JPH06321571A - 赤外光透過ガラスファイバーの製造法 - Google Patents

赤外光透過ガラスファイバーの製造法

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Publication number
JPH06321571A
JPH06321571A JP5114408A JP11440893A JPH06321571A JP H06321571 A JPH06321571 A JP H06321571A JP 5114408 A JP5114408 A JP 5114408A JP 11440893 A JP11440893 A JP 11440893A JP H06321571 A JPH06321571 A JP H06321571A
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JP
Japan
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glass fiber
refractive index
atomic
atom
glass
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Pending
Application number
JP5114408A
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English (en)
Inventor
Masakatsu Sugai
正克 菅井
Yasuo Mizuno
康男 水野
Masaki Ikeda
正樹 池田
Akihiko Yoshida
昭彦 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH06321571A publication Critical patent/JPH06321571A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/10Non-chemical treatment
    • C03B37/14Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape
    • C03B37/15Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape with heat application, e.g. for making optical fibres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/80Non-oxide glasses or glass-type compositions
    • C03B2201/86Chalcogenide glasses, i.e. S, Se or Te glasses

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 カルコガナイドガラスからなるクラッドタイ
プの赤外光透過ガラスファイバーを歩留り良く製造でき
る方法の提供を目的とする。 【構成】 Seを含有する特定組成のガラスファイバー
1を、Seの排気ダクト2を有する加熱炉3で軟化温度
から流動温度の範囲で加熱して、ガラスファイバー1の
表面からSeを気化させて屈折率の低いクラッド層を形
成することにより、従来より高い歩留りでクラッドタイ
プの赤外光透過ガラスファイバーが製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は医療用や光通信用などの
赤外光透過ガラスファイバーの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】赤外光透過ガラスファイバーの製造法と
しては、赤外光透過カルコゲナイドガラスからなるガラ
スロッドをそのまま紡糸する方法と、図4、図5に示す
ように、ガラスクラッド12の中に屈折率の高いガラス
コア13を挿入したガラスロッド14を加熱炉15のな
かで軟化、紡糸して赤外光透過ガラスファイバー16を
製造するロッドインチューブ法とがある(例えば特開平
2−6345号公報)。一般にロッドインチューブ法で
製造されたクラッドタイプの方が低損失で、波長10μ
mの赤外線の透過損失は約2dB/mのレベルである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらカルコゲ
ナイドガラスは非常に脆いために、ガラスクラッド10
を製造する工程や紡糸する工程で破損し易く、歩留り良
くガラスファイバーが製造できないという問題点を有し
ていた。
【0004】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、カルコゲナイドガラスからなるクラッドタイプの赤
外光透過ガラスファイバーを歩留り良く製造できる方法
の提供を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の製造法は、ゲルマニウム(Ge)20原子%
以上、セレン(Se)80原子%以下のガラスファイバ
ーまたはヒ素(As)40原子%以上、Se60%以下
のガラスファイバーを、転移温度から軟化温度の範囲で
大気圧中または減圧下で熱処理してSeを気化させて上
記ガラスファイバー表面に屈折率の低いクラッド層を形
成する。
【0006】
【作用】上記構成によれば、ガラスクラッドを製造する
工程と屈折率の異なるガラスを軟化、紡糸する工程が不
要になる。
【0007】
【実施例】
(実施例1)以下図面を参照しながら本発明の赤外光透
過ガラスファイバーの製造法について説明する。
【0008】図1は本発明の一実施例の製造法を実施す
る装置の断面図である。同図において1はGe20原子
%、Se80原子%からなる直径約500μmのガラス
ファイバーであり、Seの排気ダクト2を有する加熱炉
3で大気圧中で550℃に加熱するとガラスファイバー
1の表面からSeが気化した。熱処理後のガラスファイ
バーの断面を元素分析すると図2に示すように直径が約
495μmで、表面から約10μmの深さまで一様にS
eが60原子%まで減少した。これによりコア部4の屈
折率が2.4027、クラッド部5の屈折率が2.37
68、波長10μmの赤外線の透過損失が約1.6dB
/mのクラッドタイプの赤外光透過ガラスファイバーが
従来より高い歩留りで製造できた。
【0009】(実施例2)以下図面を参照しながら本発
明の第2の実施例について説明する。
【0010】図3は本実施例の製造法を実施する装置の
断面図である。同図において6はGe25原子%、Se
75原子%からなる直径約500μmのガラスファイバ
ーであり、巻出しリール7と巻取りリール8の間に張ら
れている。9は加熱炉であり、10は排気ダクト11を
有する耐圧容器である。耐圧容器10の内部を約1Pa
に減圧し、巻出しリール7から巻取りリール8にガラス
ファイバーを移動させながら加熱炉9で590℃に加熱
しながら連続的に熱処理した。熱処理後のガラスファイ
バーの直径は約500μmであり、断面を元素分析する
と図2に示した実施例1と同様に表面から約10μmの
深さまで一様にSeが60原子%まで減少した。これに
よりコア部4の屈折率が2.3934、クラッド部5の
屈折率が2.3768、波長10μmの赤外線の透過損
失が約1.7dB/mのクラッドタイプの赤外光透過ガ
ラスファイバーが従来より高い歩留りで製造できた。減
圧下で熱処理すると大気圧中より低温で処理されるため
ガラスファイバーの外径の減少が少ない。
【0011】(実施例3)実施例1のガラスファイバー
に代えてAs40原子%、Se60原子%のガラスファ
イバーを用いて大気圧中で560℃で熱処理すると図2
に示した実施例1と同様に直径が約495μmで、表面
から約10μmの深さまで一様にSeが50原子%まで
減少した。これによりコア部4の屈折率が2.778
9、クラッド部5の屈折率が2.7606、波長10μ
mの赤外線の透過損失が約1.7dB/mのクラッドタ
イプの赤外光透過ガラスファイバーが従来より高い歩留
りで製造できた。
【0012】(実施例4)実施例2のガラスファイバー
に代えてAs29原子%、Se71原子%のガラスファ
イバーを用いて約1Paの減圧下で500℃で熱処理す
ると直径が約500μmで、断面が図2に示した実施例
1と同様に表面から約10μmの深さまで一様にSeが
50原子%まで減少した。これによりコア部4の屈折率
が2.7728、クラッド部5の屈折率が2.760
6、波長10μmの赤外線の透過損失が約1.8dB/
mのクラッドタイプの赤外光透過ガラスファイバーが従
来より高い歩留りで製造できた。
【0013】本発明において、ゲルマニウム(Ge)2
0原子%以上、セレン(Se)80原子%以下のガラス
ファイバーまたはヒ素(As)40原子%以上、Se6
0%以下のガラスファイバーに限定したのは、この組成
範囲ではSeを気化させると屈折率が低くなるためであ
り、加熱温度を軟化温度から流動温度の範囲に限定した
のは、ガラスファイバーをあまり変形させずに短時間で
Seを気化させるためである。
【0014】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ガラスク
ラッドを製造する工程と屈折率の異なるガラスを軟化、
紡糸する工程が不要になるため、カルコガナイドガラス
からなるクラッドタイプの赤外光透過ガラスファイバー
が従来より高い歩留りで製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の製造法を実施する装置の断
面図
【図2】本発明による赤外光透過ガラスファイバーの断
面図
【図3】本発明の第2、第4の実施例の実施をする装置
の断面図
【図4】従来の製造法におけるガラスクラッドとガラス
コアの斜視図
【図5】従来の製造法を実施する装置の断面図
【符号の説明】
1,6 ガラスファイバー 5 クラッド層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 昭彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ゲルマニウム(Ge)20原子%以上、セ
    レン(Se)80原子%以下のガラスファイバーまたは
    ヒ素(As)40原子%以上、Se60%以下のガラス
    ファイバーを、軟化温度から流動温度の範囲で、大気圧
    中または減圧下で熱処理してSeを気化させて上記ガラ
    スファイバー表面に屈折率の低いクラッド層を形成する
    赤外光透過ガラスファイバーの製造法。
JP5114408A 1993-05-17 1993-05-17 赤外光透過ガラスファイバーの製造法 Pending JPH06321571A (ja)

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JP5114408A JPH06321571A (ja) 1993-05-17 1993-05-17 赤外光透過ガラスファイバーの製造法

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JPH06321571A true JPH06321571A (ja) 1994-11-22

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ID=14636943

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JP5114408A Pending JPH06321571A (ja) 1993-05-17 1993-05-17 赤外光透過ガラスファイバーの製造法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002076516A (ja) * 2000-07-07 2002-03-15 Lucent Technol Inc カルコゲナイド誘電体コーティングを有するメサ構造半導体光エミッタ

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JP2002076516A (ja) * 2000-07-07 2002-03-15 Lucent Technol Inc カルコゲナイド誘電体コーティングを有するメサ構造半導体光エミッタ

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