９
では作動ガス及び溶射粉体供給路８の先端で形成され、
その周辺を動き廻る。アーク形成点はプラズマ中で最も
温度が高く、周辺のプラズマジェットの流れを乱すの
で、陰極９の先端が時間とともに溶損したり、作動ガス
及び溶射粉体供給路８を経てプラズマジェット中に送り
込まれた溶射粉体が陰極９先端に付着又は陰極９と固溶
反応を起こしたりすることになり、プラズマが不安定と
なる。また陰極９と溶射粉体との固溶反応は陰極９の融
点を低下させてその溶損を促進し陰極寿命が低下する。
ーチにおいては、アーク１４が陽極１と陰極９との間隙
の小さく両電極１，９の形状が鋭い箇所、つまり陰極９
では作動ガス及び溶射粉体供給路８の先端で形成され、
その周辺を動き廻る。アーク形成点はプラズマ中で最も
温度が高く、周辺のプラズマジェットの流れを乱すの
で、陰極９の先端が時間とともに溶損したり、作動ガス
及び溶射粉体供給路８を経てプラズマジェット中に送り
込まれた溶射粉体が陰極９先端に付着又は陰極９と固溶
反応を起こしたりすることになり、プラズマが不安定と
なる。また陰極９と溶射粉体との固溶反応は陰極９の融
点を低下させてその溶損を促進し陰極寿命が低下する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情に鑑みて提案されたもので、溶射粉体のプラズマジ
ェットへの軸心供給及びプラズマの安定性を損なうこと
なく、陰極への溶射粉体の付着や陰極の溶損が防止でき
るプラズマ溶射トーチを提供することを目的とする。
事情に鑑みて提案されたもので、溶射粉体のプラズマジ
ェットへの軸心供給及びプラズマの安定性を損なうこと
なく、陰極への溶射粉体の付着や陰極の溶損が防止でき
るプラズマ溶射トーチを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そのために本発明は、先
端にプラズマジェット噴口を有するプラズマ発生チャン
バーが設けられるとともに基部に絶縁体が接合されかつ
上記プラズマ発生チャンバーに通ずる作動ガス供給路が
設けられた陽極と、上記絶縁体の中心部に貫設され先端
が上記プラズマ発生チャンバー内にありかつ中心部に作
動ガス及び溶射粉体供給路が設けられた陰極とを具えた
プラズマ溶射トーチにおいて、上記陰極が冷却水通路を
設けた銅製陰極とその先端のＨｆＣ又はＺｒＣとから構
成され、かつプラズマ発生チャンバー内の陰極内面にＴ
ｉＣコーティング膜が形成されたことと、先端にプラズ
マジェット噴口を有するプラズマ発生チャンバーが設け
られるとともに基部に絶縁体が接合されかつ上記プラズ
マ発生チャンバーに通ずる作動ガス供給路が設けられた
陽極と、上記絶縁体の中心部に貫設され先端が上記プラ
ズマ発生チャンバー内にありかつ中心部に作動ガス及び
溶射粉体供給路が設けられた陰極とを具えたプラズマ溶
射トーチにおいて、上記陰極の先端より後方外周に陽極
との間隙がプラズマ発生チャンバー内で最も小さくなる
ように環状にＨｆＣ又はＺｒＣを接合したこととを、そ
れぞれ特徴とする。
端にプラズマジェット噴口を有するプラズマ発生チャン
バーが設けられるとともに基部に絶縁体が接合されかつ
上記プラズマ発生チャンバーに通ずる作動ガス供給路が
設けられた陽極と、上記絶縁体の中心部に貫設され先端
が上記プラズマ発生チャンバー内にありかつ中心部に作
動ガス及び溶射粉体供給路が設けられた陰極とを具えた
プラズマ溶射トーチにおいて、上記陰極が冷却水通路を
設けた銅製陰極とその先端のＨｆＣ又はＺｒＣとから構
成され、かつプラズマ発生チャンバー内の陰極内面にＴ
ｉＣコーティング膜が形成されたことと、先端にプラズ
マジェット噴口を有するプラズマ発生チャンバーが設け
られるとともに基部に絶縁体が接合されかつ上記プラズ
マ発生チャンバーに通ずる作動ガス供給路が設けられた
陽極と、上記絶縁体の中心部に貫設され先端が上記プラ
ズマ発生チャンバー内にありかつ中心部に作動ガス及び
溶射粉体供給路が設けられた陰極とを具えたプラズマ溶
射トーチにおいて、上記陰極の先端より後方外周に陽極
との間隙がプラズマ発生チャンバー内で最も小さくなる
ように環状にＨｆＣ又はＺｒＣを接合したこととを、そ
れぞれ特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明プラズマ溶射トーチにおいては、陰極の
先端がＨｆＣ又はＺｒＣで構成され、又は陰極先端の後
方外周に陽極との間隙がプラズマ発生チャンバー内で最
も小さくなるように環状にＨｆＣ又はＺｒＣが接合され
ているので、アークは陽極と陰極先端に取付けられ又は
外側に接合されたＨｆＣ又はＺｒＣ間で安定して形成さ
れ、陰極の溶射粉体供給路先端の温度が低下する。これ
によって、陰極の溶射粉体供給路近傍の溶損及び溶射粉
体の付着が防止でき、ひいては陰極の寿命が向上する。
更に溶射粉体と接する陰極内面にＴｉＣコーティング膜
が設けられることによって、溶射粉体との固溶反応が防
止され、陰極の寿命が一層向上する。
先端がＨｆＣ又はＺｒＣで構成され、又は陰極先端の後
方外周に陽極との間隙がプラズマ発生チャンバー内で最
も小さくなるように環状にＨｆＣ又はＺｒＣが接合され
ているので、アークは陽極と陰極先端に取付けられ又は
外側に接合されたＨｆＣ又はＺｒＣ間で安定して形成さ
れ、陰極の溶射粉体供給路先端の温度が低下する。これ
によって、陰極の溶射粉体供給路近傍の溶損及び溶射粉
体の付着が防止でき、ひいては陰極の寿命が向上する。
更に溶射粉体と接する陰極内面にＴｉＣコーティング膜
が設けられることによって、溶射粉体との固溶反応が防
止され、陰極の寿命が一層向上する。
【０００８】
【実施例】本発明のプラズマ溶射トーチの実施例を図面
について説明すると、図１は第１番目の発明の実施例の
縦断面図、図２は第２番目の発明の実施例の縦断面図で
ある。まず図１において、銅製の陽極１の軸線上にはプ
ラズマ発生チャンバー２が設けられ、その先端にプラズ
マジェット噴口３が開口されており、この陽極１の基部
側には絶縁体４が固着されている。また陽極１には先端
がプラズマ発生チャンバー２内に通ずるように作動ガス
供給路５が設けられ、なお陽極１には冷却水通路６が設
けられて、その冷却水入口部が陽極電流導入部７に形成
されている。更に絶縁体４の中心部に、先端にＨｆＣ，
ＺｒＣ１２を接合し、かつ冷却水通路１０を設けた銅製
の陰極９が貫設されて、その先端がプラズマ発生チャン
バー２内にあるとともに、この陰極９の中心部に作動ガ
ス及び溶射粉体供給路８が設けられている。また陰極９
の内面にはＴｉＣコーティング膜１３が設けられてい
る。
について説明すると、図１は第１番目の発明の実施例の
縦断面図、図２は第２番目の発明の実施例の縦断面図で
ある。まず図１において、銅製の陽極１の軸線上にはプ
ラズマ発生チャンバー２が設けられ、その先端にプラズ
マジェット噴口３が開口されており、この陽極１の基部
側には絶縁体４が固着されている。また陽極１には先端
がプラズマ発生チャンバー２内に通ずるように作動ガス
供給路５が設けられ、なお陽極１には冷却水通路６が設
けられて、その冷却水入口部が陽極電流導入部７に形成
されている。更に絶縁体４の中心部に、先端にＨｆＣ，
ＺｒＣ１２を接合し、かつ冷却水通路１０を設けた銅製
の陰極９が貫設されて、その先端がプラズマ発生チャン
バー２内にあるとともに、この陰極９の中心部に作動ガ
ス及び溶射粉体供給路８が設けられている。また陰極９
の内面にはＴｉＣコーティング膜１３が設けられてい
る。
【０００９】このようなプラズマ溶射トーチにおいて、
プラズマ溶射を行うにあたり、まず陽極１及び陰極９を
冷却するために冷却水通路６，１０に冷却水を流すとと
もに、作動ガス供給路５からプラズマ発生チャンバー２
へ例えば作動ガスとして２５l/min流量のＡｒガスを流
す。次に直流電源より陽極１に正、陰極９に負の印加電
圧を加え、続いて高周波電源より陽極１と陰極９との間
に高周波電圧を印加して両電極１，９間に火花放電を発
生させる。この火花放電により、先に印加されている直
流電源からの印加電圧によって陽極１と陰極９との間に
アーク１４を点弧して作動ガスがプラズマ化し、プラズ
マ発生チャンバー２には高温のプラズマが充満し、プラ
ズマジェット噴口３から高温高速のプラズマジェットと
して噴出する。このとき電流を徐々に増して７００Ａと
し、次に作動ガス供給路５からＡｒガスと同じようにＨ
2 ガス1.5 l/min を流すと、電流，電圧は７００Ａ，３
８Ｖとなりプラズマジェットが安定する。
プラズマ溶射を行うにあたり、まず陽極１及び陰極９を
冷却するために冷却水通路６，１０に冷却水を流すとと
もに、作動ガス供給路５からプラズマ発生チャンバー２
へ例えば作動ガスとして２５l/min流量のＡｒガスを流
す。次に直流電源より陽極１に正、陰極９に負の印加電
圧を加え、続いて高周波電源より陽極１と陰極９との間
に高周波電圧を印加して両電極１，９間に火花放電を発
生させる。この火花放電により、先に印加されている直
流電源からの印加電圧によって陽極１と陰極９との間に
アーク１４を点弧して作動ガスがプラズマ化し、プラズ
マ発生チャンバー２には高温のプラズマが充満し、プラ
ズマジェット噴口３から高温高速のプラズマジェットと
して噴出する。このとき電流を徐々に増して７００Ａと
し、次に作動ガス供給路５からＡｒガスと同じようにＨ
2 ガス1.5 l/min を流すと、電流，電圧は７００Ａ，３
８Ｖとなりプラズマジェットが安定する。
【００１０】プラズマジェットが安定した後、作動ガス
及び溶射粉体供給路８からプラズマ発生チャンバー２
へ、例えば溶射粉体の粒度１０〜４０μｍのＮｉＣｒ粉
体をＡｒガス５ l/minをキャリアガスとして１０g/min
で供給する。プラズマに供給された溶射粉体の粒子は急
速に昇温，加速されて高温高速のプラズマジェットと一
緒に噴出する。このときプラズマに供給される溶射粉体
はプラズマジェットの噴出方向と同一方向に供給される
ため、粒子の加熱，加速が均一となり、十分な緻密度，
強度を有する高品質の溶射皮膜が形成される。更に溶射
粉体はプラズマの中心部に供給されるので溶射粉体の加
熱効率があがり、溶射粉体の密着効率が向上する。また
このとき、アーク１４は陽極１と陰極９の先端に接合さ
れたＨｆＣ，ＺｒＣ１２との間に安定して形成され、陰
極９の先端のＨｆＣ，ＺｒＣ１２が陰極９に設けられた
冷却水通路１０を介して冷却されることにより、陰極９
の作動ガス及び溶射粉体供給路８先端の温度が低下す
る。更に陰極９の内面がＴｉＣコーティング膜１３で保
護されているため、陰極９と溶射粉体との固溶反応が防
止できる。つまり陰極９の溶損が防止できるために陰極
９の寿命が向上する。
及び溶射粉体供給路８からプラズマ発生チャンバー２
へ、例えば溶射粉体の粒度１０〜４０μｍのＮｉＣｒ粉
体をＡｒガス５ l/minをキャリアガスとして１０g/min
で供給する。プラズマに供給された溶射粉体の粒子は急
速に昇温，加速されて高温高速のプラズマジェットと一
緒に噴出する。このときプラズマに供給される溶射粉体
はプラズマジェットの噴出方向と同一方向に供給される
ため、粒子の加熱，加速が均一となり、十分な緻密度，
強度を有する高品質の溶射皮膜が形成される。更に溶射
粉体はプラズマの中心部に供給されるので溶射粉体の加
熱効率があがり、溶射粉体の密着効率が向上する。また
このとき、アーク１４は陽極１と陰極９の先端に接合さ
れたＨｆＣ，ＺｒＣ１２との間に安定して形成され、陰
極９の先端のＨｆＣ，ＺｒＣ１２が陰極９に設けられた
冷却水通路１０を介して冷却されることにより、陰極９
の作動ガス及び溶射粉体供給路８先端の温度が低下す
る。更に陰極９の内面がＴｉＣコーティング膜１３で保
護されているため、陰極９と溶射粉体との固溶反応が防
止できる。つまり陰極９の溶損が防止できるために陰極
９の寿命が向上する。
【００１１】次に図２において、符号１〜１１は図１と
それぞれ同一部材を示している。但し陰極９はタングス
テン製である。しかして陰極９には、その先端より後方
外周に、陽極１との間隙がプラズマ発生チャンバー２内
で最も小さくなるように環状にＨｆＣ又はＺｒＣ１２′
が接合されている。このようなプラズマ溶射トーチにお
けるプラズマ溶射作業は、図１と同様にして行われ、十
分な緻密度，強度及び密着性を有する高品質の溶射皮膜
が形成される。更にこのときアーク１４は陰極９の先端
より後方外周に環状に取付けられたＨｆＣ又はＺｒＣ１
２′との間に安定して形成され、陰極９の作動ガス及び
溶射粉体供給路８先端の温度が低下するとともに、同供
給路８の先端周辺のプラズマジェットの流れが安定し、
これによって同供給路８先端の溶損及び陰極９への溶射
粉体の付着が防止できる。
それぞれ同一部材を示している。但し陰極９はタングス
テン製である。しかして陰極９には、その先端より後方
外周に、陽極１との間隙がプラズマ発生チャンバー２内
で最も小さくなるように環状にＨｆＣ又はＺｒＣ１２′
が接合されている。このようなプラズマ溶射トーチにお
けるプラズマ溶射作業は、図１と同様にして行われ、十
分な緻密度，強度及び密着性を有する高品質の溶射皮膜
が形成される。更にこのときアーク１４は陰極９の先端
より後方外周に環状に取付けられたＨｆＣ又はＺｒＣ１
２′との間に安定して形成され、陰極９の作動ガス及び
溶射粉体供給路８先端の温度が低下するとともに、同供
給路８の先端周辺のプラズマジェットの流れが安定し、
これによって同供給路８先端の溶損及び陰極９への溶射
粉体の付着が防止できる。
【００１２】かくして本発明プラズマ溶射トーチにおい
ては、陰極９の先端にＨｆＣ，ＺｒＣ１２を取付け又は
陰極９の先端より後方外周にＨｆＣ，ＺｒＣ１２′を接
合したことにより、アーク１４が陽極１と高融点で熱電
子放出しやすいＨｆＣ，ＺｒＣ１２，１２′との間に安
定して形成され、また陰極９先端又は後方外周のＨｆ
Ｃ，ＺｒＣ１２，１２′が陰極９に設けられた冷却水通
路１０を介して冷却されて、陰極９先端の作動ガス及び
溶射粉体供給路８の先端の温度が低下する。更に陰極９
内面がＴｉＣコーティング膜１３で保護されているた
め、陰極９と溶射粉体との固溶反応が防止できる。従っ
て本発明プラズマ溶射トーチにおいては、陰極９の作動
ガス及び溶射粉体供給路８近傍の溶損及び溶射粉体の付
着が防止でき、ひいては高品質の溶射皮膜を得るととも
に、陰極９の寿命を向上させることができる。
ては、陰極９の先端にＨｆＣ，ＺｒＣ１２を取付け又は
陰極９の先端より後方外周にＨｆＣ，ＺｒＣ１２′を接
合したことにより、アーク１４が陽極１と高融点で熱電
子放出しやすいＨｆＣ，ＺｒＣ１２，１２′との間に安
定して形成され、また陰極９先端又は後方外周のＨｆ
Ｃ，ＺｒＣ１２，１２′が陰極９に設けられた冷却水通
路１０を介して冷却されて、陰極９先端の作動ガス及び
溶射粉体供給路８の先端の温度が低下する。更に陰極９
内面がＴｉＣコーティング膜１３で保護されているた
め、陰極９と溶射粉体との固溶反応が防止できる。従っ
て本発明プラズマ溶射トーチにおいては、陰極９の作動
ガス及び溶射粉体供給路８近傍の溶損及び溶射粉体の付
着が防止でき、ひいては高品質の溶射皮膜を得るととも
に、陰極９の寿命を向上させることができる。
【００１３】
【発明の効果】要するに本発明によれば、先端にプラズ
マジェット噴口を有するプラズマ発生チャンバーが設け
られるとともに基部に絶縁体が接合されかつ上記プラズ
マ発生チャンバーに通ずる作動ガス供給路が設けられた
陽極と、上記絶縁体の中心部に貫設され先端が上記プラ
ズマ発生チャンバー内にありかつ中心部に作動ガス及び
溶射粉体供給路が設けられた陰極とを具えたプラズマ溶
射トーチにおいて、上記陰極が冷却水通路を設けた銅製
陰極とその先端のＨｆＣ又はＺｒＣとから構成され、か
つプラズマ発生チャンバー内の陰極内面にＴｉＣコーテ
ィング膜が形成されたことと、先端にプラズマジェット
噴口を有するプラズマ発生チャンバーが設けられるとと
もに基部に絶縁体が接合されかつ上記プラズマ発生チャ
ンバーに通ずる作動ガス供給路が設けられた陽極と、上
記絶縁体の中心部に貫設され先端が上記プラズマ発生チ
ャンバー内にありかつ中心部に作動ガス及び溶射粉体供
給路が設けられた陰極とを具えたプラズマ溶射トーチに
おいて、上記陰極の先端より後方外周に陽極との間隙が
プラズマ発生チャンバー内で最も小さくなるように環状
にＨｆＣ又はＺｒＣを接合したこととにより、溶射粉体
のプラズマジェットへの軸心供給及びプラズマの安定性
を損なうことなく、陰極への溶射粉体の付着や陰極の溶
損が防止できるプラズマ溶射トーチを得るから、本発明
は産業上極めて有益なものである。
マジェット噴口を有するプラズマ発生チャンバーが設け
られるとともに基部に絶縁体が接合されかつ上記プラズ
マ発生チャンバーに通ずる作動ガス供給路が設けられた
陽極と、上記絶縁体の中心部に貫設され先端が上記プラ
ズマ発生チャンバー内にありかつ中心部に作動ガス及び
溶射粉体供給路が設けられた陰極とを具えたプラズマ溶
射トーチにおいて、上記陰極が冷却水通路を設けた銅製
陰極とその先端のＨｆＣ又はＺｒＣとから構成され、か
つプラズマ発生チャンバー内の陰極内面にＴｉＣコーテ
ィング膜が形成されたことと、先端にプラズマジェット
噴口を有するプラズマ発生チャンバーが設けられるとと
もに基部に絶縁体が接合されかつ上記プラズマ発生チャ
ンバーに通ずる作動ガス供給路が設けられた陽極と、上
記絶縁体の中心部に貫設され先端が上記プラズマ発生チ
ャンバー内にありかつ中心部に作動ガス及び溶射粉体供
給路が設けられた陰極とを具えたプラズマ溶射トーチに
おいて、上記陰極の先端より後方外周に陽極との間隙が
プラズマ発生チャンバー内で最も小さくなるように環状
にＨｆＣ又はＺｒＣを接合したこととにより、溶射粉体
のプラズマジェットへの軸心供給及びプラズマの安定性
を損なうことなく、陰極への溶射粉体の付着や陰極の溶
損が防止できるプラズマ溶射トーチを得るから、本発明
は産業上極めて有益なものである。
【図１】本発明プラズマ溶射トーチの第１番目の発明の
実施例の縦断面図である。
実施例の縦断面図である。
【図２】第２番目の発明の実施例の縦断面図である。
【図３】従来のプラズマ溶射トーチの縦断面図である。
１ 陽極 ２ プラズマ発生チャンバー ３ プラズマジェット噴口 ４ 絶縁体 ５ 作動ガス供給路 ６ 冷却水通路 ７ 陽極電流導入部 ８ 作動ガス及び溶射粉体供給路 ９ 陰極 10 冷却水通路 11 陰極電流導入部 12 ＨｆＣ, ＺｒＣ 12′ ＨｆＣ, ＺｒＣ 13 ＴｉＣコーティング膜 14 アーク
Claims (2)
- 【請求項１】 先端にプラズマジェット噴口を有するプ
ラズマ発生チャンバーが設けられるとともに基部に絶縁
体が接合されかつ上記プラズマ発生チャンバーに通ずる
作動ガス供給路が設けられた陽極と、上記絶縁体の中心
部に貫設され先端が上記プラズマ発生チャンバー内にあ
りかつ中心部に作動ガス及び溶射粉体供給路が設けられ
た陰極とを具えたプラズマ溶射トーチにおいて、上記陰
極が冷却水通路を設けた銅製陰極とその先端のＨｆＣ又
はＺｒＣとから構成され、かつプラズマ発生チャンバー
内の陰極内面にＴｉＣコーティング膜が形成されたこと
を特徴とするプラズマ溶射トーチ。 - 【請求項２】 先端にプラズマジェット噴口を有するプ
ラズマ発生チャンバーが設けられるとともに基部に絶縁
体が接合されかつ上記プラズマ発生チャンバーに通ずる
作動ガス供給路が設けられた陽極と、上記絶縁体の中心
部に貫設され先端が上記プラズマ発生チャンバー内にあ
りかつ中心部に作動ガス及び溶射粉体供給路が設けられ
た陰極とを具えたプラズマ溶射トーチにおいて、上記陰
極の先端より後方外周に陽極との間隙がプラズマ発生チ
ャンバー内で最も小さくなるように環状にＨｆＣ又はＺ
ｒＣを接合したことを特徴とするプラズマ溶射トーチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4210906A JPH0636890A (ja) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | プラズマ溶射トーチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4210906A JPH0636890A (ja) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | プラズマ溶射トーチ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636890A true JPH0636890A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16597032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4210906A Withdrawn JPH0636890A (ja) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | プラズマ溶射トーチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636890A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100586466B1 (ko) * | 2004-05-13 | 2006-06-07 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 반응물 주입을 위한 모듈형 수랭식 주입기와 다단식 노즐구조를 갖는 고주파 유도결합 플라즈마 토치 |
| EP2642831A1 (de) | 2012-03-22 | 2013-09-25 | Hollberg, Manfred | Plasma-Elektrode für einen Plasma-Lichtbogenbrenner und Verfahren zur Herstellung |
| CN105376921A (zh) * | 2015-12-11 | 2016-03-02 | 武汉科技大学 | 一种等离子加工用的内腔供粉钨针 |
| CN106269332A (zh) * | 2016-08-19 | 2017-01-04 | 四川中物红宇科技有限公司 | 等离子体喷枪 |
| KR20200097988A (ko) * | 2019-02-11 | 2020-08-20 | (주)지니아텍 | 저온 플라즈마 장치 |
-
1992
- 1992-07-15 JP JP4210906A patent/JPH0636890A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN106269332A (zh) * | 2016-08-19 | 2017-01-04 | 四川中物红宇科技有限公司 | 等离子体喷枪 |
| CN106269332B (zh) * | 2016-08-19 | 2019-01-22 | 四川中物红宇科技有限公司 | 等离子体喷枪 |
| KR20200097988A (ko) * | 2019-02-11 | 2020-08-20 | (주)지니아텍 | 저온 플라즈마 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |