JPH0631272A - 膜処理装置 - Google Patents

膜処理装置

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JPH0631272A
JPH0631272A JP4189430A JP18943092A JPH0631272A JP H0631272 A JPH0631272 A JP H0631272A JP 4189430 A JP4189430 A JP 4189430A JP 18943092 A JP18943092 A JP 18943092A JP H0631272 A JPH0631272 A JP H0631272A
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JP
Japan
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water
quality
permeated water
permeated
reverse osmosis
Prior art date
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Pending
Application number
JP4189430A
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English (en)
Inventor
Makio Tamura
真紀夫 田村
Tomohiro Kawakita
河北智博
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Organo Corp
Original Assignee
Organo Corp
Japan Organo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 RO装置を2段に用いて高純度水を製造する
膜処理装置において、2段目のRO装置の透過水の水質
を一定の値に安定化させること。 【構成】 第1RO装置(4)の透過水を第2のRO装
置(5)により処理する膜処理装置において、第1のR
O装置の透過水(4.1)又は第2のRO装置の濃縮水
(5.2)のpHを測定機(6.1)により測定し、そ
の測定値に基づいて薬注手段(7、7.2)を制御
(6)して、第1のRO装置からの給水(3.1)への
pH調整薬(7.1)の供給量を調整し、第1のRO装
置の透過水のpHを一定に維持し、第2のRO装置の透
過水の水質を安定化させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子工業における半導
体洗浄等に使用される、安定した水質の高純度水を製造
するための膜処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】純水、超純水等と呼ばれる所謂高純度水
は、半導体洗浄や製薬用等に利用される。この高純度水
を製造するための装置として、第1の逆浸透膜装置(以
下「RO装置」という)の透過水を、更に第2のRO装
置により処理して、第2のRO装置の透過水が高純度水
となるようにした、所謂2段RO装置式の膜処理装置は
公知である。
【0003】上記のような膜処理装置において、第1の
RO装置の給水のpH調整が行われていた。その理由
は、例えば被処理水中のCO2 は、特別の手段を講じな
い限りRO膜を透過してしまい、除去することができな
いので、それを防ぐために、第1のRO装置の給水のp
Hを高くすることにより、CO2 を炭酸水素イオン等の
イオンに変化させてRO装置により除去可能としなけれ
ばならないからである。このようなpH調整に際し、従
来は、第1のRO装置の給水のpHを測定し、その測定
結果に応じて苛性ソーダ等のpH調整薬を該給水に薬注
し、該給水のpHをCO2 の除去に好適な一定値に維持
していた。
【0004】従来は、上記のように、第1のRO装置の
給水のpHを所定値に維持することにより、第2のRO
装置から得られる透過水は、高純度水としての十分な品
質を備えるものと考えられていた。ところが、第1及び
第2のRO装置を有する実際の膜処理装置において、上
記のようなpH調整を行っていた所、CO2 が十分に除
去されず、第2のRO装置の透過水に品質の低下が見ら
れることがあった。これを更に図5,6を参照して説明
すると、従来装置では、図5に示すように、第1のRO
装置の給水のpHを測定しながら薬注して、第1のRO
装置の給水のpHを一定値に維持しても、第1のRO装
置の透過水のpHに変化が見られ、第2のRO装置の透
過水の水質等の低下が見られた。
【0005】第1のRO装置給水のpHを一定値に維持
すれば、所定量のCO2 が除去され、第2のRO装置か
らは一定品質の透過水が得られるであろうと予測する、
従来の技術常識からは、上記のような現象は理解困難で
あった。そこで本発明者らは、上記現象について鋭意研
究した結果、第2のRO装置の透過水水質の変動は第1
のRO装置透過水pH変動の影響を受けていることが判
明した。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、RO装置を
2段に用いた従来の膜処理装置において、第2RO装置
からの透過水の品質の不安定の問題を、前記知見により
解決し、品位の安定した高純度水を製造し得る膜処理装
置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による課題を解決
するための手段は、特許請求の範囲の請求項に記載のと
おりである。そしてその作用は次のとおりである。第1
のRO装置及び第2のRO装置を有する膜処理装置にお
いて、第1のRO装置の給水側のpH調整を、第1のR
O装置の透過水または第2のRO装置の濃縮水のpHの
測定結果に基づいて行い、第1のRO装置の透過水のp
Hを一定値に維持することにより、第2のRO装置によ
り所定量の不純物を除去し、第2のRO装置の透過水の
品質を一定にする。
【0008】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図1を参照
して説明する。図1において、原水1は前処理装置2に
給水される。前処理装置2は、凝集沈殿・濾過、凝集濾
過、砂濾過、MF処理、UF処理、活性炭処理、加圧浮
上等の公知手段の1つ又はそれ以上の組合せにより構成
される。前処理装置2による処理水2.1は、pH調節
のために酸を添加後(図示せず)、脱炭酸塔3で炭酸を
低減され、次いで第1のRO装置4に給水される。該給
水3.1は、第1のRO装置において、透過水4.1と
濃縮水4.2とに分離される。第1のRO装置からの透
過水4.1は、次いで第2のRO装置5に供給され、該
第2のRO装置5において、透過水5.1と濃縮水5.
2とに分離される。濃縮水5.2は脱炭酸塔3の前段に
適宜還流される。
【0009】給水3.1は第1のRO装置4に供給され
る際に、次のようにpH調整がなされる。第1のRO装
置4の透過水4.1のpHは、第1のpH測定機6.1
により測定され、その測定値に基づく信号は、薬注制御
装置6に送信される。薬注制御装置6においては、pH
測定機6.1からの信号即ちpH測定値により透過水
4.1のpH値を一定に維持する制御信号が出力され、
該制御信号は、薬注ポンプ7に入力される。該制御信号
により薬注ポンプ7は制御され、薬液タンク7.2内の
薬液7.1が、薬注ポンプ7により給水3.1に供給さ
れる。薬液7.1は、給水3.1のpHを調整する液で
あり、例えば苛性ソーダ等のアルカリ液が用いられる。
【0010】アルカリ液が加えらられた給水3.1は、
必要に応じ第2の測定機6.2により測定され、その測
定値は電気信号として制御装置6に送信される。測定機
6.2により測定されたpHが、制御装置6において、
pHの上限設定値に一致又はこれを超えたと判断された
時は、該制御装置6から制御信号が出力され、該信号に
より、薬注ポンプ7は停止され、給水3.1へのpH調
整薬の薬注量の増加が停止される。また該制御信号によ
り、必要に応じ警報装置(図示せず)が作動される。
【0011】第2の測定器6.2は必ずしも設ける必要
がないが、これを設置することにより、上述した制御も
可能となるので、RO膜の炭酸カルシウムによる汚染を
防止する意味から設けることが望ましい。
【0012】図2は本発明の第2の実施例を示す。前記
実施例においては、薬注ポンプ7を制御するためのpH
測定値を、第1のRO装置の透過水4.1に求めたが、
本実施例においては、当該測定値を第2のRO装置の濃
縮水5.2に求める。即ち、第1の測定機6.1によ
り、第2のRO装置の濃縮水5.2のpHが測定され、
その測定値に応じた信号が測定機6.1から制御装置6
に送信され、該信号に応じて、前記実施例同様に、薬注
ポンプ7は制御装置6により制御されて、所定量の薬注
がなされる。本実施例におけるその他の構成は、第1実
施例と同様である。本実施例によれば、第1のRO装置
の透過水4.1のpH値と第2のRO装置の濃縮水のそ
れとの相関関係を利用して、透過水4.1のpHが間接
的に測定されることになる。本実施例の利点の1つは、
透過水4.1系の圧力より濃縮水5.2系の圧力がかな
り低いので、濃縮水5.2系に設ける測定機6.1の耐
圧強度を低減できることである。
【0013】なお、第2の測定器6.2の設置に関して
は、前記実施例と同じである。
【0014】
【試験例】図1の実施例装置において、第1のRO装置
に東レ製SU−710、第2のRO装置に東レ製SU−
910を用いて実験を行った。その結果を図3.4に示
す。これらの図に示す結果と、前述の従来例の図5.6
のそれとを比較した場合、本実施例において、第1のR
O装置の透過水3.1のpHが略一定に維持され、また
第2のRO装置の透過水5.1の抵抗率は略一定の値に
維持され、透過水の品質が安定していることが明らかで
ある。
【0015】また第1のRO装置および第2のRO装置
共に東レ製SU−710を用いても、第2のRO装置透
過水の抵抗率は、5MΩ・cmと図4に示す値より多少
低かったものの、やはりその値は略一定であった。
【0016】本発明の実施例による第2のRO装置透過
水の品質安定の理由は、従来方法では第1のRO装置の
給水3.1のpHを測定して制御していたため、透過水
4.1にCO2 が残留しやすく、これが第1のRO装置
を透過して、第1のRO装置透過水(透過水4.1に相
当)のpHが低下してしまい、第2のRO装置透過水
(透過水5.1に相当)の水質が低下してしまうのに対
し、本実施例においては、直接第1のRO装置透過水
4.1のpHで制御するので、その制御が正確となり透
過水4.1のpHが一定に保たれるため、透過水4.1
のCO2 量を可及的に少なくすることができ、第2のR
O装置5の透過水5.1の水質が安定すると考えられ
る。
【0017】第2実施例についても、第1実施例同様の
実験を行ったところ、略同様の結果が得られた。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第1のRO装置及び第2のRO装置を2段に用いる膜処
理装置において、第1のRO装置の透過水又は第2のR
O装置の濃縮水のpHを測定し、該測定値に基づいて薬
注を行うので、第1のRO装置の透過水のpHを一定に
維持し、それによって第2のRO装置の透過水即ち膜処
理装置による製造水の水質を安定させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の膜処理装置の概要図。
【図2】本発明の第2実施例の膜処理装置の概要図。
【図3】本発明の実験における第1のRO装置の実験結
果を示す図。
【図4】本発明の実験における第2のRO装置の結果を
示す図。
【図5】従来の第1のRO装置の水質を示す図。
【図6】従来の第2のRO装置の水質を示す図。
【符号の説明】
3.1…給水 4…第1の逆浸透R
O装置 5…第2の逆浸透RO装置 4.1、5.1…透
過水 4.2、5.2…濃縮水 6…制御装置 6.1、6.2…pH測定機 7…薬注ポンプ 7.2…薬液タンク

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水処理を行う第1の逆浸透膜装置、第1
    の逆浸透膜装置の透過水を処理する第2の逆浸透膜装
    置、及び第1の逆浸透膜装置の給水側にpH調整薬を供
    給する薬注手段を有する膜処理装置において、前記第1
    の逆浸透膜装置の透過水又は前記第2の逆浸透膜装置の
    濃縮水のpHを測定するpH測定機及び該pH測定機に
    よる測定値に基づいて前記薬注手段を制御する薬注制御
    装置を設けたことを特徴とする膜処理装置。
JP4189430A 1992-07-16 1992-07-16 膜処理装置 Pending JPH0631272A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998039085A1 (en) * 1997-03-03 1998-09-11 Zenon Environmental, Inc. High resistivity water production
US5833846A (en) * 1996-01-17 1998-11-10 Orango Corporation High-purity water producing apparatus utilizing boron-selective ion exchange resin
US5923131A (en) * 1996-03-21 1999-07-13 Matsushita Electronics Corporation Compensating device for raster distortion of CRT
JP2012183473A (ja) * 2011-03-04 2012-09-27 Miura Co Ltd 水処理装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5833846A (en) * 1996-01-17 1998-11-10 Orango Corporation High-purity water producing apparatus utilizing boron-selective ion exchange resin
MY120689A (en) * 1996-01-17 2005-11-30 Organo Corp High-purity water producing apparatus utilizing boron-selective ion exchange resin.
US5923131A (en) * 1996-03-21 1999-07-13 Matsushita Electronics Corporation Compensating device for raster distortion of CRT
WO1998039085A1 (en) * 1997-03-03 1998-09-11 Zenon Environmental, Inc. High resistivity water production
JP2012183473A (ja) * 2011-03-04 2012-09-27 Miura Co Ltd 水処理装置

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