JPH06333262A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
- Publication number
- JPH06333262A JPH06333262A JP5139851A JP13985193A JPH06333262A JP H06333262 A JPH06333262 A JP H06333262A JP 5139851 A JP5139851 A JP 5139851A JP 13985193 A JP13985193 A JP 13985193A JP H06333262 A JPH06333262 A JP H06333262A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording
- layer
- recording medium
- optical
- rubber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高感度の光記録媒体を提供する。
【構成】 透光性の基板1上に有機色素から成る記録層
2及びゴム状高分子から成る記録補助層3を有する光記
録媒体において、前記記録補助層3が熱により分解する
ガス発生化合物を含有する光記録媒体。前記ゴム状高分
子はシリコーンゴムが好ましい。
2及びゴム状高分子から成る記録補助層3を有する光記
録媒体において、前記記録補助層3が熱により分解する
ガス発生化合物を含有する光記録媒体。前記ゴム状高分
子はシリコーンゴムが好ましい。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光学的に情報の記録、再
生を行なう光記録媒体に関するものである。
生を行なう光記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の記録媒体、例えばクレジットカー
ドやフロッピーディスク等に用いられる材料としては、
磁気材料が主として用いられてきた。この様な磁気記録
媒体は情報の書き込みおよび読み出しが容易に行えると
いう利点はあるが、反面、記録内容が容易に改ざんで
き、又高密度記録ができないという問題点があった。か
かる問題点を解決し、多種多様の情報を効率良く取り扱
う手段として、光記録媒体による光学的情報記録方法が
提案され、そのための光記録媒体、記録再生方式、記録
再生装置等が提案されている。
ドやフロッピーディスク等に用いられる材料としては、
磁気材料が主として用いられてきた。この様な磁気記録
媒体は情報の書き込みおよび読み出しが容易に行えると
いう利点はあるが、反面、記録内容が容易に改ざんで
き、又高密度記録ができないという問題点があった。か
かる問題点を解決し、多種多様の情報を効率良く取り扱
う手段として、光記録媒体による光学的情報記録方法が
提案され、そのための光記録媒体、記録再生方式、記録
再生装置等が提案されている。
【0003】光学的に情報の記録・再生を行う光記録媒
体として、例えば銀粒子をゼラチンマトリックス中に分
散してなる記録層を有するものが提案されている。
体として、例えば銀粒子をゼラチンマトリックス中に分
散してなる記録層を有するものが提案されている。
【0004】また、記録材料の記録層にレーザービーム
などのエネルギービームをスポット状に照射して、記録
層の一部を状態変化させて記録する、いわゆるヒートモ
ード記録材料が提案されている。これらの記録材料は、
情報の書込みの後現像処理などの必要がなく、「書いた
後直読する」ことのできる、いわゆるDRAW〔ダイレ
クト リード アフター ライト(direct re
ad after write)〕媒体であり、高密度
記録が可能であり追加書込みも可能であることから、デ
ィスク用あるいはカード用の記録材料としての用途の拡
大が期待されている。
などのエネルギービームをスポット状に照射して、記録
層の一部を状態変化させて記録する、いわゆるヒートモ
ード記録材料が提案されている。これらの記録材料は、
情報の書込みの後現像処理などの必要がなく、「書いた
後直読する」ことのできる、いわゆるDRAW〔ダイレ
クト リード アフター ライト(direct re
ad after write)〕媒体であり、高密度
記録が可能であり追加書込みも可能であることから、デ
ィスク用あるいはカード用の記録材料としての用途の拡
大が期待されている。
【0005】また、比較的長波長の光で物性変化し得る
有機系色素から成る薄膜は、毒性もなく、塗布による成
膜ができる等の製造コストを下げる事が出来る長所を有
しており、光ディスクや光カードに利用することに関し
て、広範な研究が行われ、また提案も多数なされてい
る。
有機系色素から成る薄膜は、毒性もなく、塗布による成
膜ができる等の製造コストを下げる事が出来る長所を有
しており、光ディスクや光カードに利用することに関し
て、広範な研究が行われ、また提案も多数なされてい
る。
【0006】ところで、現在、オフィスで用いられてい
る光記録媒体、例えば光ディスクは一般に中空構造を採
用しているが、光カードは一般にキャッシュカードやク
レジットカードと同様に携帯して使用されることが多
く、種々雑多に加えられる外力による光カードの変形等
に対して強度を持たせる必要があり、また媒体の薄型化
のためにも密着構造がとられている。又、光ディスクに
関しても携帯、保管スペース等の点から媒体の厚みはな
るべく薄いことが望ましく、密着構造をとるのが好まし
い。
る光記録媒体、例えば光ディスクは一般に中空構造を採
用しているが、光カードは一般にキャッシュカードやク
レジットカードと同様に携帯して使用されることが多
く、種々雑多に加えられる外力による光カードの変形等
に対して強度を持たせる必要があり、また媒体の薄型化
のためにも密着構造がとられている。又、光ディスクに
関しても携帯、保管スペース等の点から媒体の厚みはな
るべく薄いことが望ましく、密着構造をとるのが好まし
い。
【0007】しかし、密着構造では中空構造に比べ記録
感度が低下するという問題があった。そこで、例えば特
公昭63−42333号公報、特開昭58−12524
8号公報、特開昭58−203095号公報等には記録
層上にウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴムなど
のゴム弾性高分子層を形成することにより記録感度を向
上させる技術が開示されている。
感度が低下するという問題があった。そこで、例えば特
公昭63−42333号公報、特開昭58−12524
8号公報、特開昭58−203095号公報等には記録
層上にウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴムなど
のゴム弾性高分子層を形成することにより記録感度を向
上させる技術が開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、記録速
度の高速度化が進むにつれて、より高感度な光記録媒体
が望まれてきている。本発明は、この様な従来技術に鑑
みてなされたものであり、その目的は、従来の密着型光
記録媒体よりもさらに記録感度の優れた光記録媒体を提
供することにある。
度の高速度化が進むにつれて、より高感度な光記録媒体
が望まれてきている。本発明は、この様な従来技術に鑑
みてなされたものであり、その目的は、従来の密着型光
記録媒体よりもさらに記録感度の優れた光記録媒体を提
供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、透
光性の基板上に有機色素から成る記録層及びゴム状高分
子から成る記録補助層を有する光記録媒体において、前
記記録補助層が熱により分解するガス発生化合物を含有
することを特徴とする光記録媒体である。
光性の基板上に有機色素から成る記録層及びゴム状高分
子から成る記録補助層を有する光記録媒体において、前
記記録補助層が熱により分解するガス発生化合物を含有
することを特徴とする光記録媒体である。
【0010】本発明によれば、記録時に記録層が発熱
し、この熱によって記録層に隣接する記録補助層中のガ
ス発生化合物が分解してガスを発生することにより、記
録補助層の変形が促進され記録感度が向上するものであ
る。
し、この熱によって記録層に隣接する記録補助層中のガ
ス発生化合物が分解してガスを発生することにより、記
録補助層の変形が促進され記録感度が向上するものであ
る。
【0011】以下、本発明を詳細に説明する。図1は本
発明の光記録媒体の一例を示す断面図である。同図1に
おいて、本発明の光記録媒体は、透光性の基板1上に有
機色素から成る記録層2を設け、該記録層2の上に熱に
より分解するガス発生化合物を含有する、ゴム状高分子
から成る記録補助層3を形成し、該記録補助層3と保護
基材5を接着層4を介して貼り合わせてなるものであ
る。
発明の光記録媒体の一例を示す断面図である。同図1に
おいて、本発明の光記録媒体は、透光性の基板1上に有
機色素から成る記録層2を設け、該記録層2の上に熱に
より分解するガス発生化合物を含有する、ゴム状高分子
から成る記録補助層3を形成し、該記録補助層3と保護
基材5を接着層4を介して貼り合わせてなるものであ
る。
【0012】基板1としては、記録再生光に対して透明
で、機械的強度が大きく、複屈折や吸湿性の小さいもの
が良く、例えばガラスやポリカーボネート,アクリル,
エポキシ,ポリエステル,ポリオレフィン,ポリイミド
等のプラスチックなどがあげられる。
で、機械的強度が大きく、複屈折や吸湿性の小さいもの
が良く、例えばガラスやポリカーボネート,アクリル,
エポキシ,ポリエステル,ポリオレフィン,ポリイミド
等のプラスチックなどがあげられる。
【0013】2は有機色素から成る記録層である。記録
層2を構成する有機色素としては使用するレーザー光の
波長付近(例えば700nm〜900nm)に吸収を有
するものが用いられ、例えばアントラキノン誘導体(特
にインダスレン骨格を有する物),ジオキサン化合物及
びその誘導体,トリフェノジチアジン化合物,シアニン
化合物,メロシアニン化合物,ピリリウム化合物,トリ
フェニルメタン化合物,アズレン化合物,スクアリウム
化合物,ポリメチン化合物,アゾ化合物,フタロシアニ
ン化合物、ナフタロシアニン化合物及びジチオール系の
金属錯体などが挙げられる。
層2を構成する有機色素としては使用するレーザー光の
波長付近(例えば700nm〜900nm)に吸収を有
するものが用いられ、例えばアントラキノン誘導体(特
にインダスレン骨格を有する物),ジオキサン化合物及
びその誘導体,トリフェノジチアジン化合物,シアニン
化合物,メロシアニン化合物,ピリリウム化合物,トリ
フェニルメタン化合物,アズレン化合物,スクアリウム
化合物,ポリメチン化合物,アゾ化合物,フタロシアニ
ン化合物、ナフタロシアニン化合物及びジチオール系の
金属錯体などが挙げられる。
【0014】また、これらの色素に対し安定化剤を混合
してもよい。この安定化剤としては各種金属キレート化
合物、特にZn,Cu,Ni,Cr,Co,Mn,P
d,Zrを中心金属とする多座配位子、例えばN4 ,N
2 O2 ,N2 S2 S4 ,O2 S2 ,O4 等の四座配位子
等又はそれらの組み合わせから成るものの他、各種の芳
香族アミン類やジアミン類,含窒素芳香族及びそのオニ
ウム塩,例えばアミニウム塩,ジイモニウム塩,ピリジ
ニウム塩,イミダゾリニウム塩,キノリウム塩等が挙げ
られる。更に含酸素芳香族の塩であるピリリウム塩等も
用いられる。又これらの安定化剤を複数組み合わせて使
用することもできる。
してもよい。この安定化剤としては各種金属キレート化
合物、特にZn,Cu,Ni,Cr,Co,Mn,P
d,Zrを中心金属とする多座配位子、例えばN4 ,N
2 O2 ,N2 S2 S4 ,O2 S2 ,O4 等の四座配位子
等又はそれらの組み合わせから成るものの他、各種の芳
香族アミン類やジアミン類,含窒素芳香族及びそのオニ
ウム塩,例えばアミニウム塩,ジイモニウム塩,ピリジ
ニウム塩,イミダゾリニウム塩,キノリウム塩等が挙げ
られる。更に含酸素芳香族の塩であるピリリウム塩等も
用いられる。又これらの安定化剤を複数組み合わせて使
用することもできる。
【0015】上記の種々の安定化剤は前記の有機色素と
用いる溶媒の相溶性を考慮して選択する。又安定化剤の
有機色素に対する添加量は1wt%〜50wt%が好ま
しく、特に10wt%〜30wt%が感度の低下が少な
く、且つ安定化剤としての効果も高い。記録層2は蒸着
又は塗布により形成される。
用いる溶媒の相溶性を考慮して選択する。又安定化剤の
有機色素に対する添加量は1wt%〜50wt%が好ま
しく、特に10wt%〜30wt%が感度の低下が少な
く、且つ安定化剤としての効果も高い。記録層2は蒸着
又は塗布により形成される。
【0016】3はゴム状高分子から成る記録補助層であ
る。ゴム状高分子としては、ブタジエンゴム,クロロプ
レンゴム,イソプレンゴム,イソブチレンゴム,プロピ
レンゴム,アクリルゴム,アクリロニトリルブタジエン
ゴム,ウレタンゴム,シリコーンゴム,フッ素ゴム等が
挙げられる。
る。ゴム状高分子としては、ブタジエンゴム,クロロプ
レンゴム,イソプレンゴム,イソブチレンゴム,プロピ
レンゴム,アクリルゴム,アクリロニトリルブタジエン
ゴム,ウレタンゴム,シリコーンゴム,フッ素ゴム等が
挙げられる。
【0017】記録補助層3は記録層2上に塗布により形
成できるものが望ましい。従って、使用されるゴム状高
分子は、液状で塗布できるものであって、記録層2上に
塗布後、室温放置、加熱もしくは紫外線、電子線を照射
することにより、架橋・硬化するもの、もしくは有機溶
剤等に溶解して塗布でき、溶剤揮発後被膜を形成するも
のが良い。また、記録層2を侵さずに塗布できるものが
望ましく、特にシリコーンゴムは好適な材料である。
成できるものが望ましい。従って、使用されるゴム状高
分子は、液状で塗布できるものであって、記録層2上に
塗布後、室温放置、加熱もしくは紫外線、電子線を照射
することにより、架橋・硬化するもの、もしくは有機溶
剤等に溶解して塗布でき、溶剤揮発後被膜を形成するも
のが良い。また、記録層2を侵さずに塗布できるものが
望ましく、特にシリコーンゴムは好適な材料である。
【0018】記録補助層3中には熱により分解するガス
発生化合物が含有されている。熱により分解してガスを
発生するガス発生化合物としては、ガスの放出が短時
間でその速度が調節できること、分解温度を調節でき
ること、ガス発生量が一定で、多いこと等の条件を具
備する物質が望ましい。
発生化合物が含有されている。熱により分解してガスを
発生するガス発生化合物としては、ガスの放出が短時
間でその速度が調節できること、分解温度を調節でき
ること、ガス発生量が一定で、多いこと等の条件を具
備する物質が望ましい。
【0019】該ガス発生化合物の具体例を示すと、分解
温度、分解速度等を適宜選択する必要があるが、例えば
有機化合物としては、ジニトロソペンタメチレンテトラ
ミン(DPT)、N,N′−ジメチル−N,N′−ジニ
トロソテレフタルアミド(DMDNTA)等のニトロソ
化合物、ベンゼンスルホニルヒドラジト(BSH),p
−トルエンスルホニルヒドラジト(TSH)、ジフェニ
ルスルホン−S,S′−ジスルホニルヒドラジト(DP
SDSH)、4,4′−オキシビスベンゼンスルホニル
ヒドラジト(OBSH)等のスルホニルヒドラジド化合
物、アゾジカルボンアミド(ADCA)、アゾビスイソ
ブチロニトリル(AIBN)、ジアゾアミノベンゼン
(DAB)、バリウム−アゾジカルボキシレート等のア
ゾ,ジアゾ化合物、及びトリヒドラジノトリアジン、p
−トルエンスルホニルセミカルバジド、4,4′−オキ
シビスベンゼンスルホニルセミカルバジド等が用いら
れ、無機化合物としては重炭酸ナトリウム,炭酸アンモ
ニウム,重炭酸アンモニウム,亜硝酸アンモニウム及び
過酸化物等が用いられる。上記の有機化合物及び無機化
合物ともに一種或いは二種以上を適宜混合して使用す
る。
温度、分解速度等を適宜選択する必要があるが、例えば
有機化合物としては、ジニトロソペンタメチレンテトラ
ミン(DPT)、N,N′−ジメチル−N,N′−ジニ
トロソテレフタルアミド(DMDNTA)等のニトロソ
化合物、ベンゼンスルホニルヒドラジト(BSH),p
−トルエンスルホニルヒドラジト(TSH)、ジフェニ
ルスルホン−S,S′−ジスルホニルヒドラジト(DP
SDSH)、4,4′−オキシビスベンゼンスルホニル
ヒドラジト(OBSH)等のスルホニルヒドラジド化合
物、アゾジカルボンアミド(ADCA)、アゾビスイソ
ブチロニトリル(AIBN)、ジアゾアミノベンゼン
(DAB)、バリウム−アゾジカルボキシレート等のア
ゾ,ジアゾ化合物、及びトリヒドラジノトリアジン、p
−トルエンスルホニルセミカルバジド、4,4′−オキ
シビスベンゼンスルホニルセミカルバジド等が用いら
れ、無機化合物としては重炭酸ナトリウム,炭酸アンモ
ニウム,重炭酸アンモニウム,亜硝酸アンモニウム及び
過酸化物等が用いられる。上記の有機化合物及び無機化
合物ともに一種或いは二種以上を適宜混合して使用す
る。
【0020】上記ガス発生化合物の中で有機化合物は分
解挙動が発熱反応となることから一定温度に達すると急
激に分解する為に発生ガス量も一定となり易いので添加
量とガス発生量との関係が予想しやすく好ましい。
解挙動が発熱反応となることから一定温度に達すると急
激に分解する為に発生ガス量も一定となり易いので添加
量とガス発生量との関係が予想しやすく好ましい。
【0021】また、無機化合物は一般に吸熱反応が多く
徐々に分解するものがあるが、この様な場合にはガス発
生等をコントロールすることが望ましい。
徐々に分解するものがあるが、この様な場合にはガス発
生等をコントロールすることが望ましい。
【0022】記録補助層中のガス発生化合物の含有量は
0.1wt%〜60wt%、特に1wt%〜40wt%
の範囲が好ましい。0.1wt%未満では発生するガス
量が少なく添加による感度向上の効果が現れにくく、6
0wt%を越えるとゴム状高分子の被膜形成が困難とな
る。
0.1wt%〜60wt%、特に1wt%〜40wt%
の範囲が好ましい。0.1wt%未満では発生するガス
量が少なく添加による感度向上の効果が現れにくく、6
0wt%を越えるとゴム状高分子の被膜形成が困難とな
る。
【0023】また、ガス発生化合物、特に有機系の化合
物には分解温度を調節する為に適宜助剤を添加しても良
い。助剤としては、例えば、分解温度を低下させる助剤
として、亜鉛華,カプリル酸亜鉛、硝酸亜鉛,亜鉛脂肪
酸石けん等の亜鉛化合物、炭酸鉛,フタル酸鉛,亜リン
酸鉛,ステアリン酸鉛等の鉛の化合物、カプリル酸カド
ミウム,カプロン酸カドミウム,ラウリン酸カドミウ
ム,ミリスチン酸カドミウム,カドミウム脂肪酸石けん
等のカドミウム化合物、及び尿素,硼砂,エタノールア
ミン等が用いられる。
物には分解温度を調節する為に適宜助剤を添加しても良
い。助剤としては、例えば、分解温度を低下させる助剤
として、亜鉛華,カプリル酸亜鉛、硝酸亜鉛,亜鉛脂肪
酸石けん等の亜鉛化合物、炭酸鉛,フタル酸鉛,亜リン
酸鉛,ステアリン酸鉛等の鉛の化合物、カプリル酸カド
ミウム,カプロン酸カドミウム,ラウリン酸カドミウ
ム,ミリスチン酸カドミウム,カドミウム脂肪酸石けん
等のカドミウム化合物、及び尿素,硼砂,エタノールア
ミン等が用いられる。
【0024】他方、分解を抑制する助剤としては、マレ
イン酸,フマル酸等の有機酸、ステアロイルクロリド,
フタロイルクロリド等のハロゲン化有機酸、無水マレイ
ン酸,無水フタル酸等の無水有機酸、ヒドロキノン,ナ
フタレンジオール等の多水酸基アルコール、d−マルト
ーズ等の炭化水素、脂肪族アミン,ヘテロサイクリック
アミン,アミド,オキシム等の窒素含有物、チオール,
メルカプタン,硫化物,スルホン酸,スルホキシド,イ
ソシアネート等のイオウ含有物、シクロヘキサノン,ア
セチルアセトン等のケトン,アルデヒド類その他にリン
酸塩、亜リン酸塩化合物、6,6−ジメチルフルベン、
ヘキサクロロシクロペンタジエン、ジブチル錫マレエー
ト等を適宜使用して分解挙動を修正することができる。
記録補助層の厚みは1〜100μm、特に5〜40μm
が好ましい。
イン酸,フマル酸等の有機酸、ステアロイルクロリド,
フタロイルクロリド等のハロゲン化有機酸、無水マレイ
ン酸,無水フタル酸等の無水有機酸、ヒドロキノン,ナ
フタレンジオール等の多水酸基アルコール、d−マルト
ーズ等の炭化水素、脂肪族アミン,ヘテロサイクリック
アミン,アミド,オキシム等の窒素含有物、チオール,
メルカプタン,硫化物,スルホン酸,スルホキシド,イ
ソシアネート等のイオウ含有物、シクロヘキサノン,ア
セチルアセトン等のケトン,アルデヒド類その他にリン
酸塩、亜リン酸塩化合物、6,6−ジメチルフルベン、
ヘキサクロロシクロペンタジエン、ジブチル錫マレエー
ト等を適宜使用して分解挙動を修正することができる。
記録補助層の厚みは1〜100μm、特に5〜40μm
が好ましい。
【0025】接着層4の材料としては、記録層2、記録
補助層3及び保護基材5を侵さず、かつ、充分な接着力
を有するものであれば良く、公知の接着剤の中から適宜
選択できる。また、記録補助層3を形成するゴム状高分
子が記録層2及び保護基材5に対し、強固な接着力を有
する場合には接着層4は特に設けなくてもよい。
補助層3及び保護基材5を侵さず、かつ、充分な接着力
を有するものであれば良く、公知の接着剤の中から適宜
選択できる。また、記録補助層3を形成するゴム状高分
子が記録層2及び保護基材5に対し、強固な接着力を有
する場合には接着層4は特に設けなくてもよい。
【0026】保護基材5としては、プラスチック,ガラ
ス,紙,セラミックス等、通常の保護基材として用いる
ことができるあらゆる材料が使用可能である。また、記
録・再生光に対し、透明でも不透明でもいずれでもよ
い。
ス,紙,セラミックス等、通常の保護基材として用いる
ことができるあらゆる材料が使用可能である。また、記
録・再生光に対し、透明でも不透明でもいずれでもよ
い。
【0027】また、保護基材と貼り合せる代わりに、記
録補助層3上に保護コートをほどこしてもよい。
録補助層3上に保護コートをほどこしてもよい。
【0028】また、光ディスクの様にカートリッジやケ
ース等に収納して使用するものの場合、必要でなければ
特に保護基材や保護コート層を設けなくても良い。
ース等に収納して使用するものの場合、必要でなければ
特に保護基材や保護コート層を設けなくても良い。
【0029】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。
する。
【0030】実施例1〜8 押出し成形により成形した厚さ0.4mmのポリカーボ
ネート基板に紫外線硬化樹脂(STM401 大日本イ
ンキ社製)を用いて、溝幅3μm,溝ピッチ12μm,
溝深さ3000Åのグループ付基板を作製した。基板の
グルーブ面上に下式(1)で示されるポリメチン系色素
のジアセトンアルコール溶液(4重量%濃度)をグラビ
アコート法により塗布し、グルーブ面上に厚さ1000
Åの記録を形成した。
ネート基板に紫外線硬化樹脂(STM401 大日本イ
ンキ社製)を用いて、溝幅3μm,溝ピッチ12μm,
溝深さ3000Åのグループ付基板を作製した。基板の
グルーブ面上に下式(1)で示されるポリメチン系色素
のジアセトンアルコール溶液(4重量%濃度)をグラビ
アコート法により塗布し、グルーブ面上に厚さ1000
Åの記録を形成した。
【0031】
【化1】
【0032】この記録層上に、表1に示すようなゴム状
高分子及びガス発生化合物から成る記録補助層を形成し
た。記録補助層は、表1に示す組成物をロールコート法
により塗布し、次いで表1に示す硬化条件で硬化するこ
とにより作製した。厚みは15μmとした。
高分子及びガス発生化合物から成る記録補助層を形成し
た。記録補助層は、表1に示す組成物をロールコート法
により塗布し、次いで表1に示す硬化条件で硬化するこ
とにより作製した。厚みは15μmとした。
【0033】記録層、記録補助層の形成された基板と、
保護基材として厚み0.3mmのポリカーボネート基板
とを、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ホットメルト接
着剤(ヒロダイン7580 ヒロダイン工業社製)を用
いてロールラミネーターで接着温度110℃にて接着し
た。これらをカード形状に打抜き、光カードを作製し
た。
保護基材として厚み0.3mmのポリカーボネート基板
とを、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ホットメルト接
着剤(ヒロダイン7580 ヒロダイン工業社製)を用
いてロールラミネーターで接着温度110℃にて接着し
た。これらをカード形状に打抜き、光カードを作製し
た。
【0034】比較例1〜4 記録補助層として表2に示すようなゴム状高分子のみか
ら成る記録補助層を形成した事以外は実施例1〜8と同
様にして光カードを作製した。
ら成る記録補助層を形成した事以外は実施例1〜8と同
様にして光カードを作製した。
【0035】
【表1】
【0036】(注) ADCA:アゾジカルボンアミド OBSH:4,4′−オキシビスベンゼンスルホニルヒ
ドラジト TSH :p−トルエンスルホニルヒドラジト DPT :ジニトロリペンタメチレンテトラミン ADCA:アゾジカルボンアミド
ドラジト TSH :p−トルエンスルホニルヒドラジト DPT :ジニトロリペンタメチレンテトラミン ADCA:アゾジカルボンアミド
【0037】
【表2】
【0038】作製した光カードを送り速度と0.4m/
secで送りながら、発振波長830nm、スポットサ
イズ2.5μmの半導体レーザを4μsecのパルスで
基板側より照射して記録を行い、再生パワー0.2mW
で再生した時の記録再生コントラスト
secで送りながら、発振波長830nm、スポットサ
イズ2.5μmの半導体レーザを4μsecのパルスで
基板側より照射して記録を行い、再生パワー0.2mW
で再生した時の記録再生コントラスト
【0039】
【数1】 を測定した。
【0040】各々の光カードについて、記録再生コント
ラストが0.5以上となるのに必要なエネルギーを求め
た。その結果を表3に示す。
ラストが0.5以上となるのに必要なエネルギーを求め
た。その結果を表3に示す。
【0041】
【表3】
【0042】実施例9〜16 外径86mm、内径15mm、厚さ1.2mmのポリカ
ーボネート基板に紫外線硬化樹脂(STM401 大日
本インキ社製)を用いて、溝幅0.6mm、ピッチ1.
6mm、溝深さ1000Åのグループを形成した。基板
のグルーブ面上に下式(2)で示されるシアニン色素の
ジクロロエタン溶液(1.5重量%濃度)をスピンコー
ト法により塗布し、厚さ900Åの記録層を形成した。
ーボネート基板に紫外線硬化樹脂(STM401 大日
本インキ社製)を用いて、溝幅0.6mm、ピッチ1.
6mm、溝深さ1000Åのグループを形成した。基板
のグルーブ面上に下式(2)で示されるシアニン色素の
ジクロロエタン溶液(1.5重量%濃度)をスピンコー
ト法により塗布し、厚さ900Åの記録層を形成した。
【0043】
【化2】
【0044】この記録層上に、表4に示すようなゴム状
高分子及びガス発生化合物から成る記録補助層を形成し
た。記録補助層は表4に示す組成物をスピンコート法に
より塗布し、次いで表4に示す硬化条件で硬化すること
により作製した。厚みは20μmとした。記録層、記録
補助層の形成された基板と、保護基材として厚さ0.3
mmのポリカーボネート基板とを、ゴム系ホットメルト
接着剤(DB−3S42 ダイヤボンド工業社製)を用
い、接着温度120℃にて接着し、光ディスクを作製し
た。
高分子及びガス発生化合物から成る記録補助層を形成し
た。記録補助層は表4に示す組成物をスピンコート法に
より塗布し、次いで表4に示す硬化条件で硬化すること
により作製した。厚みは20μmとした。記録層、記録
補助層の形成された基板と、保護基材として厚さ0.3
mmのポリカーボネート基板とを、ゴム系ホットメルト
接着剤(DB−3S42 ダイヤボンド工業社製)を用
い、接着温度120℃にて接着し、光ディスクを作製し
た。
【0045】比較例5〜8 記録補助層として表5に示すようなゴム状高分子のみか
ら成る記録補助層を形成した事以外は、実施例9〜16
と同様にして光ディスクを作製した。
ら成る記録補助層を形成した事以外は、実施例9〜16
と同様にして光ディスクを作製した。
【0046】
【表4】
【0047】
【表5】
【0048】作製した光ディスクを、線速7m/sで回
転させながら、発信波長830nm、スポットサイズ1
μmの半導体レーザーを周波数3MHzのパルスで基板
側より照射して記録を行い、再生パワー0.5mWで再
生した時のC/Nを測定した。各々の光ディスクについ
て、C/Nが45dB以上になるのに必要なエネルギー
を求めた結果を表6に示す。
転させながら、発信波長830nm、スポットサイズ1
μmの半導体レーザーを周波数3MHzのパルスで基板
側より照射して記録を行い、再生パワー0.5mWで再
生した時のC/Nを測定した。各々の光ディスクについ
て、C/Nが45dB以上になるのに必要なエネルギー
を求めた結果を表6に示す。
【0049】
【表6】
【0050】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、従
来の密着型光記録媒体に比べてより高感度の光記録媒体
を得ることができる効果がある。
来の密着型光記録媒体に比べてより高感度の光記録媒体
を得ることができる効果がある。
【図1】本発明の光記録媒体の一例を示す断面図であ
る。
る。
1 基板 2 記録層 3 記録補助層 4 接着層 5 保護基材
Claims (2)
- 【請求項1】 透光性の基板上に有機色素から成る記録
層及びゴム状高分子から成る記録補助層を有する光記録
媒体において、前記記録補助層が熱により分解するガス
発生化合物を含有することを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項2】 前記ゴム状高分子がシリコーンゴムであ
る請求項1記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5139851A JPH06333262A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5139851A JPH06333262A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06333262A true JPH06333262A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=15255015
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5139851A Pending JPH06333262A (ja) | 1993-05-20 | 1993-05-20 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06333262A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008269703A (ja) * | 2007-04-19 | 2008-11-06 | Taiyo Yuden Co Ltd | 光情報記録媒体 |
-
1993
- 1993-05-20 JP JP5139851A patent/JPH06333262A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008269703A (ja) * | 2007-04-19 | 2008-11-06 | Taiyo Yuden Co Ltd | 光情報記録媒体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0272933B1 (en) | Process for the preparation of information recording medium | |
JPH06333262A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2012502404A (ja) | データ保存媒体 | |
JP2001328350A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2730196B2 (ja) | 光カード | |
JP2763395B2 (ja) | 光記録媒体 | |
US5508087A (en) | Organic-optic recording tapes | |
JP2866056B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
JPH03216825A (ja) | 光学情報記録媒体 | |
JPH031339A (ja) | 光カード | |
JPH0498630A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH03120635A (ja) | 再生用情報記録媒体およびその製造方法 | |
JP2702570B2 (ja) | 熱可逆性光記録媒体 | |
JP3369182B2 (ja) | 消去可能な光記録媒体 | |
JPH0827995B2 (ja) | 光学的情報記録担体 | |
JPS5894145A (ja) | 光記録テ−プ | |
JPS6378794A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2508792B2 (ja) | 光カ―ド | |
JPH03274545A (ja) | 波長多重記録媒体 | |
JPH07272328A (ja) | 有機光記録媒体の再記録防止方法 | |
JPH0278037A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH05273713A (ja) | 光記録媒体の記録消去方法および光記録消去装置 | |
JPH0756273A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH056570A (ja) | 情報記録媒体 | |
JPH0827994B2 (ja) | 光カ−ド |