JPH06295071A - Photosensitive planographic printing plate processing device - Google Patents
Photosensitive planographic printing plate processing deviceInfo
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- JPH06295071A JPH06295071A JP8087693A JP8087693A JPH06295071A JP H06295071 A JPH06295071 A JP H06295071A JP 8087693 A JP8087693 A JP 8087693A JP 8087693 A JP8087693 A JP 8087693A JP H06295071 A JPH06295071 A JP H06295071A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版を搬
送しながら少なくとも現像部を通過させて処理液処理す
る感光性平版印刷版処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus which conveys a photosensitive lithographic printing plate while passing it through at least a developing section to process a processing liquid.
【0002】[0002]
【従来の技術】感光性平版印刷版を処理する感光性平版
印刷版処理装置(以下「PS版プロセッサー」という)
では、一般に装置内でPS版を現像液に浸漬して現像処
理を行うか又は略水平搬送しながら現像処理した後、リ
ンス部においてリンス処理等の処理液処理を行ってい
る。一般的にリンス処理には、現像処理後に行われる水
洗水による洗浄処理と、洗浄処理した後にガム液等によ
って行われる不感脂化処理がある。2. Description of the Related Art A photosensitive lithographic printing plate processing apparatus for processing a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS plate processor")
In general, the PS plate is generally immersed in a developing solution in the apparatus to perform development processing, or after development processing while being conveyed substantially horizontally, processing solution processing such as rinsing processing is performed in the rinse section. Generally, the rinse treatment includes a washing treatment with washing water performed after the development treatment and a desensitizing treatment performed with a gum solution or the like after the washing treatment.
【0003】焼付装置等で画像が記録されたPS版は、
このPS版プロセッサーへ送られ現像槽内を搬送されな
がら現像液に浸漬され、或いは現像液が画像記録面に吹
きつけられる等の種々の方法によって画像記録面に現像
液が供給され現像処理される。A PS plate on which an image is recorded by a printing device is
The developing solution is supplied to the image recording surface by various methods such as being fed to the PS plate processor and being transported in the developing tank while being immersed in the developing solution, or spraying the developing solution onto the image recording surface for development processing. .
【0004】現像処理されたPS版は、水洗部で水洗水
によって水洗された後(水洗処理)、不感脂化処理部で
ガム液が塗布されて版面又は両面が保護され(不感脂化
処理)、次いで乾燥処理される。The developed PS plate is washed with rinsing water in the rinsing section (washing treatment), and then the gum solution is applied in the desensitizing section to protect the plate surface or both sides (desensitizing treatment). Then, it is dried.
【0005】一般に、現像液等の処理液は、外気に晒さ
れることにより疲労度が増加し(CO2 疲労)、現像能
力が低下する。現像液疲労度検出センサを用いて現像能
力を確認したり、正式にPS版を処理する前にテスト的
にPS版を通すことによって現像液の現像能力を確認し
たりする方法があるが、これらの方法によって現像液の
現像能力を知り、この結果、現像能力の低下が早い場合
は、補充液の補充時期を早めることになり、補充液の消
費量が増大する。このため、例えば、特開平3−878
33号公報に開示されているように、現像液を貯留して
いる現像槽の液面に浮き蓋等を配設して、外気との接触
を軽減することが考えられているが、浮き蓋と現像槽壁
との間等を必ずしも完全に密閉することができず、上記
浮き蓋のみでは、隙間が多く存在し、不十分である。ま
た、PS版プロセッサーには、現像液を加温する発熱部
があり、現像液中の水分の蒸発がかなり多い。その結
果、現像液の濃度変化が生じ、補充液を頻繁に補充しな
ければならず、保守が大変であった。また、ガム液等の
処理液の水分の蒸発による処理液の濃度変化が大きく、
自動制御による補充では対応しきれずに、オペレータに
よる煩雑なマニュアル補充を強いられることがある。Generally, a processing solution such as a developing solution has an increased degree of fatigue (CO 2 fatigue) when exposed to the outside air, and the developing ability is lowered. There is a method of confirming the developing ability using a developer fatigue detection sensor, and confirming the developing ability of the developer by passing the PS plate for a test before officially processing the PS plate. By knowing the developing ability of the developing solution by the above method, and as a result, when the developing ability deteriorates quickly, the replenishing time of the replenishing solution is advanced and the consumption amount of the replenishing solution increases. Therefore, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-878.
As disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 33-33, it is considered that a floating lid or the like is provided on the liquid surface of a developing tank that stores the developing solution to reduce contact with the outside air. It is not always possible to completely seal the space between the developing tank and the developing tank wall, and the above floating lid alone is insufficient because there are many gaps. Further, the PS plate processor has a heat generating portion for heating the developer, and the water content in the developer is considerably evaporated. As a result, the concentration of the developer changes, and the replenisher must be replenished frequently, which makes maintenance difficult. In addition, the concentration change of the treatment liquid due to the evaporation of water in the treatment liquid such as gum liquid is large,
Replenishment by automatic control may not be sufficient, and the operator may be forced to perform complicated manual replenishment.
【0006】また、現像処理以外の水洗処理及び不感脂
化処理といったリンス処理においても、PS版表面を処
理した後PS版表面から落下する処理液を貯留する大型
の処理液タンクを備え、大容量の送液ポンプで汲み上げ
て、再びスプレーパイプからPS版表面へ各処理液を噴
射することにより、処理する構造となっているため、処
理液タンクからの水分の蒸発によって、前記現像部と同
様に析出物によるスプレーパイプの孔のつまり等が発生
しており、保守が煩雑となると共に装置の大型化の要因
の1つとなっている。Also, in rinse treatments such as water washing treatments and desensitizing treatments other than the developing treatments, a large treating liquid tank for storing the treating liquid falling from the PS plate surface after treating the PS plate surface is provided, and a large capacity is provided. Since the structure is such that the processing liquid is pumped up and the processing liquid is sprayed again from the spray pipe onto the surface of the PS plate, the evaporation of moisture from the processing liquid tank causes the same processing as in the developing section. The deposits cause the holes of the spray pipe to be clogged, which complicates maintenance and is one of the factors that increase the size of the apparatus.
【0007】これを解消するために、処理部回りをケー
シングで覆い、PS版の挿入口及び排出口に、通常は弾
性力で当接し合ってこの挿入口及び排出口を閉塞する一
対のブレードをそれぞれ取り付け、挿入口及び排出口か
らの外気の侵入を防止するようにした構成が既に考えら
れている(一例として特開平3−231245号公報参
照)。In order to solve this, a pair of blades which cover the processing section with a casing and normally abut against the insertion port and the ejection port of the PS plate by elastic force to close the insertion port and the ejection port. There has already been considered a structure in which the outside air is prevented from entering through the attachment, the insertion port and the discharge port (see JP-A-3-231245 as an example).
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ブ
レードによって挿入口及び排出口からの外気の侵入は阻
止できるが、蒸発防止効果が十分とはいえず、搬送ロー
ラに析出した現像液成分のPS版上への転写、スプレー
パイプの孔のつまり、現像液の濃度変化等によりPS版
を安定に仕上げることができないということがあった。However, although the blade can prevent the invasion of the outside air from the insertion port and the discharge port, the effect of preventing evaporation is not sufficient, and the PS plate of the developer component deposited on the transport roller is not able to be said. There have been cases where the PS plate cannot be stably finished due to transfer to the top, clogging of the spray pipe, changes in the concentration of the developer, and the like.
【0009】特に、不感脂化処理が終了し面が濡れた状
態で装置から排出されるPS版が、前記ブレード等に接
触することはPS版のまだ軟らかい不感脂化処理した面
を傷つける恐れがあり、実質上排出口を閉塞する一対の
ブレードを取り付けることができなかった。このため、
排出口近傍に配置した搬送ローラの表面にガム液等が析
出してしまい、稼動開始後最初に処理するPS版の表面
を傷める恐れがあり、装置の稼動を開始する前に搬送ロ
ーラ表面のクリーニングを行うなどの洗浄作業が必要で
あった。In particular, if the PS plate discharged from the apparatus after the desensitizing treatment is completed and the surface is wet comes into contact with the blade or the like, there is a risk of damaging the still soft desensitized face of the PS plate. However, it was not possible to attach a pair of blades that substantially blocked the discharge port. For this reason,
Gum liquid, etc. may be deposited on the surface of the transport roller located near the discharge port, which may damage the surface of the PS plate that is processed first after the operation starts. Cleaning the surface of the transport roller before starting the operation of the device It was necessary to carry out cleaning work such as.
【0010】本発明は上記事実を考慮し、ケーシング内
部への外気の侵入をより一層効果的に防止して処理液の
劣化を防止すると共に、装置の稼動を開始する前に煩雑
なクリーニング作業を行う必要のない感光性平版印刷版
処理装置を提供することを目的とする。In consideration of the above facts, the present invention more effectively prevents outside air from entering the inside of the casing to prevent deterioration of the processing liquid, and at the same time, performs complicated cleaning work before starting the operation of the apparatus. It is an object of the present invention to provide a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus that does not need to be performed.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
感光性平版印刷版処理装置は、処理液処理部に感光性平
版印刷版を処理する少なくとも現像処理液を貯留し、挿
入口から挿入される前記感光性平版印刷版を搬送しなが
らこれらの前記現像処理液によって処理して排出口から
送り出す感光性平版印刷版処理装置であって、内部に前
記処理液処理部を収容し前記挿入口と前記排出口が形成
されると共に前記挿入口近傍に装置外と前記処理液処理
部との間の気体の流通を阻止する第1の遮蔽手段を設け
たケーシングと、前記排出口の上流側で前記排出口に隣
接して配置され前記感光性平版印刷版を前記排出口から
送り出すローラ対と、前記排出口の開口周縁部に取り付
けられると共に前記ローラ対の周面に摺接して装置外と
前記処理液処理部との間の気体の流通を阻止する第2の
遮蔽手段と、を有することを特徴とする。A photosensitive lithographic printing plate processing apparatus according to claim 1 of the present invention stores at least a developing processing liquid for processing a photosensitive lithographic printing plate in a processing liquid processing section and from an insertion opening. A photosensitive lithographic printing plate processing apparatus that processes the developing lithographic printing plate to be inserted therein and conveys it through the discharge port while conveying the photosensitive lithographic printing plate, wherein the processing liquid processing section is housed inside and is inserted. A casing provided with a first shielding means for preventing gas from flowing between the outside of the apparatus and the treatment liquid processing section in the vicinity of the insertion opening and the insertion opening, and the upstream side of the discharge opening. And a roller pair which is disposed adjacent to the discharge port and sends out the photosensitive lithographic printing plate from the discharge port, and which is attached to the peripheral edge portion of the opening of the discharge port and slidably contacts the peripheral surface of the roller pair outside the apparatus. The processing liquid processing unit And having a second shielding means for preventing the flow of gas between.
【0012】本発明の請求項2に係る感光性平版印刷版
処理装置は、請求項1の感光性平版印刷版処理装置であ
って、前記ケーシングの排出口に設けられ少なくとも装
置稼動停止中は排出口を閉止して外気の侵入を防止する
と共に前記感光性平版印刷版が通過するときに排出口を
開放するシャッターと、を有することを特徴とする。A photosensitive lithographic printing plate processing apparatus according to claim 2 of the present invention is the photosensitive lithographic printing plate processing apparatus according to claim 1, wherein the photosensitive lithographic printing plate processing apparatus is provided at an outlet of the casing and is discharged at least when the apparatus is not operating. A shutter for closing the outlet to prevent outside air from entering and for opening the outlet when the photosensitive lithographic printing plate passes.
【0013】[0013]
【作用】本発明の請求項1に記載の感光性平版印刷版処
理装置は、ケーシングの挿入口近傍に第1の遮蔽手段を
設け、排出口の開口周縁部に取り付けられ、排出口の上
流側で排出口に隣接して配置されているローラ対の表面
に摺接する第2の遮蔽手段を設けた。これによって、装
置外から処理液処理部内に外気が流入するのを防止して
いる。また、処理液処理部から装置外へ処理液処理部が
生じる上記を含んだ空気が出てしまうのを防止できる。In the photosensitive lithographic printing plate processing apparatus according to the first aspect of the present invention, the first shielding means is provided in the vicinity of the insertion opening of the casing and is attached to the peripheral edge portion of the opening of the discharge port, and the upstream side of the discharge port. The second shielding means is provided so as to be in sliding contact with the surface of the roller pair disposed adjacent to the discharge port. This prevents outside air from flowing into the processing liquid processing unit from outside the apparatus. Further, it is possible to prevent the air containing the above generated by the processing liquid processing unit from being discharged from the processing liquid processing unit to the outside of the apparatus.
【0014】処理が終了して処理液処理部から送り出さ
れる感光性平版印刷版は、排出口の上流側の排出口に隣
接するローラ対に挟持搬送されて第2の遮蔽手段に囲ま
れた搬送路を通過して排出口へ送られる。このとき、感
光性平版印刷版はローラのみに接触し、第2の遮蔽手段
に接触することがないため、例えば表面に塗布されてい
るガム液がムラになったりすることがない。The photosensitive lithographic printing plate discharged from the processing liquid processing unit after the processing is sandwiched and conveyed by the roller pair adjacent to the discharge port on the upstream side of the discharge port and surrounded by the second shielding means. It passes through the road and is sent to the outlet. At this time, the photosensitive lithographic printing plate comes into contact only with the roller and does not come into contact with the second shielding means, so that, for example, the gum solution applied to the surface does not become uneven.
【0015】また、感光性平版印刷版を排出口から排出
しないときはもちろん、排出するときでも処理液処理部
の気密性が保たれ、炭酸ガスによる現像処理液の劣化を
防止でき、水分の蒸発も抑えることができるので、処理
液による処理の安定性を向上させることができ、蒸発及
び炭酸ガスによる疲労等に応じて補充する補充液の量を
削減することができる。Further, when the photosensitive lithographic printing plate is not discharged from the discharge port as well as when discharged, the airtightness of the processing liquid processing portion is maintained, the deterioration of the developing processing liquid due to carbon dioxide gas can be prevented, and the evaporation of moisture. Therefore, the stability of the treatment with the treatment liquid can be improved, and the amount of the replenisher liquid to be replenished according to the evaporation and fatigue due to carbon dioxide gas can be reduced.
【0016】本発明の請求項2に記載の感光性平版印刷
版処理装置は、排出口にシャッターを設けて、このシャ
ッターによって少なくとも装置稼動停止中は排出口を閉
塞してケーシング内に外気が侵入しないようにしてい
る。このため、排出口近傍のケーシング内の搬送ローラ
等が外気にさらされて処理液が固着し、搬送される感光
性平版印刷版に固形物が付着したり、感光性平版印刷版
に傷か付いたりするのを防止することができる。In the photosensitive lithographic printing plate processing apparatus according to the second aspect of the present invention, a shutter is provided at the discharge port, and the shutter closes the discharge port at least when the operation of the apparatus is stopped so that the outside air enters the casing. I try not to. For this reason, the processing liquid is fixed by exposing the conveying rollers and the like in the casing near the discharge port to the outside air, and solid matter adheres to the conveyed photosensitive lithographic printing plate or the photosensitive lithographic printing plate is damaged. Can be prevented.
【0017】[0017]
【実施例】図1及び図2には、本実施例に係る感光性平
版印刷版処理装置(以下「PS版プロセッサー」と言
う)10が示されている。PS版プロセッサー10は、
図示しない焼付装置によって画像が焼付けられた感光性
平版印刷版(以下「PS版」と言う)12を現像処理す
るものである。1 and 2 show a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus (hereinafter referred to as "PS plate processor") 10 according to this embodiment. PS version processor 10
The photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "PS plate") 12 on which an image is printed by a printing device (not shown) is developed.
【0018】図1に示されるように、PS版プロセッサ
ー10は、内部の処理液処理部11が機枠14で覆われ
ている。機枠14は、上蓋70、側板カバー72、74
及び側板カバー72、74の下方を覆う外板パネル76
によって構成されている。また、機枠14には、PS版
12(図2参照)を内方へ送り込むための挿入台16が
取り付けられている。PS版12は、この挿入台16に
載置されて挿入台16の奥側の開口から機枠14の内部
へ挿入される。As shown in FIG. 1, the PS plate processor 10 has an internal processing liquid processing section 11 covered with a machine casing 14. The machine frame 14 includes an upper lid 70, side plate covers 72, 74.
And an outer panel 76 that covers the lower sides of the side plate covers 72 and 74.
It is composed by. Further, the machine frame 14 is provided with an insertion table 16 for feeding the PS plate 12 (see FIG. 2) inward. The PS plate 12 is placed on the insertion table 16 and inserted into the machine frame 14 through the opening on the back side of the insertion table 16.
【0019】図2に示されるように、機枠14の内部に
は、PS版12を現像処理する現像液が貯留される現像
槽18を備えた現像部22、PS版12に付着した現像
液を水洗して水洗処理する水洗部24、水洗後のPS版
12にガム液を塗布して不感脂化処理するガム液を貯留
するガム液槽30を備えたフィニッシャー部26、が挿
入台16からPS版12の搬送方向に沿って順に配設さ
れて処理液処理部11を構成している。なお、水洗部2
4には、PS版12を洗浄した水洗水を回収する水洗槽
28が設けられている。As shown in FIG. 2, inside the machine frame 14, a developing section 22 provided with a developing tank 18 in which a developing solution for developing the PS plate 12 is stored, and a developing solution attached to the PS plate 12. From the insertion table 16, there are a water washing section 24 for washing and washing with water, and a finisher section 26 having a gum solution tank 30 for storing a gum solution for desensitizing by applying a gum solution to the PS plate 12 after washing. The processing liquid processing unit 11 is configured by being sequentially arranged along the transport direction of the PS plate 12. In addition, the washing section 2
4 is provided with a washing tank 28 for collecting washing water for washing the PS plate 12.
【0020】機枠14には、挿入台16の奥側に対応し
てスリット状の挿入口102が設けられ、この挿入口1
02と反対側にスリット状の排出口104が設けられて
いる。図1に示される如く、排出口104は、フィニッ
シャー部26の下流側に必要に応じて設けられる乾燥部
31の入口と対応するようになっている。この乾燥部3
1には、例えば、フィニッシャー部26から送り出され
たPS版12を多数のローラによって搬送しながら、こ
のPS版12の両面に温風を吹きつけて乾燥するものな
どを用いることができる。さらに、処理されてPS版プ
ロセッサー10又は乾燥部31から排出されるPS版1
2を立て掛けて貯版するストッカー等を設けるようにし
てもよい。The machine frame 14 is provided with a slit-shaped insertion opening 102 corresponding to the inner side of the insertion table 16.
A slit-shaped discharge port 104 is provided on the side opposite to 02. As shown in FIG. 1, the discharge port 104 corresponds to the inlet of the drying unit 31 provided on the downstream side of the finisher unit 26 as required. This drying section 3
For example, the PS plate 12 sent from the finisher unit 26 may be conveyed by a large number of rollers, and hot air may be blown onto both surfaces of the PS plate 12 to dry the PS plate 12. Furthermore, the PS plate 1 that is processed and discharged from the PS plate processor 10 or the drying unit 31
You may make it provide the stocker etc. which lean against 2 and store a plate.
【0021】機枠14の上面の上蓋70には、現像部2
2と水洗部24との間にPS版12を挿入するリエント
リー用挿入口150が設けられている。このリエントリ
ー用挿入口150からは、再水洗及びガム液塗布等の現
像処理を除く処理を行うためのPS版12を挿入するこ
とができるようになっている。The developing unit 2 is provided on the upper lid 70 of the upper surface of the machine frame 14.
A re-entry insertion opening 150 for inserting the PS plate 12 is provided between the cleaning plate 2 and the washing section 24. From the reentry insertion port 150, the PS plate 12 can be inserted for performing a process other than the developing process such as rewashing and gum solution application.
【0022】図2に示されるように、このリエントリー
用挿入口150には、ブレード152が配設されてい
る。ブレード152は、ゴム製で先端部がリエントリー
用挿入口150の案内面とされる上蓋70に接触され、
基部がブラケット154を介して上蓋70の裏面側に固
定されている。このため、リエントリー用挿入口150
は、ブレード152によって閉塞された状態となってい
る。ここで、PS版12をリエントリー用挿入口150
から挿入すると、ブレード152は弾性変形してこのP
S版12の挿入を妨げることがないようになっている。As shown in FIG. 2, a blade 152 is arranged in the reentry insertion opening 150. The blade 152 is made of rubber, and its tip is brought into contact with the upper lid 70 that serves as a guide surface for the reentry insertion opening 150.
The base portion is fixed to the back surface side of the upper lid 70 via the bracket 154. Therefore, the reentry insertion port 150
Is closed by the blade 152. Here, the PS plate 12 is inserted into the reentry insertion slot 150.
Blade 152 is elastically deformed when inserted from
It does not hinder the insertion of the S plate 12.
【0023】なお、図7に示されるように、ブレード1
52に代えて、リエントリー用挿入口150へPS版1
2を案内するための斜面部110の上端部と、リエント
リー用挿入口150から立設される縦壁部112の上端
部とに掛け渡される蓋体114を設けるようにしてもよ
い。これらによって、現像部22を密閉構造とすること
ができ、現像液が外気中の炭酸ガスに接触することによ
って劣化するのを防止することができる。このとき、ブ
レード152に代えて蓋体114を設けてもよいし、ブ
レード152と蓋体114とを共に設けてもよい。ま
た、蓋体114の端部には板状の金属片118が取付け
られ、斜面部110の上端部近傍のPS版12の搬送幅
方向両端部には、ロック機構によって出没可能なフェラ
イト磁石が収容された鉄枠が埋め込まれたプラスチック
製のボックスユニット(磁石式プッシュラッチ)120
が処理可能な最も幅の広いPS版12よりも搬送幅方向
の幅が広い位置に取付けられている。これにより、フェ
ライト磁石が収容された状態ではボックスユニット12
0の内部でフェライト磁石が図示しないロック機構によ
りロックされて蓋体114を閉止状態に保持し、押圧等
の操作を行って磁石を突出させることにより金属片11
8を介して載っている蓋体114が軸116を中心にし
て回動して押し上げられて開口され(図5の想像線状
態)、PS版12が挿入可能となる。As shown in FIG. 7, the blade 1
PS plate 1 into reentry insertion slot 150 instead of 52
A lid 114 may be provided so as to be stretched over the upper end of the inclined surface 110 for guiding the 2 and the upper end of the vertical wall 112 that stands upright from the reentry insertion opening 150. With these, the developing unit 22 can have a closed structure, and it is possible to prevent the developing solution from being deteriorated by coming into contact with carbon dioxide gas in the outside air. At this time, the lid 114 may be provided instead of the blade 152, or both the blade 152 and the lid 114 may be provided. A plate-shaped metal piece 118 is attached to the end of the lid 114, and ferrite magnets that can be retracted by a lock mechanism are housed in both ends of the PS plate 12 in the conveyance width direction near the upper end of the slope 110. Box unit (magnet type push latch) 120 with embedded iron frame
Is mounted at a position where the width in the conveyance width direction is wider than that of the widest PS plate 12 that can be processed. As a result, in the state where the ferrite magnet is housed, the box unit 12
The ferrite magnet is locked inside 0 by a lock mechanism (not shown) to hold the lid 114 in a closed state, and an operation such as pressing is performed to cause the magnet to project so that the metal piece 11
The lid 114 mounted via 8 is rotated about the shaft 116 to be pushed up and opened (state of imaginary line in FIG. 5), and the PS plate 12 can be inserted.
【0024】なお、蓋体114の縦壁部112側を軸1
16によって回動可能に連結して図示しない付勢手段
(ねじりコイルばね等)によって水平状態(閉止状態)
から磁石式プッシュラッチ120の付近の蓋体114の
上から押圧等の操作を行うことによりフェライト磁石を
突出させ、図示しない付勢手段の付勢力で蓋体114を
開口して、PS版12を挿入可能にするようにしてもよ
い。In addition, the vertical wall 112 side of the lid 114 is attached to the shaft 1
It is rotatably connected by 16 and is in a horizontal state (closed state) by a biasing means (torsion coil spring or the like) not shown.
From above, the ferrite magnet is projected by performing an operation such as pressing on the lid 114 in the vicinity of the magnetic push latch 120, and the lid 114 is opened by the urging force of the urging means (not shown), so that the PS plate 12 is You may make it insertable.
【0025】図1に示すように、この上蓋70は脱着可
能となっており、装置のメンテナンス等のとき、この上
蓋70を取外して機枠14内の現像部22、水洗部2
4、フィニッシャー部26を開放することができる。As shown in FIG. 1, the upper lid 70 is removable, and for maintenance of the apparatus, the upper lid 70 is removed and the developing section 22 and the washing section 2 in the machine frame 14 are removed.
4. The finisher part 26 can be opened.
【0026】機枠14内には、上蓋70の周縁部に対応
する位置にスポンジ部材220が配設されている。図4
に示されるように、機枠14の上蓋70に対応する開口
の周縁には、機枠14内のフレーム14A(例えば材質
SUS304等)に取付けられた受け部222が配置さ
れている。この受け部222は、断面形状が略L字状と
され一端が側板カバー72(74)側に上方へ向けて突
設されて立壁224を構成している。スポンジ部材22
0は、受け部222に立壁224より内方の処理液処理
部11側に貼付されている。A sponge member 220 is arranged in the machine frame 14 at a position corresponding to the peripheral edge of the upper lid 70. Figure 4
As shown in FIG. 3, a receiving portion 222 attached to the frame 14A (for example, material SUS304) in the machine frame 14 is arranged at the periphery of the opening corresponding to the upper lid 70 of the machine frame 14. The receiving portion 222 has a substantially L-shaped cross section, and one end thereof projects upward toward the side plate cover 72 (74) to form a standing wall 224. Sponge member 22
0 is affixed to the receiving portion 222 on the side of the treatment liquid treatment portion 11 which is inside the standing wall 224.
【0027】このスポンジ部材220は、独立気泡を有
する樹脂部材であり、本実施例では、ノルシール(ノー
トン(株)製の商品名、形番 #V776)等のポリ塩化
ビニルの独立発泡樹脂としている。なお、スポンジ部材
220の材質としては、ポリ塩化ビニルを独立発泡させ
た他の製品でもよく、また、シリコーン樹脂等他の樹脂
を独立発泡させ、弾力性があって吸水性のない樹脂性ス
ポンジを適用することができる。The sponge member 220 is a resin member having closed cells, and in this embodiment, it is a polyvinyl chloride independent foaming resin such as Norseal (trade name, model number # V776 manufactured by Norton Co., Ltd.). . The material of the sponge member 220 may be another product in which polyvinyl chloride is independently foamed, or a resin sponge that is elastic and non-water-absorbing by independently foaming another resin such as a silicone resin. Can be applied.
【0028】上蓋70は、周縁の下端部が立壁224の
内方に近接した状態で、下端をスポンジ部材220に当
接させて機枠14の上部開口を覆い、機枠14と上蓋7
0との間を緊密に閉塞して外気が侵入しないようにして
いる。また、処理液処理部11から蒸発した水分が上蓋
70の内面に結露して付着したとき、この水分が上蓋7
0の内面を伝ってスポンジ部材220に達する。このと
き、スポンジ部材220を独立気泡を有する樹脂として
いるため、スポンジ部材220に達した水分は、スポン
ジ部材220にしみ込むことがなく受け部222から処
理液処理部11内に流れ込む。なお、処理液処理部11
の周囲に溝を設けて、受け部222に回収した水分をこ
の溝から廃液として排出するようにしてもよい。これに
よって、例えばフレーム14Aと側板カバー72との間
に上蓋70に結露した処理液成分を含んだ水が機枠14
の内部や装置を据えつけている床面等を汚したり、処理
液成分によってフレーム14A等にサビ等を発生させて
腐蝕させたりするのを防止している。The upper lid 70 covers the upper opening of the machine frame 14 by bringing the lower end into contact with the sponge member 220 in a state where the lower end of the peripheral edge is close to the inside of the standing wall 224.
The space between 0 and 0 is tightly closed to prevent outside air from entering. Further, when the water evaporated from the processing liquid processing section 11 is condensed and adheres to the inner surface of the upper lid 70, this water is absorbed by the upper lid 7.
It reaches the sponge member 220 along the inner surface of 0. At this time, since the sponge member 220 is made of resin having closed cells, the moisture reaching the sponge member 220 flows into the processing liquid processing unit 11 from the receiving portion 222 without permeating the sponge member 220. The processing liquid processing unit 11
It is also possible to provide a groove around and to discharge the water collected in the receiving portion 222 as a waste liquid from this groove. As a result, for example, the water containing the treatment liquid component dewed on the upper lid 70 between the frame 14A and the side plate cover 72 is discharged to the machine frame 14.
It is prevented that the inside of the machine, the floor surface on which the apparatus is installed, or the like is contaminated, or that the processing liquid component causes rust or the like on the frame 14A or the like to cause corrosion.
【0029】次にPS版プロセッサー10の機枠14の
内部について説明する。図2に示される如く、現像部2
2の現像槽18へのPS版12の挿入側には、一対の搬
送ローラ32が配設されており、挿入口102から挿入
されたPS版12を機枠14内へ引き入れるようになっ
ている。この一対の搬送ローラ32は、PS版12を水
平方向に対して例えば15°の角度で現像槽18へ向け
て送り出すようになっている。また、この挿入口102
の近傍には、PS版12の有無を検出する挿入センサ1
08が取付けられている。この挿入センサ108によっ
てPS版12が装置内に存在することが認識できる。Next, the inside of the machine casing 14 of the PS plate processor 10 will be described. As shown in FIG. 2, the developing unit 2
A pair of transport rollers 32 are provided on the side of the second developing tank 18 where the PS plate 12 is inserted, and the PS plate 12 inserted through the insertion port 102 is drawn into the machine frame 14. . The pair of conveying rollers 32 feed the PS plate 12 toward the developing tank 18 at an angle of, for example, 15 ° with respect to the horizontal direction. Also, this insertion port 102
The insertion sensor 1 for detecting the presence or absence of the PS plate 12 near the
08 is attached. The insertion sensor 108 can recognize that the PS plate 12 is present in the apparatus.
【0030】搬送ローラ32の下流側近傍には、ゴム製
のブレード106が取付けられている。ブレード106
は、その先端部が現像部22の現像槽18の側壁に接触
されており、基部がブラケット156を介して上蓋70
に取付けられている。ブラケット156は、固定部15
6Aと固定部に蝶ねじ158で取付けられたスライド部
156Bとによって構成され、ブレード106はスライ
ド部156Bに固着されている。このため、ブレード1
06は、蝶ねじ158を緩めスライド部156Bを固定
部156Aに対してスライドさせることにより、先端部
を現像槽18の側壁から離反させることができる構成と
なっている。A blade 106 made of rubber is attached near the downstream side of the conveying roller 32. Blade 106
Has its tip portion in contact with the side wall of the developing tank 18 of the developing portion 22, and the base portion via the bracket 156.
Installed on. The bracket 156 has a fixed portion 15
6A and a slide portion 156B attached to the fixed portion with a thumbscrew 158, and the blade 106 is fixed to the slide portion 156B. Therefore, the blade 1
No. 06 is configured so that the tip end portion can be separated from the side wall of the developing tank 18 by loosening the thumbscrew 158 and sliding the slide portion 156B with respect to the fixing portion 156A.
【0031】ここで、通常はブレード106の先端は、
現像槽18の側壁へ接触されており、PS版12が挿入
口102へ挿入されたときに、このPS版12の先端部
がブレード106を押して弾性変形させて拡開するよう
になっている。このようにブレード106を拡開しなが
ら、PS版12が現像部22へ挿入される。Here, normally, the tip of the blade 106 is
It is in contact with the side wall of the developing tank 18, and when the PS plate 12 is inserted into the insertion port 102, the tip of the PS plate 12 pushes the blade 106 to elastically deform and spread. The PS plate 12 is inserted into the developing unit 22 while expanding the blade 106 in this manner.
【0032】現像部22の現像槽18はは、上方が開口
され底部中央部が下方に向けて突出された略逆山形状と
されている。現像槽18内には、ガイド板168、複数
のガイドローラ34及び回転ブラシローラ170が配設
されている。また、ガイド板168の上方には比較的大
径のガイドローラ36が、ガイドローラ34及び回転ブ
ラシローラ170の上方側には、回転ブラシローラ38
及びガイドローラ40が配設され、現像槽18内の中央
部には、PS版12を挟持搬送する機能を備えた一対の
ローラ42が配設されている。The developing tank 18 of the developing section 22 has a substantially inverted mountain shape with an upper opening and a bottom central portion protruding downward. In the developing tank 18, a guide plate 168, a plurality of guide rollers 34, and a rotating brush roller 170 are arranged. A relatively large diameter guide roller 36 is provided above the guide plate 168, and a rotary brush roller 38 is provided above the guide roller 34 and the rotary brush roller 170.
Also, a guide roller 40 is provided, and a pair of rollers 42 having a function of sandwiching and transporting the PS plate 12 is provided at the center of the developing tank 18.
【0033】これらは、現像槽18内の図示しない一対
の側板の間に回転可能に掛け渡され、図示しない駆動手
段の駆動力が伝達されて回転し、PS版12を一定速度
で搬送する搬送路を構成している。なお、現像槽18の
底部近傍では、一対のローラ42及びこれに隣接する複
数のガイドローラ34、ガイド板168によって、例え
ばPS版12を300〜350mmの曲率半径で搬送する
ように配置されている。したがって、一対の搬送ローラ
32に挟持搬送されて現像槽18へ挿入されたPS版1
2は、ガイド板168とガイドローラ36との間を通っ
て斜めに搬送され、ローラ42の間へ挿入される。ロー
ラ42は、PS版12を挟持して搬送力を付与するよう
になっている。These are rotatably wound between a pair of side plates (not shown) in the developing tank 18, and are rotated by the driving force of a driving means (not shown) being transmitted to convey the PS plate 12 at a constant speed. Are configured. In the vicinity of the bottom of the developing tank 18, for example, the PS plate 12 is arranged to be conveyed with a radius of curvature of 300 to 350 mm by a pair of rollers 42, a plurality of guide rollers 34 and a guide plate 168 adjacent thereto. . Therefore, the PS plate 1 that is sandwiched and conveyed by the pair of conveying rollers 32 and inserted into the developing tank 18
2 is obliquely conveyed through between the guide plate 168 and the guide roller 36, and is inserted between the rollers 42. The rollers 42 sandwich the PS plate 12 and apply a conveying force.
【0034】ローラ42から送り出されたPS版12
は、ガイドローラ34によって斜め上方へ向けられ、回
転ブラシローラ38、170、ガイドローラ40によっ
て案内されて現像槽18から排出される。これによっ
て、PS版12は無理な力が加えられことなく滑らかに
かつ確実に現像液に浸漬されながら搬送される。なお回
転ブラシローラ38、170は、PS版12の感光層面
から老廃物等を除去して現像を促進する役目をしてお
り、片面タイプのPS版12を感光層を上方へ向けて専
ら処理するときは、回転ブラシローラ170の代わりに
通常のガイドローラを配置してもよい。The PS plate 12 sent from the roller 42
Is discharged obliquely upward by the guide roller 34, guided by the rotating brush rollers 38 and 170, and the guide roller 40, and discharged from the developing tank 18. As a result, the PS plate 12 is smoothly and reliably conveyed while being immersed in the developing solution without applying an excessive force. The rotating brush rollers 38 and 170 have a function of removing wastes and the like from the photosensitive layer surface of the PS plate 12 to accelerate development, and treat the single-sided PS plate 12 exclusively with the photosensitive layer facing upward. In this case, a normal guide roller may be arranged instead of the rotating brush roller 170.
【0035】ローラ42の下流側の最も接近したスプレ
ーパイプ44はその外周に弾性回転部材が複数個軸支さ
れた串型ローラ形状とされ、PS版12を案内する役目
も有しており、弾性回転部材の間にパイプの外周と内部
とを連通するで吐出口(図示省略)が設けられている。
また、ガイド板168の下方には、スプレーパイプ17
2が配設されている。スプレーパイプ172は中空パイ
プの外周面に軸方向に沿って内部と連通する図示しない
多数の吐出口が設けられ、軸方向が搬送路の幅方向に沿
うように配置されている。これらのスプレーパイプ4
4、172には、後述する循環手段によって現像液が供
給されるようになっており、この現像液を現像槽18の
底面に向けて吐出して現像槽18内の現像液を均一に攪
拌するようになっている。The spray pipe 44 closest to the downstream side of the roller 42 has a skewered roller shape in which a plurality of elastic rotating members are axially supported on the outer periphery thereof, and also has a role of guiding the PS plate 12. A discharge port (not shown) is provided between the rotating member so as to connect the outer circumference and the inside of the pipe.
The spray pipe 17 is provided below the guide plate 168.
2 are provided. The spray pipe 172 is provided with a large number of discharge ports (not shown) communicating with the inside along the axial direction on the outer peripheral surface of the hollow pipe, and is arranged so that the axial direction is along the width direction of the transport path. These spray pipes 4
A developing solution is supplied to 4, 172 by a circulation means described later, and this developing solution is discharged toward the bottom surface of the developing tank 18 to uniformly stir the developing solution in the developing tank 18. It is like this.
【0036】現像槽18内の現像液液面側には、浮蓋5
0が配置されている。この浮蓋50は回転ブラシローラ
38とこれに隣接したガイドローラ40に対応する部分
が略円弧状に突出され、現像液表面と空気との接触をで
きるだけ少なくするため現像液面に密着され、現像液の
増減に応じて上下するように、この浮蓋50のPS版1
2の搬送方向の両端が図示しない側板にスライド可能な
構造によって取付けられている。材質としてはポリ塩化
ビニル、ポリエチレン、ポリアミド等の軽量な材質が選
ばれる。On the liquid surface side of the developer in the developing tank 18, a floating lid 5 is provided.
0 is placed. In the floating lid 50, a portion corresponding to the rotating brush roller 38 and the guide roller 40 adjacent thereto is projected in a substantially arcuate shape, and is brought into close contact with the surface of the developing solution to minimize contact between the developing solution surface and air. The PS plate 1 of this floating lid 50 moves up and down according to the increase and decrease of the liquid.
Both ends of the conveying direction 2 are attached to side plates (not shown) by a slidable structure. Light-weight materials such as polyvinyl chloride, polyethylene, and polyamide are selected as the material.
【0037】この浮蓋50の搬送方向下流側端には、ブ
レード174の先端が接触されている。このブレード1
74はゴム製でブラケット176を介して上蓋70に固
定されている。このブレード174によって浮蓋50の
搬送方向下流端から露出する現像液の液面と、浮蓋50
の上方との間が仕切られ、前記挿入口102の近傍のブ
レード106(現像槽18の側壁と接触した状態)とに
よって、浮蓋50の上方は外気とは完全に隔離されるこ
とになり、現像液の蒸発を抑制することができる。The tip of the blade 174 is in contact with the downstream end of the floating lid 50 in the carrying direction. This blade 1
74 is made of rubber and is fixed to the upper lid 70 via a bracket 176. With this blade 174, the liquid surface of the developer exposed from the downstream end of the floating lid 50 in the transport direction, and the floating lid 50
The upper part of the floating lid 50 is completely separated from the outside air by the blade 106 (in a state of being in contact with the side wall of the developing tank 18) near the insertion opening 102. Evaporation of the developing solution can be suppressed.
【0038】現像槽18の搬送方向の最下流側には、P
S版12を挟持して搬送すると共に、PS版12の表面
から現像液を絞り取るローラ対54が配置されており、
現像部22から水洗部24へ送り出されるPS版12の
表面から現像液を絞り取るようになっている。On the most downstream side of the developing tank 18 in the conveying direction, P
A pair of rollers 54 for squeezing the developer from the surface of the PS plate 12 are arranged while the S plate 12 is nipped and conveyed.
The developing solution is squeezed from the surface of the PS plate 12 sent from the developing section 22 to the water washing section 24.
【0039】水洗部24の水洗槽28の上方には、2対
の搬送ローラ52、53(以下、必要に応じて上流側ロ
ーラ対52、下流側ローラ対53とし、区別して説明す
る。)が配設されている。これらの搬送ローラ52、5
3は、図示しない側板に回転可能に支持されており、図
示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転するように
なっており、現像部22から送り込まれたPS版12の
搬送路を形成している。なお、現像部22から送られる
PS版12の先端部は上流側ローラ対52の下側ローラ
の上部に当接するように案内されるようになっている。
また、上流側ローラ対52から排出されるPS版12の
先端部は下流側ローラ対53の下側ローラの上部に当接
するように案内されるようになっている。Above the washing tank 28 of the washing section 24, there are two pairs of conveying rollers 52 and 53 (hereinafter, referred to as upstream roller pair 52 and downstream roller pair 53, which will be described separately). It is arranged. These transport rollers 52, 5
3 is rotatably supported by a side plate (not shown) so that the driving force of a drive means (not shown) is transmitted to rotate, and forms a conveying path for the PS plate 12 fed from the developing section 22. ing. The leading end of the PS plate 12 sent from the developing unit 22 is guided so as to come into contact with the upper portion of the lower roller of the upstream roller pair 52.
Further, the front end portion of the PS plate 12 discharged from the upstream roller pair 52 is guided so as to contact the upper portion of the lower roller of the downstream roller pair 53.
【0040】水洗槽28は、現像槽18から送り出され
たPS版12から現像液を洗い落とした後の水洗水を回
収するようになっている。下流側ローラ対53の上流
側、かつ搬送路よりも上側には、スプレーパイプ56が
配設されており、このスプレーパイプ56は、下流側ロ
ーラ対53の軸線に沿って配設され、その上側ローラの
中央部に対応する位置に内部と連通する図示しない吐出
口が設けられている。The washing tank 28 is adapted to collect the washing water after washing the developing solution from the PS plate 12 sent from the developing tank 18. A spray pipe 56 is arranged on the upstream side of the downstream roller pair 53 and above the conveying path. The spray pipe 56 is arranged along the axis of the downstream roller pair 53, and the upper side thereof. A discharge port (not shown) that communicates with the inside is provided at a position corresponding to the center of the roller.
【0041】スプレーパイプ56には、後述する給水手
段によって水洗水が供給されるようになっており、この
水洗水を下流側ローラ対53の上側ローラに滴下し、下
流側ローラ対53の上側ローラが回転することによっ
て、PS版12の表面に水洗水が速やかに拡がり、PS
版12の表面が水洗水によって洗浄される。また、洗浄
後の水洗水はPS版12の幅方向両端部から受け皿62
へ落下する構成となっている。なお、スプレーパイプ5
6に水洗水が供給されるタイミングは、PS版12の先
端が下流側ローラ対53に到達した時点とされ、挿入セ
ンサ108がPS版12を検出してから所定時間経過後
となっている。Wash water is supplied to the spray pipe 56 by a water supply means which will be described later. The wash water is dropped onto the upper roller of the downstream roller pair 53 and the upper roller of the downstream roller pair 53. By rotating, the wash water spreads quickly on the surface of the PS plate 12,
The surface of the plate 12 is washed with rinsing water. Further, the washing water after washing is received from the widthwise both ends of the PS plate 12 into the tray 62.
It is configured to fall into. In addition, spray pipe 5
The washing water is supplied to 6 at the time when the tip of the PS plate 12 reaches the downstream roller pair 53, and after a predetermined time has elapsed since the insertion sensor 108 detected the PS plate 12.
【0042】受け皿62は、搬送ローラ52、53の下
方に配置され、搬送ローラ52の下側のローラの下端部
を収容する第1の槽64、搬送ローラ53の下側のロー
ラの下端部を収容する第2の槽66、及び第1の槽64
と第2の槽66の間を連結する中間槽68を備えてい
る。スプレーパイプ56から滴下された水洗水は、第2
の槽66に回収され、この第2の槽66からオーバーフ
ローした水が、中間槽68を介して第1の槽64へ流れ
込むようになっている。また、第1の槽64で余剰とな
った水は、水洗槽28へオーバーフローするようになっ
ている。なお、搬送ローラ52、53のそれぞれの下側
のローラは、受け皿62内の水を汲み上げてPS版12
の裏面を洗浄すると共に上側の搬送ローラ52、53が
乾くのを抑えている。The tray 62 is disposed below the transport rollers 52 and 53, and has a first tank 64 for accommodating the lower end of the lower roller of the transport roller 52 and the lower end of the lower roller of the transport roller 53. A second tank 66 for accommodating and a first tank 64
And an intermediate tank 68 that connects between the second tank 66 and the second tank 66. The rinsing water dropped from the spray pipe 56 is the second
The water collected in the second tank 66 and overflowing from the second tank 66 flows into the first tank 64 via the intermediate tank 68. The surplus water in the first tank 64 overflows into the washing tank 28. The rollers on the lower side of the transport rollers 52 and 53 pump up the water in the tray 62 to make the PS plate 12
The back surface of the above is cleaned and the upper transport rollers 52 and 53 are prevented from drying.
【0043】また、この汲み上げられた水洗水は、前述
の如く、PS版12の先端部がそれぞれの下側ローラに
当接するため、当接前に汲み上げられ、上側ローラと下
側ローラとの接触部で滞留している水洗水がPS版12
の挟持状態で残ることになり、PS版12の先端部から
確実に水洗処理することができるようになっている。な
お、水洗槽28には、オーバーフロー管210が配設さ
れ、所定の液面を超えると、廃液タンク184へ廃棄さ
れる。As described above, since the leading edge of the PS plate 12 abuts on the lower rollers, the scrubbed washing water is pumped up before the abutment, and the upper roller and the lower roller come into contact with each other. Washing water staying in the section is the PS plate 12
Therefore, the PS plate 12 can be reliably washed with water from the tip of the PS plate 12. An overflow pipe 210 is provided in the washing tank 28, and when the overflow pipe 210 exceeds a predetermined liquid level, it is discarded in the waste liquid tank 184.
【0044】水洗部24で水洗されたPS版12は、フ
ィニッシャー部26へ送られる。フィニッシャー部26
のガム液槽30の上方には、一対の搬送ローラ78が設
けられており、水洗部24から送り込まれたPS版12
は、この搬送ローラ78へ案内されるようになってい
る。この場合、下流側ローラ対53の上側ローラ及び下
側ローラの軸を結ぶ線が垂線に対して時計周り方向に約
10°傾斜されている。これにより、フィニッシャー部
26によるPS版12の搬送は搬送方向に沿って徐々に
低くなる傾斜面とされ、PS版12上のガム液が水洗部
24へ流れ込むことがないようになっている。The PS plate 12 washed with water in the water washing section 24 is sent to the finisher section 26. Finisher section 26
A pair of transport rollers 78 are provided above the gum solution tank 30 of the PS plate 12 fed from the water washing section 24.
Are guided to the transport roller 78. In this case, the line connecting the shafts of the upper roller and the lower roller of the downstream roller pair 53 is inclined about 10 ° in the clockwise direction with respect to the perpendicular. As a result, the PS plate 12 is conveyed by the finisher unit 26 so that the PS plate 12 has an inclined surface that gradually decreases in the conveying direction, so that the gum liquid on the PS plate 12 does not flow into the water washing unit 24.
【0045】また、搬送ローラ78の上流側には、搬送
路の上下方向にスプレーパイプ82、188が配設され
ている。これらのスプレーパイプ82、188には外周
に内部と連通する吐出口(図示省略)が設けられてお
り、後述する循環手段によって供給されるガム液を吐出
し、PS版12の表面及び裏面に供給するようになって
いる。なお、このスプレーパイプ82の周囲には案内板
84が取付けられ、PS版12の搬送を案内すると共
に、スプレーパイプ82からのガム液を拡散させながら
均一にPS版12の表面へ流し落とすようにしている。Further, spray pipes 82, 188 are arranged on the upstream side of the conveying roller 78 in the vertical direction of the conveying path. These spray pipes 82, 188 are provided with discharge ports (not shown) communicating with the inside on the outer circumference, and discharge the gum liquid supplied by the circulation means described later and supply it to the front and back surfaces of the PS plate 12. It is supposed to do. A guide plate 84 is attached to the periphery of the spray pipe 82 to guide the transport of the PS plate 12 and to make the gum solution from the spray pipe 82 evenly flow down onto the surface of the PS plate 12 while diffusing it. ing.
【0046】一方、スプレーパイプ188とPS版12
の搬送との間には、案内板86が搬送路に沿って配設さ
れている。この案内板86の上流側端部は略直角に屈曲
されて縦壁部86Aが形成され、全体として略L字型と
されている。この縦壁部86Aに対応して、縦壁部86
Aと平行な縦壁部88Aを有するクランク状のブラケッ
ト88が配設されている。このブラケット88の縦壁部
88A及び底板部88B及び案内板86の縦壁部86A
により縦溝90が形成されている。この縦溝90には、
前記スプレーパイプ188から吐出されるガム液が縦壁
部86Aに設けられた孔から流入し、このガム液を上端
開口から溢れ出させて案内板86の上面側を通過するP
S版12の裏面に均一に付着させるようにしている。な
お、縦溝部90の底部には、硬質のスポンジ92が設け
られ、ガム液の漏れを防止している。On the other hand, the spray pipe 188 and the PS plate 12
A guide plate 86 is arranged along the conveyance path between the conveyance and the conveyance. The upstream end of the guide plate 86 is bent at a substantially right angle to form a vertical wall portion 86A, and is generally L-shaped. Corresponding to the vertical wall portion 86A, the vertical wall portion 86
A crank-shaped bracket 88 having a vertical wall portion 88A parallel to A is arranged. The vertical wall portion 88A and the bottom plate portion 88B of the bracket 88 and the vertical wall portion 86A of the guide plate 86.
A vertical groove 90 is formed by. In this vertical groove 90,
The gum liquid discharged from the spray pipe 188 flows in through a hole provided in the vertical wall portion 86A, overflows from the upper end opening, and passes through the upper surface of the guide plate 86.
The S plate 12 is evenly attached to the back surface. A hard sponge 92 is provided at the bottom of the vertical groove 90 to prevent the gum solution from leaking.
【0047】このようにしてPS版12の表裏面に塗布
されたガム液は、搬送ローラ78によって余剰に付着し
ている部分がスクイズされて、均一に塗布される。スク
イズされたガム液はガム液槽30に回収される。また、
搬送ローラ78のの下側のローラの一部は、ガム液槽3
0内のガム液に漬かっている。このため、搬送ローラ7
8の下側のローラに持ち出されたガム液は、主にPS版
12の裏面側に塗布されると共に、上側の搬送ローラ7
8の乾きを抑えて搬送ローラ78の表面にガム液が析出
して固着するのを防止している。The gum solution applied to the front and back surfaces of the PS plate 12 in this manner is squeezed by the conveying roller 78 to squeeze the excessively adhered portion, and is applied uniformly. The squeezed gum solution is collected in the gum solution tank 30. Also,
A part of the lower roller of the transport roller 78 is the gum solution tank 3
It is soaked in the gum solution of 0. Therefore, the transport roller 7
The gum solution carried out to the lower roller of 8 is mainly applied to the back surface side of the PS plate 12, and at the same time, the upper transport roller 7
By suppressing the drying of No. 8, the gum liquid is prevented from being deposited and fixed on the surface of the conveying roller 78.
【0048】このフィニッシャー部26での処理が終了
したPS版12は、排出口104を通過して、前記乾燥
部31へ送り出されるようになっている。図5に示され
るように、排出口104には、機枠14の内壁14Bに
略箱体形状のガイドブラケット226が突設されてお
り、PS版12はこのガイドブラケット226内を通過
して排出口104に達するようになっている。The PS plate 12 which has been processed by the finisher unit 26 passes through the discharge port 104 and is sent to the drying unit 31. As shown in FIG. 5, a guide box-shaped guide bracket 226 is provided on the inner wall 14B of the machine frame 14 so as to project from the discharge port 104. The PS plate 12 passes through the guide bracket 226 and is discharged. It is designed to reach the exit 104.
【0049】ガイドブラケット226の搬送ローラ78
側の上部及び下部には、それぞれ搬送ローラ78の上側
のローラと下側のローラの周面へ向けてゴム製のブレー
ド228(図5では上側のブレードのみ図示)が延設さ
れている。ブレード228の先端は、それぞれローラの
軸方向に沿って周面に接触されている。また、ガイドブ
ラケット226には、長手方向の両端部から搬送ローラ
78のそれぞれのローラの両端面へ向けてブレード23
0が延設されている。ブレード230の延設された先端
部は、搬送ローラ78の上下のローラのそれぞれの端面
に接触されている。Conveying roller 78 of guide bracket 226
A rubber blade 228 (only the upper blade is shown in FIG. 5) is provided at the upper and lower portions of the side toward the peripheral surfaces of the upper roller and the lower roller of the transport roller 78, respectively. The tip of the blade 228 is in contact with the peripheral surface along the axial direction of the roller. Further, the guide bracket 226 has blades 23 extending from both ends in the longitudinal direction toward both end faces of the respective rollers of the transport roller 78.
0 is extended. The extended distal end portion of the blade 230 is in contact with the respective end surfaces of the upper and lower rollers of the transport roller 78.
【0050】このため、搬送ローラ78から挿入口10
4の間には、ブレード228、230及びガイドブラケ
ット226から構成される遮蔽手段によって区画された
PS版12の搬送路が形成されている。また、排出口1
04と処理液処理部11(フィニッシャー部26)の間
は、搬送ローラ78とブレード228、230及びガイ
ドブラケット226から構成される遮蔽手段によって遮
られ、PS版12の通過状態であっても挿入口104か
ら外気が処理液処理部11内に流れ込まないようになっ
ている。For this reason, from the transport roller 78 to the insertion port 10
A transport path for the PS plate 12 defined by a shielding means composed of the blades 228 and 230 and the guide bracket 226 is formed between the four. In addition, outlet 1
04 and the processing liquid processing section 11 (finisher section 26) are blocked by a shielding means composed of the transport roller 78, blades 228 and 230, and a guide bracket 226, and the insertion opening is maintained even when the PS plate 12 is in a passing state. The outside air does not flow into the processing liquid processing unit 11 from 104.
【0051】また、図6に示すように機枠14と内壁1
4Bとの間には、シャッター94が配設されている。シ
ャッター94は、断面形状が略コ字状とされ、長手方向
が排出口104の長手方向に沿って配置されている。こ
のシャッター94の両端部には、リブ232が延設され
ており、リブ232は、内壁14Bに設けられたガイド
234に摺動可能に挿入されている。ガイド234は上
下方向に沿って内壁14Bとの間に溝を形成しており、
これによって、シャッター94が上下に移動可能となっ
ている。Further, as shown in FIG. 6, the machine frame 14 and the inner wall 1
A shutter 94 is provided between the shutter 4 and 4B. The shutter 94 has a substantially U-shaped cross section, and its longitudinal direction is arranged along the longitudinal direction of the discharge port 104. Ribs 232 are extended to both ends of the shutter 94, and the ribs 232 are slidably inserted into guides 234 provided on the inner wall 14B. The guide 234 forms a groove along the up-down direction with the inner wall 14B,
This allows the shutter 94 to move up and down.
【0052】シャッター94の長手方向の中央下部に
は、ローラ236が回転可能に突設され、長手方向の一
端部近傍には、シャッター94を下方へ向けて付勢する
コイルスプリング252が配設されている。このローラ
236の周面には、内壁14Bとブラケット238の間
に掛け渡され回転可能に支持されたシャフト240に取
付けられた偏心カム242の周面が対応しており、ロー
ラ236はシャッター94の自重とコイルスプリング2
52の付勢力によって偏心カム242に当接している。
また、シャフト240には、モータ246の回転軸24
6Aに設けたプーリー248との間に無端ベルト250
が巻き掛けられたプーリー244が配設されている。A roller 236 is rotatably provided at the lower center of the shutter 94 in the longitudinal direction, and a coil spring 252 for urging the shutter 94 downward is disposed near one end in the longitudinal direction. ing. The peripheral surface of the roller 236 corresponds to the peripheral surface of the eccentric cam 242 mounted on the shaft 240 rotatably supported between the inner wall 14B and the bracket 238, and the roller 236 corresponds to the shutter 94. Own weight and coil spring 2
It is in contact with the eccentric cam 242 by the biasing force of 52.
In addition, the shaft 240 includes a rotary shaft 24 of the motor 246.
Endless belt 250 between the pulley 248 provided on 6A
A pulley 244 around which is wound is arranged.
【0053】このため、モータ246の回転によってシ
ャッター94が排出口104を閉止する上方位置(図5
に二点鎖線で示し、図6に実線で示す)と排出口104
を開放してPS版12を通過可能とする下方位置(図5
に実線で示す)との間を移動するようになっている。ま
た、シャッター94の周囲には、シャッター94の上限
位置を検出するリミットスイッチ254、下限位置を検
出するリミットスイッチ256が配設されると共に、シ
ャッター94の移動限界を設定する上限ピン258、下
限ピン260が配設され、ガイド234からの離脱防止
が施されている。Therefore, the rotation of the motor 246 causes the shutter 94 to close the discharge port 104 at the upper position (see FIG. 5).
Is indicated by a chain double-dashed line in FIG. 6 and is indicated by a solid line in FIG.
The lower position to open the PS plate so that the PS plate 12 can pass (see FIG. 5).
(Indicated by the solid line). Around the shutter 94, a limit switch 254 for detecting the upper limit position of the shutter 94 and a limit switch 256 for detecting the lower limit position are provided, and an upper limit pin 258 and a lower limit pin for setting the movement limit of the shutter 94. 260 is provided to prevent separation from the guide 234.
【0054】このモータ246は挿入センサ108がP
S版12の先端を検出すると駆動してシャッター94を
リミットスイッチ256が作動するまで下方へ移動して
排出口104を開放する。PS版12が排出口104を
通過し終わるまでの所定時間経過した後に回転駆動し
て、リミットスイッチ254が作動するまでシャッター
94を上方移動させて、排出口104を閉止するように
なっている。In this motor 246, the insertion sensor 108 has a P
When the tip of the S plate 12 is detected, it is driven to move the shutter 94 downward until the limit switch 256 is actuated to open the discharge port 104. The PS plate 12 is rotationally driven after a lapse of a predetermined time until the PS plate 12 has finished passing through the discharge port 104, and the shutter 94 is moved upward until the limit switch 254 operates, thereby closing the discharge port 104.
【0055】なお、このシャッター94は、PS版プロ
セッサー10の稼動停止時に閉塞され、機枠14の内部
を外部と閉塞するようにしているが、PS版12が排出
口104を通過しているときのみシャッター94を開状
態にして、不必要に外気や乾燥部31から温風が機枠1
4内へ流れ込まないようにしてもよい。The shutter 94 is closed when the operation of the PS plate processor 10 is stopped so as to close the inside of the machine frame 14 to the outside, but when the PS plate 12 is passing through the discharge port 104. Only when the shutter 94 is opened, warm air is unnecessarily blown from the outside air or the drying unit 31.
It may not be allowed to flow into 4.
【0056】次に現像部22、水洗部24、フィニッシ
ャー部26での各処理液の補充及び循環について説明す
る。Next, replenishment and circulation of each processing solution in the developing section 22, the water washing section 24, and the finisher section 26 will be described.
【0057】図3に示すように、PS版プロセッサー1
0には、現像補充液を貯留する現像補充液タンク12
2、ガム補充液を貯留するガム補充液タンク124及び
水を貯留する貯水タンク126が配置されている。貯水
タンク126には、中間部に給水ポンプ128が設けら
れた配管130の一端が開口されており、この配管13
0の他端は、水洗部24に設けたスプレーパイプ56に
連結されており、給水ポンプ128が作動すると、貯水
タンク126内の水がスプレーパイプ56へ供給され
る。As shown in FIG. 3, the PS version processor 1
0 is a development replenisher tank 12 for storing the development replenisher.
2. A gum replenishing liquid tank 124 for storing a gum replenishing liquid and a water storage tank 126 for storing water are arranged. In the water storage tank 126, one end of a pipe 130 provided with a water supply pump 128 in the middle is opened.
The other end of 0 is connected to the spray pipe 56 provided in the water washing section 24, and when the water supply pump 128 operates, the water in the water storage tank 126 is supplied to the spray pipe 56.
【0058】現像部22には、現像槽18の底部に吸引
側が連通した循環ポンプ134が設けられている。この
循環ポンプ134の吐出側には、連通配管136の一端
が連結されている。この連通配管136の他端は、現像
槽18の側方に引き出されて、スプレーパイプ44、1
72に連結されている。この連通配管136の中間部に
は、フィルタを収容するケーシング140、及び現像液
の電導度を測定する電導度センサ142が取付けられた
ケーシング144が設けられている。したがって、循環
ポンプ134が作動すると現像槽18内の現像液が吸引
され、ケーシング140、144を通過してスプレーパ
イプ44、172から噴出されて現像槽18に戻され
て、現像槽18内の現像液がろ過されながら循環され
る。また、このとき、現像液の疲労度合いの測定が行わ
れる。The developing section 22 is provided with a circulation pump 134 whose suction side communicates with the bottom of the developing tank 18. One end of a communication pipe 136 is connected to the discharge side of the circulation pump 134. The other end of the communication pipe 136 is pulled out to the side of the developing tank 18 to form the spray pipes 44, 1
It is connected to 72. A casing 140 that accommodates a filter and a casing 144 to which a conductivity sensor 142 that measures the conductivity of the developer is attached are provided in the middle of the communication pipe 136. Therefore, when the circulation pump 134 is operated, the developing solution in the developing tank 18 is sucked, passes through the casings 140 and 144, is ejected from the spray pipes 44 and 172 and is returned to the developing tank 18, and the developing solution in the developing tank 18 is developed. The liquid is circulated while being filtered. At this time, the degree of fatigue of the developer is measured.
【0059】また、現像槽18の側方には補充筒160
が配設されており、この補充筒160の底部に開口した
配管162が現像槽18の側壁を貫通して、補充筒16
0と現像槽18を連通している。この補充筒160の上
部には、配管164、166の一端が開口されている。
このうち配管164の他端は、現像補充液タンク122
内に開口され、中間部に補充ポンプ178が配設されて
いる。もう一方の配管166の他端は、水洗槽28の底
部に開口され中間部に給水ポンプ180が配設されてい
る。A replenishing cylinder 160 is provided on the side of the developing tank 18.
And a pipe 162 opened at the bottom of the replenishing cylinder 160 penetrates the side wall of the developing tank 18 and
0 and the developing tank 18 are communicated with each other. One end of each of the pipes 164 and 166 is opened at the upper portion of the replenishing cylinder 160.
The other end of the pipe 164 is connected to the developing replenisher tank 122.
A replenishing pump 178 is provided in the middle of the opening. The other end of the other pipe 166 is opened at the bottom of the washing tank 28, and a water supply pump 180 is arranged in the middle.
【0060】補充ポンプ178と給水ポンプ180が作
動すると、補充筒160内に現像補充液と希釈用の水が
供給され、補充筒160から現像補充液と水が混合され
ながら配管162を介して現像槽18へ流れ込み現像槽
18への補充液の補充がなされる。なお、水洗槽28と
給水ポンプ180の間に水洗槽28内の水を貯留するス
トックタンクを設けて、このストックタンクに貯留した
水を補充筒160へ供給するようにしてもよい。When the replenishing pump 178 and the water supply pump 180 are operated, the developing replenishing liquid and the diluting water are supplied into the replenishing cylinder 160, and the developing replenishing liquid and the water are mixed from the replenishing cylinder 160 and the development is performed via the pipe 162. It flows into the tank 18 and the replenisher is replenished to the developing tank 18. A stock tank for storing the water in the washing tank 28 may be provided between the washing tank 28 and the water supply pump 180, and the water stored in the stock tank may be supplied to the replenishing cylinder 160.
【0061】なお、電導度センサ142は、ケーシング
144内を通過する現像液のインピーダンスを測定する
ようになっておりこの電導度センサ142によって検出
した値が予め設定した所定の範囲を外れたときに、補充
ポンプ178及び給水ポンプ180が作動して現像液の
補充が行われるようになっている。また、図2に示すよ
うに、現像槽18には、余剰となった現像液をオーバー
フローさせて排出するためのオーバーフロー管20が配
設されており、現像液の補充によって疲労した現像液を
廃液タンク184へオーバーフローさせるようになって
いる。The conductivity sensor 142 measures the impedance of the developing solution passing through the casing 144, and when the value detected by the conductivity sensor 142 is out of a predetermined range set in advance. The replenishment pump 178 and the water supply pump 180 are operated to replenish the developing solution. As shown in FIG. 2, the developing tank 18 is provided with an overflow pipe 20 for overflowing and discharging the excess developing solution, so that the developing solution exhausted due to the replenishment of the developing solution is drained. The tank 184 is designed to overflow.
【0062】図2に示すように、フィニッシャー部26
のガム液槽30の底部は、循環ポンプ186の吸引側に
連通されており、この循環ポンプ186の吐出側には、
連通配管190の一端が連結されている。この連通配管
190の他端は、スプレーパイプ82、188に連結さ
れており、循環ポンプ186が作動するとガム液槽30
内のガム液が吸引されてスプレーパイプ82、188へ
供給される。As shown in FIG. 2, the finisher portion 26
The bottom of the gum solution tank 30 is connected to the suction side of the circulation pump 186, and the discharge side of the circulation pump 186 is
One end of the communication pipe 190 is connected. The other end of the communication pipe 190 is connected to the spray pipes 82 and 188, and when the circulation pump 186 is operated, the gum solution tank 30.
The gum solution therein is sucked and supplied to the spray pipes 82 and 188.
【0063】また、フィニッシャー部26には、底部が
配管198によってガム液槽30内に連通された補充筒
196が配設されており、補充筒196の上部には、配
管200、202の一端が開口されている。このうち配
管200の他端は、ガム補充液タンク124内に開口さ
れ中間部に補充ポンプ204が配設されている。また、
他方の配管202の他端は貯水タンク126内に開口さ
れ中間部に給水ポンプ206が配設されている。A replenishing cylinder 196, the bottom of which is connected to the gum solution tank 30 by a pipe 198, is arranged in the finisher portion 26, and one end of the pipes 200, 202 is provided above the replenishing cylinder 196. It is open. Of these, the other end of the pipe 200 is opened in the gum replenishing liquid tank 124, and a replenishing pump 204 is arranged in the middle portion. Also,
The other end of the other pipe 202 is opened in the water storage tank 126, and a water supply pump 206 is arranged in the middle portion.
【0064】これらの補充ポンプ204、給水ポンプ2
06が作動すると、補充筒196へガム補充液と希釈用
の水が供給され、これらが混合しながらガム液槽30へ
流れ込むみガム液の補充が行われる。なお、図2に示す
ように、ガム液槽30には、オーバーフロー管208が
設けられ、ガム液が所定の液面を超えると余剰となった
ガム液が廃液タンク184へ案内され廃棄される構成と
なっている。These replenishment pump 204 and water supply pump 2
When 06 operates, the gum replenishing liquid and the water for dilution are supplied to the replenishing cylinder 196, and the gum liquid that flows into the gum liquid tank 30 while mixing these is replenished. As shown in FIG. 2, the gum liquid tank 30 is provided with an overflow pipe 208, and when the gum liquid exceeds a predetermined liquid level, the excess gum liquid is guided to the waste liquid tank 184 and discarded. Has become.
【0065】以下に本実施例の作用を説明する。図示し
ない焼付装置等によって画像が記録されたPS版12
は、挿入台16に載置されこの挿入台16の奥側へ送り
込まれる。これにより、PS版12は挿入口102へと
至る。この挿入口102には、ブレード106が配置さ
れており、PS版12がブレード106を押して弾性変
形させない状態では、挿入口102から現像部22へ外
気が侵入するのを確実に防止している。挿入口102か
ら挿入されたPS版12は、ブレード106を弾性変形
させて円滑に現像部22へ送り込まれる。The operation of this embodiment will be described below. PS plate 12 on which an image is recorded by a printing device (not shown)
Is placed on the insertion table 16 and fed to the back side of the insertion table 16. As a result, the PS plate 12 reaches the insertion opening 102. A blade 106 is arranged in the insertion port 102, and reliably prevents outside air from entering the developing unit 22 from the insertion port 102 when the PS plate 12 does not press the blade 106 to elastically deform it. The PS plate 12 inserted from the insertion port 102 elastically deforms the blade 106 and is smoothly sent to the developing unit 22.
【0066】また、このPS版12の先端が挿入口10
2を通過すると、挿入センサ108がこのPS版12を
検出してPS版12の処理を開始したことを検知する。
これによって、例えば、所定時間経過した後に給水ポン
プ128を作動して、スプレーパイプ56に水を供給
し、PS版12の水洗を開始する。The tip of the PS plate 12 has the insertion opening 10
After passing 2, the insertion sensor 108 detects the PS plate 12 and detects that the processing of the PS plate 12 has started.
As a result, for example, after a lapse of a predetermined time, the water supply pump 128 is operated to supply water to the spray pipe 56 and start washing the PS plate 12 with water.
【0067】機枠14の挿入口102から挿入されたP
S版12は、搬送ローラ32によって現像部22に送ら
れ、現像槽18内の現像液に浸漬される。現像槽18内
に挿入されたPS版12は、ガイド板168に案内され
てローラ42の間へ挿入されて通過すると、ガイドロー
ラ34等によって現像槽18内を搬送される。しかる後
に、PS版12の感光層側表面は、回転ブラシローラ3
8、170でこすられて現像が促進されて焼付けられた
画像に応じ不必要な感光層が除去される。P inserted from the insertion opening 102 of the machine frame 14
The S plate 12 is sent to the developing unit 22 by the conveyance roller 32 and immersed in the developing solution in the developing tank 18. The PS plate 12 inserted in the developing tank 18 is guided by the guide plate 168, inserted between the rollers 42, and passes through, and is conveyed in the developing tank 18 by the guide rollers 34 and the like. After that, the surface of the PS plate 12 on the photosensitive layer side is rotated by the rotating brush roller 3
Rubbing with 8 and 170 accelerates development and removes unnecessary photosensitive layer depending on the printed image.
【0068】現像処理されたPS版12は、水洗部24
へ送られ、搬送ローラ52、53によって挟持搬送され
る。この際、PS版12は搬送ローラ52の下側ローラ
に当接するように案内されているため、この下側ローラ
の回転によって受け皿62から汲み上げられた水洗水が
PS版12の表面へ周り込み、PS版12が搬送ローラ
52に挟持された時点で、液溜まりをつくることができ
る。これにより、PS版12の先端から確実に水洗処理
を行うことができる。The developed PS plate 12 is washed with water 24.
And is nipped and conveyed by the conveyance rollers 52 and 53. At this time, since the PS plate 12 is guided so as to come into contact with the lower roller of the transport roller 52, the washing water pumped up from the tray 62 circulates around the surface of the PS plate 12 by the rotation of the lower roller. When the PS plate 12 is sandwiched by the transport rollers 52, a liquid pool can be formed. As a result, the water washing process can be reliably performed from the tip of the PS plate 12.
【0069】その後、PS版12は下流側ローラ対53
に到達するタイミングでスプレーパイプ56から下流側
ローラ対53の上側ローラに滴下される新しい水によっ
て洗浄され、裏面は受け皿62から下流側ローラ対53
のうち下側のローラによって持ち出される水洗水によっ
て洗浄される。After that, the PS plate 12 has the downstream roller pair 53.
Is washed with fresh water dropped from the spray pipe 56 to the upper roller of the downstream roller pair 53 at the timing of reaching, and the back surface is transferred from the tray 62 to the downstream roller pair 53.
It is washed with washing water carried out by the lower roller.
【0070】水洗処理が終了すると、PS版12は、フ
ィニッシャー部26へ送られ、搬送ローラ78によって
挟持搬送される。ここで、スプレーパイプ82、188
から吐出されるガム液が塗布されて不感脂化処理され
る。このとき、搬送ローラ対53の上下ローラの軸を結
ぶ線が垂線に対して傾斜されPS版12の先端側が徐々
に低い位置となるため、PS版12に付着したガム液の
流れ方向を一定とすることができる。When the washing process is completed, the PS plate 12 is sent to the finisher section 26, and is nipped and carried by the carrying rollers 78. Here, the spray pipes 82, 188
The gum solution discharged from is applied to be desensitized. At this time, since the line connecting the axes of the upper and lower rollers of the conveying roller pair 53 is inclined with respect to the perpendicular and the tip side of the PS plate 12 is gradually lowered, the flow direction of the gum solution adhering to the PS plate 12 is kept constant. can do.
【0071】ガム液の塗布が行われたPS版12は、搬
送ローラ78によって余分なガム液が除去されながら、
ブレード228の間を通過して排出口104へと至る。
この後、PS版12は必要に応じて設けられる乾燥部3
1で乾燥処理される。The PS plate 12 on which the gum solution has been applied, while the excess gum solution is removed by the carrying roller 78,
It passes between the blades 228 and reaches the discharge port 104.
After that, the PS plate 12 is provided with a drying unit 3 provided as necessary.
The drying process is performed at 1.
【0072】ここで排出口104に設けたシャッター9
4の作動を図8のフローチャートにしたがって説明す
る。なお、シャッター94は、上方位置に保持されて排
出口104を閉止している。最初のステップ300で挿
入センサ108が処理液処理部11にPS版12が挿入
されたことを検出すると、次のステップ302でタイマ
ーを作動させる。これと共に、モータ246が駆動して
偏心カム242が回転し、シャッター94が下方位置へ
移動を開始する(ステップ304)。次のステップ30
6で、リミットスイッチ256がシャッター94を検出
すると、モータ246の駆動が停止する(ステップ30
8)。これによって、シャッター94が下方の所定位置
に移動して排出口104が開放されて、PS版12が通
過可能となる。Here, the shutter 9 provided at the discharge port 104
The operation of No. 4 will be described with reference to the flowchart of FIG. The shutter 94 is held at the upper position to close the discharge port 104. In the first step 300, when the insertion sensor 108 detects that the PS plate 12 has been inserted into the processing liquid processing part 11, the timer is activated in the next step 302. At the same time, the motor 246 is driven to rotate the eccentric cam 242, and the shutter 94 starts moving to the lower position (step 304). Next step 30
In step 6, when the limit switch 256 detects the shutter 94, the driving of the motor 246 is stopped (step 30
8). As a result, the shutter 94 moves to a predetermined position below, the discharge port 104 is opened, and the PS plate 12 can pass through.
【0073】この状態で、処理液処理部11で処理の終
了したPS版12がフィニッシャー部26の搬送ローラ
78によって排出口104から送り出される。In this state, the PS plate 12 which has been processed by the processing liquid processing section 11 is sent out from the discharge port 104 by the carrying roller 78 of the finisher section 26.
【0074】次のステップ310では、挿入センサ10
8がPS版12の先端を検出してからの時間をタイマー
によって測定し、所定時間経過したのち、すなわち、搬
送ローラ78によってPS版12が排出口104から送
り出されるのが完了するだけの時間が経過すると、ステ
ップ312へ移行して、モータ246を反転駆動してシ
ャッター94を上方へ移動させる。このシャッター94
の上方移動をリミットスイッチ254が検出(ステップ
314)すると、モータ246の駆動が停止する(ステ
ップ316)。これによって、シャッター94は排出口
104を閉止する位置に至る。これは、装置の稼動中、
PS版12を処理する毎に行われる(ステップ31
8)。In the next step 310, the insertion sensor 10
8 measures the time from the detection of the front end of the PS plate 12 by a timer, and after a predetermined time has passed, that is, the time required to complete the delivery of the PS plate 12 from the discharge port 104 by the conveying roller 78. After a lapse of time, the process proceeds to step 312, in which the motor 246 is driven to reverse and the shutter 94 is moved upward. This shutter 94
When the limit switch 254 detects the upward movement of the motor (step 314), the driving of the motor 246 is stopped (step 316). As a result, the shutter 94 reaches the position where the discharge port 104 is closed. This is when the equipment is running,
This is performed every time the PS plate 12 is processed (step 31).
8).
【0075】このように、PS版プロセッサー10は、
機枠14の内部の現像部22をブレード106、174
によって機外及び水洗部24等と隔離し、水洗部24、
フィニッシャー部26のPS版12挿入側ををブレード
174、152によって機外ないし現像部22と隔離
し、排出側を搬送ローラ78とブレード228、230
で機外と隔離しているため、装置稼動中であって、特に
搬送ローラ78によってPS版12が排出口104へ向
けて送り出されている途中であってシャッター94が開
状態であっても外気の侵入を確実に防止して、外気によ
る処理液の劣化を抑えることができるため、蒸発ないし
炭酸ガス疲労による処理液の劣化を補うための処理液の
補充量を大幅に削減することができ、装置のランニング
コストの低減が可能となる。Thus, the PS version processor 10
The developing unit 22 inside the machine casing 14 is connected to the blades 106, 174.
Separated from the outside of the machine and the washing section 24, etc.
The PS plate 12 insertion side of the finisher section 26 is separated from the outside of the machine or the developing section 22 by blades 174 and 152, and the discharge side is conveyed roller 78 and blades 228 and 230.
Therefore, even if the shutter 94 is open and the PS plate 12 is being sent toward the discharge port 104 by the transport roller 78, the outside air is isolated from the outside. Since it is possible to reliably prevent the invasion of the processing liquid and suppress the deterioration of the processing liquid due to the outside air, it is possible to significantly reduce the amount of the processing liquid to be replenished for compensating the deterioration of the processing liquid due to evaporation or carbon dioxide gas fatigue. The running cost of the device can be reduced.
【0076】また、通常、排出口104はシャッター9
4によって閉止しているため、排出口104から侵入し
た外気と接触しやすい搬送ローラ78が外気と接触する
のを確実に防止することができ、搬送ローラ78の表面
にガム液が付着硬化するのを防止することができる。こ
れによって、従来の処理装置では、始業時に必要であっ
たクリーニング版(1〜3版程度)によるクリーニング
作業を不要とすることが可能となる。Further, the discharge port 104 is normally the shutter 9
Since it is closed by 4, it is possible to reliably prevent the transport roller 78, which is likely to come into contact with the outside air that has entered from the discharge port 104, from coming into contact with the outside air, and the gum liquid adheres to and hardens on the surface of the transportation roller 78. Can be prevented. As a result, in the conventional processing apparatus, it becomes possible to eliminate the cleaning work with the cleaning plate (about 1 to 3 plates) which was necessary at the start of work.
【0077】また、フィニッシャー部26の搬送ローラ
78に接触しているブレード228は、装置内の蒸発し
た水分が結露して搬送ローラ78に付着したとき、この
水滴を搬送ローラ78の表面から拭い取るので、搬送ロ
ーラ78に結露した水滴が処理の終了したPS版12の
表面の仕上がりを損ねるのを防止できる。なお、挿入口
102の近傍に配置したブレード156の先端を搬送ロ
ーラ32の上側の表面に接触させるようにして、搬送ロ
ーラ32の表面に結露して付着した水滴を拭い取るよう
にして、現像部22へ送りこまれるPS版12の表面に
水滴の付着するのを防止する機能を合わせ持たせるよう
にしてもよい。The blade 228 which is in contact with the carrying roller 78 of the finisher section 26 wipes off the water droplets from the surface of the carrying roller 78 when the evaporated water in the apparatus is condensed and adheres to the carrying roller 78. Therefore, it is possible to prevent water droplets condensed on the transport roller 78 from damaging the finish of the surface of the PS plate 12 that has been processed. The tip of the blade 156 arranged near the insertion opening 102 is brought into contact with the upper surface of the conveying roller 32 to wipe off water droplets that are condensed on the surface of the conveying roller 32 and adhered thereto. A function of preventing water droplets from adhering to the surface of the PS plate 12 sent to the sheet 22 may be additionally provided.
【0078】なお。本実施例では、シャッター94の移
動範囲をリミットスイッチ254、256によって検出
したが、モータ246の駆動量によってシャッター94
の開閉を制御するようにしてもよい。また、シャッター
94は、PS版12が排出口104を通過するときのみ
開かれるものではなく、装置の稼動中に開かれて装置の
稼動停止時に排出口104を閉止するものであってもよ
い。Incidentally. In the present embodiment, the movement range of the shutter 94 is detected by the limit switches 254 and 256, but the shutter 94 is detected by the drive amount of the motor 246.
You may make it control opening and closing. Further, the shutter 94 may be opened not only when the PS plate 12 passes through the discharge port 104, but may be opened during the operation of the device and close the discharge port 104 when the operation of the device is stopped.
【0079】さらに、本実施例では、モータ246の駆
動によってシャッター94を開閉したが、他の駆動手段
によってシャッター94を開閉するものであってもよ
く、また、オペレータが装置の稼動立ち上げ時にシャッ
ター94を開き稼動終了時に閉止する手動式のものであ
ってもよい。Further, in the present embodiment, the shutter 94 is opened and closed by driving the motor 246, but the shutter 94 may be opened and closed by other driving means, and the shutter is opened when the operator starts the operation of the apparatus. A manual type in which 94 is opened and closed at the end of operation may be used.
【0080】[0080]
【発明の効果】以上説明した如く、本発明に係る感光性
平版印刷版処理装置では、ケーシング内部の処理液処理
部を外気と確実に遮断することができる。特に少なくと
も装置稼動停止中は排出口を確実に閉止するため、排出
口近傍に配置した搬送ローラに処理液中の成分が析出硬
化するのを確実に防止して、装置のメンテナンスの簡略
化を図ることができる。As described above, in the photosensitive lithographic printing plate processing apparatus according to the present invention, the processing liquid processing section inside the casing can be reliably shielded from the outside air. Especially, at least when the operation of the device is stopped, the discharge port is surely closed, so that the components in the processing liquid are securely prevented from being precipitated and hardened on the transport roller arranged near the discharge port, and the maintenance of the device is simplified. be able to.
【0081】また、排出口と感光性平版印刷版を送り出
すローラ対の間に遮蔽手段を配置しているため、遮蔽手
段を処理された感光性平版印刷版の表面に接触させるこ
となく処理液処理部と機外を確実に隔離することがで
き、かつ、処理された感光性平版印刷版の表面に不用意
にブレード等を接触させないため、感光性平版印刷版の
表面を傷めてしまうことがない優れた効果を有する。Further, since the shielding means is arranged between the discharge port and the roller pair for sending out the photosensitive lithographic printing plate, the treatment liquid treatment is performed without bringing the shielding means into contact with the surface of the treated photosensitive lithographic printing plate. The surface of the photosensitive lithographic printing plate can be reliably separated from the outside of the machine, and the surface of the processed photosensitive lithographic printing plate is not inadvertently contacted with a blade or the like. Has excellent effect.
【図1】本実施例に適用したPS版プロセッサーの概略
斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of a PS plate processor applied to this embodiment.
【図2】本実施例に適用したPS版プロセッサーの概略
構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a PS plate processor applied to this embodiment.
【図3】本実施例に適用したPS版プロセッサーの概略
配管系統図である。FIG. 3 is a schematic piping system diagram of a PS plate processor applied to this embodiment.
【図4】図1の4−4線に沿った要部断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of main parts taken along line 4-4 of FIG.
【図5】排出口と排出口近傍のローラ対の間を示す要部
斜視図である。FIG. 5 is a perspective view of an essential part showing a space between a discharge port and a roller pair near the discharge port.
【図6】本実施例に適用したシャッター近傍を示す要部
斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of an essential part showing the vicinity of the shutter applied to the present embodiment.
【図7】リエントリー用挿入口の変形例を示す要部断面
図である。FIG. 7 is a main-portion cross-sectional view showing a modified example of the reentry insertion opening.
【図8】シャッターの開閉操作の一例を示すフローチャ
ートである。FIG. 8 is a flowchart showing an example of opening / closing operation of a shutter.
10 PS版プロセッサー(感光性平版印刷版処理装
置) 11 処理液処理部 12 PS版(感光性平版印刷版) 14 機枠(ケーシング) 22 現像部 24 水洗部 26 フィニッシャー部 78 搬送ローラ(ローラ対) 94 シャッター 102 挿入口 104 排出口 150 リエントリー用挿入口 228、230 ブレード10 PS plate processor (photosensitive lithographic printing plate processing device) 11 processing liquid processing unit 12 PS plate (photosensitive lithographic printing plate) 14 machine frame (casing) 22 developing unit 24 water washing unit 26 finisher unit 78 transport rollers (roller pair) 94 Shutter 102 Insertion port 104 Discharge port 150 Reentry insertion port 228, 230 Blade
Claims (2)
する少なくとも現像処理液を貯留し、挿入口から挿入さ
れる前記感光性平版印刷版を搬送しながらこれらの前記
現像処理液によって処理して排出口から送り出す感光性
平版印刷版処理装置であって、 内部に前記処理液処理部を収容し前記挿入口と前記排出
口が形成されると共に前記挿入口近傍に装置外と前記処
理液処理部との間の気体の流通を阻止する第1の遮蔽手
段を設けたケーシングと、 前記排出口の上流側で前記排出口に隣接して配置され前
記感光性平版印刷版を前記排出口から送り出すローラ対
と、 前記排出口の開口周縁部に取り付けられると共に前記ロ
ーラ対の周面に摺接して装置外と前記処理液処理部との
間の気体の流通を阻止する第2の遮蔽手段と、を有する
ことを特徴とする感光性平版印刷版処理装置。1. A processing solution processing section stores at least a developing solution for processing a photosensitive lithographic printing plate, and the photosensitive lithographic printing plate is inserted through an insertion port while being processed by the developing solution. A photosensitive lithographic printing plate processing apparatus for sending out from the discharge port through the discharge port, wherein the processing liquid processing unit is housed inside to form the insertion port and the discharge port, and the processing liquid outside the device and the processing liquid near the insertion port. A casing provided with a first shielding means for blocking the flow of gas between the processing section, and the photosensitive lithographic printing plate disposed adjacent to the outlet on the upstream side of the outlet from the outlet. A pair of rollers for sending out, and a second shielding means attached to the peripheral edge of the opening of the discharge port and slidably contacting the peripheral surface of the pair of rollers to prevent the flow of gas between the outside of the apparatus and the processing liquid processing section. Characterized by having And a photosensitive lithographic printing plate processing apparatus.
くとも装置稼動停止中は排出口を閉止して外気の侵入を
防止すると共に前記感光性平版印刷版が通過するときに
排出口を開放するシャッターと、を有することを特徴と
する請求項1の感光性平版印刷版処理装置。2. A shutter which is provided at an outlet of the casing to close the outlet at least when the operation of the apparatus is stopped to prevent outside air from entering and to open the outlet when the photosensitive lithographic printing plate passes. 2. The photosensitive lithographic printing plate processing apparatus according to claim 1, further comprising:
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---|---|---|---|
JP8087693A JP3032660B2 (en) | 1993-04-07 | 1993-04-07 | Photosensitive lithographic printing plate processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
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JP8087693A JP3032660B2 (en) | 1993-04-07 | 1993-04-07 | Photosensitive lithographic printing plate processing equipment |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH06295071A true JPH06295071A (en) | 1994-10-21 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6149320A (en) * | 1998-03-30 | 2000-11-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus and sealing structure for processing section of the apparatus |
US6655860B2 (en) * | 2000-06-08 | 2003-12-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus |
-
1993
- 1993-04-07 JP JP8087693A patent/JP3032660B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6149320A (en) * | 1998-03-30 | 2000-11-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus and sealing structure for processing section of the apparatus |
EP0947885B1 (en) * | 1998-03-30 | 2003-08-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus and sealing structure for processing section of the apparatus |
US6655860B2 (en) * | 2000-06-08 | 2003-12-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive material processing apparatus |
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