JPH06347862A - カメラの測光装置 - Google Patents
カメラの測光装置Info
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- JPH06347862A JPH06347862A JP5163919A JP16391993A JPH06347862A JP H06347862 A JPH06347862 A JP H06347862A JP 5163919 A JP5163919 A JP 5163919A JP 16391993 A JP16391993 A JP 16391993A JP H06347862 A JPH06347862 A JP H06347862A
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- JP
- Japan
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- photometric
- spectrum
- subject
- spatial frequency
- equation
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B7/00—Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
- G03B7/28—Circuitry to measure or to take account of the object contrast
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B7/00—Control of exposure by setting shutters, diaphragms or filters, separately or conjointly
- G03B7/08—Control effected solely on the basis of the response, to the intensity of the light received by the camera, of a built-in light-sensitive device
- G03B7/099—Arrangement of photoelectric elements in or on the camera
- G03B7/0993—Arrangement of photoelectric elements in or on the camera in the camera
- G03B7/0997—Through the lens [TTL] measuring
- G03B7/09979—Multi-zone light measuring
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Control For Cameras (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 複雑なパターンの撮影シーンの分類を高精度
に行うことができ、被写体によく適合した測光演算方式
の選択を可能とする。 【構成】 被写体の空間周波数のスペクトル解析を行う
スペクトル解析手段８１と、スペクトル解析手段８１の
出力する被写体のスペクトルパターンに応じてマルチパ
ターン測光演算を実行する演算手段８２とから構成され
る。
に行うことができ、被写体によく適合した測光演算方式
の選択を可能とする。 【構成】 被写体の空間周波数のスペクトル解析を行う
スペクトル解析手段８１と、スペクトル解析手段８１の
出力する被写体のスペクトルパターンに応じてマルチパ
ターン測光演算を実行する演算手段８２とから構成され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カメラの測光装置に関
し、特に、撮影画面を複数に分割して測光するカメラの
測光装置に関するものである。
し、特に、撮影画面を複数に分割して測光するカメラの
測光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、この種のカメラの測光装置と
して、例えば、撮影画面を複数に分割し、それぞれの測
光出力から被写体の最高輝度と輝度差に応じて想定され
る複数の被写体パターンに分類し、それぞれのパターン
に相当する撮影シーンに対してそのパターンに適した露
光値の算出方法をいくつかの中から選択して、露出の制
御を行うマルチパターン測光装置が提案されている。例
えば、測光出力の最高輝度が高くて輝度差が大きい場合
には、太陽などを含む撮影シーンであるとして低輝度を
重視した露光を行うようにしていた。
して、例えば、撮影画面を複数に分割し、それぞれの測
光出力から被写体の最高輝度と輝度差に応じて想定され
る複数の被写体パターンに分類し、それぞれのパターン
に相当する撮影シーンに対してそのパターンに適した露
光値の算出方法をいくつかの中から選択して、露出の制
御を行うマルチパターン測光装置が提案されている。例
えば、測光出力の最高輝度が高くて輝度差が大きい場合
には、太陽などを含む撮影シーンであるとして低輝度を
重視した露光を行うようにしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述した従来
の測光装置では、同じパターンとして分類される撮影シ
ーンでも異なる露出を要求される場合があった。例え
ば、最高輝度が高くて輝度差が大きいシーンとして認識
したときは、太陽を背にした逆光の人物のような場合を
想定して、低輝度の被写体を重視した露出となるように
していたが、同様なシーンでも、木漏れ日を浴びた人物
のような被写体の場合には、日に照らされた部分は露出
オーバーになってしまうという問題があった。このよう
に、従来のパターン分類方法では、十分に分類できない
シーンがあった。
の測光装置では、同じパターンとして分類される撮影シ
ーンでも異なる露出を要求される場合があった。例え
ば、最高輝度が高くて輝度差が大きいシーンとして認識
したときは、太陽を背にした逆光の人物のような場合を
想定して、低輝度の被写体を重視した露出となるように
していたが、同様なシーンでも、木漏れ日を浴びた人物
のような被写体の場合には、日に照らされた部分は露出
オーバーになってしまうという問題があった。このよう
に、従来のパターン分類方法では、十分に分類できない
シーンがあった。
【０００４】本発明の目的は、複雑なパターンの撮影シ
ーンの分類を高精度に行うことができ、被写体によく適
合した測光演算方式の選択を可能とするカメラの測光装
置を提供することである。
ーンの分類を高精度に行うことができ、被写体によく適
合した測光演算方式の選択を可能とするカメラの測光装
置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明によるカメラの測光装置の第１の解決手段
は、撮影画面を複数に分割して複数の測光値を出力する
分割測光手段と、前記分割測光手段の出力する複数の測
光値から被写体の空間周波数のスペクトル解析を行うス
ペクトル解析手段と、前記スペクトル解析手段の出力す
る被写体のスペクトルパターンに基づいて所定の測光演
算を行う測光演算手段とを含む構成としてある。
に、本発明によるカメラの測光装置の第１の解決手段
は、撮影画面を複数に分割して複数の測光値を出力する
分割測光手段と、前記分割測光手段の出力する複数の測
光値から被写体の空間周波数のスペクトル解析を行うス
ペクトル解析手段と、前記スペクトル解析手段の出力す
る被写体のスペクトルパターンに基づいて所定の測光演
算を行う測光演算手段とを含む構成としてある。
【０００６】第２の解決手段では、第１の解決手段のカ
メラの測光装置において、前記スペクトル解析手段は、
フーリエ変換によりスペクトル解析を行うことを特徴と
することができる。
メラの測光装置において、前記スペクトル解析手段は、
フーリエ変換によりスペクトル解析を行うことを特徴と
することができる。
【０００７】第３の解決手段では、第１の解決手段のカ
メラの測光装置において、前記分割測光手段は、水平方
向または垂直方向の撮影画面の分割数が２のべき乗であ
ることを特徴することができる。
メラの測光装置において、前記分割測光手段は、水平方
向または垂直方向の撮影画面の分割数が２のべき乗であ
ることを特徴することができる。
【０００８】
【作用】本発明によれば、多分割測光出力から被写体の
空間周波数のスペクトル解析を行い、その被写体の空間
周波数のスペクトルパターンに応じて、所定の測光演算
を実行するので、複雑なパターンの撮影シーンの分類を
高精度に行うことができ、被写体によく適合した測光演
算方式の選択が可能となる。
空間周波数のスペクトル解析を行い、その被写体の空間
周波数のスペクトルパターンに応じて、所定の測光演算
を実行するので、複雑なパターンの撮影シーンの分類を
高精度に行うことができ、被写体によく適合した測光演
算方式の選択が可能となる。
【０００９】
【実施例】以下、図面などを参照しながら、実施例をあ
げて、さらに詳しく説明する。図１は、本発明によるカ
メラの測光装置の実施例を搭載した一眼レフカメラを示
す構成図である。図１において、撮影される被写体から
の光は、撮影レンズ２を通りクイックリターンミラー３
によって反射されたのちに、フォーカシングスクリーン
４に結像され、ペンタプリズム５を介して、撮影者によ
り観察される。一方、フォーカシングスクリーン４上の
被写体像は、測光用再結像レンズ６により、測光センサ
ー７に再結像される。測光センサー７は、図２に示すよ
うな複数に分割されたセンサーであり、被写体像の輝度
分布を表す測光出力を測光演算装置８に送出する。測光
演算装置８は、マイクロコンピュータ等で構成されてお
り、測光センサー７からの測光出力に基づいて、露出制
御値を演算する。
げて、さらに詳しく説明する。図１は、本発明によるカ
メラの測光装置の実施例を搭載した一眼レフカメラを示
す構成図である。図１において、撮影される被写体から
の光は、撮影レンズ２を通りクイックリターンミラー３
によって反射されたのちに、フォーカシングスクリーン
４に結像され、ペンタプリズム５を介して、撮影者によ
り観察される。一方、フォーカシングスクリーン４上の
被写体像は、測光用再結像レンズ６により、測光センサ
ー７に再結像される。測光センサー７は、図２に示すよ
うな複数に分割されたセンサーであり、被写体像の輝度
分布を表す測光出力を測光演算装置８に送出する。測光
演算装置８は、マイクロコンピュータ等で構成されてお
り、測光センサー７からの測光出力に基づいて、露出制
御値を演算する。
【００１０】図２は、実施例に係る測光手段の撮影画面
を分割して測光する様子を示した図である。測光センサ
ー７は、図２に示すように、撮影画面を水平垂直方向に
各８分割して、計６４個の輝度情報を出力する。ここで
は、各測光出力をＢ［ｘ，ｙ］とする。なお、標本点が
８点×８点であるので、空間周波数が８点あたり４周期
以上の高周波成分は、低周波成分を正確に検出するため
に、再結像レンズ６をボカしたり、光学的ローパスフィ
ルターを用いたりして除去しておく。
を分割して測光する様子を示した図である。測光センサ
ー７は、図２に示すように、撮影画面を水平垂直方向に
各８分割して、計６４個の輝度情報を出力する。ここで
は、各測光出力をＢ［ｘ，ｙ］とする。なお、標本点が
８点×８点であるので、空間周波数が８点あたり４周期
以上の高周波成分は、低周波成分を正確に検出するため
に、再結像レンズ６をボカしたり、光学的ローパスフィ
ルターを用いたりして除去しておく。
【００１１】図３は、実施例に係る測光演算装置の構成
を示すブロック図である。測光演算装置８は、測光セン
サー７からの被写体の輝度分布に対して、公知の技術で
ある離散的２次元フーリエ変換を施し、被写体の空間周
波数のパワースペクトルを求めるスペクトル解析装置８
１と、この被写体の空間周波数のパワースペクトルから
マルチパターン測光を行い、露出制御値を出力するマル
チパターン測光装置８２とから構成されている。
を示すブロック図である。測光演算装置８は、測光セン
サー７からの被写体の輝度分布に対して、公知の技術で
ある離散的２次元フーリエ変換を施し、被写体の空間周
波数のパワースペクトルを求めるスペクトル解析装置８
１と、この被写体の空間周波数のパワースペクトルから
マルチパターン測光を行い、露出制御値を出力するマル
チパターン測光装置８２とから構成されている。
【００１２】測光出力Ｂ［ｘ，ｙ］の２次元スペクトル
のcos 成分のフーリエ係数ａとsin成分のフーリエ係数
ｂは、次のようになる。ただしｎ、ｍは０から４をと
る。 〔数１〕 a[n,m] = 1/64・Σ1 Σ2 (B[x,y]・ cos (2πnx/8)・cos (2πmy/8)) 但し、Σ1 はx=0 から 7までの和を表し、Σ2 はy=0 か
ら 7までの和を表すものとする。 〔数２〕 b[n,m] = 1/64・Σ3 Σ4 (B[x,y]・ sin (2πnx/8)・sin (2πmy/8)) 但し、Σ3 はx=0 から 7までの和を表し、Σ4 はy=0 か
ら 7までの和を表すものとする。なお、測光センサー７
は、水平垂直方向の画素数が２のべき乗であれば、いわ
ゆる高速フーリエ変換（ＦＦＴ）のアルゴリズムが使用
できるので、〔数１〕、〔数２〕の演算を高速に実行す
ることができる。そして、２次元パワースペクトルＰ
は、次のようになる。 〔数３〕 P[n,m] = a[n,m] ・ a[n,m] + b[n,m] ・ b[n,m]
のcos 成分のフーリエ係数ａとsin成分のフーリエ係数
ｂは、次のようになる。ただしｎ、ｍは０から４をと
る。 〔数１〕 a[n,m] = 1/64・Σ1 Σ2 (B[x,y]・ cos (2πnx/8)・cos (2πmy/8)) 但し、Σ1 はx=0 から 7までの和を表し、Σ2 はy=0 か
ら 7までの和を表すものとする。 〔数２〕 b[n,m] = 1/64・Σ3 Σ4 (B[x,y]・ sin (2πnx/8)・sin (2πmy/8)) 但し、Σ3 はx=0 から 7までの和を表し、Σ4 はy=0 か
ら 7までの和を表すものとする。なお、測光センサー７
は、水平垂直方向の画素数が２のべき乗であれば、いわ
ゆる高速フーリエ変換（ＦＦＴ）のアルゴリズムが使用
できるので、〔数１〕、〔数２〕の演算を高速に実行す
ることができる。そして、２次元パワースペクトルＰ
は、次のようになる。 〔数３〕 P[n,m] = a[n,m] ・ a[n,m] + b[n,m] ・ b[n,m]
【００１３】図４は、スペクトル解析装置８１が出力す
る２次元パワースペクトルＰの一例を示すグラフであ
り、Ｐ［０，０］からＰ［４，４］の全部で２５本のパ
ワースペクトルが示されている。マルチパターン測光装
置８２は、図４におけるＰ［０，０］の直流成分ＤＣと
Ａにより示した８本の低周波領域と、Ｂにより示した１
６本の高周波領域の３個に周波数領域に分割され、この
うちの低周波領域Ａのパワースペクトルの合計値である
低周波成分ＬＯと高周波領域Ｂの合計値である高周波成
分ＨＩを算出し、これらの直流成分ＤＣ、低周波成分Ｌ
Ｏおよび高周波成分ＨＩを次式により算出し、露出制御
値を求めるためのパラメータとする。 〔数４〕 DC = P[0,0] 〔数５〕 LO =Σ5 Σ6 P[n,m] - DC 但し、Σ5 はn=0 から2 までの和を表し、Σ6 はm=0 か
ら2 までの和を表わすものとする。 〔数６〕 HI =Σ7 Σ8 P[n,m] - LO - DC 但し、Σ7 はn=0 から2 までの和を表し、Σ8 はm=0 か
ら2 までの和を表わすものとする。
る２次元パワースペクトルＰの一例を示すグラフであ
り、Ｐ［０，０］からＰ［４，４］の全部で２５本のパ
ワースペクトルが示されている。マルチパターン測光装
置８２は、図４におけるＰ［０，０］の直流成分ＤＣと
Ａにより示した８本の低周波領域と、Ｂにより示した１
６本の高周波領域の３個に周波数領域に分割され、この
うちの低周波領域Ａのパワースペクトルの合計値である
低周波成分ＬＯと高周波領域Ｂの合計値である高周波成
分ＨＩを算出し、これらの直流成分ＤＣ、低周波成分Ｌ
Ｏおよび高周波成分ＨＩを次式により算出し、露出制御
値を求めるためのパラメータとする。 〔数４〕 DC = P[0,0] 〔数５〕 LO =Σ5 Σ6 P[n,m] - DC 但し、Σ5 はn=0 から2 までの和を表し、Σ6 はm=0 か
ら2 までの和を表わすものとする。 〔数６〕 HI =Σ7 Σ8 P[n,m] - LO - DC 但し、Σ7 はn=0 から2 までの和を表し、Σ8 はm=0 か
ら2 までの和を表わすものとする。
【００１４】図５は、前述の直流成分ＤＣ、低周波成分
ＬＯおよび高周波成分ＨＩを用いて被写体を分類する様
子を示す図である。図５において、被写体は直流成分Ｄ
Ｃの大きさにより３パターン、低周波成分ＬＯの大きさ
により２パターン、高周波成分ＨＩの大きさにより２パ
ターンの全部で１２パターンに分類される。
ＬＯおよび高周波成分ＨＩを用いて被写体を分類する様
子を示す図である。図５において、被写体は直流成分Ｄ
Ｃの大きさにより３パターン、低周波成分ＬＯの大きさ
により２パターン、高周波成分ＨＩの大きさにより２パ
ターンの全部で１２パターンに分類される。
【００１５】図６〜図８は、図５のスペクトルパターン
に被写体が適合する度合Ｋ[n] を求めるための直流成分
ＤＣ、低周波成分ＬＯおよび高周波成分ＨＩに対するメ
ンバーシップ関数を示した線図である。図６は、被写体
の直流成分ＤＣが小さい度合を表すメンバーシップ関数
ＤＣＳＬ（ＤＣ）と、中くらいである度合を表すメンバ
ーシップ関数ＤＣＭＤ（ＤＣ）、および大きい度合を表
すメンバーシップ関数ＤＣＢＧ（ＤＣ）を示したもので
ある。図７は、被写体の低周波成分ＬＯが小さい度合を
表すメンバーシップ関数ＬＯＳＬ（ＬＯ）、および大き
い度合を表すメンバーシップ関数ＬＯＢＧ（ＬＯ）を示
したものである。図８は、被写体の高周波成分ＨＩが小
さい度合を表すメンバーシップ関数ＨＩＳＬ（ＨＩ）、
および大きい度合を表すメンバーシップ関数ＨＩＢＧ
（ＨＩ）を示したものである。
に被写体が適合する度合Ｋ[n] を求めるための直流成分
ＤＣ、低周波成分ＬＯおよび高周波成分ＨＩに対するメ
ンバーシップ関数を示した線図である。図６は、被写体
の直流成分ＤＣが小さい度合を表すメンバーシップ関数
ＤＣＳＬ（ＤＣ）と、中くらいである度合を表すメンバ
ーシップ関数ＤＣＭＤ（ＤＣ）、および大きい度合を表
すメンバーシップ関数ＤＣＢＧ（ＤＣ）を示したもので
ある。図７は、被写体の低周波成分ＬＯが小さい度合を
表すメンバーシップ関数ＬＯＳＬ（ＬＯ）、および大き
い度合を表すメンバーシップ関数ＬＯＢＧ（ＬＯ）を示
したものである。図８は、被写体の高周波成分ＨＩが小
さい度合を表すメンバーシップ関数ＨＩＳＬ（ＨＩ）、
および大きい度合を表すメンバーシップ関数ＨＩＢＧ
（ＨＩ）を示したものである。
【００１６】これらのメンバーシップ関数を用いて、図
５に示す１２個のスペクトルパターンに適合する度合Ｋ
[n] を以下のようにして求める。ただし、Min(ｎ1 ，ｎ
2 ，…，ｎN ) は、ｎ1 ，ｎ2 ，…，ｎN の中で最小値
を返す関数である。 〔数７〕 K[1] = Min(DCSL(DC),LOSL(LO),HISL(HI)) 〔数８〕 K[2] = Min(DCMD(DC),LOSL(LO),HISL(HI)) 〔数９〕 K[3] = Min(DCBG(DC),LOSL(LO),HISL(HI)) 〔数１０〕 K[4] = Min(DCSL(DC),LOBG(LO),HISL(HI)) 〔数１１〕 K[5] = Min(DCMD(DC),LOBG(LO),HISL(HI)) 〔数１２〕 K[6] = Min(DCBG(DC),LOBG(LO),HISL(HI)) 〔数１３〕 K[7] = Min(DCSL(DC),LOSL(LO),HIBG(HI)) 〔数１４〕 K[8] = Min(DCMD(DC),LOSL(LO),HIBG(HI)) 〔数１５〕 K[9] = Min(DCBG(DC),LOSL(LO),HIBG(HI)) 〔数１６〕 K[10] = Min(DCSL(DC),LOBG(LO),HIBG(HI)) 〔数１７〕 K[11] = Min(DCMD(DC),LOBG(LO),HIBG(HI)) 〔数１８〕 K[12] = Min(DCBG(DC),LOBG(LO),HIBG(HI))
５に示す１２個のスペクトルパターンに適合する度合Ｋ
[n] を以下のようにして求める。ただし、Min(ｎ1 ，ｎ
2 ，…，ｎN ) は、ｎ1 ，ｎ2 ，…，ｎN の中で最小値
を返す関数である。 〔数７〕 K[1] = Min(DCSL(DC),LOSL(LO),HISL(HI)) 〔数８〕 K[2] = Min(DCMD(DC),LOSL(LO),HISL(HI)) 〔数９〕 K[3] = Min(DCBG(DC),LOSL(LO),HISL(HI)) 〔数１０〕 K[4] = Min(DCSL(DC),LOBG(LO),HISL(HI)) 〔数１１〕 K[5] = Min(DCMD(DC),LOBG(LO),HISL(HI)) 〔数１２〕 K[6] = Min(DCBG(DC),LOBG(LO),HISL(HI)) 〔数１３〕 K[7] = Min(DCSL(DC),LOSL(LO),HIBG(HI)) 〔数１４〕 K[8] = Min(DCMD(DC),LOSL(LO),HIBG(HI)) 〔数１５〕 K[9] = Min(DCBG(DC),LOSL(LO),HIBG(HI)) 〔数１６〕 K[10] = Min(DCSL(DC),LOBG(LO),HIBG(HI)) 〔数１７〕 K[11] = Min(DCMD(DC),LOBG(LO),HIBG(HI)) 〔数１８〕 K[12] = Min(DCBG(DC),LOBG(LO),HIBG(HI))
【００１７】また、直流成分ＤＣ、低周波成分ＬＯ、高
周波成分ＨＩを用いて図５に示す１２個のスペクトルパ
ターン毎に、〔数１９〕に示す演算式を用意し、ＢＰ
[n] を算出する。 〔数１９〕 BP[n] = W[n,1]・ DC + W[n,2] ・ LO + W[n,3] ・ HI + C[n] 但し、 nは、１〜12とする。ここで、Ｗ、Ｃは重み係数
であり、あらかじめ採取した被写体パターンにより学習
を行い最適化しておいたものを用いる。このＢＰ[n] を
適合度Ｋ[n] で加重平均して、〔数２０〕に基づいて、
露出制御値ＢＯを得る。 〔数２０〕 BO =Σ8 (K[n]・ BP[n]) ／ Σ9 K[n] 但し、Σ8 はn=0 から12までの和を表し、Σ9 はn=0 か
ら12までの和を表わすものとする。
周波成分ＨＩを用いて図５に示す１２個のスペクトルパ
ターン毎に、〔数１９〕に示す演算式を用意し、ＢＰ
[n] を算出する。 〔数１９〕 BP[n] = W[n,1]・ DC + W[n,2] ・ LO + W[n,3] ・ HI + C[n] 但し、 nは、１〜12とする。ここで、Ｗ、Ｃは重み係数
であり、あらかじめ採取した被写体パターンにより学習
を行い最適化しておいたものを用いる。このＢＰ[n] を
適合度Ｋ[n] で加重平均して、〔数２０〕に基づいて、
露出制御値ＢＯを得る。 〔数２０〕 BO =Σ8 (K[n]・ BP[n]) ／ Σ9 K[n] 但し、Σ8 はn=0 から12までの和を表し、Σ9 はn=0 か
ら12までの和を表わすものとする。
【００１８】図９は、本実施例に係るカメラの測光装置
の動作を説明する流れ図であり、測光値Ｂを取得してか
ら露出制御値ＢＯを得るまでを示したものである。ま
ず、ステップｓ１において、測光を行ないＢ［ｘ，ｙ］
を得る。ステップｓ２では、測光出力Ｂ［ｘ，ｙ］の２
次元スペクトルのｃｏｓ成分のフーリエ係数ａを演算
し、ステップｓ３では、ｓｉｎ成分のフーリエ係数ｂを
演算する。ステップｓ４では、フーリエ係数ａとフーリ
エ係数ｂからパワースペクトルＰ［ｎ，ｍ］を演算す
る。ステップｓ５では、パワースペクトルＰ［ｎ，ｍ］
より直流成分ＤＣを求め、ステップｓ６では、低周波成
分ＬＯを求め、ステップｓ７では、高周波成分ＨＩを求
める。ステップｓ８からステップｓ１９までは、直流成
分ＤＣ、低周波成分ＬＯ、高周波成分ＨＩとメンバーシ
ップ関数ＤＣＳＬ、ＤＣＭＤ、ＤＣＢＧ、ＬＯＳＬ、Ｌ
ＯＢＧ、ＨＩＳＬ、ＨＩＢＧを用いて、１２個のスペク
トルパターンに適合する度合Ｋ[n] を求める。ステップ
ｓ２０では、直流成分ＤＣ、低周波成分ＬＯ、高周波成
分ＨＩと係数Ｗ、Ｃを用いてＢＰ[n] を算出する。ステ
ップｓ２１では、ＢＰ[n] を適合度Ｋ[n] で加重平均し
て露出制御値ＢＯを得て、このフローを終了する。
の動作を説明する流れ図であり、測光値Ｂを取得してか
ら露出制御値ＢＯを得るまでを示したものである。ま
ず、ステップｓ１において、測光を行ないＢ［ｘ，ｙ］
を得る。ステップｓ２では、測光出力Ｂ［ｘ，ｙ］の２
次元スペクトルのｃｏｓ成分のフーリエ係数ａを演算
し、ステップｓ３では、ｓｉｎ成分のフーリエ係数ｂを
演算する。ステップｓ４では、フーリエ係数ａとフーリ
エ係数ｂからパワースペクトルＰ［ｎ，ｍ］を演算す
る。ステップｓ５では、パワースペクトルＰ［ｎ，ｍ］
より直流成分ＤＣを求め、ステップｓ６では、低周波成
分ＬＯを求め、ステップｓ７では、高周波成分ＨＩを求
める。ステップｓ８からステップｓ１９までは、直流成
分ＤＣ、低周波成分ＬＯ、高周波成分ＨＩとメンバーシ
ップ関数ＤＣＳＬ、ＤＣＭＤ、ＤＣＢＧ、ＬＯＳＬ、Ｌ
ＯＢＧ、ＨＩＳＬ、ＨＩＢＧを用いて、１２個のスペク
トルパターンに適合する度合Ｋ[n] を求める。ステップ
ｓ２０では、直流成分ＤＣ、低周波成分ＬＯ、高周波成
分ＨＩと係数Ｗ、Ｃを用いてＢＰ[n] を算出する。ステ
ップｓ２１では、ＢＰ[n] を適合度Ｋ[n] で加重平均し
て露出制御値ＢＯを得て、このフローを終了する。
【００１９】なお、本実施例ではスペクトルパターンの
分類には、パワースペクトルのみを用いたが各周波数の
位相を用いて分類することも可能であり、この場合に
は、さらに的確に被写体を分類できる。各周波数におけ
る位相θは、次ぎのようになる。 〔数２１〕 θ[n,m] = tan -1(b[n,m]/a[n,m]) 例えば、θ[1,1] は、水平垂直両方向に周期１の波の位
相を表しており、θ[1,1] が０度であれば、中央部が暗
く逆光状態であることが分かり、θ[1,1] が１８０度で
あれば、中央部が明るく順光状態であることが分かる。
従って、θ[1,1]を用いて前述の分類を行なえば、被写
体の順光状態と逆光状態の分類が可能となる。このよう
に、スペクトルの分類は、前述のものに限ったものでは
なく更に細かくパワースペクトルと位相を用いて分類す
れば、より正確に被写体の露出を決定することが可能と
なる。
分類には、パワースペクトルのみを用いたが各周波数の
位相を用いて分類することも可能であり、この場合に
は、さらに的確に被写体を分類できる。各周波数におけ
る位相θは、次ぎのようになる。 〔数２１〕 θ[n,m] = tan -1(b[n,m]/a[n,m]) 例えば、θ[1,1] は、水平垂直両方向に周期１の波の位
相を表しており、θ[1,1] が０度であれば、中央部が暗
く逆光状態であることが分かり、θ[1,1] が１８０度で
あれば、中央部が明るく順光状態であることが分かる。
従って、θ[1,1]を用いて前述の分類を行なえば、被写
体の順光状態と逆光状態の分類が可能となる。このよう
に、スペクトルの分類は、前述のものに限ったものでは
なく更に細かくパワースペクトルと位相を用いて分類す
れば、より正確に被写体の露出を決定することが可能と
なる。
【００２０】また、スペクトル解析手段はフーリエ変換
に限ったものではなく、他のスペクトル解析手段を用い
てもよい。例えば、コサイン関数のみを用いた離散的コ
サイン変換、サイン関数のみを用いた離散的サイン変
換、＋１と−１の２値関数であるウォルシュ関数を用い
たウォルシュ変換等を用いても被写体を空間周波数によ
って分類することができ、同様の効果が得られる。特
に、ウォルシュ変換では＋１と−１の２値のみを用いる
ために、小規模な装置でも高速にスペクトル解析演算を
行なうことが可能となる。これらのスペクトル解析手段
は、搭載されるカメラの測光装置の規模と要求される性
能に応じて最適なものを選択すればよい。
に限ったものではなく、他のスペクトル解析手段を用い
てもよい。例えば、コサイン関数のみを用いた離散的コ
サイン変換、サイン関数のみを用いた離散的サイン変
換、＋１と−１の２値関数であるウォルシュ関数を用い
たウォルシュ変換等を用いても被写体を空間周波数によ
って分類することができ、同様の効果が得られる。特
に、ウォルシュ変換では＋１と−１の２値のみを用いる
ために、小規模な装置でも高速にスペクトル解析演算を
行なうことが可能となる。これらのスペクトル解析手段
は、搭載されるカメラの測光装置の規模と要求される性
能に応じて最適なものを選択すればよい。
【００２１】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、撮影さ
れる被写体の空間周波数のスペクトル解析を行ない、被
写体のスペクトルパターンに応じて最適な測光演算を実
行するので、撮影シーンの分類を高精度に行うことがで
き、被写体によく適合した測光演算式の選択が可能とな
る。
れる被写体の空間周波数のスペクトル解析を行ない、被
写体のスペクトルパターンに応じて最適な測光演算を実
行するので、撮影シーンの分類を高精度に行うことがで
き、被写体によく適合した測光演算式の選択が可能とな
る。
【図１】本発明によるカメラの測光装置の実施例を示す
構成図である。
構成図である。
【図２】測光手段の分割形状を示した図である。
【図３】実施例に係る測光演算手段の構成を示したブロ
ック図である。
ック図である。
【図４】２次元パワースペクトルＰの一例を示す図であ
る。
る。
【図５】スペクトルにより被写体を分類する様子を示し
た図である。
た図である。
【図６】直流成分ＤＣに関するメンバーシップ関数を示
した線図である。
した線図である。
【図７】低周波成分ＬＯに関するメンバーシップ関数を
示した線図である。
示した線図である。
【図８】高周波成分ＨＩに関するメンバーシップ関数を
示した線図である。
示した線図である。
【図９】本実施例に係るカメラの測光装置の動作を説明
する流れ図である。
する流れ図である。
７ 測光センサー ８ 測光演算装置 ８１ スペクトル解析装置 ８２ マルチパターン測光装置
Claims (3)
- 【請求項１】 撮影画面を複数に分割して複数の測光値
を出力する分割測光手段と、 前記分割測光手段の出力する複数の測光値から被写体の
空間周波数のスペクトル解析を行うスペクトル解析手段
と、 前記スペクトル解析手段の出力する被写体のスペクトル
パターンに基づいて所定の測光演算を行う測光演算手段
と、を含むカメラの測光装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載のカメラの測光装置にお
いて、 前記スペクトル解析手段は、フーリエ変換によりスペク
トル解析を行うことを特徴とするカメラの測光装置。 - 【請求項３】 請求項１に記載のカメラの測光装置にお
いて、 前記分割測光手段は、水平方向または垂直方向の撮影画
面の分割数が２のべき乗であることを特徴とするカメラ
の測光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5163919A JPH06347862A (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | カメラの測光装置 |
| US08/654,998 US5592256A (en) | 1993-06-08 | 1996-05-29 | Photometry device for a camera |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5163919A JPH06347862A (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | カメラの測光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06347862A true JPH06347862A (ja) | 1994-12-22 |
Family
ID=15783321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5163919A Pending JPH06347862A (ja) | 1993-06-08 | 1993-06-08 | カメラの測光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5592256A (ja) |
| JP (1) | JPH06347862A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015117976A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 株式会社リコー | 半導体集積回路 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6091908A (en) * | 1994-07-18 | 2000-07-18 | Nikon Corporation | Photometric device and method for a camera |
| US6167200A (en) * | 1998-08-03 | 2000-12-26 | Minolta Co., Ltd. | Exposure operation mechanism of camera |
| US6999126B2 (en) * | 2001-09-17 | 2006-02-14 | Mazzapica C Douglas | Method of eliminating hot spot in digital photograph |
| ITMI20031449A1 (it) * | 2003-07-15 | 2005-01-16 | St Microelectronics Srl | Metodo per classificare una immagine digitale |
| WO2011056994A2 (en) | 2009-11-04 | 2011-05-12 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Adaptive automatic exposure apparatus and method for digital images |
| KR101679279B1 (ko) | 2015-09-10 | 2016-11-24 | 한국과학기술원 | 카메라 노출 조절 장치 및 방법 |
| KR101816449B1 (ko) | 2016-10-20 | 2018-01-08 | 현대자동차주식회사 | 다시점 카메라의 통합 노출 제어 장치, 그를 포함한 시스템 및 그 방법 |
| KR102671556B1 (ko) | 2018-10-15 | 2024-06-07 | 현대자동차주식회사 | 차량 및 그 제어방법 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3007575C2 (de) * | 1979-02-28 | 1997-03-20 | Nikon Corp | Berechnungsvorrichtung für einen optimalen Belichtungswert |
| JPS56155820A (en) * | 1980-05-02 | 1981-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photometric arithmetic system |
| US4797942A (en) * | 1987-03-02 | 1989-01-10 | General Electric | Pyramid processor for building large-area, high-resolution image by parts |
| US5270767A (en) * | 1989-12-21 | 1993-12-14 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Camera with camera-shake detection apparatus |
| US5233517A (en) * | 1990-04-30 | 1993-08-03 | Jindra Lawrence F | Early glaucoma detection by Fourier transform analysis of digitized eye fundus images |
| US5319416A (en) * | 1990-10-16 | 1994-06-07 | Nikon Corporation | Exposure calculation device for camera |
| US5266984A (en) * | 1991-03-22 | 1993-11-30 | Nikon Corporation | Exposure calculating apparatus for camera |
| US5187754A (en) * | 1991-04-30 | 1993-02-16 | General Electric Company | Forming, with the aid of an overview image, a composite image from a mosaic of images |
| JP3170722B2 (ja) * | 1991-09-03 | 2001-05-28 | 株式会社ニコン | 露出演算装置 |
-
1993
- 1993-06-08 JP JP5163919A patent/JPH06347862A/ja active Pending
-
1996
- 1996-05-29 US US08/654,998 patent/US5592256A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015117976A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 株式会社リコー | 半導体集積回路 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5592256A (en) | 1997-01-07 |
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