JPH06334244A - エキシマーレーザー発振器 - Google Patents
エキシマーレーザー発振器Info
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- JPH06334244A JPH06334244A JP13931793A JP13931793A JPH06334244A JP H06334244 A JPH06334244 A JP H06334244A JP 13931793 A JP13931793 A JP 13931793A JP 13931793 A JP13931793 A JP 13931793A JP H06334244 A JPH06334244 A JP H06334244A
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- laser oscillator
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- optical system
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成で、調整の容易な、ビーム強度
を均一にすることができる光共振器を備えたエキシマー
レーザー発振器10を提供すること。 【構成】 光共振器5外ではなく、光共振器5内の光
路上にビーム均一化光学系11を配置することに着目し
たもので、全反射鏡3と部分反射鏡4とを備えた光共振
器5を有するエキシマーレーザー発振器であって、光共
振器5内の光路上に、レーザービーム強度を平坦化可能
なビーム均一化光学系11を配置したことを特徴とす
る。
を均一にすることができる光共振器を備えたエキシマー
レーザー発振器10を提供すること。 【構成】 光共振器5外ではなく、光共振器5内の光
路上にビーム均一化光学系11を配置することに着目し
たもので、全反射鏡3と部分反射鏡4とを備えた光共振
器5を有するエキシマーレーザー発振器であって、光共
振器5内の光路上に、レーザービーム強度を平坦化可能
なビーム均一化光学系11を配置したことを特徴とす
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はエキシマーレーザー発振
器にかかるもので、とくにビーム断面のビーム強度分布
が均一なレーザービームを得ることができるエキシマー
レーザー発振器に関するものである。
器にかかるもので、とくにビーム断面のビーム強度分布
が均一なレーザービームを得ることができるエキシマー
レーザー発振器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、エキシマーレーザー発振器は種
類の異なる他のレーザー発振器に比べ、上準位寿命が数
ナノ秒と短く、増幅効率が高いために、多重モード発振
となりやすい。このため、エキシマーレーザー発振器か
ら出射するレーザービームのビーム断面強度はきわめて
不均一である。
類の異なる他のレーザー発振器に比べ、上準位寿命が数
ナノ秒と短く、増幅効率が高いために、多重モード発振
となりやすい。このため、エキシマーレーザー発振器か
ら出射するレーザービームのビーム断面強度はきわめて
不均一である。
【0003】たとえば、放電励起型のエキシマーレーザ
ー発振器では、電極方向にフラットトップな強度分布と
なり、電極と垂直方向にはガウシアンライクな強度分布
となる。
ー発振器では、電極方向にフラットトップな強度分布と
なり、電極と垂直方向にはガウシアンライクな強度分布
となる。
【0004】図4ないし図6にもとづき概説する。図4
は、一般的なエキシマーレーザー発振器1の概略斜視図
であって、このエキシマーレーザー発振器1は、レーザ
ー容器2と、レーザー容器2の前後にそれぞれ設けた全
反射鏡3および部分反射鏡4を有する光共振器5とを有
する。
は、一般的なエキシマーレーザー発振器1の概略斜視図
であって、このエキシマーレーザー発振器1は、レーザ
ー容器2と、レーザー容器2の前後にそれぞれ設けた全
反射鏡3および部分反射鏡4を有する光共振器5とを有
する。
【0005】レーザー容器2には、一対の放電電極6お
よびレーザー発振用のガス媒体を収容し、放電電極6の
間における放電によってプラズマを生成し、光共振器5
によりレーザー発振が行われる。
よびレーザー発振用のガス媒体を収容し、放電電極6の
間における放電によってプラズマを生成し、光共振器5
によりレーザー発振が行われる。
【0006】一対の放電電極6はそれぞれその断面をほ
ぼ半円形とすることにより、その間にできるだけ均一な
放電状態を発生させることとし、その長さを2Lとす
る。
ぼ半円形とすることにより、その間にできるだけ均一な
放電状態を発生させることとし、その長さを2Lとす
る。
【0007】図示のように、放電電極6の頂面6Aに平
行なその長さ方向をX軸(光軸A)とし、一対の放電電
極6を含む平面内であって放電電極6の長さ方向中心を
通る方向をY軸とし、放電電極6の上記長さ方向(光軸
A、X軸)および上記中心方向(Y軸)に垂直な方向を
Z軸とする。
行なその長さ方向をX軸(光軸A)とし、一対の放電電
極6を含む平面内であって放電電極6の長さ方向中心を
通る方向をY軸とし、放電電極6の上記長さ方向(光軸
A、X軸)および上記中心方向(Y軸)に垂直な方向を
Z軸とする。
【0008】放電電極6間では頂面6Aの部分が放電状
態が最良であり、したがって、出射するレーザービーム
のビーム強度は、この部分からのものが最大となる。た
だし、実際のビーム強度は、部分反射鏡4より外側にお
いてこれを測定するものであるが、説明の便のため、上
記X軸、Y軸およびZ軸にもとづいて以下述べる。
態が最良であり、したがって、出射するレーザービーム
のビーム強度は、この部分からのものが最大となる。た
だし、実際のビーム強度は、部分反射鏡4より外側にお
いてこれを測定するものであるが、説明の便のため、上
記X軸、Y軸およびZ軸にもとづいて以下述べる。
【0009】すなわち、図5に示すように、Z=0のX
Y平面におけるビーム強度(XY平面で切ってX軸の方
向からみたビーム強度)が最大であり、ここからZの正
方向および負方向にずれるにしたがって、ビーム強度は
それぞれ次第に弱くなる(ガウシアンライクな強度分
布)。
Y平面におけるビーム強度(XY平面で切ってX軸の方
向からみたビーム強度)が最大であり、ここからZの正
方向および負方向にずれるにしたがって、ビーム強度は
それぞれ次第に弱くなる(ガウシアンライクな強度分
布)。
【0010】また、図6に示すように、X軸に垂直なY
Z平面におけるビーム強度(YZ平面で切ってX軸の方
向からみたビーム強度)は放電電極6の頂面6Aの間の
間隔2Dに相当する部分が最大であり、ここからYの正
方向および負方向にずれるにしたがって、ビーム強度は
それぞれ次第に弱くなる(フラットトップな強度分
布)。
Z平面におけるビーム強度(YZ平面で切ってX軸の方
向からみたビーム強度)は放電電極6の頂面6Aの間の
間隔2Dに相当する部分が最大であり、ここからYの正
方向および負方向にずれるにしたがって、ビーム強度は
それぞれ次第に弱くなる(フラットトップな強度分
布)。
【0011】したがって、発振したレーザービームを各
種用途に応用するにあたって、ビーム強度分布を均一化
することは重要であるにもかかわらず、そのビーム伝ぱ
ん方向とは垂直方向(電極間の方向およびビーム伝ぱん
方向とは垂直な方向;Z軸方向)に均一なビーム強度分
布(あるいはフラットトップな強度分布)を得ることが
困難であるという問題がある。
種用途に応用するにあたって、ビーム強度分布を均一化
することは重要であるにもかかわらず、そのビーム伝ぱ
ん方向とは垂直方向(電極間の方向およびビーム伝ぱん
方向とは垂直な方向;Z軸方向)に均一なビーム強度分
布(あるいはフラットトップな強度分布)を得ることが
困難であるという問題がある。
【0012】従来、このようなビーム強度不均一をなく
すために、図7に示すように、ビームホモジナイザーと
呼ばれる光学系7をエキシマーレーザー発振器1の光共
振器5の外部(部分反射鏡3の外部)に設置することが
行われている。
すために、図7に示すように、ビームホモジナイザーと
呼ばれる光学系7をエキシマーレーザー発振器1の光共
振器5の外部(部分反射鏡3の外部)に設置することが
行われている。
【0013】このビームホモジナイザー7は、複数のプ
リズム、反射鏡、およびレンズなどを組み合わせ、ビー
ムを複数個のビームに分割し、そののち、再びこれら複
数個のビームを重ね合わせ、重ね合わせによる積分効果
によってビーム強度の均一化を図るものである。このよ
うなビームホモジナイザーは、たとえば特開平2−32
3号などに開示されている。
リズム、反射鏡、およびレンズなどを組み合わせ、ビー
ムを複数個のビームに分割し、そののち、再びこれら複
数個のビームを重ね合わせ、重ね合わせによる積分効果
によってビーム強度の均一化を図るものである。このよ
うなビームホモジナイザーは、たとえば特開平2−32
3号などに開示されている。
【0014】しかしながら、従来の方法は、ビーム強度
を均一化させるビームホモジナイザー7などの光学系を
エキシマーレーザー発振器1の光共振器5の外部に設置
するため、以下のような諸問題がある。
を均一化させるビームホモジナイザー7などの光学系を
エキシマーレーザー発振器1の光共振器5の外部に設置
するため、以下のような諸問題がある。
【0015】すなわち、ビームホモジナイザー7により
複数個に分割されたビームは伝播方向がそれぞれ異なる
ために、重ね合わせたのちのビームの広がり角が大きく
なるという問題がある。
複数個に分割されたビームは伝播方向がそれぞれ異なる
ために、重ね合わせたのちのビームの広がり角が大きく
なるという問題がある。
【0016】また、複数個の分割されたビームを重ね合
わせた場合に、ビーム強度が均一になる範囲は、ビーム
伝播方向に狭く、その範囲の前後では均一な強度分布と
ならないという問題がある。
わせた場合に、ビーム強度が均一になる範囲は、ビーム
伝播方向に狭く、その範囲の前後では均一な強度分布と
ならないという問題がある。
【0017】さらに、ビーム強度を均一にしようとすれ
ばするほど、ビームの分割数を多くしなければならず、
ビームホモジナイザー7の構成が複雑になる上、その調
整が困難であるという問題がある。
ばするほど、ビームの分割数を多くしなければならず、
ビームホモジナイザー7の構成が複雑になる上、その調
整が困難であるという問題がある。
【0018】しかも、ビームホモジナイザー7を光共振
器5の外部に設置したため、光共振器5およびビームホ
モジナイザー7をそれぞれ独立に調整する必要があり、
調整作業としては二重の手間となるという問題がある。
器5の外部に設置したため、光共振器5およびビームホ
モジナイザー7をそれぞれ独立に調整する必要があり、
調整作業としては二重の手間となるという問題がある。
【0019】さらにまた、ビームホモジナイザー7は一
般に構成が複雑であり、こうした光学系を光共振器5の
外部に設置したことによって、ビームの伝播効率が低下
し、レーザーのエネルギーを有効に利用することができ
ないという問題がある。
般に構成が複雑であり、こうした光学系を光共振器5の
外部に設置したことによって、ビームの伝播効率が低下
し、レーザーのエネルギーを有効に利用することができ
ないという問題がある。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】本発明は以上のような
諸問題にかんがみなされたもので、簡単な構成で、上述
の諸問題を解決し、かつ調整の容易な、ビーム強度を均
一にすることができる光共振器を備えたエキシマーレー
ザー発振器を提供することを課題とする。
諸問題にかんがみなされたもので、簡単な構成で、上述
の諸問題を解決し、かつ調整の容易な、ビーム強度を均
一にすることができる光共振器を備えたエキシマーレー
ザー発振器を提供することを課題とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、光共
振器外ではなく、光共振器内の光路上にビーム均一化光
学系を配置することに着目したもので、全反射鏡と部分
反射鏡とを備えた光共振器を有するエキシマーレーザー
発振器であって、上記光共振器内の光路上に、レーザー
ビーム強度を平坦化可能なビーム均一化光学系を配置し
たことを特徴とするエキシマーレーザー発振器である。
振器外ではなく、光共振器内の光路上にビーム均一化光
学系を配置することに着目したもので、全反射鏡と部分
反射鏡とを備えた光共振器を有するエキシマーレーザー
発振器であって、上記光共振器内の光路上に、レーザー
ビーム強度を平坦化可能なビーム均一化光学系を配置し
たことを特徴とするエキシマーレーザー発振器である。
【0022】上記ビーム均一化光学系は、これを上記部
分反射鏡側に配置することができる。
分反射鏡側に配置することができる。
【0023】上記ビーム均一化光学系は、これを複数の
シリンドリカルレンズを組み合わせた構成とすることが
できる。
シリンドリカルレンズを組み合わせた構成とすることが
できる。
【0024】上記各シリンドリカルレンズは、上記エキ
シマーレーザーの一対の放電電極を含む平面に平行にそ
の長さ方向を配置することができる。
シマーレーザーの一対の放電電極を含む平面に平行にそ
の長さ方向を配置することができる。
【0025】上記ビーム均一化光学系は、これを複数の
非球面レンズを組み合わせた構成とすることができる。
非球面レンズを組み合わせた構成とすることができる。
【0026】上記ビーム均一化光学系の位置および傾斜
を上記光軸に対して調整可能な位置・傾斜調整機構を設
けることができる。
を上記光軸に対して調整可能な位置・傾斜調整機構を設
けることができる。
【0027】
【作用】本発明によるエキシマーレーザー発振器におい
ては、光共振器内の光路上にビーム均一化光学系を配置
したので、ビームホモジナイザーなどの光学系を光共振
器の外部に設置したためによる既述の諸問題を解消可能
であり、ビーム均一化光学系によるレーザービームの平
坦化作用によってビーム強度を均一化可能である。
ては、光共振器内の光路上にビーム均一化光学系を配置
したので、ビームホモジナイザーなどの光学系を光共振
器の外部に設置したためによる既述の諸問題を解消可能
であり、ビーム均一化光学系によるレーザービームの平
坦化作用によってビーム強度を均一化可能である。
【0028】さらに、全反射鏡および部分反射鏡からな
る光共振器とともにビーム均一化光学系を調整してレー
ザー発振させると同時に、ビームを均一化することが可
能となり、光共振器およびビーム均一化光学系の調整作
業を簡便化することが可能となる。
る光共振器とともにビーム均一化光学系を調整してレー
ザー発振させると同時に、ビームを均一化することが可
能となり、光共振器およびビーム均一化光学系の調整作
業を簡便化することが可能となる。
【0029】
【実施例】つぎに本発明の第一の実施例によるエキシマ
ーレーザー発振器10を図面にもとづき説明する。ただ
し、以下の説明において、図4ないし図7と同様の部分
には同一符号を付し、その詳述はこれを省略する。
ーレーザー発振器10を図面にもとづき説明する。ただ
し、以下の説明において、図4ないし図7と同様の部分
には同一符号を付し、その詳述はこれを省略する。
【0030】図1は上記エキシマーレーザー発振器10
を示す概略構成図であって、図4にもとづき前述したY
軸方向からみた図である。このエキシマーレーザー発振
器10は、レーザー容器2と、全反射鏡3および部分反
射鏡4を有する光共振器5と、ビーム均一化光学系11
とを有する。
を示す概略構成図であって、図4にもとづき前述したY
軸方向からみた図である。このエキシマーレーザー発振
器10は、レーザー容器2と、全反射鏡3および部分反
射鏡4を有する光共振器5と、ビーム均一化光学系11
とを有する。
【0031】このビーム均一化光学系11は、光軸Aに
垂直なシリンドリカルレンズ、たとえばシリンドリカル
凹レンズ12およびシリンドリカル凸レンズ13を組み
合わせたものである。
垂直なシリンドリカルレンズ、たとえばシリンドリカル
凹レンズ12およびシリンドリカル凸レンズ13を組み
合わせたものである。
【0032】これらシリンドリカル凹レンズ12および
シリンドリカル凸レンズ13は、図4の一対の放電電極
6を含む平面(XY平面)に平行にその長さ方向(紙面
に直角なY方向)を配置してある。
シリンドリカル凸レンズ13は、図4の一対の放電電極
6を含む平面(XY平面)に平行にその長さ方向(紙面
に直角なY方向)を配置してある。
【0033】なお、ビーム均一化光学系11のシリンド
リカル凹レンズ12およびシリンドリカル凸レンズ13
の光軸Aに対する傾斜およびズレを調整可能な位置・傾
斜調整機構14を設けてある。
リカル凹レンズ12およびシリンドリカル凸レンズ13
の光軸Aに対する傾斜およびズレを調整可能な位置・傾
斜調整機構14を設けてある。
【0034】以下、エキシマーレーザー発振器10の動
作について説明する。レーザー容器2から放射されたビ
ームは、ビーム均一化光学系11に入射される。入射さ
れたビームは、シリンドリカル凹レンズ12によりビー
ム幅を拡大され、シリンドリカル凸レンズ13により集
光されて、光軸Aに平行なビームとなってレーザー容器
2および全反射鏡3側に戻り、ビーム均一化が行われる
とともに、レーザー発振が起こる。
作について説明する。レーザー容器2から放射されたビ
ームは、ビーム均一化光学系11に入射される。入射さ
れたビームは、シリンドリカル凹レンズ12によりビー
ム幅を拡大され、シリンドリカル凸レンズ13により集
光されて、光軸Aに平行なビームとなってレーザー容器
2および全反射鏡3側に戻り、ビーム均一化が行われる
とともに、レーザー発振が起こる。
【0035】しかも、ビーム均一化光学系11を光共振
器5の内部に設置したので、位置・傾斜調整機構14な
どにより光軸Aの調整がうまくいかないときには、レー
ザー発振するにいたらず、逆に言うと、レーザー発振す
るように光軸調整を行えば、この調整作業だけで均一な
ビームを得ることができることになる。
器5の内部に設置したので、位置・傾斜調整機構14な
どにより光軸Aの調整がうまくいかないときには、レー
ザー発振するにいたらず、逆に言うと、レーザー発振す
るように光軸調整を行えば、この調整作業だけで均一な
ビームを得ることができることになる。
【0036】図2および図3は、本発明の第二の実施例
によるエキシマーレーザー発振器20の要部拡大概略構
成図であって、このエキシマーレーザー発振器20では
非球面レンズを組み合わせた構成としている。
によるエキシマーレーザー発振器20の要部拡大概略構
成図であって、このエキシマーレーザー発振器20では
非球面レンズを組み合わせた構成としている。
【0037】すなわち、エキシマーレーザー発振器20
はビーム均一化光学系(平行光線変換部)21として、
部分反射鏡4とレーザー容器2との間に、一対の非球面
凹レンズ22および非球面凸レンズ23を有している。
はビーム均一化光学系(平行光線変換部)21として、
部分反射鏡4とレーザー容器2との間に、一対の非球面
凹レンズ22および非球面凸レンズ23を有している。
【0038】こうした構成のエキシマーレーザー発振器
20において、左方つまりレーザー容器2側から入射し
た入射ビームBは、非球面凹レンズ22によりビーム幅
を拡大され、非球面凸レンズ23を透過してこれにより
集光されて、均一なビーム強度プロフィルを有する平坦
ビームFに変換される。
20において、左方つまりレーザー容器2側から入射し
た入射ビームBは、非球面凹レンズ22によりビーム幅
を拡大され、非球面凸レンズ23を透過してこれにより
集光されて、均一なビーム強度プロフィルを有する平坦
ビームFに変換される。
【0039】かくして、ビーム均一化光学系21と光共
振器5との間に正確なアライメントが成立して、この平
坦ビームFが部分反射鏡4により部分的に反射されて全
反射鏡3側に戻り、レーザー発振が起こる。
振器5との間に正確なアライメントが成立して、この平
坦ビームFが部分反射鏡4により部分的に反射されて全
反射鏡3側に戻り、レーザー発振が起こる。
【0040】図3はこのビーム均一化が起こらない場合
を図示したもので、位置・傾斜調整機構14による調整
が不十分で、入射ビームBが非球面凹レンズ22を通っ
て非球面凸レンズ23により適正に均一化されないとき
には、部分反射鏡4での反射も適正に行われず、結局レ
ーザー発振も起こらないものである。
を図示したもので、位置・傾斜調整機構14による調整
が不十分で、入射ビームBが非球面凹レンズ22を通っ
て非球面凸レンズ23により適正に均一化されないとき
には、部分反射鏡4での反射も適正に行われず、結局レ
ーザー発振も起こらないものである。
【0041】すなわち、図中破線により示すように、上
記アライメントが外れた場合には、破線のビームB1は
部分反射鏡4により反射されてもそのまま全反射鏡3に
は戻らず、光共振器5を構成することができない。
記アライメントが外れた場合には、破線のビームB1は
部分反射鏡4により反射されてもそのまま全反射鏡3に
は戻らず、光共振器5を構成することができない。
【0042】要するに、ビーム均一化光学系21の光軸
Aに対する調整がうまくいかないときには、レーザー発
振するにいたらず、逆に言うと、レーザー発振するよう
に光軸調整を行えば、この調整作業だけで均一なビーム
を得ることができることになる。
Aに対する調整がうまくいかないときには、レーザー発
振するにいたらず、逆に言うと、レーザー発振するよう
に光軸調整を行えば、この調整作業だけで均一なビーム
を得ることができることになる。
【0043】したがって、従来のようにレーザーの調整
とビームホモジナイザーの調整とを別個に行なうことな
く、レーザー発振するように光軸調整を行うことによっ
て、それだけで均一なビームが得られることになる。
とビームホモジナイザーの調整とを別個に行なうことな
く、レーザー発振するように光軸調整を行うことによっ
て、それだけで均一なビームが得られることになる。
【0044】なおまた、図1ないし図3の各実施例で
は、光共振器5をレーザー容器2の外部に設置した、い
わゆる外部共振タイプについて図示しているが、レーザ
ー容器2の内部に光共振器5を設置した、いわゆる内部
共振タイプについても、ビーム均一化光学系11、21
を部分反射鏡4の手前側に設置することにより同様の作
用効果を期待することができる。
は、光共振器5をレーザー容器2の外部に設置した、い
わゆる外部共振タイプについて図示しているが、レーザ
ー容器2の内部に光共振器5を設置した、いわゆる内部
共振タイプについても、ビーム均一化光学系11、21
を部分反射鏡4の手前側に設置することにより同様の作
用効果を期待することができる。
【0045】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、エキシマ
ーレーザー発振器の光共振器の内部にビーム均一化光学
系を配置したことにより、レーザー発振を行うように調
整するだけで、エキシマーレーザー発振器からの出射ビ
ームのビーム強度を均一化することができる。
ーレーザー発振器の光共振器の内部にビーム均一化光学
系を配置したことにより、レーザー発振を行うように調
整するだけで、エキシマーレーザー発振器からの出射ビ
ームのビーム強度を均一化することができる。
【0046】
【図1】本発明の第一の実施例によるエキシマーレーザ
ー発振器10の概略構成図である。
ー発振器10の概略構成図である。
【図2】本発明の第二の実施例によるエキシマーレーザ
ー発振器20の要部拡大概略構成図である。
ー発振器20の要部拡大概略構成図である。
【図3】同、ビーム均一化が起こらない場合を示したエ
キシマーレーザー発振器20の要部拡大概略構成図であ
る。
キシマーレーザー発振器20の要部拡大概略構成図であ
る。
【図4】従来のエキシマーレーザー発振器1の概略斜視
図である。
図である。
【図5】同、Z軸方向におけるXY平面におけるビーム
強度のグラフである。
強度のグラフである。
【図6】同、X軸方向におけるYZ平面におけるビーム
強度のグラフである。
強度のグラフである。
【図7】同、ビームホモジナイザー7をエキシマーレー
ザー発振器1の光共振器5の外部(部分反射鏡3の外
部)に設置した構成を示す概略構成図である。
ザー発振器1の光共振器5の外部(部分反射鏡3の外
部)に設置した構成を示す概略構成図である。
1 エキシマーレーザー発振器 2 レーザー容器 3 全反射鏡 4 部分反射鏡 5 光共振器 6 一対の放電電極 6A 一対の放電電極6の頂面 7 ビームホモジナイザーと呼ばれる光学系 10 エキシマーレーザー発振器 11 ビーム均一化光学系 12 シリンドリカル凹レンズ 13 シリンドリカル凸レンズ 14 位置・傾斜調整機構 20 エキシマーレーザー発振器 21 ビーム均一化光学系 22 非球面凹レンズ 23 非球面凸レンズ A 光軸 B 入射ビーム B1 アライメントが外れた入射ビーム F 平坦ビーム 2L 放電電極6の長さ 2D 放電電極6の頂面6Aの間の間隔
Claims (6)
- 【請求項1】 全反射鏡と部分反射鏡とを備えた光共
振器を有するエキシマーレーザー発振器であって、 前記光共振器内の光路上に、レーザービーム強度を平坦
化可能なビーム均一化光学系を配置したことを特徴とす
るエキシマーレーザー発振器。 - 【請求項2】 前記ビーム均一化光学系は、これを前
記部分反射鏡側に配置したことを特徴とする請求項1記
載のエキシマーレーザー発振器。 - 【請求項3】 前記ビーム均一化光学系は、これを複
数のシリンドリカルレンズを組み合わせた構成とするこ
とを特徴とする請求項1記載のエキシマーレーザー発振
器。 - 【請求項4】 前記各シリンドリカルレンズは、前記
エキシマーレーザーの一対の放電電極を含む平面に平行
にその長さ方向を配置したことを特徴とする請求項3記
載のエキシマーレーザー発振器。 - 【請求項5】 前記ビーム均一化光学系は、これを複
数の非球面レンズを組み合わせた構成とすることを特徴
とする請求項1記載のエキシマーレーザー発振器。 - 【請求項6】 前記ビーム均一化光学系の位置および
傾斜を前記光軸に対して調整可能な位置・傾斜調整機構
を設けたことを特徴とする請求項1記載のエキシマーレ
ーザー発振器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13931793A JPH06334244A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | エキシマーレーザー発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13931793A JPH06334244A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | エキシマーレーザー発振器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06334244A true JPH06334244A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=15242497
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13931793A Pending JPH06334244A (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | エキシマーレーザー発振器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06334244A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008300780A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Gigaphoton Inc | エキシマレーザ装置 |
-
1993
- 1993-05-19 JP JP13931793A patent/JPH06334244A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008300780A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Gigaphoton Inc | エキシマレーザ装置 |
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