JPH06345743A - Herbicidal triazole compound - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To obtain a new triazole derivative usable as a herbicide and a plant growth regulator, having weeding action and controlling action on elongation of plants. CONSTITUTION:A compound of the formula [R<1> is alkyl, halogenoalkyl, mono or dialkylamino, phenyl, benzyl, furyl or thienyl; R<2> is H, R<1>SO2 alkyl, alkoxy- alkyl, alkylthio-alkyl, alkenyl, alkynyl, etc.; k is 1 or 2; R<3> is H, alkyl, halogenoalkyl, alkoxyalkyl, cyanoalkyl, alkenyl, phenyl, benzyl, aliphatic acyl, etc.; Y is 0 or S(O)m (m is 0-2); R<4> is H, alkyl, cycloalkyl, etc.; X is halogen, alkyl, alkoxy, alkylthio, alkylsulfonyl, CN, NO2, etc.; n is 0-3] and its salt such as 3-methylthio-4-methyl-5-(3-methyl-4-dimethylsulfonylaminophenyl)-1,2,4 -triazole.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の目的】[Object of the Invention]

【０００２】[0002]

【産業上の利用分野】本発明は、優れた除草活性を有す
る新規なトリアゾール誘導体及びそれを有効成分として
含有する除草剤組成物に関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a novel triazole derivative having excellent herbicidal activity and a herbicidal composition containing the same as an active ingredient.

【０００３】[0003]

【従来の技術】５−フェニル−１，２，４−トリアゾー
ル誘導体としては、３−メチルチオ−４−メチル−５−
（２，４−ジクロルフェニル）−１，２，４−トリアゾ
ールが、抗菌活性を有する化合物として、J. Heterocyc
lic Chem., 21, 1225 (1984)に記載されている。As a 5-phenyl-1,2,4-triazole derivative, 3-methylthio-4-methyl-5-
(2,4-dichlorophenyl) -1,2,4-triazole is known as a compound having antibacterial activity by J. Heterocyc
lic Chem., 21 , 1225 (1984).

【０００４】３−メチルチオ−４−フェニル−５−（２
−アセトアミノフェニル）−１，２，４−トリアゾール
及び３−メチルチオ−４−（４−メチルフェニル）−５
−（２−ベンゾイルアミノフェニル）−１，２，４−ト
リアゾールが、反応生成物として、Acta. Chim. Acad.
Sci. Hung. 90, 419 (1976) 及びJ. Heterocyclic Che
m., 22, 1189 (1985)に記載されている。3-methylthio-4-phenyl-5- (2
-Acetaminophenyl) -1,2,4-triazole and 3-methylthio-4- (4-methylphenyl) -5
-(2-benzoylaminophenyl) -1,2,4-triazole was used as a reaction product in Acta. Chim. Acad.
Sci. Hung. 90 , 419 (1976) and J. Heterocyclic Che
m., 22 , 1189 (1985).

【０００５】３−（２−ヒドロキシエトキシ）−５−
（４−アミノフェニル）−４Ｈ−１，２，４−トリアゾ
ールが、反応生成物として、J. Prakt. Chem., 37, 168
(1968) に記載されている。3- (2-hydroxyethoxy) -5-
(4-Aminophenyl) -4H-1,2,4-triazole was used as a reaction product in J. Prakt. Chem., 37 , 168.
(1968).

【０００６】３−ヒドロキシ−４−メチル−５−（４−
アミノフェニル）−１，２，４−トリアゾールが、強心
剤として、J. Med. Chem. 33, 2870 (1990) に記載され
ている。3-hydroxy-4-methyl-5- (4-
Aminophenyl) -1,2,4-triazole is described as a cardiotonic agent in J. Med. Chem. 33 , 2870 (1990).

【０００７】３−メチルチオ−４−メチル−５−（４−
ニトロ，クロル又はメトキシ−フェニル）−１，２，４
−トリアゾールが、反応生成物として、Chem. Pharm. B
ull., 23, 955 (1975)に記載されている。3-methylthio-4-methyl-5- (4-
Nitro, chloro or methoxy-phenyl) -1,2,4
-Triazole as the reaction product, Chem. Pharm. B
ull., 23 , 955 (1975).

【０００８】３−メトキシ−４−メチル−５−フェニル
−１，２，４−トリアゾールが、反応生成物として、Ch
em. Pharm. Bull., 21, 1342 (1973) に記載されてい
る。3-Methoxy-4-methyl-5-phenyl-1,2,4-triazole was used as the reaction product in Ch
Em. Pharm. Bull., 21 , 1342 (1973).

【０００９】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記各
文献には、５−フェニル−１，２，４−トリアゾール誘
導体が除草活性を有することについては何ら記載されて
いない。However, none of the above-mentioned documents describes that the 5-phenyl-1,2,4-triazole derivative has herbicidal activity.

【００１０】又、トリアゾール環の５位フェニル基に、
スルホンアミド基が置換した化合物についても何ら記載
されていない。Further, at the 5-position phenyl group of the triazole ring,
There is no mention of any compounds substituted with sulfonamide groups.

【００１１】本発明者等は、５−フェニル−１，２，４
−トリアゾール骨格を有する誘導体の合成とその生理活
性について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、既知の
化合物とは全く構造を異にする新規な５−スルホンアミ
ド置換フェニル−１，２，４−トリアゾール誘導体が優
れた除草活性を有することを見出し、本発明を完成し
た。The present inventors have found that 5-phenyl-1,2,4
-Synthesis of derivatives having a triazole skeleton and extensive studies on its physiological activity have revealed that a novel 5-sulfonamido-substituted phenyl-1,2,4-triazole having a completely different structure from known compounds is obtained. The inventors have found that the derivative has excellent herbicidal activity and completed the present invention.

【００１２】[0012]

【発明の構成】[Constitution of the invention]

【００１３】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
（Ｉ）The present invention has the following general formula (I):

【００１４】[0014]

【化３】 [Chemical 3]

【００１５】［式中、Ｒ¹ は、アルキル基、ハロゲノア
ルキル基、モノ又はジ低級アルキル置換アミノ基、フェ
ニル基、ベンジル基、フリル基又はチエニル基を示し、
Ｒ² は、水素原子、式Ｒ¹ ＳＯ₂ で表される基（式中、
Ｒ¹ は、前記と同意義を示す）、低級アルキル基、低級
アルコキシ置換低級アルキル基、低級アルキルチオ置換
低級アルキル基、低級アルキルスルホニル置換低級アル
キル基、低級アルケニル基又は低級アルキニル基を示
し、ｋは、１又は２を示し、Ｒ³ は、水素原子、低級ア
ルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ置
換低級アルキル基、低級アルキルチオ置換低級アルキル
基、低級アルキルスルホニル置換低級アルキル基、シア
ノ置換低級アルキル基、低級アルケニル基、ハロゲノ低
級アルケニル基、低級アルキニル基、フェニル基、ベン
ジル基、脂肪族アシル基又は低級アルキルスルホニル基
を示し、Ｙは、酸素原子又は式Ｓ（Ｏ）_m で表される基
（式中、ｍは０、１又は２を示す）を示し、Ｒ⁴ は、水
素原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、シ
クロアルキル基又は低級アルコキシ置換低級アルキル基
を示し、Ｘは、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級ア
ルコキシ置換低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロ
ゲノ低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ
低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、シア
ノ基又はニトロ基を示し、ｎは、０、１、２又は３を示
す。］で表わされる化合物又はその塩並びにそれらを有
効成分として含有する除草剤組成物である。[Wherein R ¹ represents an alkyl group, a halogenoalkyl group, a mono- or di-lower alkyl-substituted amino group, a phenyl group, a benzyl group, a furyl group or a thienyl group,
R ² is a hydrogen atom, a group represented by the formula R ¹ SO ₂ (in the formula,
R ¹ has the same meaning as above), a lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkylthio-substituted lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl-substituted lower alkyl group, a lower alkenyl group or a lower alkynyl group, and k is 1 or 2 and R ³ is a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkylthio-substituted lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl-substituted lower alkyl group, a cyano-substituted lower alkyl group , A lower alkenyl group, a halogeno lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a phenyl group, a benzyl group, an aliphatic acyl group or a lower alkylsulfonyl group, and Y is an oxygen atom or a group represented by the formula S (O) _m ( wherein, m represents shown) 0, 1 or 2, R ⁴ is a hydrogen atom, a lower alkyl Represents a halogeno lower alkyl group, a cycloalkyl group or a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, and X represents a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogeno lower alkoxy group, a lower alkylthio group, a halogeno It represents a lower alkylthio group, a lower alkylsulfonyl group, a cyano group or a nitro group, and n represents 0, 1, 2 or 3. ] The compound or its salt represented by these, and a herbicide composition containing them as an active ingredient.

【００１６】本明細書において、「ハロゲン原子」と
は、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子であ
る。In the present specification, the "halogen atom" is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

【００１７】本明細書において、「アルキル基」とは、
例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、
n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチ
ル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオペンチル、1-
エチルプロピル、n-ヘキシル、4-メチルペンチル、3-メ
チルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチルペンチル、
3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチ
ルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、
2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、n-ヘプチル、1-
メチルヘキシル、2-メチルヘキシル、3-メチルヘキシ
ル、4-メチルヘキシル、5-メチルヘキシル、1-プロピル
ブチル、4,4-ジメチルペンチル、n-オクチル、1-メチル
ヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メ
チルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、
1-プロピルペンチル、2-エチルヘキシル、5,5-ジメチル
ヘキシル、n-ノニル、3-メチルオクチル、4-メチルオク
チル、5-メチルオクチル、6-メチルオクチル、1-プロピ
ルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,6-ジメチルヘプチ
ル、n-デシル、1-メチルノニル、3-メチルノニル、8-メ
チルノニル、3-エチルオクチル、3,7-ジメチルオクチ
ル、7,7-ジメチルオクチルのような、炭素数１乃至１０
個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、好適には炭素数
１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であり、更に好
適には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルキル基で
ある。In the present specification, the "alkyl group" means
For example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl,
n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, neopentyl, 1-
Ethylpropyl, n-hexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl,
3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl,
2,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, n-heptyl, 1-
Methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, 1-propylbutyl, 4,4-dimethylpentyl, n-octyl, 1-methylheptyl, 2-methylheptyl, 3 -Methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl,
1-propylpentyl, 2-ethylhexyl, 5,5-dimethylhexyl, n-nonyl, 3-methyloctyl, 4-methyloctyl, 5-methyloctyl, 6-methyloctyl, 1-propylhexyl, 2-ethylheptyl, C6-C10, such as 6,6-dimethylheptyl, n-decyl, 1-methylnonyl, 3-methylnonyl, 8-methylnonyl, 3-ethyloctyl, 3,7-dimethyloctyl, 7,7-dimethyloctyl
Straight-chain or branched-chain alkyl groups, preferably straight-chain or branched-chain alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably straight-chain or branched-chain alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. It is a chain alkyl group.

【００１８】本明細書において、「低級アルキル基」と
は、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピ
ル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペ
ンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオペンチ
ル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-メチルペンチ
ル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチルペ
ンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,
1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチル
ブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチルのよう
な、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基であ
り、好適には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ル基である。In the present specification, the "lower alkyl group" means, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl, 2- Methylbutyl, neopentyl, 1-ethylpropyl, n-hexyl, 4-methylpentyl, 3-methylpentyl, 2-methylpentyl, 1-methylpentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,
A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as 1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl It is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

【００１９】本明細書において、「シクロアルキル基」
とは、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルニル、
アダマンチルのような、縮環していてもよい３乃至１０
員飽和環状炭化水素基であり、好適には５乃至１０員飽
和環状炭化水素基である。In the present specification, "cycloalkyl group"
And are cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, norbornyl,
Optionally fused 3 to 10 such as adamantyl
It is a membered saturated cyclic hydrocarbon group, preferably a 5- to 10-membered saturated cyclic hydrocarbon group.

【００２０】本明細書において、「低級アルケニル基」
とは、例えば、ビニル、2-プロペニル、1-メチル-2- プ
ロペニル、2-メチル-2- プロペニル、2-エチル-2- プロ
ペニル、2-ブテニル、1-メチル-2- ブテニル、2-メチル
-2- ブテニル、1-エチル-2-ブテニル、3-ブテニル、1-
メチル-3- ブテニル、2-メチル-3- ブテニル、1-エチル
-3- ブテニル、2-ペンテニル、1-メチル-2- ペンテニ
ル、2-メチル-2- ペンテニル、3-ペンテニル、1-メチル
-3- ペンテニル、2-メチル-3- ペンテニル、4-ペンテニ
ル、1-メチル-4- ペンテニル、2-メチル-4- ペンテニ
ル、2-ヘキセニル、3-ヘキセニル、4-ヘキセニル、5-ヘ
キセニルのような、炭素数２乃至６個の直鎖又は分枝鎖
アルケニル基であり、好適には炭素数３乃至５個の直鎖
又は分枝鎖アルケニル基である。In the present specification, "lower alkenyl group"
And, for example, vinyl, 2-propenyl, 1-methyl-2-propenyl, 2-methyl-2-propenyl, 2-ethyl-2-propenyl, 2-butenyl, 1-methyl-2-butenyl, 2-methyl
-2-butenyl, 1-ethyl-2-butenyl, 3-butenyl, 1-
Methyl-3-butenyl, 2-methyl-3-butenyl, 1-ethyl
-3-butenyl, 2-pentenyl, 1-methyl-2-pentenyl, 2-methyl-2-pentenyl, 3-pentenyl, 1-methyl
Like 3-pentenyl, 2-methyl-3-pentenyl, 4-pentenyl, 1-methyl-4-pentenyl, 2-methyl-4-pentenyl, 2-hexenyl, 3-hexenyl, 4-hexenyl, 5-hexenyl It is a linear or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and preferably a linear or branched alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms.

【００２１】本明細書において、「低級アルキニル基」
とは、例えば、アセチレニル、2-プロピニル、1-メチル
-2- プロピニル、2-メチル-2- プロピニル、2-エチル-2
- プロピニル、2-ブチニル、1-メチル-2- ブチニル、2-
メチル-2- ブチニル、1-エチル-2- ブチニル、3-ブチニ
ル、1-メチル-3- ブチニル、2-メチル-3- ブチニル、1-
エチル-3- ブチニル、2-ペンチニル、1-メチル-2- ペン
チニル、2-メチル-2-ペンチニル、3-ペンチニル、1-メ
チル-3- ペンチニル、2-メチル-3- ペンチニル、4-ペン
チニル、1-メチル-4- ペンチニル、2-メチル-4- ペンチ
ニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-
ヘキシニルのような、炭素数２乃至６個の直鎖又は分枝
鎖アルキニル基であり、好適には炭素数３乃至５個の直
鎖又は分枝鎖アルキニル基である。In the present specification, "lower alkynyl group"
And, for example, acetylenyl, 2-propynyl, 1-methyl
-2-propynyl, 2-methyl-2-propynyl, 2-ethyl-2
-Propynyl, 2-butynyl, 1-methyl-2-butynyl, 2-
Methyl-2-butynyl, 1-ethyl-2-butynyl, 3-butynyl, 1-methyl-3-butynyl, 2-methyl-3-butynyl, 1-
Ethyl-3-butynyl, 2-pentynyl, 1-methyl-2-pentynyl, 2-methyl-2-pentynyl, 3-pentynyl, 1-methyl-3-pentynyl, 2-methyl-3-pentynyl, 4-pentynyl, 1-methyl-4-pentynyl, 2-methyl-4-pentynyl, 2-hexynyl, 3-hexynyl, 4-hexynyl, 5-
A linear or branched alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, such as hexynyl, is preferably a linear or branched alkynyl group having 3 to 5 carbon atoms.

【００２２】本明細書において、「低級アルコキシ基」
とは、例えば、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イ
ソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、s-ブトキ
シ、t-ブトキシ、n-ペントキシ、イソペントキシ、2-メ
チルブトキシ、ネオペントキシ、n-ヘキトオキシ、4-メ
チルペントキシ、3-メチルペントキシ、2-メチルペント
キシ、3,3-ジメチルブトキシ、2,2-ジメチルブトキシ、
1,1-ジメチルブトキシ、1,2-ジメチルブトキシ、1,3-ジ
メチルブトキシ、2,3-ジメチルブトキシのような、炭素
数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基であり、好
適には炭素数１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルコキシ基
である。In the present specification, "lower alkoxy group"
And, for example, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, s-butoxy, t-butoxy, n-pentoxy, isopentoxy, 2-methylbutoxy, neopentoxy, n-hexoxy, 4-methyl. Pentoxy, 3-methylpentoxy, 2-methylpentoxy, 3,3-dimethylbutoxy, 2,2-dimethylbutoxy,
A straight-chain or branched-chain alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as 1,1-dimethylbutoxy, 1,2-dimethylbutoxy, 1,3-dimethylbutoxy, and 2,3-dimethylbutoxy, which is preferable. Is a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.

【００２３】本明細書において、「低級アルキルチオ
基」とは、例えば、メチルチオ、エチルチオ、n-プロピ
ルチオ、イソプロピルチオ、n-ブチルチオ、イソブチル
チオ、s-ブチルチオ、t-ブチルチオ、n-ペンチルチオ、
イソペンチルチオ、2-メチルブチルチオ、ネオペンチル
チオ、1-エチルプロピルチオ、n-ヘキシルチオ、4-メチ
ルペンチルチオ、3-メチルペンチルチオ、2-メチルペン
チルチオ、1-メチルペンチルチオ、3,3-ジメチルブチル
チオ、2,2-ジメチルブチルチオ、1,1-ジメチルブチルチ
オ、1,2-ジメチルブチルチオ、1,3-ジメチルブチルチ
オ、2,3-ジメチルブチルチオ、2-エチルブチルチオ基の
ような、炭素数１乃至６個の低級アルキルチオ基であ
り、好適には炭素数１乃至３個の直鎖又は分枝鎖アルキ
ルチオ基である。In the present specification, the "lower alkylthio group" means, for example, methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio, n-butylthio, isobutylthio, s-butylthio, t-butylthio, n-pentylthio,
Isopentylthio, 2-methylbutylthio, neopentylthio, 1-ethylpropylthio, n-hexylthio, 4-methylpentylthio, 3-methylpentylthio, 2-methylpentylthio, 1-methylpentylthio, 3, 3-dimethylbutylthio, 2,2-dimethylbutylthio, 1,1-dimethylbutylthio, 1,2-dimethylbutylthio, 1,3-dimethylbutylthio, 2,3-dimethylbutylthio, 2-ethylbutyl It is a lower alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms, such as a thio group, and preferably a linear or branched alkylthio group having 1 to 3 carbon atoms.

【００２４】本明細書において、「低級アルキルスルホ
ニル基」とは、例えば、メチルスルホニル、エチルスル
ホニル、n-プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニ
ル、n-ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、s-ブ
チルスルホニル、t-ブチルスルホニル、n-ペンチルスル
ホニル、イソペンチルスルホニル、2-メチルブチルスル
ホニル、ネオペンチルスルホニル、1-エチルプロピルス
ルホニル、n-ヘキシルスルホニル、4-メチルペンチルス
ルホニル、3-メチルペンチルスルホニル、2-メチルペン
チルスルホニル、1-メチルペンチルスルホニル、3,3-ジ
メチルブチルスルホニル、2,2-ジメチルブチルスルホニ
ル、1,1-ジメチルブチルスルホニル、1,2-ジメチルブチ
ルスルホニル、1,3-ジメチルブチルスルホニル、2,3-ジ
メチルブチルスルホニル、2-エチルブチルスルホニル基
のような、炭素数１乃至６個の低級アルキルスルホニル
基であり、好適には炭素数１乃至３個の直鎖又は分枝鎖
アルキルスルホニル基である。In the present specification, the "lower alkylsulfonyl group" means, for example, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, n-butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, s-butylsulfonyl, t-butylsulfonyl. , N-pentylsulfonyl, isopentylsulfonyl, 2-methylbutylsulfonyl, neopentylsulfonyl, 1-ethylpropylsulfonyl, n-hexylsulfonyl, 4-methylpentylsulfonyl, 3-methylpentylsulfonyl, 2-methylpentylsulfonyl, 1 -Methylpentylsulfonyl, 3,3-dimethylbutylsulfonyl, 2,2-dimethylbutylsulfonyl, 1,1-dimethylbutylsulfonyl, 1,2-dimethylbutylsulfonyl, 1,3-dimethylbutylsulfonyl, 2,3-dimethyl Butylsulfonyl, 2-ethyl Such as Chirusuruhoniru group, a 1 to 6 lower alkylsulfonyl group having a carbon number, preferably a 1 to 3 straight chain or branched chain alkylsulfonyl group having a carbon number.

【００２５】本明細書において、「ハロゲノ低級アルキ
ル基」とは、前記「ハロゲン原子」が１乃至複数個前記
「低級アルキル基」に置換した基である。In the present specification, the "halogeno lower alkyl group" is a group in which one to a plurality of the "halogen atom" are substituted with the "lower alkyl group".

【００２６】本明細書において、「ハロゲノアルキル
基」とは、前記「ハロゲン原子」が１乃至複数個前記
「アルキル基」に置換した基である。In the present specification, the "halogenoalkyl group" is a group in which one or more of the "halogen atom" is substituted with the "alkyl group".

【００２７】本明細書において、「低級アルコキシ置換
低級アルキル基」とは、前記「低級アルコキシ基」が１
乃至複数個前記「低級アルキル基」に置換した基であ
る。In the present specification, the "lower alkoxy-substituted lower alkyl group" means the above "lower alkoxy group".
To a plurality of the above "lower alkyl groups".

【００２８】本明細書において、「低級アルキルチオ置
換低級アルキル基」とは、前記「低級アルキルチオ基」
が１乃至複数個前記「低級アルキル基」に置換した基で
ある。In the present specification, the "lower alkylthio-substituted lower alkyl group" means the above "lower alkylthio group".
Is a group in which one or more of the above “lower alkyl groups” are substituted.

【００２９】本明細書において、「低級アルキルスルホ
ニル置換低級アルキル基」とは、前記「低級アルキルス
ルホニル基」が１乃至複数個前記「低級アルキル基」に
置換した基である。In the present specification, the "lower alkylsulfonyl-substituted lower alkyl group" is a group in which one to a plurality of the "lower alkylsulfonyl groups" are substituted with the "lower alkyl group".

【００３０】本明細書において、「シアノ置換低級アル
キル基」とは、シアノ基が１乃至複数個前記「低級アル
キル基」に置換した基である。In the present specification, the "cyano-substituted lower alkyl group" is a group in which one to a plurality of cyano groups are substituted with the "lower alkyl group".

【００３１】本明細書において、「ハロゲノ低級アルケ
ニル基」とは、前記「ハロゲン原子」が１乃至複数個前
記「低級アルケニル基」に置換した基である。In the present specification, the "halogeno lower alkenyl group" is a group in which one or more "halogen atoms" are substituted with the "lower alkenyl group".

【００３２】本明細書において、「ハロゲノ低級アルコ
キシ基」とは、前記「ハロゲン原子」が１乃至複数個前
記「低級アルコキシ基」に置換した基である。In the present specification, the "halogeno lower alkoxy group" is a group in which one or more "halogen atoms" are substituted with the above "lower alkoxy group".

【００３３】本明細書において、「ハロゲノ低級アルキ
ルチオ基とは、前記「ハロゲン原子」が１乃至複数個前
記「低級アルキルチオ基」に置換した基である。In the present specification, the "halogeno lower alkylthio group" is a group in which one or more of the "halogen atom" is substituted with the "lower alkylthio group".

【００３４】本明細書において、「モノ又はジ低級アル
キル置換アミノ基」とは、例えば、メチルアミノ、エチ
ルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、ペンチルア
ミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、メチルエチル
アミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノのような、
前記「低級アルキル基」が１又は２個、アミノ基に置換
した基である。In the present specification, the "mono- or di-lower alkyl-substituted amino group" means, for example, methylamino, ethylamino, propylamino, butylamino, pentylamino, hexylamino, dimethylamino, methylethylamino, diethylamino, Like dipropylamino,
The above-mentioned "lower alkyl group" is a group in which one or two amino groups are substituted.

【００３５】本明細書において、「フリル基」とは、2-
フリル基、3-フリル基である。In the present specification, the "furyl group" means 2-
A furyl group and a 3-furyl group.

【００３６】本明細書において、「チエニル基」とは、
2-チエニル基、3-チエニル基である。In the present specification, the "thienyl group" means
A 2-thienyl group and a 3-thienyl group.

【００３７】本明細書において、「脂肪族アシル基」と
は、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、ペンタノイルのような、前記「低
級アルキル基」がカルボニル基に結合した基及び、例え
ば、フルオロアセチル、クロロアセチル、ブロモアセチ
ル、ジフルオロアセチル、ジクロロアセチル、ジブロモ
アセチル、トリフルオロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリブロモアセチルのような、前記「低級アルキル
基」がカルボニル基に結合した基に１乃至３個前記「ハ
ロゲン原子」が結合した基である。In the present specification, the "aliphatic acyl group" means, for example, formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, etc., wherein the above "lower alkyl group" is bonded to a carbonyl group, and, for example, , Fluoroacetyl, chloroacetyl, bromoacetyl, difluoroacetyl, dichloroacetyl, dibromoacetyl, trifluoroacetyl, trichloroacetyl, tribromoacetyl, etc., wherein the above "lower alkyl group" is bonded to a carbonyl group by 1 to 3 Each is a group to which the above “halogen atom” is bonded.

【００３８】上記一般式（Ｉ）の化合物は、塩にするこ
とができる。そのような塩としては、例えば、弗化水素
酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハ
ロゲン化水素酸塩；硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、りん
酸塩のような無機酸塩；メタンスルホン酸塩、トリフル
オロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩のような
低級アルキルスルホン酸塩、等を挙げることができる。The compound of the above general formula (I) can be made into a salt. Examples of such salts include hydrohalides such as hydrofluoride, hydrochloride, hydrobromide, and hydroiodide; nitrates, perchlorates, sulfates, and phosphoric acid. Inorganic acid salts such as salts; lower alkyl sulfonic acid salts such as methane sulfonic acid salts, trifluoromethane sulfonic acid salts, ethane sulfonic acid salts, and the like.

【００３９】一般式（Ｉ）の化合物のうち、Ｒ² が水素
原子を表すときは、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩
又はカルシウム塩のようなアルカリ金属又はアルカリ土
類金属との塩を形成することができる。When R ² represents a hydrogen atom in the compound of formula (I), it forms a salt with an alkali metal or alkaline earth metal such as sodium salt, potassium salt or calcium salt. You can

【００４０】本発明の代表的化合物としては、例えば、
表１乃至表１５に記載する化合物を挙げることができる
が、本発明はこれらの化合物に限定されるものではな
い。Representative compounds of the present invention include, for example:
Although the compounds described in Tables 1 to 15 can be mentioned, the present invention is not limited to these compounds.

【００４１】なお、表１乃至表１５において、「Me」は
メチル基を、「Et」はエチル基を、「n-Pr」はn-プロピ
ル基を、「i-Pr」はi-プロピル基を、「c-Pr」はシクロ
プロピル基を、「n-Bu」はn-ブチル基を、「i-Bu」はi-
ブチル基を、「t-Bu」はt-ブチル基を、「c-Pen 」はシ
クロペンチル基を、「c-Hex 」はシクロヘキシル基を、
「Bn」はベンジル基を、「Ph」はフェニル基を、「All
y」はアリル基を、「Prg 」はプロパルギル基を、「n-O
ct 」はn-オクチル基を、「Fuy 」はフリル基を、「Thi
o」はチエニル基を、それぞれ示す。In Tables 1 to 15, "Me" is a methyl group, "Et" is an ethyl group, "n-Pr" is an n-propyl group, and "i-Pr" is an i-propyl group. , "C-Pr" is a cyclopropyl group, "n-Bu" is an n-butyl group, "i-Bu" is an i-
A butyl group, "t-Bu" a t-butyl group, "c-Pen" a cyclopentyl group, "c-Hex" a cyclohexyl group,
"Bn" is a benzyl group, "Ph" is a phenyl group, "All"
"y" is an allyl group, "Prg" is a propargyl group, and "nO"
"ct" is an n-octyl group, "Fuy" is a furyl group, and "Thi
“O” represents a thienyl group, respectively.

【００４２】[0042]

【化４】 [Chemical 4]

【００４３】[0043]

【表１】 [Table 1]

【００４４】[0044]

【表２】 [Table 2]

【００４５】[0045]

【表３】 [Table 3]

【００４６】[0046]

【表４】 [Table 4]

【００４７】[0047]

【表５】 [Table 5]

【００４８】[0048]

【表６】 [Table 6]

【００４９】[0049]

【表７】 [Table 7]

【００５０】[0050]

【表８】 [Table 8]

【００５１】[0051]

【表９】 [Table 9]

【００５２】[0052]

【表１０】 [Table 10]

【００５３】[0053]

【表１１】 [Table 11]

【００５４】[0054]

【表１２】 [Table 12]

【００５５】[0055]

【表１３】 [Table 13]

【００５６】[0056]

【表１４】 [Table 14]

【００５７】[0057]

【表１５】 [Table 15]

【００５８】表中、好適な化合物としては、３６，４
５，４６，７３，７４，８２，１２７，１２８，１５
２，１５３，１５８，１７８，１８３，１９０，１９
７，２０４，２０５，２０６，２０７，２０８，２０
９，２１０，２１２，２１３，２１４，２１６，２３
５，２４４，２６０，２６９，３１３，３１４，３２
３，３２８，３３４，３３７，３４０，３４６，３４
７，３４８，３４９，３５０，３５７，３５８，３５
９，３６３，３６４，３６５，３６６，３７０，３７
１，３７５，３７６，３８１，３８４，３８５，３８
６，３８７，３９９，４００，４０１，４０２，４２
０，４２１，４８０，４８１，５２３，５４５，５４
６，５６１，５６２番の化合物が挙げられ、更に好適に
は、３６，４５，４６，７３，７４，１８３，１９０，
２０４，２０５，２０６，２０７，２０８，２０９，２
１０，２１２，２１３，２１４，２１６，２３５，２６
０，３１３，３２３，３２８，３５７，３５８，３５
９，３６３，３６４，３６５，３６６，３８１，３８
４，３８５，３８６，３８７，３９９，４００，４０
１，４０２，４２０，４２１，４８０，４８１，５２
３，５４５，５４６，５６１，５６２番の化合物が挙げ
られ、最も好適には、１９０，２０４，２０５，２０
６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１２，２１
３，２１４，２３５，２６０，３１３，３２３，３２
８，３５７，３５８，３５９，３６３，３６４，３６
５，３６６，３８１，３８４，３８５，３８６，３８
７，４０１，４０２，４８０，４８１，５４５，５４
６，５６１，５６２番の化合物が挙げられる。In the table, preferred compounds include 36,4
5,46,73,74,82,127,128,15
2,153,158,178,183,190,19
7,204,205,206,207,208,20
9, 210, 212, 213, 214, 216, 23
5,244,260,269,313,314,32
3,328,334,337,340,346,34
7,348,349,350,357,358,35
9,363,364,365,366,370,37
1,375,376,381,384,385,38
6,387,399,400,401,402,42
0,421,480,481,523,545,54
No. 6,561,562 compounds, more preferably 36,45,46,73,74,183,190,
204, 205, 206, 207, 208, 209, 2
10, 212, 213, 214, 216, 235, 26
0,313,323,328,357,358,35
9,363,364,365,366,381,38
4,385,386,387,399,400,40
1,402,420,421,480,481,52
3, 545, 546, 561, 562 compounds, most preferably 190, 204, 205, 20.
6,207,208,209,210,212,21
3,214,235,260,313,323,32
8,357,358,359,363,364,36
5,366,381,384,385,386,38
7, 401, 402, 480, 481, 545, 54
No. 6,561,562 compounds can be mentioned.

【００５９】以下の表１６乃至表２０に表１乃至表１５
に示した化合物のＮＭＲスペクトルとマススペクトルを
示す。Tables 1 to 15 are shown in Tables 16 to 20 below.
The NMR spectrum and mass spectrum of the compound shown in are shown.

【００６０】[0060]

【表１６】 [Table 16]

【００６１】[0061]

【表１７】 [Table 17]

【００６２】[0062]

【表１８】 [Table 18]

【００６３】[0063]

【表１９】 [Table 19]

【００６４】[0064]

【表２０】 [Table 20]

【００６５】本発明のトリアゾール化合物は、以下に記
載する方法によって製造することができる。The triazole compound of the present invention can be produced by the method described below.

【００６６】本発明の一般式（Ｉ）で包括的に表わされ
る以下の一般式（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（Ｉ
Ｘ）、（Ｘ）、（ＸＩ）のトリアゾール化合物は、以下
に記載する方法により製造することができる。The following general formulas (V), (VI), (VII), (I) comprehensively represented by the general formula (I) of the present invention are given.
The triazole compounds of X), (X) and (XI) can be produced by the method described below.

【００６７】[0067]

【化５】 [Chemical 5]

【００６８】[0068]

【化６】 [Chemical 6]

【００６９】以下、これらの製造方法について詳しく説
明する。Hereinafter, these manufacturing methods will be described in detail.

【００７０】上記工程中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、
Ｘ、ｎは前記と同意義を示し、Ｒ⁵ は、低級アルキル
基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級アルキル
チオ置換低級アルキル基、低級アルキルスルホニル置換
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基
を示す。During the above steps, R ¹ , R ² , R ³ , R ⁴ ,
X and n are as defined above, and R ⁵ is a lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkylthio-substituted lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl-substituted lower alkyl group, a lower alkenyl group or a lower alkynyl group. .

【００７１】Ａ−１工程は、化合物（ＩＩ）をニトロ化
して、ニトロ化合物（ＩＩＩ）を製造する方法である。Step A-1 is a method for producing a nitro compound (III) by nitrating the compound (II).

【００７２】本工程の出発原料である化合物（ＩＩ）
は、Chem. Pharm. Bull. 23, 955 (1975) 、J. Heteroc
yclic Chem. 21, 1225 (1984) に記載の方法に準じて製
造することができる。Compound (II) as a starting material in this step
Chem. Pharm. Bull. 23 , 955 (1975), J. Heteroc.
It can be produced according to the method described in yclic Chem. 21 , 1225 (1984).

【００７３】本工程の反応は、ニトロ化剤と反応させる
ことにより行なわれる。The reaction in this step is carried out by reacting with a nitrating agent.

【００７４】ニトロ化剤としては、硝酸、硝酸と硫酸の
混酸、硝酸と無水酢酸を混合することにより得られる硝
酸アセチル、硝酸カリウム、硝酸ナトリウムのようなア
ルカリ金属硝酸塩が使用される。As the nitrating agent, nitric acid, a mixed acid of nitric acid and sulfuric acid, or an alkali metal nitrate such as acetyl nitrate, potassium nitrate or sodium nitrate obtained by mixing nitric acid and acetic anhydride is used.

【００７５】溶剤が必要な時は、反応に関与しないもの
であれば特に限定はなく、例えば、ジクロルメタン、ク
ロロホルム、ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水
素類が使用される。When a solvent is required, it is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane are used.

【００７６】反応温度は、通常、２０℃乃至１５０℃で
ある。The reaction temperature is usually 20 ° C to 150 ° C.

【００７７】反応時間は、主として、反応温度、原料化
合物及び試薬の種類によって異なるが、通常３０分乃至
２４時間である。The reaction time is usually 30 minutes to 24 hours, varying mainly depending on the reaction temperature, the raw material compounds and the kinds of reagents.

【００７８】又、本工程の目的化合物（ＩＩＩ）は、Ch
em. Pharm. Bull. 23, 955 (1975)に記載の方法に準じ
ても製造することができる。The target compound (III) of this step is Ch
It can also be produced according to the method described in em. Pharm. Bull. 23 , 955 (1975).

【００７９】Ａ−２工程は、化合物（ＩＩＩ）のニトロ
基をアミノ基に還元することにより、化合物（ＩＶ）を
製造する工程である。Step A-2 is a step for producing compound (IV) by reducing the nitro group of compound (III) to an amino group.

【００８０】反応は直接、水素を用いて水添反応を行う
か、又は還元剤を使用することにより達成される。The reaction can be achieved by directly carrying out a hydrogenation reaction using hydrogen or using a reducing agent.

【００８１】水添反応の場合、触媒及び溶剤の存在下行
なわれる。The hydrogenation reaction is carried out in the presence of a catalyst and a solvent.

【００８２】触媒としては、酸化白金のような白金触
媒、パラジウム−炭素のようなパラジウム触媒、ラネー
ニッケルのようなニッケル触媒が使用される。As the catalyst, a platinum catalyst such as platinum oxide, a palladium catalyst such as palladium-carbon, and a nickel catalyst such as Raney nickel are used.

【００８３】溶剤は、反応を阻害せず、反応物質をある
程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適に
は、メタール、エタノール、イソプロパノールのような
アルコール類、酢酸エチルのようなエステル類、酢酸の
ような脂肪酸、ジオキサン、ジエチルエーテルのような
エーテル類、水及びこれら溶剤の混合物が使用される。The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the reaction substance to some extent, but alcohols such as methal, ethanol and isopropanol, and esters such as ethyl acetate are preferred. , Fatty acids such as acetic acid, dioxane, ethers such as diethyl ether, water and mixtures of these solvents.

【００８４】反応は、常圧下又は加圧下で行なわれる。The reaction is carried out under normal pressure or increased pressure.

【００８５】反応温度は、通常２０℃乃至１２０℃であ
る。The reaction temperature is usually 20 ° C to 120 ° C.

【００８６】反応時間は、主に反応温度、反応圧力、原
料化合物、触媒及び使用される溶剤の種類によって異な
るが、通常３０分乃至１５時間である。The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the reaction pressure, the raw material compounds, the catalyst and the kind of the solvent used, but it is usually 30 minutes to 15 hours.

【００８７】還元剤を使用する場合、塩酸、硫酸のよう
な無機酸の存在下、還元剤を処理することによって行わ
れる。When a reducing agent is used, it is carried out by treating the reducing agent in the presence of an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid.

【００８８】使用される還元剤としては、亜鉛、錫、鉄
のような金属、及び塩化第一錫、硫酸鉄のような金属の
無機塩が挙げられる。Examples of the reducing agent used include metals such as zinc, tin and iron, and inorganic salts of metals such as stannous chloride and iron sulfate.

【００８９】反応温度は通常２０℃乃至１５０℃であ
る。The reaction temperature is usually 20 ° C to 150 ° C.

【００９０】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
還元剤の種類によって異なるが、通常３０分乃至２４時
間である。The reaction time mainly depends on the reaction temperature, the starting compound,
Although it depends on the type of reducing agent, it is usually 30 minutes to 24 hours.

【００９１】Ａ−３工程は、化合物（ＩＶ）のアミノ基
をジスルホニル化することにより、ジスルホンアミド化
合物（Ｖ）を製造する工程である。Step A-3 is a step for producing a disulfonamide compound (V) by disulfonylating the amino group of the compound (IV).

【００９２】反応は、塩基の存在下、スルホニル化試薬
と反応させることによって行なわれる。The reaction is carried out by reacting with a sulfonylating reagent in the presence of a base.

【００９３】スルホニル化試薬としては、相当するスル
ホン酸のハライド類及び酸無水物が使用される。As the sulfonylation reagent, corresponding sulfonic acid halides and acid anhydrides are used.

【００９４】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩、トリエチルアミン、トリブチルアミンのよ
うなアルキル三級アミン、１，８−ジアザビシクロ
［５，４，０］ウンデカン−７−エン（ＤＢＵ）、１，
４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣ
Ｏ）のような環状三級アミン類、ピリジン、４−ジメチ
ルアミノピリジンのような芳香族三級アミン類が使用さ
れる。Examples of the base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate. Salts, alkyl tertiary amines such as triethylamine, tributylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecane-7-ene (DBU), 1,
4-diazabicyclo [2,2,2] octane (DABC
Cyclic tertiary amines such as O) and aromatic tertiary amines such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine are used.

【００９５】使用される溶剤としては、ベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、クロ
ロホルム、ジクロルエタンのようなハロゲン化炭化水素
類、シエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンのようなエーテル類、酢酸エチルのようなエステル
類、アセトン、メチルメソブチルケトンのようなケトン
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのよ
うなアミド類、アセトニトリルのようなニトリル類、ピ
リジン、水及びこれらの混合溶剤が挙げられる。As the solvent to be used, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane, ethers such as ethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, acetic acid. Examples thereof include esters such as ethyl, ketones such as acetone and methyl mesobutylketone, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, nitriles such as acetonitrile, pyridine, water and a mixed solvent thereof.

【００９６】反応温度は、通常０℃乃至１５０℃であ
る。The reaction temperature is usually 0 ° C to 150 ° C.

【００９７】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
塩基及びスルホニル化剤の種類によって異なるが、通常
１０分乃至２４時間である。The reaction time mainly depends on the reaction temperature, the starting compound,
The time is usually 10 minutes to 24 hours, varying depending on the type of base and sulfonylating agent.

【００９８】Ａ−４工程は、化合物（Ｖ）のジスルホニ
ルアミノ基を加水分解することにより、モノスルホニル
アミノ化合物（ＶＩ）を製造する工程である。Step A-4 is a step of producing the monosulfonylamino compound (VI) by hydrolyzing the disulfonylamino group of the compound (V).

【００９９】反応は、塩基又は酸により加水分解するこ
とにより行なわれる。The reaction is carried out by hydrolysis with a base or an acid.

【０１００】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属
炭酸水素塩、アンモニア、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシドのようなアルコキシド類が使用され
る。Examples of the base include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate. Alkoxides such as salts, ammonia, sodium methoxide, sodium ethoxide are used.

【０１０１】酸としては、塩酸、硫酸のような無機酸が
使用される。As the acid, an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid is used.

【０１０２】溶剤としては、メタノール、エタノール、
イソプロパノールのようなアルコール類、エチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル
類、アセトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン
類、酢酸エチルのようなエステル類、水及び、これらの
混合溶剤が使用される。As the solvent, methanol, ethanol,
Alcohols such as isopropanol, ethers such as ethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, acetone, ketones such as methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate, water, and mixed solvents thereof are used.

【０１０３】反応温度は、通常２０℃乃至１５０℃であ
る。The reaction temperature is usually 20 ° C to 150 ° C.

【０１０４】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
試薬の種類によって異なるが、通常３０分乃至２４時間
である。The reaction time mainly depends on the reaction temperature, the starting compound,
Although it depends on the type of reagent, it is usually 30 minutes to 24 hours.

【０１０５】Ａ−５工程は、化合物（ＶＩ）のモノスル
ホニルアミノ基に置換基Ｒ⁵ を導入することにより、化
合物（ＶＩＩ）を製造する工程である。Step A-5 is a step for producing compound (VII) by introducing substituent R ⁵ into the monosulfonylamino group of compound (VI).

【０１０６】反応は、塩基存在下、化合物（ＶＩ）と試
薬Ｒ⁵ −Ｚ（Ｚは、ハロゲン原子を示す。）を反応させ
ることによって行なわれる。The reaction is carried out by reacting compound (VI) with reagent R ⁵ -Z (Z represents a halogen atom) in the presence of a base.

【０１０７】塩基としては、水素化ナトリウム、水素化
カリウムのような水素化アルカリ金属、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシ
ドのようなアルコキシド類、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、ナトリ
ウムアミド、カリウムアミドのようなアルカリ金属のア
ミド物、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ドのような有機リチウム塩が使用される。Examples of the base include alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide. Alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal amides such as sodium amide and potassium amide, and organic lithium salts such as butyllithium and lithium diisopropylamide are used.

【０１０８】溶剤としては、エチルエーテル、テトラヒ
ドロフランのようなエーテル類、メタノール、エタノー
ルのようなアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキ
シド、アセトン、メチルイソブチルケトンのようなケト
ン類、アセトニトリルのようなニトリル類、酢酸エチル
のようなエステル類、水及びこれらの混合溶剤が使用さ
れる。Examples of the solvent include ethers such as ethyl ether and tetrahydrofuran, alcohols such as methanol and ethanol, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, and ketones such as dimethyl sulfoxide, acetone and methyl isobutyl ketone. , Nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, water and mixed solvents thereof.

【０１０９】反応温度は通常−７０℃乃至１５０℃であ
る。The reaction temperature is usually -70 ° C to 150 ° C.

【０１１０】反応時間は主に反応温度、原料化合物、試
薬、塩基の種類によって異なるが、通常１０分乃至２４
時間である。The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the starting compound, the reagent, and the type of base, but it is usually 10 minutes to 24 minutes.
It's time.

【０１１１】Ｂ−１工程は、化合物（Ｖ）、（ＶＩ）及
び（ＶＩＩ）を包括的に記載した化合物（ＶＩＩＩ）を
酸化することにより、スルホン化合物（ＩＸ）及びスル
ホキシド化合物（Ｘ）を製造する工程である。In step B-1, the sulfone compound (IX) and the sulfoxide compound (X) are produced by oxidizing the compound (VIII) which comprehensively describes the compounds (V), (VI) and (VII). It is a process to do.

【０１１２】スルホン化合物を製造するか、スルホキシ
ド化合物を製造するかは、酸化剤の使用量等を調節して
反応させることによって行なわれる。Whether to manufacture the sulfone compound or the sulfoxide compound is determined by controlling the amount of the oxidizing agent used and the like.

【０１１３】酸化剤としては、過酸化水素、過酢酸、メ
タクロル過安息香酸のような有機過酸、カリウムパーオ
キシスルフェートのような過硫酸塩、過マンガン酸カリ
ウム、過マンガン酸ナトリウムのような過マンガン酸塩
が使用される。Examples of the oxidizing agent include hydrogen peroxide, peracetic acid, organic peracids such as metachloroperbenzoic acid, persulfates such as potassium peroxysulfate, potassium permanganate, and sodium permanganate. Permanganate is used.

【０１１４】使用される溶剤としては、ジクロルメタ
ン、クロロホルム、ジクロルエタンのようなハロゲン化
炭化水素類、イソプロパノール、ｔ−ブタノールのよう
なアルコール類、酢酸、アセトン、メチルイソブチルケ
トンのようなケトン類、水及びこれらの混合溶剤が挙げ
られる。Examples of the solvent to be used include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane, alcohols such as isopropanol and t-butanol, ketones such as acetic acid, acetone and methyl isobutyl ketone, water and These mixed solvents are mentioned.

【０１１５】反応温度は、通常２０℃乃至１５０℃であ
る。The reaction temperature is usually 20 ° C to 150 ° C.

【０１１６】反応時間は、主に、反応温度、原料化合
物、酸化剤の種類によって異なるが、通常３０分乃至２
４時間である。The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the raw material compound and the type of oxidizing agent, but is usually 30 minutes to 2 minutes.
4 hours.

【０１１７】Ｂ−２工程は、化合物（ＩＸ）のスルホニ
ル基をＲ³ Ｏ基で置換することによって化合物（ＸＩ）
を製造する工程である。In step B-2, the compound (XI) is obtained by substituting the sulfonyl group of the compound (IX) with an R ³ O group.
Is a process of manufacturing.

【０１１８】本工程においては、原料化合物（ＩＸ）に
おけるＲ³ と、目的化合物（ＸＩ）におけるＲ³ とは、
同一又は異なっていてもよい。[0118] In this step, the R ³ in the starting compound (IX), and R ³ in the objective compound (XI)
It may be the same or different.

【０１１９】反応は、塩基存在下、相当するアルコール
又は水（Ｒ³ ＯＨ）と反応させることによって行なわれ
る。The reaction is carried out by reacting with the corresponding alcohol or water (R ³ OH) in the presence of a base.

【０１２０】使用される塩基としては、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのような炭酸塩、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのような水素化アルカリ金属、ナトリウ
ム、カリウムのようなアルカリ金属、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミンのようなアルキル三級アミン類、
１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデカン−７
−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２，２，
２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）のような環状三級アミン
類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンのような芳
香族三級アミン類、カリウムｔ−ブトキシドのようなア
ルコキシド類、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピ
ルアシドのような有機リチウム塩が挙げられる。As the base used, carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, sodium hydride,
Alkali metal hydride such as potassium hydride, alkali metal such as sodium and potassium, alkyl tertiary amines such as triethylamine and tributylamine,
1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecane-7
-Ene (DBU), 1,4-diazabicyclo [2,2,
2] Cyclic tertiary amines such as octane (DABCO), pyridine, aromatic tertiary amines such as 4-dimethylaminopyridine, alkoxides such as potassium t-butoxide, butyl lithium and lithium diisopropyl acid. Organic lithium salts.

【０１２１】溶剤には、アルコール自身又は水（Ｒ³ Ｏ
Ｈ）が使用される他、例えば、ｔ−ブタノールのような
アルコール類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類、酢酸エチルのような
エステル類、アセトン、メチルイソブチルケトンのよう
なケトン類、アセトニルのようなニトリル類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド
類、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタンの
ようなハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエンのよ
うな芳香族炭化水素類が使用される。As the solvent, alcohol itself or water (R ³ O
H) is used in addition to alcohols such as t-butanol, ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, esters such as ethyl acetate, ketones such as acetone and methyl isobutyl ketone, Nitriles such as acetonyl, amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene are used.

【０１２２】反応温度は、通常−７０℃乃至１５０℃で
ある。The reaction temperature is usually -70 ° C to 150 ° C.

【０１２３】反応時間は、主に、反応温度、原料化合物
及び塩基の種類によって異なるが、通常３０分乃至２４
時間である。The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature, the starting compound and the type of base, but it is usually 30 minutes to 24 minutes.
It's time.

【０１２４】本工程で得られる化合物（ＸＩ）のうち、
Ｒ³ が水素原子であるときは、別途に置換基Ｒ³ を導入
することにより、アルコキシ化合物（ＸＩ）を製造する
ことができる。Of the compounds (XI) obtained in this step,
When R ³ is a hydrogen atom, the alkoxy compound (XI) can be produced by introducing the substituent R ³ separately.

【０１２５】この場合の反応は、塩基存在下、相当する
式Ｒ³ −Ｚで表されるハライド類（Ｚは前記と同意義を
示す）と混合することによって行なわれる。The reaction in this case is carried out by mixing with a corresponding halide represented by the formula R ³ -Z (Z has the same meaning as described above) in the presence of a base.

【０１２６】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水素化
ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素
化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、
カリウムｔ−ブトキシドのようなアルコキシド類、トリ
エチルアミン、トリブチルアミンのようなアルキル三級
アミン類、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウン
デカン−７−エン（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ
［２，２，２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）のような環状三
級アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンのよ
うな芳香族三級アミン、ブチルリチウム、リチウムジイ
ソプロピルアミドのような有機リチウム塩が使用され
る。As the base, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride. , Sodium methoxide, sodium ethoxide,
Alkoxides such as potassium t-butoxide, alkyl tertiary amines such as triethylamine and tributylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecane-7-ene (DBU), 1,4-diazabicyclo [ Cyclic tertiary amines such as 2,2,2] octane (DABCO), pyridine, aromatic tertiary amines such as 4-dimethylaminopyridine, and organic lithium salts such as butyllithium and lithium diisopropylamide are used. .

【０１２７】使用される溶剤としては、メタノール、エ
タノール、ｔ−ブタノールのようなアルコール類、エチ
ルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのような
エーテル類、アセトニトリルのようなニトリル類、酢酸
エチルのようなエステル類、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミドのようなアミド類、ジクロルメタ
ン、クロロホルム、ジクロルエタンのようなハロゲン化
炭化水素類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水
素類が挙げられる。As the solvent to be used, alcohols such as methanol, ethanol and t-butanol, ethers such as ethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, nitriles such as acetonitrile, esters such as ethyl acetate, Examples thereof include amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and dichloroethane, and aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene.

【０１２８】反応温度は、通常−７０乃至１５０℃であ
る。The reaction temperature is usually -70 to 150 ° C.

【０１２９】反応時間は、主として、反応温度及び原料
化合物、試薬、塩基の種類によって異なるが、通常３０
分乃至２４時間である。The reaction time varies depending mainly on the reaction temperature and the kinds of starting compounds, reagents and bases, but is usually 30
Minutes to 24 hours.

【０１３０】上記工程によって、本発明の一般式（Ｉ）
においてｋが１である化合物が製造されるが、ｋが２で
ある化合物も上記工程に準じて製造することができる。By the above steps, the compound of the general formula (I) of the present invention
In the above, a compound in which k is 1 is produced, but a compound in which k is 2 can be produced according to the above steps.

【０１３１】又、本発明の目的化合物（Ｉ）は、上記各
工程の反応の順序を変更することによっても製造可能で
あ。すなわち、実質的に各反応の内容を変更せず、順序
のみを変更する製造方法は、本発明の目的物（Ｉ）の製
造方法に包含される。例えば、上記Ａ法及びＢ法では、
トリアゾールの置換基ＯＲ³ 基を最終段階で導入してい
るが、下記Ｃ法に示すように初期段階でＯＲ³ 基を導入
しても製造可能である。The object compound (I) of the present invention can also be produced by changing the reaction order of the above steps. That is, a production method in which the content of each reaction is not substantially changed and only the order is changed is included in the production method of the object (I) of the present invention. For example, in the above method A and method B,
Although the substituent OR ³ group of triazole is introduced at the final stage, it can also be produced by introducing the OR ³ group at the initial stage as shown in Method C below.

【０１３２】[0132]

【化７】 [Chemical 7]

【０１３３】又、下記に示すＤ法のように、中間体（Ｉ
Ｉ）から中間体（ＸＩＸ）を経て、中間体（ＸＩＩＩ）
を得ることもできる。In addition, the intermediate (I
I) to intermediate (XIX) to intermediate (XIII)
You can also get

【０１３４】[0134]

【化８】 [Chemical 8]

【０１３５】（式中、Ｚは、前記と同意義を示す。） Ｄ−１工程は、化合物（ＩＩ）をハロゲン化することに
より、ハロゲン化合物（ＸＩＸ）を製造する工程であ
る。(In the formula, Z has the same meaning as described above.) Step D-1 is a step of producing a halogen compound (XIX) by halogenating the compound (II).

【０１３６】反応は、ハロゲン化剤を使用することによ
って達成される。The reaction is accomplished by using a halogenating agent.

【０１３７】使用するハロゲン化剤としては、塩素分
子、臭素分子のようなハロゲン分子、塩化チオニル、臭
化チオニル等が使用される。As the halogenating agent used, halogen molecules such as chlorine molecule and bromine molecule, thionyl chloride, thionyl bromide and the like are used.

【０１３８】使用される溶剤としては、ベンゼンのよう
な芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、１，２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンのようなエーテル類及びこれらの混合溶媒が挙げられ
る。As the solvent to be used, aromatic hydrocarbons such as benzene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane and chloroform, ethers such as diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, and These mixed solvents are mentioned.

【０１３９】反応温度は通常０℃乃至１００℃である。The reaction temperature is usually 0 ° C. to 100 ° C.

【０１４０】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、
ハロゲン化剤の種類によって異なるが、通常３０分乃至
４８時間である。The reaction time mainly depends on the reaction temperature, the starting compound,
Although it varies depending on the kind of the halogenating agent, it is usually 30 minutes to 48 hours.

【０１４１】Ｄ−２工程は、Ｂ−２工程の方法に準じて
行うことができる。Step D-2 can be carried out according to the method of step B-2.

【０１４２】上記各工程の反応終了後、各工程の目的化
合物は常法に従って、反応混合物から採取される。例え
ば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルのような
混和しない有機溶媒を加え、水洗後、、目的化合物を含
む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、
溶剤を留去することによって得られる。得られた目的化
合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はク
ロマトグラフィ−等によって更に精製できる。After completion of the reactions in the above steps, the target compound in each step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insoluble matter is removed by filtration, water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added, followed by washing with water, and then an organic layer containing the target compound. Is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, etc.,
Obtained by distilling off the solvent. If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

【０１４３】[0143]

【発明の効果】前記一般式（Ｉ）の本発明化合物は殺草
作用を有しており、除草剤として使用することができ、
例えば、水田においては、雑草の発芽前又は発芽後に湛
水土壌処理することにより、水田の強雑草であるタイヌ
ビエ、ヒメタイヌビエ、ケイヌビエ等のイネ科雑草を駆
除し、また通常の除草剤では防除が困難なマツバイ、ホ
タルイ、クログワイ、ミズガヤツリ等のカヤツリグサ科
多年生雑草並びにウリカワ、オモダカ等のオモダカ科多
年生雑草も駆除することができ、さらに、アゼナ等のゴ
マノハグサ科雑草、キカシグサ、ヒメミソハギ等のミソ
ハギ科雑草、ミゾハコベ等のミゾハコベ科雑草、コナ
ギ、ミズアオイ等のミズアオイ科雑草の広葉雑草をも有
効に駆除することができる。The compound of the present invention represented by the general formula (I) has herbicidal action and can be used as a herbicide.
For example, in paddy fields, by treating submerged soil before or after germination of weeds, we exterminate grass weeds such as the paddy field strong weeds Tainubie, Himetainubiae, and Kanubie, and control with ordinary herbicides is also possible. It is possible to control difficult perennial weeds such as pine nuts, firefly, kurogwai, mizugaya, etc. and perennial weeds such as Urikawa, Omodaka, etc. It is also possible to effectively control broad-leaved weeds such as Mycohaceae weeds such as Myzochabe and weeds of weeds such as eels and water mallows.

【０１４４】一方、水稲に対しては選択性が大きく、移
植水稲は薬害をうけることはなく、処理適用幅が大きい
利点が見出された。また、畑地においては雑草の発芽前
に土壌処理することにより、畑地の強雑草であるカモジ
グサ、メヒシバ、コメヒシバ、イヌビエ、エノコログ
サ、アキノエノコログサ、スズメノテッポウ、スズメノ
カタビラ等のイネ科雑草、イヌビユ、アオビユ、アオゲ
イトウ、イノコズチ等のヒユ科雑草、スベリヒユ等のス
ベリヒユ科雑草、カラシナ等のアブラナ科雑草、アカ
ザ、シロザ、コアカザ等のアカザ科雑草、ツユクサ等の
ツユクサ科雑草、ハコベ、ノミノフスマ、ミミナグサ、
ツメクサ等のナデシコ科雑草、エノキグサ、コニシキソ
ウ等のトウダイグサ科雑草等を有効に駆除することがで
き、一方、トウモロコシ、ビート、ダイズ、ワタ、ダイ
コン、トマト、ニンジン、ハクサイ、レタス等の作物は
薬害を受けることはない。On the other hand, it was found that the selectivity for rice paddy is great, the transplanted paddy rice is not affected by chemical damage, and the treatment application range is wide. In addition, by treating the soil before the germination of weeds in the field, weeds such as duckweeds, crabgrass, rice clover, Inobie, Enochologsa, Achinoenotogora, Prunus chinensis, Scutellaria serrata, etc. Etc., Amaranthaceae such as purslane, etc., Cruciferous weeds such as mustard, Brassicaceae weeds such as mustard, Acacia, Shiroza, Corecazae such as Acacia, Astragalus weeds such as communis, chickweed, Nominofusuma, Minagusa,
It is possible to effectively exterminate weeds such as clover and other plants such as caryophyllaceae, Echinacea, and Euphorbiaceae such as pearl millet, while crops such as corn, beet, soybean, cotton, Japanese radish, tomato, carrot, Chinese cabbage, and lettuce cause phytotoxicity. I will not receive it.

【０１４５】さらに、前記一般式（Ｉ）の化合物は非農
耕地、山林等においても除草剤として有効に使用するこ
とができる。Further, the compound of the general formula (I) can be effectively used as a herbicide in non-cultivated land, forests and the like.

【０１４６】前記一般式（Ｉ）の化合物は、また、植物
の伸長を制御する作用を有しており、適当な時期、濃度
で植物体に処理するとき、その植物体は枯死することな
く伸長が制御されるので、伸長が好ましくない植物に対
する伸長抑制剤としても使用することができる。従っ
て、本発明の「除草剤」なる語には、植物伸長制御剤も
包含する。The compound of the general formula (I) also has an action of controlling the elongation of plants, and when the plants are treated at an appropriate time and at a suitable concentration, the plants grow without dying. Since it is controlled, it can be used as an elongation inhibitor for plants whose elongation is not preferable. Therefore, the term "herbicide" of the present invention also includes a plant elongation regulator.

【０１４７】除草剤及び植物生長調節剤を調製するに
は、固体担体、液体担体のような担体で希釈し、必要に
応じて、界面活性剤のようなその他の製剤用補助剤を加
えることにより、粉剤、粗粉剤、粒剤、微粒剤、乳剤、
懸濁剤、水和剤、フロアブル剤、水溶剤、液剤等に調製
することができる。もちろん、精製の任意の段階で精製
を中止し、粗製物を有効成分とすることもできる。The herbicides and plant growth regulators can be prepared by diluting with a carrier such as a solid carrier or a liquid carrier and, if necessary, adding other formulation auxiliary agents such as surfactants. , Powder, coarse powder, granule, fine granule, emulsion,
It can be prepared into a suspension, a wettable powder, a flowable agent, an aqueous solvent, a liquid agent and the like. Of course, the crude product can be used as an active ingredient by stopping the purification at any stage of the purification.

【０１４８】担体とは、有効成分の植物への到達性を助
け、又は有効成分の貯蔵、輸送或いは取扱を容易にする
ために除草剤及び植物生長調節剤に混合される合成又は
天然の無機又は有機物質を意味する。[0148] The carrier means a synthetic or natural inorganic substance which is mixed with a herbicide and a plant growth regulator to assist the accessibility of the active ingredient to the plant or to facilitate the storage, transportation or handling of the active ingredient. Means organic material.

【０１４９】適当な固体担体としては、クレー、タル
ク、ジークライト、バーミキュライト、消石灰、珪砂、
珪藻土、カオリン、アタパルジャイトクレー、ベントナ
イト、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、酸性白土、
含水無晶形二酸化珪素，方解石、ドロマイト、燐石灰、
ゼオライトのような無機物質；クマロン樹脂、アルキド
樹脂、石油樹脂、ポリ塩化ビニル、コーバルガム、ダン
マルガム、エステルガムのような樹脂；カルナバロウ、
パラフィンロウ等のワックス類；くるみ、ナッツ等の堅
果の殻；タバコ粉、小麦粉、木粉、きな粉、澱粉、大豆
粉；尿素等が挙げられる。Suitable solid carriers include clay, talc, sieglite, vermiculite, slaked lime, silica sand,
Diatomaceous earth, kaolin, attapulgite clay, bentonite, calcium carbonate, ammonium sulfate, acid clay,
Hydrous amorphous silicon dioxide, calcite, dolomite, phospholime,
Inorganic substances such as zeolites; coumarone resins, alkyd resins, petroleum resins, polyvinyl chloride, cobal gums, dammal gums, resins such as ester gums; carnauba wax,
Waxes such as paraffin wax; nut shells such as walnuts and nuts; tobacco flour, wheat flour, wood flour, kinako, starch, soybean flour; urea and the like.

【０１５０】適当な液体担体の例としては、例えば、
水；キシレン、メチルナフタレンのような芳香族炭化水
素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、エ
チレングリコール、セロソルブのようなアルコール類；
アセトン、シクロヘキサノン、イソホロンのようなケト
ン類；大豆油、綿実油のような植物油、ジメチルスルホ
キシド、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトニトリルの
ような極性溶媒が挙げられる。Examples of suitable liquid carriers include, for example:
Water; aromatic hydrocarbons such as xylene and methylnaphthalene; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol and cellosolve;
Ketones such as acetone, cyclohexanone and isophorone; vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil, polar solvents such as dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide and acetonitrile.

【０１５１】分散、乳化、湿潤、拡展等の目的で使用さ
れる界面活性剤は、イオン性でも非イオン性でもよく、
適当な陰イオン性界面活性剤としては、例えば、ラウリ
ルサルフェートのナトリウム塩のようなアルキル硫酸エ
ステル類；パラフィンスルホン酸のナトリウム塩のよう
なアルキルスルホン酸塩；ドデシルベンゼンスルホン酸
のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスルホン酸のナ
トリウム塩のようなアルキルアリールスルホン酸塩；ジ
エチルヘキシルスルホコハク酸のナトリウム塩のような
ジアルキルスルホコハク酸塩；ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテルの燐酸エステル及びその塩のような
ポリオキシエチレンアルキルアリール（又はアルキル）
エーテル燐酸エステル類；ポリオキシエチレンオレイル
エーテルの硫酸エステル及びその塩のようなポリオキシ
エチレンアルキル（又はアルキルアリール）エーテル硫
酸エステル類；リグニンスルホン酸のナトリウムあるい
はカルシウム塩のようなリグニンスルホン酸塩；オレイ
ン酸のナトリウム塩のような高級脂肪酸の塩等が挙げら
れる。The surfactant used for the purpose of dispersion, emulsification, wetting, spreading, etc. may be ionic or nonionic,
Suitable anionic surfactants include, for example, alkyl sulfates such as sodium salt of lauryl sulfate; alkyl sulfonates such as sodium salt of paraffin sulfonic acid; sodium salt of dodecylbenzene sulfonic acid, isobutyl naphthalene. Alkylaryl sulfonates such as sodium salt of sulfonic acid; Dialkylsulfosuccinates such as sodium salt of diethylhexylsulfosuccinic acid; Polyoxyethylene alkylaryl (such as phosphoric acid ester of polyoxyethylene nonylphenyl ether and its salts ( Or alkyl)
Ether phosphates; polyoxyethylene alkyl (or alkylaryl) ether sulfates such as polyoxyethylene oleyl ether sulfates and salts thereof; lignin sulfonates such as sodium or calcium lignin sulfonate; olein Examples thereof include salts of higher fatty acids such as sodium salts of acids.

【０１５２】適当な陽イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリルアミン酢酸塩のような高級脂肪族アミン
の塩類；ポリオキシエチレンステアリルアミンのような
高級脂肪族アミン酸化エチレン縮合物等が挙げられる。Suitable cationic surfactants include, for example, salts of higher aliphatic amines such as lauryl amine acetate; higher aliphatic amine ethylene oxide condensates such as polyoxyethylene stearyl amine. .

【０１５３】適当な非イオン性界面活性剤としては、例
えば、脂肪酸のグリセライド；脂肪酸の蔗糖エステル；
ポリオキシエチレンオレイン酸エステルのようなポリオ
キシエチレンアルキルエステル；高級脂肪族アルコール
の酸化エチレン縮合物のようなポリオキシエチレンアル
キルエーテル；アルキルフェノール若しくはアルキルナ
フトールの酸化エチレン縮合物のようなポリオキシエチ
レンアルキルアリールエーテル；ポリオキシエチレンポ
リオキシプロピレンブロックコポリマー；ソルビタンモ
ノアルキレートやそのエチレンオキシド付加物のような
ソルビタン脂肪酸エステル及びポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル等を挙げることができる。Suitable nonionic surfactants are, for example, glycerides of fatty acids; sucrose esters of fatty acids;
Polyoxyethylene alkyl esters such as polyoxyethylene oleate; polyoxyethylene alkyl ethers such as ethylene oxide condensation products of higher aliphatic alcohols; polyoxyethylene alkylaryls such as ethylene oxide condensation products of alkylphenols or alkylnaphthols Examples thereof include ethers; polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymers; sorbitan monoalkylates and sorbitan fatty acid esters such as adducts of ethylene oxide and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters.

【０１５４】除草剤及び植物生長調節剤として使用する
場合には、他の成分、例えば、ゼラチン、アラビアゴ
ム、カゼイン、アラビアゴム、カルボキシメチルセルロ
ースのナトリウム塩(CMC) 、ポリビニルアルコール、メ
チルセルロースのような保護コロイド剤；トリポリリン
酸ナトリウムのような分散剤；ベントナイトのような増
粘剤；リグニンスルホン酸塩；アルギン酸塩；酸性燐酸
イソプロピル(PAP) 等を含有することもある。When used as herbicides and plant growth regulators, other ingredients such as gelatin, gum arabic, casein, gum arabic, sodium salt of carboxymethylcellulose (CMC), polyvinyl alcohol, methylcellulose, etc. Colloidal agents; dispersants such as sodium tripolyphosphate; thickening agents such as bentonite; lignin sulfonates; alginates; isopropyl acid phosphate (PAP) and the like.

【０１５５】又、除草剤および植物生長調節剤として使
用する場合においても、他の殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ
剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改
良剤等と混合し、適用範囲を拡大し、省力化を図ること
もできる。Further, when used as a herbicide and a plant growth regulator, other fungicides, insecticides, acaricides, nematicides, herbicides, plant growth regulators, fertilizers, soil conditioners, etc. It can also be mixed with, the scope of application can be expanded, and labor can be saved.

【０１５６】処理方法としては、通常製剤化して、雑草
の出芽前又は出芽後約１か月以内に土壌処理、茎葉処理
又は湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌
混和処理等があり、茎葉処理には、植物体の上方からの
処理のほか、作物に付着しないよう雑草に限って処理す
る局部処理等があり、湛水処理には、粒剤の散布や水面
への灌注処理等がある。As a treatment method, a formulation is usually prepared, and soil treatment, foliage treatment or flooding treatment is carried out before or within about one month after emergence of the weeds. Soil treatment includes soil surface treatment, soil admixture treatment, etc., and foliage treatment includes treatment from above the plant body and local treatment such as treatment of only weeds so as not to adhere to crops. The treatment includes spraying granules and irrigating the water surface.

【０１５７】処理量は、気象条件、製剤形態、処理時
期、処理方法、場所、対象雑草、対象作物等により異な
るが、通常、有効成分として、１アール当たり０．５ｇ
乃至１００ｇ、好ましくは、１ｇ乃至４０ｇであり、乳
剤、水和剤、懸濁剤等は、通常、その所定量を１アール
当たり１リットル乃至１０リットルの水（所望により、
界面活性剤、ポリオキシエチレン樹脂酸、リグニンスル
ホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホ
ン酸塩、パラフィンのような展着剤を添加できる。）で
希釈して処理し、粒剤等は、通常、何等希釈することな
く処理する。The treatment amount varies depending on weather conditions, formulation form, treatment time, treatment method, place, target weeds, target crops, etc., but usually 0.5 g per are as an active ingredient.
To 100 g, preferably 1 to 40 g, and emulsions, wettable powders, suspensions and the like are usually prepared in a predetermined amount of 1 liter to 10 liters of water per areal (if desired,
Spreading agents such as surfactants, polyoxyethylene resin acids, lignin sulfonates, abietates, dinaphthylmethane disulfonates, paraffins can be added. ), And then the granules and the like are usually treated without any dilution.

【０１５８】以下に実施例、製剤例及び試験例を挙げ
て、本発明の化合物を更に具体的に説明するが、本発明
はこれらに限られるものではない。The compounds of the present invention are described more specifically below with reference to Examples, Formulation Examples and Test Examples, but the present invention is not limited to these.

【０１５９】[0159]

【実施例】【Example】

【０１６０】[0160]

【実施例１】 ３−メチルチオ−４−メチル−５−（３−メチル−４−
ジメチルスルホニルアミノフェニル）−１，２，４−ト
リアゾール ３−メチルチオ−４−メチル−５−（３−メチル−４
−アミノフェニル）−１，２，４−トリアゾール：３−
メチルチオ−４−メチル−（３−メチル−４−ニトロフ
ェニル）−１，２，４−トリアゾール２３１ｍｇをエタ
ノール１ｍｌに溶かし、濃塩酸１ｍｌ次いで塩化第一錫
４３８ｍｇを０℃にて加えた。混合物を室温にて１時間
攪拌後、氷水中に投入した。１０％水酸化ナトリウム水
溶液にてｐＨ１０のアルカリ性とした後、ジクロルメタ
ンで抽出した。乾燥後、溶剤を留去することにより、標
記化合物を油状物として１４９ｍｇ（収率68.9％）得
た。Example 1 3-Methylthio-4-methyl-5- (3-methyl-4-
Dimethylsulfonylaminophenyl) -1,2,4-triazole 3-methylthio-4-methyl-5- (3-methyl-4)
-Aminophenyl) -1,2,4-triazole: 3-
231 mg of methylthio-4-methyl- (3-methyl-4-nitrophenyl) -1,2,4-triazole was dissolved in 1 ml of ethanol, and 1 ml of concentrated hydrochloric acid and then 438 mg of stannous chloride were added at 0 ° C. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour and then poured into ice water. The mixture was made alkaline with a 10% aqueous sodium hydroxide solution to have a pH of 10, and then extracted with dichloromethane. After drying, the solvent was distilled off to obtain 149 mg (yield 68.9%) of the title compound as an oily substance.

【０１６１】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.34(1H,br),
7.25(1H,dd,J=2.2,8.0Hz), 6.74(1H,d,J=8.0Hz), 3.55
(3H,s), 2.74(3H,s), 2.20(3H,s). Mass m/e 234(M⁺), 218, 201, 188, 132. ３−メチルチオ−４−メチル−５−（３−メチル−４
−ジメチルスルホニルアミノフェニル）−１，２，４−
トリアゾール：上記で得た化合物１４４ｍｇをジクロ
ルメタン３ｍｌに溶かし、トリエチルアミン０．２６ｍ
ｌ次いでメタンスルホニルクロリド０．１４ｍｌを加え
た。室温にて３０分攪拌後、塩化アンモニウム水を加え
た。ジクロルメタンで抽出し、抽出液を水洗後、乾燥し
た。溶剤を留去することにより、融点１０４〜１０８℃
を有する標記化合物を２４０ｍｇ（１００％）得た。 ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.34 (1H, br),
7.25 (1H, dd, J = 2.2,8.0Hz), 6.74 (1H, d, J = 8.0Hz), 3.55
(3H, s), 2.74 (3H, s), 2.20 (3H, s). Mass m / e 234 (M ⁺ ), 218, 201, 188, 132. 3-Methylthio-4-methyl-5- (3 -Methyl-4
-Dimethylsulfonylaminophenyl) -1,2,4-
Triazole: 144 mg of the compound obtained above was dissolved in 3 ml of dichloromethane, and 0.26 m of triethylamine was dissolved.
l then 0.14 ml of methanesulfonyl chloride was added. After stirring at room temperature for 30 minutes, aqueous ammonium chloride was added. It was extracted with dichloromethane and the extract was washed with water and dried. By distilling off the solvent, the melting point is 104 to 108 ° C.
240 mg (100%) of the title compound having

【０１６２】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.69(1H,br),
7.57(1H,dd,J=2.1,8.0Hz), 7.42(1H,d,J=8.0Hz), 3.64
(3H,s), 3.47(6H,s), 2.81(3H,s), 2.52(3H,s). Mass m/e 390(M⁺), 311, 295, 232, 216. ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.69 (1H, br),
7.57 (1H, dd, J = 2.1,8.0Hz), 7.42 (1H, d, J = 8.0Hz), 3.64
(3H, s), 3.47 (6H, s), 2.81 (3H, s), 2.52 (3H, s). Mass m / e 390 (M ⁺ ), 311, 295, 232, 216.

【０１６３】[0163]

【実施例２】 ３−メチルチオ−４−メチル−５−（３−メチル−４−
メチルスルホニルアミノフェニル）−１，２，４−トリ
アゾール 実施例１で得た化合物２８６ｍｇをジオキサン３ｍｌと
メタノール３ｍｌの混液に溶かし、これに１０％水酸化
ナトリウム２．８ｍｌを加えた。室温にて４０分攪拌
後、水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。水層を４Ｎ塩
酸にてｐＨ４とし、ジクロルメタンで抽出した。抽出液
を洗滌後、乾燥した。溶剤を留去することにより融点２
０６〜２１２℃を有する標記化合物を１６１ｍｇ（収率
70.4％）得た。Example 2 3-Methylthio-4-methyl-5- (3-methyl-4-
Methylsulfonylaminophenyl) -1,2,4-triazole 286 mg of the compound obtained in Example 1 was dissolved in a mixed solution of 3 ml of dioxane and 3 ml of methanol, and 2.8 ml of 10% sodium hydroxide was added thereto. After stirring at room temperature for 40 minutes, the mixture was diluted with water and extracted with ethyl acetate. The aqueous layer was adjusted to pH 4 with 4N hydrochloric acid and extracted with dichloromethane. The extract was washed and dried. Melting point 2 by distilling off the solvent
161 mg of the title compound having a temperature of 06-212 ° C (yield
70.4%) was obtained.

【０１６４】¹H-NMR(200MHz,DMSO-d₆) δ: 9.29(1H,s),
7.53-7.60(2H,m), 7.47(1H,d,J=8.2Hz), 3.60(3H,s),
3.08(3H,s), 2.66(3H,s), 2.39(3H,s). Mass m/e 312(M⁺), 233, 217, 131. ¹ H-NMR (200 MHz, DMSO-d ₆ ) δ: 9.29 (1H, s),
7.53-7.60 (2H, m), 7.47 (1H, d, J = 8.2Hz), 3.60 (3H, s),
3.08 (3H, s), 2.66 (3H, s), 2.39 (3H, s). Mass m / e 312 (M ⁺ ), 233, 217, 131.

【０１６５】[0165]

【実施例３】 ３−メチルスルホニル−４−メチル−５−（３−メチル
−４−メチルスルホニルアミノフェニル）−１，２，４
−トリアゾール 実施例２で得た化合物１３０ｍｇをジクロルエタン５ｍ
ｌに溶かし、メタクロル過安息香酸（８０％）２００ｍ
ｇを加えた。５０℃にて２時間攪拌後、亜硫酸ナトリウ
ム水で希釈した。ジクロルメタンで抽出し、抽出液を重
曹水次いで水で洗滌した。乾燥後、溶剤を留去し、得ら
れた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出剤、酢酸エチル）で精製し、融点２２２〜２２３℃を
有する標記化合物を８２ｍｇ（収率57.1％）得た。Example 3 3-Methylsulfonyl-4-methyl-5- (3-methyl-4-methylsulfonylaminophenyl) -1,2,4
-Triazole 130 mg of the compound obtained in Example 2 were treated with 5 ml of dichloroethane.
Dissolve in l, metachloroperbenzoic acid (80%) 200m
g was added. After stirring at 50 ° C. for 2 hours, the mixture was diluted with aqueous sodium sulfite. It was extracted with dichloromethane and the extract was washed with aqueous sodium hydrogen carbonate and then with water. After drying, the solvent was distilled off, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent, ethyl acetate) to obtain 82 mg (yield 57.1%) of the title compound having a melting point of 222 to 223 ° C.

【０１６６】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.69(1H,d,J=
8.4Hz), 7.57(1H,br), 7.49(1H,dd,J=2.2,8.4Hz), 6.46
(1H,br), 3.97(3H,s), 3.60(3H,s), 3.13(3H,s), 2.39
(3H,s). Mass m/e 344(M⁺). ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.69 (1H, d, J =
8.4Hz), 7.57 (1H, br), 7.49 (1H, dd, J = 2.2,8.4Hz), 6.46
(1H, br), 3.97 (3H, s), 3.60 (3H, s), 3.13 (3H, s), 2.39
(3H, s). Mass m / e 344 (M ⁺ ).

【０１６７】[0167]

【実施例４】 ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メチ
ル−５−（３−メチル−４−メチルスルホニルアミノフ
ェニル）−１，２，４−トリアゾール 実施例３で得た化合物１７２ｍｇをジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）５ｍｌに溶かし、氷冷下、２，２，２−ト
リフルオロエタノール４４μｌ、次いで、水素化ナトリ
ウム２４ｍｇを加えた。室温にて３．５時間攪拌後、塩
化アンモニウム水で希釈した。酢酸エチルで抽出後、水
洗し乾燥した。溶剤を留去後、得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出剤、酢酸エチル）
で精製し融点１６４〜１６５℃を有する標記化合物を１
５６ｍｇ（収率85.6％）得た。Example 4 3- (2,2,2-Trifluoroethoxy) -4-methyl-5- (3-methyl-4-methylsulfonylaminophenyl) -1,2,4-triazole Obtained in Example 3. Compound 172 mg was dissolved in dimethylformamide (DMF) 5 ml, and 2,2,2-trifluoroethanol 44 μl and then sodium hydride 24 mg were added under ice cooling. After stirring at room temperature for 3.5 hours, the mixture was diluted with aqueous ammonium chloride. After extraction with ethyl acetate, the extract was washed with water and dried. After evaporating the solvent, the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent, ethyl acetate).
And the title compound having a melting point of 164-165 ° C.
56 mg (yield 85.6%) was obtained.

【０１６８】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.61(1H,d,J=
8.3Hz), 7.56(1H,br), 7.45(1H,dd,J=2.0,8.3Hz), 6.60
(1H,br.s), 4.91(2H,q,J=8.1Hz), 3.54(3H,s), 3.09(3
H,s), 2.37(3H,s). Mass m/e : 364(M⁺), 285, 146, 131. ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.61 (1 H, d, J =
8.3Hz), 7.56 (1H, br), 7.45 (1H, dd, J = 2.0,8.3Hz), 6.60
(1H, br.s), 4.91 (2H, q, J = 8.1Hz), 3.54 (3H, s), 3.09 (3
H, s), 2.37 (3H, s). Mass m / e: 364 (M ⁺ ), 285, 146, 131.

【０１６９】[0169]

【実施例５】 ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メチ
ル−５−｛２−ビス（メチルスルホニル）アミノフェニ
ル｝−１，２，４−トリアゾール ３−メチルスルホニル−４−メチル−５−（２−ニト
ロフェニル）−１，２，４−トリアゾール：３−メチル
チオ−４−メチル−５−（２−ニトロフェニル）−１，
２，４−トリアゾール１２．１６ｇをジクロルエタン１
２０ｍｌに溶かし、これに０℃にてメタクロル過安息香
酸（８０％）２３．０６ｇを加えた。同温度にて３０分
攪拌後、室温にて２．５時間攪拌した。亜硫酸ナトリウ
ム水溶液を加え希釈後、ジクロルメタンにて抽出した。
抽出液を重曹水、次いで水で洗滌後、乾燥した。溶剤留
去後、得られた粗結晶をヘキサンで洗滌し、融点１７７
〜１７９℃を有する標記化合物を１２．３４ｇ（収率8
9.9％）得た。Example 5 3- (2,2,2-trifluoroethoxy) -4-methyl-5- {2-bis (methylsulfonyl) aminophenyl} -1,2,4-triazole 3-methylsulfonyl-4 -Methyl-5- (2-nitrophenyl) -1,2,4-triazole: 3-methylthio-4-methyl-5- (2-nitrophenyl) -1,
12.16 g of 2,4-triazole was added to dichloroethane 1
After being dissolved in 20 ml, 23.06 g of metachloroperbenzoic acid (80%) was added at 0 ° C. After stirring at the same temperature for 30 minutes, the mixture was stirred at room temperature for 2.5 hours. The mixture was diluted with an aqueous solution of sodium sulfite and then extracted with dichloromethane.
The extract was washed with aqueous sodium hydrogen carbonate and then with water, and dried. After distilling off the solvent, the obtained crude crystals are washed with hexane to give a melting point of 177.
12.34 g (8% yield) of the title compound having ~ 179 ° C.
9.9%) obtained.

【０１７０】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 8.32-8.38(1H,
m), 7.83-7.89(2H,m), 7.58-7.63(1H,m), 3.75(3H,s),
3.61(3H,s). Mass m/e : 282(M⁺), 252, 173, 149, 134, 117. ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メ
チル−５−（２−ニトロフェニル）−１，２，４−トリ
アゾール：上記で得た化合物５．８９ｇを、ＤＭＦ４
０ｍｌと２，２，２−トリフルオロエタノール１．８２
ｍｌの混液に可溶化後、０℃にて、水素化ナトリウム
（６０％）１．００ｇを加えた。同温度で３０分攪拌
後、５０℃にて３時間攪拌した。塩化アンモニウム水に
て希釈後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗
滌後、乾燥した。溶剤留去後、得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出剤、ヘキサン：酢
酸エチル＝１：１）に付し、融点７０〜７１℃を有する
標記化合物を４．８３ｇ（収率76.5％）得た。 ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 8.32-8.38 (1 H,
m), 7.83-7.89 (2H, m), 7.58-7.63 (1H, m), 3.75 (3H, s),
3.61 (3H, s). Mass m / e: 282 (M ⁺ ), 252, 173, 149, 134, 117. 3- (2,2,2-trifluoroethoxy) -4-methyl-5- (2 -Nitrophenyl) -1,2,4-triazole: 5.89 g of the compound obtained above was added to DMF4.
0 ml and 2,2,2-trifluoroethanol 1.82
After solubilization in a mixed solution of ml, 1.00 g of sodium hydride (60%) was added at 0 ° C. After stirring at the same temperature for 30 minutes, the mixture was stirred at 50 ° C. for 3 hours. The mixture was diluted with aqueous ammonium chloride and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried. After evaporating the solvent, the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent, hexane: ethyl acetate = 1: 1) to give 4.83 g (yield 76.5%) of the title compound having a melting point of 70 to 71 ° C. )Obtained.

【０１７１】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 8.24-8.28(1H,
m), 7.72-7.85(2H,m), 7.60-7.65(1H,m), 4.93(2H,q,J=
8.0Hz), 3.30(3H,s). Mass m/e : 302(M⁺), 286, 272, 257, 244, 227, 203,
188, 173, 134. ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メ
チル−５−（２−アミノフェニル）−１，２，４−トリ
アゾール：上記で得た化合物４．５７ｇをエタノール
５０ｍｌに溶かし、これに０℃にて、濃塩酸１５ｍｌを
加え、さらに塩化第一錫７．７ｇを加えた。室温にて１
時間攪拌後、５０〜６０℃にて３時間攪拌した。冷後、
１０％苛性ソーダ水にてｐＨ１０とし、酢酸エチルで抽
出した。抽出液を食塩水で洗滌後、乾燥した。溶剤留去
後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出剤、ヘキサン：酢酸エチル１：１）に付し、
融点７０〜７３℃を有する標記化合物２．６０ｇ（収率
63.1％）得た。 ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 8.24-8.28 (1H,
m), 7.72-7.85 (2H, m), 7.60-7.65 (1H, m), 4.93 (2H, q, J =
8.0Hz), 3.30 (3H, s). Mass m / e: 302 (M ⁺ ), 286, 272, 257, 244, 227, 203,
188, 173, 134. 3- (2,2,2-trifluoroethoxy) -4-methyl-5- (2-aminophenyl) -1,2,4-triazole: 4.57 g of the compound obtained above It was dissolved in 50 ml of ethanol, 15 ml of concentrated hydrochloric acid was added thereto at 0 ° C., and 7.7 g of stannous chloride was further added. 1 at room temperature
After stirring for an hour, the mixture was stirred at 50-60 ° C for 3 hours. After cooling
The pH was adjusted to 10 with 10% caustic soda water, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried. After evaporating the solvent, the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent, hexane: ethyl acetate 1: 1),
2.60 g of the title compound having a melting point of 70-73 ° C (yield
63.1%) was obtained.

【０１７２】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.18-7.23(2H,
m), 6.75-6.83(2H,m), 6.81(2H,q,J=8.4Hz), 3.51(3H,
s). Mass m/e : 272(M⁺), 254, 216, 203, 188, 173, 133,
118, 104. ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メ
チル−５−｛２−ビス（メチルスルホニル）アミノフェ
ニル｝−１，２，４−トリアゾール：上記で得た化合
物７００ｍｇをジクロルメタン７ｍｌに溶かし、これに
０℃にて、トリエチルアミン１．０７ｍｌ次いでメタン
スルホニルクロリド０．６０ｍｌを滴加した。同温度に
て３０分攪拌後、室温にて３０分攪拌した。塩化アンモ
ニウム水にて希釈後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗滌後、乾燥した。溶剤留去後、残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出剤、ヘキサン：
酢酸エチル＝１：１）に付し、融点５３〜６０℃を有す
る標記化合物９８４ｍｇ（収率89.4％）得た。 ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.18-7.23 (2H,
m), 6.75-6.83 (2H, m), 6.81 (2H, q, J = 8.4Hz), 3.51 (3H,
s). Mass m / e: 272 (M ⁺ ), 254, 216, 203, 188, 173, 133,
118, 104. 3- (2,2,2-Trifluoroethoxy) -4-methyl-5- {2-bis (methylsulfonyl) aminophenyl} -1,2,4-triazole: 700 mg of the compound obtained above Was dissolved in 7 ml of dichloromethane, to which 1.07 ml of triethylamine and then 0.60 ml of methanesulfonyl chloride were added dropwise at 0 ° C. After stirring at the same temperature for 30 minutes, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The mixture was diluted with aqueous ammonium chloride and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried. After the solvent was distilled off, the residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent, hexane:
This was subjected to ethyl acetate = 1: 1) to obtain 984 mg (yield 89.4%) of the title compound having a melting point of 53-60 ° C.

【０１７３】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.56-7.66(3H,
m), 7.41-7.45(1H,m), 4.90(2H,q,J=8.1Hz), 3.53(6H,
s), 3.36(3H,s). Mass m/e : 428(M⁺), 409, 349, 335, 285, 270, 256,
188, 167, 159. ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.56-7.66 (3H,
m), 7.41-7.45 (1H, m), 4.90 (2H, q, J = 8.1Hz), 3.53 (6H,
s), 3.36 (3H, s). Mass m / e: 428 (M ⁺ ), 409, 349, 335, 285, 270, 256,
188, 167, 159.

【０１７４】[0174]

【実施例６】 ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メチ
ル−５−（２−メチルスルホニルアミノフェニル）−
１，２，４−トリアゾール 実施例５で得た化合物７４４ｍｇをテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）５ｍｌに溶かし、これに１０％苛性ソーダ水
５ｍｌ加え、室温にて１時間攪拌した。２Ｎ塩酸にて中
和し、酢酸エチルにて抽出した。抽出液を食塩水で洗滌
後、乾燥した。溶剤を留去後、得られた残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出剤、ヘキサン：酢
酸エチル＝１：１）に付し、融点１２８〜１３０℃を有
する標記化合物を５４６ｍｇ（収率89.6％）得た。Example 6 3- (2,2,2-trifluoroethoxy) -4-methyl-5- (2-methylsulfonylaminophenyl)-
1,2,4-Triazole 744 mg of the compound obtained in Example 5 was dissolved in 5 ml of tetrahydrofuran (THF), 5 ml of 10% sodium hydroxide solution was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The mixture was neutralized with 2N hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with brine and dried. After evaporating the solvent, the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography (eluent, hexane: ethyl acetate = 1: 1) to give 546 mg (yield 89.6%) of the title compound having a melting point of 128 to 130 ° C. Obtained.

【０１７５】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 9.61-9.63(1H,
br), 7.80(1H,d,J=8.2Hz), 7.39-7.53(2H,m), 7.20-7.2
8(1H,m), 4.92(2H,q,J=8.0Hz), 3.60(3H,s), 3.08(3H,
s). Mass m/e : 350(M⁺), 335, 319, 281, 271, 256, 202,
186, 167, 159, 146, 132. ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 9.61-9.63 (1H,
br), 7.80 (1H, d, J = 8.2Hz), 7.39-7.53 (2H, m), 7.20-7.2
8 (1H, m), 4.92 (2H, q, J = 8.0Hz), 3.60 (3H, s), 3.08 (3H,
s). Mass m / e: 350 (M ⁺ ), 335, 319, 281, 271, 256, 202,
186, 167, 159, 146, 132.

【０１７６】[0176]

【実施例７】 ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メチ
ル−５−（２，４−ジクロル−５−Ｎ−メチル−Ｎ−メ
チルスルホニルアミノフェニル）−１，２，４−トリア
ゾール 水素化ナトリウム（６０％）２３ｍｇをＴＨＦ３ｍｌに
懸濁後、３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−
４−メチル−５−（２，４−ジクロル−５−メチルスル
ホニルアミノフェニル）−１，２，４−トリアゾール２
００ｍｇをＤＭＦ３ｍｌに溶かした溶液を加えた。室温
にて３０分攪拌後、沃化メチル０．９０ｍｌを加えた。
さらに室温にて２時間攪拌後、塩化アンモニウム水で希
釈した。酢酸エチル抽出液を食塩水で洗滌後乾燥した。
溶剤を留去後、得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶出剤、酢酸エチル）で精製し標記化
合物をアモルファスとして、１５０ｍｇ（収率72.3％）
得た。Example 7 3- (2,2,2-trifluoroethoxy) -4-methyl-5- (2,4-dichloro-5-N-methyl-N-methylsulfonylaminophenyl) -1,2, After suspending 23 mg of 4-triazole sodium hydride (60%) in 3 ml of THF, 3- (2,2,2-trifluoroethoxy)-
4-Methyl-5- (2,4-dichloro-5-methylsulfonylaminophenyl) -1,2,4-triazole 2
A solution prepared by dissolving 00 mg in 3 ml of DMF was added. After stirring at room temperature for 30 minutes, 0.90 ml of methyl iodide was added.
After stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was diluted with aqueous ammonium chloride. The ethyl acetate extract was washed with brine and dried.
After evaporating the solvent, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent, ethyl acetate) to give the title compound as an amorphous substance, 150 mg (yield 72.3%)
Obtained.

【０１７７】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.68(1H,s),
7.63(2H,s), 4.92(2H,q,J=8.1Hz), 3.40(3H,s), 3.30(3
H,s), 3.06(3H,s). Mass m/e : 432(M⁺), 413, 353, 335, 319, 293, 270,
235, 213, 199. ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.68 (1H, s),
7.63 (2H, s), 4.92 (2H, q, J = 8.1Hz), 3.40 (3H, s), 3.30 (3
H, s), 3.06 (3H, s). Mass m / e: 432 (M ⁺ ), 413, 353, 335, 319, 293, 270,
235, 213, 199.

【０１７８】[0178]

【実施例８】 ３−（３，３，３−トリフルオロエトキシ）−４−メチ
ル−５−（２，４−ジクロル−５−ニトロフェニル）−
１，２，４−トリアゾール ３−メチルスルホニル−４−メチル−５−（２，４−
ジクロルフェニル）−１，２，４−トリアゾール ３−メチルチオ−４−メチル−５−（２，４−ジクロル
フェニル）−１，２，４−トリアゾール８．２９ｇをジ
クロルエタン７５ｍｌに溶かし、これに０℃にて、メタ
クロル過安息香酸（８０％）１４．３５ｇを加えた。室
温にて２．５時間攪拌後、亜硫酸ナトリウム水溶液に注
加した。ジクロルメタン抽出液を重曹水、次いで水で洗
滌後、乾燥した。溶剤留去後、ヘキサンで洗滌し、融点
１３２〜１３５℃を有する標記化合物を８．４９ｇ（収
率92％）得た。Example 8 3- (3,3,3-trifluoroethoxy) -4-methyl-5- (2,4-dichloro-5-nitrophenyl)-
1,2,4-triazole 3-methylsulfonyl-4-methyl-5- (2,4-
Dichlorophenyl) -1,2,4-triazole 3-methylthio-4-methyl-5- (2,4-dichlorophenyl) -1,2,4-triazole (8.29 g) was dissolved in dichloroethane (75 ml). At 0 ° C., 14.35 g of metachloroperbenzoic acid (80%) was added. After stirring at room temperature for 2.5 hours, it was poured into an aqueous sodium sulfite solution. The dichloromethane extract was washed with aqueous sodium hydrogen carbonate and then with water, and dried. After distilling off the solvent, the residue was washed with hexane to obtain 8.49 g (yield 92%) of the title compound having a melting point of 132 to 135 ° C.

【０１７９】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.61(1H,t,J=1
Hz), 7.46(2H,d,J=1Hz), 3.80(3H,s), 3.61(3H,s). Mass m/e : 305(M⁺), 270, 226, 206, 171. ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メ
チル−５−（２，４−ジクロルフェニル）−１，２，４
−トリアゾール 上記で得た化合物２．０５ｇと２，２，２−トリフル
オロエタノール０．５８ｍｌをＤＭＦ１５ｍｌに混和
し、これに０℃にて、水素化ナトリウム（６０％）０．
３２ｇを加えた。同温度で１時間攪拌後、室温にて７時
間攪拌した。反応液を塩化アンモニウム水溶液中に注加
し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗後、乾燥し
た。溶剤留去後、得られた粗結晶をヘキサンで洗滌する
ことにより、融点１４５〜１４６℃を有する標記化合物
を２．０６ｇ（収率94％）得た。 ¹ H-NMR (200MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.61 (1H, t, J = 1
Hz), 7.46 (2H, d, J = 1Hz), 3.80 (3H, s), 3.61 (3H, s). Mass m / e: 305 (M ⁺ ), 270, 226, 206, 171.3- ( 2,2,2-Trifluoroethoxy) -4-methyl-5- (2,4-dichlorophenyl) -1,2,4
-Triazole 2.05 g of the compound obtained above and 0.58 ml of 2,2,2-trifluoroethanol were mixed with 15 ml of DMF, and sodium hydride (60%) of 0.
32 g was added. After stirring at the same temperature for 1 hour, the mixture was stirred at room temperature for 7 hours. The reaction solution was poured into an aqueous solution of ammonium chloride and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with water and dried. After the solvent was distilled off, the obtained crude crystals were washed with hexane to obtain 2.06 g (yield 94%) of the title compound having a melting point of 145 to 146 ° C.

【０１８０】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.56(1H,d,J=2
Hz), 7.48(1H,d,J=8Hz), 7.41(1H,dd,J=8,2Hz), 4.92(2
H,q,J=8Hz), 3.37(3H,s). Mass m/e : 325(M⁺), 306, 290, 256, 186. ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メ
チル−５−（２，４−ジクロル−５−ニトロフェニル）
−１，２，４−トリアゾール 上記で得た化合物１．８９ｇを濃硫酸１２ｍｌに溶か
し、これに０℃にて濃硝酸０．５３ｍｌを滴加した。混
合物を同温度で５分間攪拌後、室温にて３時間攪拌し
た。氷水中に注加後、ジクロルメタンにて抽出した。抽
出液を水洗後、乾燥した。溶剤を留去後、得られた粗結
晶をヘキサンで洗滌することにより、融点１１０〜１１
２℃を有する標記化合物を２．１５ｇ（収率99％）得
た。 ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.56 (1 H, d, J = 2
Hz), 7.48 (1H, d, J = 8Hz), 7.41 (1H, dd, J = 8,2Hz), 4.92 (2
H, q, J = 8Hz), 3.37 (3H, s). Mass m / e: 325 (M ⁺ ), 306, 290, 256, 186.3- (2,2,2-trifluoroethoxy) -4 -Methyl-5- (2,4-dichloro-5-nitrophenyl)
-1,2,4-Triazole 1.89 g of the compound obtained above was dissolved in 12 ml of concentrated sulfuric acid, and 0.53 ml of concentrated nitric acid was added dropwise thereto at 0 ° C. The mixture was stirred at the same temperature for 5 minutes and then at room temperature for 3 hours. After pouring into ice water, the mixture was extracted with dichloromethane. The extract was washed with water and dried. After distilling off the solvent, the crude crystals obtained are washed with hexane to give a melting point of 110-11.
2.15 g (99% yield) of the title compound having a temperature of 2 ° C. were obtained.

【０１８１】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 8.14(1H,s),
7.78(1H,s), 4.93(2H,q,J=8Hz), 3.42(3H,s). Mass m/e : 370(M⁺), 309, 231, 185. ¹ H-NMR (200MHz, CDCl ₃ ) δ: 8.14 (1H, s),
7.78 (1H, s), 4.93 (2H, q, J = 8Hz), 3.42 (3H, s). Mass m / e: 370 (M ⁺ ), 309, 231, 185.

【０１８２】[0182]

【実施例９】 ３−メチルスルホニル−４−メチル−５−（２，４−ジ
クロル−５−ニトロフェニル）−１，２，４−トリアゾ
ール：実施例８で得た化合物０．４６ｇを濃硫酸１０
ｍｌに溶かし、濃硝酸０．３８ｇを滴加した。混合物を
室温にて３時間攪拌後、氷水中に投入し、ジクロルメタ
ンにて抽出した。抽出液を水洗後、乾燥した。溶剤を留
去後、得られた粗結晶をヘキサンで洗滌し融点１９３〜
１９６℃を有する標記化合物を０．４８ｇ（収率91％）
得た。Example 9 3-Methylsulfonyl-4-methyl-5- (2,4-dichloro-5-nitrophenyl) -1,2,4-triazole: 0.46 g of the compound obtained in Example 8 was concentrated sulfuric acid. 10
It was dissolved in ml and 0.38 g of concentrated nitric acid was added dropwise. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours, poured into ice water, and extracted with dichloromethane. The extract was washed with water and dried. After distilling off the solvent, the obtained crude crystals were washed with hexane to give a melting point of 193-
0.48 g of the title compound having 196 ° C (yield 91%)
Obtained.

【０１８３】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃+DMSOd₆)δ: 8.10(1
H,s), 7.75(1H,s), 3.73(3H,s), 3.49(3H,s). Mass m/e : 350(M⁺), 315, 286, 271, 225. ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ + DMSOd ₆ ) δ: 8.10 (1
H, s), 7.75 (1H, s), 3.73 (3H, s), 3.49 (3H, s). Mass m / e: 350 (M ⁺ ), 315, 286, 271, 225.

【０１８４】[0184]

【実施例１０】 ３−クロロ−４−メチル−５−（２，４−ジクロルフェ
ニル）−１，２，４−トリアゾール ３−メルカプト−４−メチル−５−（２，４−ジクロル
フェニル）−１，２，４−トリアゾール０．８６ｇをジ
クロロメタン３０ｍｌに溶解して、室温下、塩素ガスを
１時間通じた。反応液をジクロロメタン５０ｍｌで希釈
し、水で洗浄後乾燥した。溶剤を留去することによっ
て、融点１５７〜１５８℃を有する標記化合物を０．６
０ｇ（収率６９％）得た。Example 10 3-Chloro-4-methyl-5- (2,4-dichlorophenyl) -1,2,4-triazole 3-mercapto-4-methyl-5- (2,4-dichlorophenyl) ) -1,2,4-Triazole (0.86 g) was dissolved in dichloromethane (30 ml), and chlorine gas was bubbled through at room temperature for 1 hour. The reaction solution was diluted with 50 ml of dichloromethane, washed with water and dried. By distilling off the solvent, the title compound having a melting point of 157-158 ° C.
0 g (yield 69%) was obtained.

【０１８５】¹H-NMR(200MHz,CDCl₃) δ: 7.58-7.57(1H,
m), 7.50-7.40(2H,m), 3.51(3H,s). Mass m/e : 261(M⁺), 226, 171, 136, 100, 76. ¹ H-NMR (200 MHz, CDCl ₃ ) δ: 7.58-7.57 (1 H,
m), 7.50-7.40 (2H, m), 3.51 (3H, s). Mass m / e: 261 (M ⁺ ), 226, 171, 136, 100, 76.

【０１８６】[0186]

【実施例１１】 ３−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−４−メチ
ル−５−（２，４−ジクロルフェニル）−１，２，４−
トリアゾール 実施例１０で得た３−クロロ−４−メチル−５−（２，
４−ジクロルフェニル）−１，２，４−トリアゾール
０．２ｇと２，２，２−トリフルオロエタノール（０．
０８ｍｌ）をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）５ｍｌに
混和し、これに室温下水素化ナトリウム（６０％）０．
０５ｍｇを加えた。同温度で２時間攪拌後、８０℃にて
３．５時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却後、塩
化アンモニウム水溶液に注加し、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を水洗後乾燥した。溶剤留去後、得られた粗
結晶をヘキサンで洗浄することにより、融点１４５−１
４６℃を有する標記化合物を０．２１ｇ（収率８６％）
得た。Example 11 3- (2,2,2-trifluoroethoxy) -4-methyl-5- (2,4-dichlorophenyl) -1,2,4-
Triazole 3-chloro-4-methyl-5- (2, obtained in Example 10
0.2 g of 4-dichlorophenyl) -1,2,4-triazole and 2,2,2-trifluoroethanol (0.
(08 ml) was mixed with 5 ml of dimethylformamide (DMF), and sodium hydride (60%) of 0.
05 mg was added. After stirring at the same temperature for 2 hours, the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 3.5 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, poured into an aqueous ammonium chloride solution, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with water and dried. After the solvent was distilled off, the obtained crude crystals were washed with hexane to give a melting point of 145-1.
0.21 g (86% yield) of the title compound having 46 ° C.
Obtained.

【０１８７】[0187]

【製剤例】[Formulation example]

【０１８８】[0188]

【製剤例１】 （水和剤）化合物番号４００番の化合物２５％、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩２．５％、リグニン
スルホン酸カルシウム塩２．５％及び珪藻土７０％をよ
く粉砕混合して水和剤を得た。[Formulation Example 1] (Wettable powder) 25% of compound No. 400, 2.5% of sodium salt of dodecylbenzene sulfonic acid, 2.5% of calcium salt of lignin sulfonic acid and 70% of diatomaceous earth are well ground and mixed, and water is added. I got a Japanese medicine.

【０１８９】[0189]

【製剤例２】 （乳剤）化合物番号２１６番の化合物３０％、ドデシル
ベンゼンスルホン酸カルシウム塩２．６８％、ポリエオ
キシエチレンアルキルエーテル４．９２％、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテルリン酸カルシウム塩
０．４％及びキシレン６２％をよく混合して乳剤を得
た。[Formulation Example 2] (Emulsion) Compound No. 216, 30%, dodecylbenzenesulfonic acid calcium salt, 2.68%, polyoxyethylene alkyl ether 4.92%, polyoxyethylene nonylphenyl ether calcium phosphate, 0.4% And 62% of xylene were mixed well to obtain an emulsion.

【０１９０】[0190]

【製剤例３】 （粒剤）化合物番号３７０番の化合物５％、ホワイトカ
ーボン１％、リグニンスルホン酸カルシウム塩５％、ベ
ントナイト２０％及びクレー６９％をよく粉砕混合し、
水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得
た。[Formulation Example 3] (Granule) 5% of the compound No. 370, 5% of white carbon, 5% of lignin sulfonic acid calcium salt, 20% of bentonite and 69% of clay are well pulverized and mixed,
After adding water and kneading well, it was granulated and dried to obtain granules.

【０１９１】[0191]

【製剤例４】 （粒剤）化合物番号１７８番の化合物５％、ラウリルア
ルコール硫酸エステルナトリウム塩２％、リグニンスル
ホン酸ナトリウム塩５％、カルボキシメチルセルロース
ナトリウム塩２％、炭酸カルシウム６６％及びベントナ
イト２０％を均一に混合し粉砕した。この混合物１００
重量部に水２０重量部を加えて練合し、押出式造粒機を
用いて、１４〜３２メッシュの粒状に加工した後、乾燥
して粒剤を得た。[Formulation Example 4] (Granule) Compound No. 178, compound 5%, lauryl alcohol sulfate sodium salt 2%, ligninsulfonic acid sodium salt 5%, carboxymethylcellulose sodium salt 2%, calcium carbonate 66% and bentonite 20% Were uniformly mixed and pulverized. This mixture 100
20 parts by weight of water was added to the parts by weight, and the mixture was kneaded, processed into granules of 14 to 32 mesh using an extrusion type granulator, and then dried to obtain granules.

【０１９２】[0192]

【製剤例５】 （水和顆粒）化合物番号５４６番の化合物８０％、特殊
ポリカルボン酸重合物ナトリウム塩１．２５％、水３．
７５％、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩３
％、デキストリン７％及び酸化チタン５％を混合し、次
いでエアーミルで粉砕し、回転ミキサー又は流動床ミキ
サー中に加え、水を噴霧して顆粒化させた。大部分が
１．０−０．１５ｍｍになったら顆粒を取り出し、乾燥
後、篩にかけた。オーバーサイズの物質を粉砕し、１．
０−０．１５ｍｍの顆粒を得た。[Formulation Example 5] (Hydrated granules) Compound No. 546, compound 80%, special polycarboxylic acid polymer sodium salt 1.25%, water 3.
75%, dodecylbenzene sulfonic acid sodium salt 3
%, Dextrin 7% and titanium oxide 5% were mixed, then ground in an air mill, added to a rotary mixer or fluidized bed mixer, and sprayed with water to granulate. The granules were taken out when the majority became 1.0-0.15 mm, dried, and sieved. Grind oversized material, 1.
Granules of 0-0.15 mm were obtained.

【０１９３】[0193]

【製剤例６】 （水性懸濁液）化合物番号２０４番の化合物２５部、ナ
トリウムジオクチルスルホサクシネート０．７部、プロ
ピレングリコール０．１５部、リグニンスルホン酸カル
シウム塩１０部、水４４．１５部及びプロピレングリコ
ール１０部を固形粒子が５ミクロン以下の直径に減少さ
れるまで、ボールミル、サンドミル又はローラーミル中
で一緒に粉砕した。この粉砕スラリー９０部に０．０５
％（Ｗ／Ｗ）キサンタンガム水溶液１０部を加えて混合
し、水性懸濁液を得た。[Formulation Example 6] (Aqueous suspension) 25 parts of compound No. 204, 0.7 part of sodium dioctyl sulfosuccinate, 0.15 part of propylene glycol, 10 parts of lignin sulfonic acid calcium salt, 44.15 parts of water And 10 parts of propylene glycol were milled together in a ball mill, sand mill or roller mill until the solid particles were reduced to a diameter of 5 microns or less. 0.05 parts to 90 parts of this crushed slurry
% (W / W) xanthan gum aqueous solution (10 parts) was added and mixed to obtain an aqueous suspension.

【０１９４】[0194]

【試験例】[Test example]

【０１９５】[0195]

【試験例１】 水田発芽前処理 １００ｃｍ² ポットに水田土壌を充填し、休眠覚醒した
タイヌビエ、ホタルイの種子を表層１ｃｍに混和した。
また、休眠覚醒したミズガヤツリ、クログワイの塊茎を
植え、さらに２葉期の水稲の苗を移植して湛水状態と
し、温室で生育させた。３日後に製剤例１で調製した水
和剤を用いて所定の薬量を湛水土壌処理し、２８日後に
次に示す判定基準に従って調査を行なった。その結果を
表２１に示した。[Test Example 1] Pre-germination treatment for paddy field A 100 cm ² pot was filled with paddy field soil, and seeds of the denim awakened firefly and firefly were mixed into the surface layer of 1 cm.
In addition, tubers of cypress and kurogwai, which had been awakened from dormancy, were planted, and seedlings of paddy rice at the two-leaf stage were further transplanted into a submerged state and grown in a greenhouse. After 3 days, the wettable powder prepared in Formulation Example 1 was used to treat the submerged soil with a predetermined amount, and 28 days later, an investigation was conducted according to the following criteria. The results are shown in Table 21.

【０１９６】（判定基準） ０ 生育抑制率 ０− １０％ １ 生育抑制率 １１− ３０％ ２ 生育抑制率 ３１− ５０％ ３ 生育抑制率 ５１− ７０％ ４ 生育抑制率 ７１− ９０％ ５ 生育抑制率 ９１−１００％ 表２１において、ＥＯはタイヌビエを、ＢＬは広葉雑草
を、ＳＪはホタルイを、ＣＳはミズガヤツリを、ＥＫは
クログワイを、ＯＳは水稲を、それぞれ示し、「−」は
未試験を示す。(Judgment criteria) 0 Growth inhibition rate 0-10% 1 Growth inhibition rate 11-30% 2 Growth inhibition rate 31-50% 3 Growth inhibition rate 51-70% 4 Growth inhibition rate 71-90% 5 Growth inhibition Rate 91-100% In Table 21, EO indicates Taenia japonica, BL indicates broadleaf weeds, SJ indicates firefly, CS indicates Mizugaya, EK indicates Kurogwai, OS indicates paddy rice, and "-" indicates untested. Show.

【０１９７】[0197]

【表２１】 ───────────────────────────────── 化合物番号 薬量(g/a) ＥＯ ＢＬ ＳＪ ＣＳ ＥＫ ＯＳ ───────────────────────────────── ３６ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ １ ４５ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ ０ ４６ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ １ ６７ ２０ １ ５ １ − − ０ ７３ ２０ ３ ０ ４ ５ ５ ０ ７４ ２０ ５ ３ ５ ５ ５ ０ ７８ ２０ １ １ ４ ５ ５ ０ ８２ ５ ２ ５ ４ ５ ５ ０ １２８ ２０ ５ ２ ２ ０ ０ ０ １４７ ２０ ３ ４ ２ ２ ２ ０ １５３ ２０ ５ ０ ３ ２ ０ ０ １７４ ２０ ３ ３ ３ ０ ０ ０ １７８ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ １８３ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ １９０ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ １ １９７ ２０ ５ ３ ５ ５ ５ ０ ２０４ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ２０５ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ２０６ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ １ ２０７ ２０ ５ ５ ５ ４ ５ ０ ２０８ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ １ ２０９ ２０ ５ ２ ３ １ １ ０ ２１０ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ２１２ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ １ ２１３ ２０ ５ ２ ４ ２ ３ ０ ２１４ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ２ ２１６ ２０ ４ ５ ４ ４ ４ ０ ２３０ ２０ ４ ４ ５ ５ ５ ０ ２３５ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ２４４ ２０ ２ ５ ４ ２ ５ ０ ２６０ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ２６９ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ ０ ３１４ ２０ ２ ４ ４ ５ ４ ０ ３２３ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ １ ３２８ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ４ ３３４ ２０ １ ５ ３ ３ ４ １ ３３７ ２０ ３ ５ ０ ２ ２ ０ ３４０ ２０ ３ ５ ５ ３ ４ ０ ３４６ ２０ ２ ３ ５ １ ５ ０ ３４７ ２０ １ ０ ５ ０ ４ ０ ３５０ ２０ ５ ５ ４ ５ ５ １ ３５６ ２０ ５ ３ ５ ５ ５ ０ ３５７ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ３５８ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ３５９ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ ０ ３６３ ２０ ５ ２ ５ ４ ５ ０ ３６４ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ １ ３６５ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ３６６ ２０ ５ ４ ５ ４ ５ ０ ３７０ ２０ ５ ０ ５ ４ ４ ０ ３７１ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ ０ ３７６ ２０ ５ ４ ３ ４ ５ ０ ３８１ ２０ ５ ３ ５ ５ ５ ２ ３８４ ２０ ４ ４ ４ ３ ３ ０ ３８５ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ ０ ３８７ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ３９９ ２０ ３ １ ５ ５ ５ ０ ４００ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ ０ ４０１ ２０ ５ １ ５ ０ １ ０ ４０２ ２０ ５ ４ ５ ５ ４ ０ ４２０ ２０ ５ ０ ２ ０ ０ ０ ４２１ ２０ ５ １ ３ ４ ４ ０ ４８１ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ ０ ５２３ ２０ ５ ４ ５ ５ ５ ３ ５４６ ２０ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ５６１ ２０ ３ ５ ５ ５ ５ ０ ５６２ ２０ ４ ５ ５ ５ ５ ０ ─────────────────────────────────[Table 21] ───────────────────────────────── Compound number Drug dose (g / a) EO BL SJ CS EK OS ───────────────────────────────── 36 20 5 5 5 5 5 5 1 45 20 5 5 4 5 5 5 5 0 46 20 5 5 5 5 5 5 1 67 20 20 1 5 1 − − 0 73 20 3 3 0 4 5 5 5 0 74 74 5 5 3 5 5 5 5 0 78 78 20 1 1 4 5 5 0 8 82 5 2 5 4 5 5 0 8 20 5 2 2 0 0 0 147 20 3 4 2 2 2 0 153 520 5 0 3 2 0 0 174 20 3 3 3 0 0 0 178 520 5 5 5 5 5 5 0 183 20 5 5 5 5 5 5 5 0 190 5 5 5 5 1 197 20 20 5 3 5 5 5 5 0 204 20 20 5 5 5 5 5 5 0 205 20 20 5 5 5 5 5 5 0 2 06 20 5 5 5 5 5 5 1 207 20 5 5 5 5 4 5 5 208 208 20 5 5 5 5 5 5 1 209 20 5 2 3 3 1 1 0 0 210 520 5 5 5 5 5 5 5 212 212 20 5 5 5 2 5 5 5 5 2 4 2 3 0 214 520 5 5 5 5 5 2 2 216 20 4 4 5 4 4 4 0 230 230 20 4 4 5 5 5 5 0 235 20 5 5 5 5 5 5 0 244 20 2 5 4 4 5 5 0 260 20 5 5 5 5 5 0 269 20 5 4 5 5 5 5 0 314 20 2 4 4 5 4 0 323 3 20 5 5 5 5 5 5 1 328 20 5 5 5 5 5 5 4 3 34 20 3 1 5 3 3 4 3 5 20 2 0 340 20 3 5 5 3 4 0 346 20 2 3 5 1 5 0 347 20 1 1 0 5 5 0 4 0 350 350 5 5 5 4 5 5 5 1 356 20 5 3 5 5 5 5 0 357 720 5 5 5 5 5 358 20 5 5 5 5 5 5 5 0 359 20 5 4 5 5 5 5 0 363 3 20 5 2 5 4 5 5 0 364 5 20 5 4 5 5 5 5 1 365 5 20 5 5 5 5 5 5 6 5 20 4 5 0 370 20 5 0 5 5 4 4 0 371 20 5 5 4 5 5 5 0 0 376 20 20 5 4 3 4 5 0 381 20 5 5 3 5 5 5 2 2 384 20 4 4 4 3 5 3 5 5 385 20 385 20 0 387 20 5 5 5 5 5 5 5 0 399 20 3 1 5 5 5 5 0 400 400 20 5 4 4 5 5 5 0 401 20 5 1 5 5 0 1 0 402 402 5 5 4 5 5 4 4 0 420 20 20 5 0 2 0 2 0 20 5 1 3 4 4 0 481 20 5 4 5 5 5 5 0 523 20 5 4 5 5 5 5 3 546 20 5 5 5 5 5 5 0 0 561 20 3 5 5 5 5 5 0 562 20 4 5 5 5 0 ─────────────────────────────────

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 409/12 ２４９ (72)発明者 本間 豊邦 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内 (72)発明者 門谷 淳二 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内 (72)発明者 遠藤 猛 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. ⁵ Identification number Internal reference number FI Technical indication location C07D 409/12 249 (72) Inventor Toyonoma Honma 1041 Yasu, Yasu-cho, Yasu-gun, Shiga Internal company ( 72) Inventor Junji Kadoya 1041 Yasu-cho, Yasu-cho, Yasu-gun, Shiga In-house (72) Inventor Takeshi Endo 1041 Yasu-cho, Yasu-cho, Yasu-gun, Shiga In-house

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】下記一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ¹ は、アルキル基、ハロゲノアルキル基、モ
ノ又はジ低級アルキル置換アミノ基、フェニル基、ベン
ジル基、フリル基又はチエニル基を示し、Ｒ² は、水素
原子、式Ｒ¹ ＳＯ₂ で表される基（式中、Ｒ¹ は、前記
と同意義を示す）、低級アルキル基、低級アルコキシ置
換低級アルキル基、低級アルキルチオ置換低級アルキル
基、低級アルキルスルホニル置換低級アルキル基、低級
アルケニル基又は低級アルキニル基を示し、ｋは、１又
は２を示し、Ｒ³ は、水素原子、低級アルキル基、ハロ
ゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ置換低級アルキル
基、低級アルキルチオ置換低級アルキル基、低級アルキ
ルスルホニル置換低級アルキル基、シアノ置換低級アル
キル基、低級アルケニル基、ハロゲノ低級アルケニル
基、低級アルキニル基、フェニル基、ベンジル基、脂肪
族アシル基又は低級アルキルスルホニル基を示し、Ｙ
は、酸素原子又は式Ｓ（Ｏ）_m で表される基（式中、ｍ
は０、１又は２を示す）を示し、Ｒ⁴ は、水素原子、低
級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、シクロアルキ
ル基又は低級アルコキシ置換低級アルキル基を示し、Ｘ
は、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ置
換低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲノ低級ア
ルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキ
ルチオ基、低級アルキルスルホニル基、シアノ基又はニ
トロ基を示し、ｎは、０、１、２又は３を示す。］で表
わされる化合物及びその塩。1. The following general formula (I): [In the formula, R ¹ represents an alkyl group, a halogenoalkyl group, a mono- or di-lower alkyl-substituted amino group, a phenyl group, a benzyl group, a furyl group or a thienyl group, and R ² represents a hydrogen atom or a formula R ¹ SO ₂ (Wherein R ¹ has the same meaning as defined above), a lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkylthio-substituted lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl-substituted lower alkyl group, a lower alkenyl group Or a lower alkynyl group, k represents 1 or 2, R ³ represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkylthio-substituted lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl substituted Lower alkyl group, cyano-substituted lower alkyl group, lower alkenyl group, halogeno lower alkenyl group, lower alkynyl group, A phenyl group, a benzyl group, an aliphatic acyl group or a lower alkylsulfonyl group, Y
Is an oxygen atom or a group represented by the formula S (O) _m (in the formula, m
Represents 0, 1 or 2), R ⁴ represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a cycloalkyl group or a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, X 4
Represents a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogeno lower alkoxy group, a lower alkylthio group, a halogeno lower alkylthio group, a lower alkylsulfonyl group, a cyano group or a nitro group, and n represents Indicates 0, 1, 2 or 3. ] The compound and its salt represented by these. 【請求項２】下記一般式（Ｉ） 【化２】 ［式中、Ｒ¹ は、アルキル基、ハロゲノアルキル基、モ
ノ又はジ低級アルキル置換アミノ基、フェニル基、ベン
ジル基、フリル基又はチエニル基を示し、Ｒ² は、水素
原子、式Ｒ¹ ＳＯ₂ で表される基（式中、Ｒ¹ は、前記
と同意義を示す）、低級アルキル基、低級アルコキシ置
換低級アルキル基、低級アルキルチオ置換低級アルキル
基、低級アルキルスルホニル置換低級アルキル基、低級
アルケニル基又は低級アルキニル基を示し、ｋは、１又
は２を示し、Ｒ³ は、水素原子、低級アルキル基、ハロ
ゲノ低級アルキル基、低級アルコキシ置換低級アルキル
基、低級アルキルチオ置換低級アルキル基、低級アルキ
ルスルホニル置換低級アルキル基、シアノ置換低級アル
キル基、低級アルケニル基、ハロゲノ低級アルケニル
基、低級アルキニル基、フェニル基、ベンジル基、脂肪
族アシル基又は低級アルキルスルホニル基を示し、Ｙ
は、酸素原子又は式Ｓ（Ｏ）_m で表される基（式中、ｍ
は０、１又は２を示す）を示し、Ｒ⁴ は、水素原子、低
級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基、シクロアルキ
ル基又は低級アルコキシ置換低級アルキル基を示し、Ｘ
は、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ置
換低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲノ低級ア
ルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキ
ルチオ基、低級アルキルスルホニル基、シアノ基又はニ
トロ基を示し、ｎは、０、１、２又は３を示す。］で表
わされる化合物又はその塩を有効成分として含有する除
草剤組成物。2. The following general formula (I): [In the formula, R ¹ represents an alkyl group, a halogenoalkyl group, a mono- or di-lower alkyl-substituted amino group, a phenyl group, a benzyl group, a furyl group or a thienyl group, and R ² represents a hydrogen atom or a formula R ¹ SO ₂ (Wherein R ¹ has the same meaning as defined above), a lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkylthio-substituted lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl-substituted lower alkyl group, a lower alkenyl group Or a lower alkynyl group, k represents 1 or 2, R ³ represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkylthio-substituted lower alkyl group, a lower alkylsulfonyl substituted Lower alkyl group, cyano-substituted lower alkyl group, lower alkenyl group, halogeno lower alkenyl group, lower alkynyl group, A phenyl group, a benzyl group, an aliphatic acyl group or a lower alkylsulfonyl group, Y
Is an oxygen atom or a group represented by the formula S (O) _m (in the formula, m
Represents 0, 1 or 2), R ⁴ represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, a halogeno lower alkyl group, a cycloalkyl group or a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, X 4
Represents a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy-substituted lower alkyl group, a lower alkoxy group, a halogeno lower alkoxy group, a lower alkylthio group, a halogeno lower alkylthio group, a lower alkylsulfonyl group, a cyano group or a nitro group, and n represents Indicates 0, 1, 2 or 3. ] The herbicidal composition containing the compound or its salt represented by these as an active ingredient.