JPH0629105B2 - ウエブ振動吸収装置 - Google Patents
ウエブ振動吸収装置Info
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- JPH0629105B2 JPH0629105B2 JP61087182A JP8718286A JPH0629105B2 JP H0629105 B2 JPH0629105 B2 JP H0629105B2 JP 61087182 A JP61087182 A JP 61087182A JP 8718286 A JP8718286 A JP 8718286A JP H0629105 B2 JPH0629105 B2 JP H0629105B2
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- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
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- D21H25/00—After-treatment of paper not provided for in groups D21H17/00 - D21H23/00
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- D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
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- D21H23/02—Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper characterised by the manner in which substances are added
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラスチックフィルム、紙、金属シート等のウ
エブ（可撓性帯状長尺物質）の搬送ラインに用いられる
ウエブ振動吸収装置に関するものである。
エブ（可撓性帯状長尺物質）の搬送ラインに用いられる
ウエブ振動吸収装置に関するものである。
従来プラスチックフィルム、紙、金属シート等のウエブ
を連続搬送させて、このウエブ上に例えば下塗液、磁性
液、写真感光液等の塗膜を形成する製造工程がある。こ
れらのウエブ製造工程にあっては、ウエブ上に形成され
た塗膜を後工程に支障がないように乾燥させる工程があ
る。この乾燥工程は、特に前記ウエブの両面側に塗膜が
形成された状態においては、乾燥装置および塗布装置か
ら乾燥装置に至るまで間においては、該ウエブを適宜浮
上させて搬送する浮上型装置や浮上型乾燥装置を用いる
のが一般的である。
を連続搬送させて、このウエブ上に例えば下塗液、磁性
液、写真感光液等の塗膜を形成する製造工程がある。こ
れらのウエブ製造工程にあっては、ウエブ上に形成され
た塗膜を後工程に支障がないように乾燥させる工程があ
る。この乾燥工程は、特に前記ウエブの両面側に塗膜が
形成された状態においては、乾燥装置および塗布装置か
ら乾燥装置に至るまで間においては、該ウエブを適宜浮
上させて搬送する浮上型装置や浮上型乾燥装置を用いる
のが一般的である。
ところが、前記浮上型乾燥装置等はこの浮上作用を生じ
せしめる気体の流れの乱れに起因するウエブの振動が発
生していた。この振動は例えば特開昭58-109162号公報
に記載されたエクストルジョン型塗布ヘッドを用いた製
造設備においては、前記ウエブのテンション変動等が発
生することによって前記塗布ヘッドと該ウエブとの微妙
な間隙に変化が生じ、この結果、塗膜の膜厚変動が発生
していた。
せしめる気体の流れの乱れに起因するウエブの振動が発
生していた。この振動は例えば特開昭58-109162号公報
に記載されたエクストルジョン型塗布ヘッドを用いた製
造設備においては、前記ウエブのテンション変動等が発
生することによって前記塗布ヘッドと該ウエブとの微妙
な間隙に変化が生じ、この結果、塗膜の膜厚変動が発生
していた。
又、前記浮上型乾燥装置は、気体（乾燥風）を制御する
ことによりある乾燥装置内においてはある程度のウエブ
振動を抑えることはできるが、ウエブが乾燥装置に入る
ときに生じる該ウエブの挙動の変化に起因するウエブ振
動を抑えることができない。そして、このウエブ振動が
塗布ヘッドの塗布領域に与える影響を阻止することはで
きなかった。
ことによりある乾燥装置内においてはある程度のウエブ
振動を抑えることはできるが、ウエブが乾燥装置に入る
ときに生じる該ウエブの挙動の変化に起因するウエブ振
動を抑えることができない。そして、このウエブ振動が
塗布ヘッドの塗布領域に与える影響を阻止することはで
きなかった。
本発明の目的は、浮上型乾燥装置により発生したウエブ
の振動が塗布装置の部分まで伝播しないようにでき、塗
布工程の膜厚変動を防止し均一な塗膜形成を可能にさせ
るウエブ振動吸収装置を提供することにある。
の振動が塗布装置の部分まで伝播しないようにでき、塗
布工程の膜厚変動を防止し均一な塗膜形成を可能にさせ
るウエブ振動吸収装置を提供することにある。
本発明の上記目的は、気体によりウエブを浮上させなが
ら該ウエブを加熱もしくは乾燥させる装置から発生する
ウエブ振動を該装置の上流側で吸収する装置であって、
デイストリビュータを内蔵しかつ、多孔吹出面を具備し
て成る気体吹出筒体を前記ウエブの両面に対し比較的狭
い間隙を以て対設して成り、前記多孔吹出面とウエブと
の間に形成された気体薄膜により前記ウエブ振動を吸収
することを特徴とするウエブ振動吸収装置により達成す
ることができる。
ら該ウエブを加熱もしくは乾燥させる装置から発生する
ウエブ振動を該装置の上流側で吸収する装置であって、
デイストリビュータを内蔵しかつ、多孔吹出面を具備し
て成る気体吹出筒体を前記ウエブの両面に対し比較的狭
い間隙を以て対設して成り、前記多孔吹出面とウエブと
の間に形成された気体薄膜により前記ウエブ振動を吸収
することを特徴とするウエブ振動吸収装置により達成す
ることができる。
本発明の気体吹出筒は内蔵するデイストリビュータによ
り吹出面よりの気体は均一な圧力分布になりウエブに対
し均一に且気体薄膜を形成する如く吹出すことが出来
る。ウエブは両面からの気体の均一な吹出による気体薄
膜により平衡が保たれウエブの振動が減衰する。ウエブ
の振幅が大きい場合は大きな振動から順次安定化させる
ため複数対の気体吹出筒を配置し、振動発生源側から順
次吹出面とウエブ面との間隔を狭めて行くことにより所
望の大きさの振動迄振動を効果的に吸収することが出来
る。
り吹出面よりの気体は均一な圧力分布になりウエブに対
し均一に且気体薄膜を形成する如く吹出すことが出来
る。ウエブは両面からの気体の均一な吹出による気体薄
膜により平衡が保たれウエブの振動が減衰する。ウエブ
の振幅が大きい場合は大きな振動から順次安定化させる
ため複数対の気体吹出筒を配置し、振動発生源側から順
次吹出面とウエブ面との間隔を狭めて行くことにより所
望の大きさの振動迄振動を効果的に吸収することが出来
る。
本発明の一実施態様について添付図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本実施態様のウエブ振動吸収装置を磁気記録材
料の両面塗布装置に利用した場合の概略図である。
料の両面塗布装置に利用した場合の概略図である。
第１図において例えばポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルムからなるウエブ１はエクストルージョン型塗
布ヘッド２、３に押しつけられて所望の塗布液が塗布さ
れ、その後、両面無接触乾燥装置４で乾燥される（例え
ば特開昭58-109162号公報記載）。
T)フィルムからなるウエブ１はエクストルージョン型塗
布ヘッド２、３に押しつけられて所望の塗布液が塗布さ
れ、その後、両面無接触乾燥装置４で乾燥される（例え
ば特開昭58-109162号公報記載）。
前記両面無接触乾燥装置４で乾燥する過程において、該
乾燥装置４での吹出気流によりウエブ１はウエブ振動５
を発生し、この振動が前記塗布ヘッド３における塗布工
程に影響し、ウエブ走行方向に沿って見た時における塗
膜厚みの変動（ウエブ幅方向に延びた厚みむら）が発生
し易い。
乾燥装置４での吹出気流によりウエブ１はウエブ振動５
を発生し、この振動が前記塗布ヘッド３における塗布工
程に影響し、ウエブ走行方向に沿って見た時における塗
膜厚みの変動（ウエブ幅方向に延びた厚みむら）が発生
し易い。
そこで、本態様の気体吹出筒体６を備えたウエブ振動吸
収装置６を、前記塗布ヘッド３の近傍で前記乾燥装置４
側のところに設置することにより、該塗布ヘッド３によ
り塗布工程は前記乾燥装置４によって発生したウエブ振
動５が効果的に回避され、振動の影響を受けず能率よく
良質の磁気材料の生産が可能になった。
収装置６を、前記塗布ヘッド３の近傍で前記乾燥装置４
側のところに設置することにより、該塗布ヘッド３によ
り塗布工程は前記乾燥装置４によって発生したウエブ振
動５が効果的に回避され、振動の影響を受けず能率よく
良質の磁気材料の生産が可能になった。
第２図は本発明のウエブ振動吸収装置の一対の気体吹出
筒体の説明断面図である。
筒体の説明断面図である。
前記ウエブ１を挟んで吹出面７ａ，７ｂを対向させた気
体吹出筒体６ａ，６ｂはウエブ全幅に亘った長さと、比
較的狭い幅（例えば、５〜50cm）の吹出面積を持ち、吹
出面７ａ，７ｂはウエブ１との間隔が（例えば、0.05〜
20mm）吸収しようとするウエブ振動の振幅に関連して微
少距離となるため、ウエブ１が吹出面７ａ，７ｂに接触
することなく安定した状態にウエブ１を支え振動を吸収
する。
体吹出筒体６ａ，６ｂはウエブ全幅に亘った長さと、比
較的狭い幅（例えば、５〜50cm）の吹出面積を持ち、吹
出面７ａ，７ｂはウエブ１との間隔が（例えば、0.05〜
20mm）吸収しようとするウエブ振動の振幅に関連して微
少距離となるため、ウエブ１が吹出面７ａ，７ｂに接触
することなく安定した状態にウエブ１を支え振動を吸収
する。
一方、吹出面７ａ，７ｂは例えば、５μ〜100μの孔径
を有した焼結金属から成る多孔質材料又は微細孔（丸穴
又はスリット）によって形成し、吹出面７ａ，７ｂ全面
に気体吹出孔を分布させる。又吹出面７ａ，７ｂから気
体を均一にウエブ１に吹出させる為には気体吹出筒体６
ａ，６ｂの中にデイストリビュータ８ａ，８ｂ（例えば
孔径が50μ〜200μの焼結金属）を内蔵させ、送風装置
（図示せず）よりの調整した気体を給気口９ａ，９ｂを
通して気体吹出筒７ａ，７ｂに入れた後デイストリビュ
ータ８ａ，８ｂにより均一圧力として吹出面７ａ，７ｂ
全面に気体を分布させ吹出させる。
を有した焼結金属から成る多孔質材料又は微細孔（丸穴
又はスリット）によって形成し、吹出面７ａ，７ｂ全面
に気体吹出孔を分布させる。又吹出面７ａ，７ｂから気
体を均一にウエブ１に吹出させる為には気体吹出筒体６
ａ，６ｂの中にデイストリビュータ８ａ，８ｂ（例えば
孔径が50μ〜200μの焼結金属）を内蔵させ、送風装置
（図示せず）よりの調整した気体を給気口９ａ，９ｂを
通して気体吹出筒７ａ，７ｂに入れた後デイストリビュ
ータ８ａ，８ｂにより均一圧力として吹出面７ａ，７ｂ
全面に気体を分布させ吹出させる。
なお、このデイストリビュータ８ａ，８ｂはある程度の
気体の流動抵抗をもった充填物、フィルター、又は多孔
質材料を用いる。
気体の流動抵抗をもった充填物、フィルター、又は多孔
質材料を用いる。
第３図は気体吹出筒体が一対で形成され吹出面とウエブ
面との間隔がウエブの上流側が下流側より狭くなってい
るウエブ振動吸収装置の一例であり、（ａ）に示した吹
出断面図では吹出面が平面のもので、吹出面とウエブ面
との間隔が直線的に変化する構造である。また、(b)に
示した構成のものは吹出面とウエブ面との間隔が曲線的
に変化するものである。これらの構成は第２図に示すウ
エブ振動吸収装置におけるウエブ振動より振幅が多少大
である場合に用いる。
面との間隔がウエブの上流側が下流側より狭くなってい
るウエブ振動吸収装置の一例であり、（ａ）に示した吹
出断面図では吹出面が平面のもので、吹出面とウエブ面
との間隔が直線的に変化する構造である。また、(b)に
示した構成のものは吹出面とウエブ面との間隔が曲線的
に変化するものである。これらの構成は第２図に示すウ
エブ振動吸収装置におけるウエブ振動より振幅が多少大
である場合に用いる。
第４図は比較的ウエブの振幅が大きい場合、気体吹出筒
体が複数対で形成され各対の吹出面とウエブの間隔がウ
エブの上流側が下流側より段階的に狭くなっているウエ
ブ振動吸収装置の一例の断面図である。すなわち、ここ
に示す装置においては吹出面とウエブ面との間隔が上流
側ｈ＜ｇ＜ｆになっている。
体が複数対で形成され各対の吹出面とウエブの間隔がウ
エブの上流側が下流側より段階的に狭くなっているウエ
ブ振動吸収装置の一例の断面図である。すなわち、ここ
に示す装置においては吹出面とウエブ面との間隔が上流
側ｈ＜ｇ＜ｆになっている。
このように本発明を実施する際、ウエブの振幅が比較的
大である場合は、気体吹出筒体が複数対で形成され、各
対の気体吹出筒体とウエブとの間隔がウエブの上流側が
下流側より狭くなっているウエブ振動吸収装置が適当で
あり、ウエブの振幅が比較的小である場合は気体吹出筒
体が一対で形成され、吹出面とウエブ面との間隔がウエ
ブの上流側が下流側より狭くなっているウエブ振動吸収
装置を用いることが適当である。更にウエブの振幅が非
常に小である場合は吹出面が一対でウエブ面に対し平行
に微小間隔をもって配置されたものが適当である。
大である場合は、気体吹出筒体が複数対で形成され、各
対の気体吹出筒体とウエブとの間隔がウエブの上流側が
下流側より狭くなっているウエブ振動吸収装置が適当で
あり、ウエブの振幅が比較的小である場合は気体吹出筒
体が一対で形成され、吹出面とウエブ面との間隔がウエ
ブの上流側が下流側より狭くなっているウエブ振動吸収
装置を用いることが適当である。更にウエブの振幅が非
常に小である場合は吹出面が一対でウエブ面に対し平行
に微小間隔をもって配置されたものが適当である。
本発明の気体吹出筒に調整した気体を送り込む送風装置
は、ウエブに吹付ける気体を必要に応じ温度・湿度を調
節し、除塵し、必要な静圧を有する所望の風量を送風出
来る調整装置を含むものである。
は、ウエブに吹付ける気体を必要に応じ温度・湿度を調
節し、除塵し、必要な静圧を有する所望の風量を送風出
来る調整装置を含むものである。
以上のべたように、本発明のウエブ振動吸収装置は気体
吹出筒が内蔵するデイストリビュータにより吹出面から
吹き出される気体の圧力分布を均一にでき、ウエブに対
し均一に且気体薄膜を形成する如く吹出すことが出来
る。したがって、ウエブは両面からの気体の均一な吹出
による気体薄膜により平衡が極めて良好に保たれるの
で、乾燥装置により発生したウエブ振動が効果的に減衰
する。また、ウエブの振幅が大きい場合は大きな振動か
ら順次安定化させるため複数対の気体吹出筒を配置し、
振動発生源側から順次吹出面とウエブ面との間隔を狭め
て行くことにより所望の大きさの振幅迄振動を効果的に
吸収することができ、ウエブ振動の塗布工程のところま
での伝播を回避でき、塗布ヘッド領域におけるウエブ挙
動を安定化でき、塗布工程の膜厚変動を防止し均一な塗
膜形成を可能にすることが出来た。
吹出筒が内蔵するデイストリビュータにより吹出面から
吹き出される気体の圧力分布を均一にでき、ウエブに対
し均一に且気体薄膜を形成する如く吹出すことが出来
る。したがって、ウエブは両面からの気体の均一な吹出
による気体薄膜により平衡が極めて良好に保たれるの
で、乾燥装置により発生したウエブ振動が効果的に減衰
する。また、ウエブの振幅が大きい場合は大きな振動か
ら順次安定化させるため複数対の気体吹出筒を配置し、
振動発生源側から順次吹出面とウエブ面との間隔を狭め
て行くことにより所望の大きさの振幅迄振動を効果的に
吸収することができ、ウエブ振動の塗布工程のところま
での伝播を回避でき、塗布ヘッド領域におけるウエブ挙
動を安定化でき、塗布工程の膜厚変動を防止し均一な塗
膜形成を可能にすることが出来た。
以下、本発明の効果を実施例により更に明確にすること
ができる。
ができる。
なお、ここではウエブ振動吸収装置を磁気記録材料の両
面塗布装置に利用した実施例について説明する。
面塗布装置に利用した実施例について説明する。
表１に示す組成の磁性液を調整し、第１図に示す要領
（例えば特開昭58-109162号公報記載）で第１塗布注液
器及び第２塗布注液器ともエキストルージョン型塗布ヘ
ッドをウエブに押しつけて磁気記録材料の両面塗布を行
なった。
（例えば特開昭58-109162号公報記載）で第１塗布注液
器及び第２塗布注液器ともエキストルージョン型塗布ヘ
ッドをウエブに押しつけて磁気記録材料の両面塗布を行
なった。
ウエブ１としてはポリエチレンテレフタレート厚さ75
μ、幅300mm、のものを用い、ウエブの搬送速度100m／m
in、ウエブテンション2.5kg／巾、５kg／巾で搬送しウ
ェット平均塗膜厚み25cc／m2を塗布した。
μ、幅300mm、のものを用い、ウエブの搬送速度100m／m
in、ウエブテンション2.5kg／巾、５kg／巾で搬送しウ
ェット平均塗膜厚み25cc／m2を塗布した。
この場合ウエブ振動吸収装置の気体吹出筒６の条件とし
ては第４図に示す複数対の気体吹出筒を用いた。
ては第４図に示す複数対の気体吹出筒を用いた。
第１図に示すように最も下流側にある気体吹出筒６と乾
燥装置４との距離ａは1000mm、最も上流側にある気体吹
出筒６と第２注液器３との距離を300mmとする位置に気
体吹出筒を配置した。複数対の気体吹出筒は３対とし、
相互の間隔は100mmとし、気体吹出筒一ケの寸法として
は、長さ300mm、幅ｅ＝20mm、高さｄ＝70mmで充填物の
デイストリビュータを内蔵し、多孔質材料の吹出面をも
った気体吹出筒をウエブ面と吹出面との間隔を、ウエブ
の最下流側よりｆ＝2.0mm、ｇ＝1.0mm、ｈ＝0.3mmとし
てウエブを挟んで両面に対向させた。
燥装置４との距離ａは1000mm、最も上流側にある気体吹
出筒６と第２注液器３との距離を300mmとする位置に気
体吹出筒を配置した。複数対の気体吹出筒は３対とし、
相互の間隔は100mmとし、気体吹出筒一ケの寸法として
は、長さ300mm、幅ｅ＝20mm、高さｄ＝70mmで充填物の
デイストリビュータを内蔵し、多孔質材料の吹出面をも
った気体吹出筒をウエブ面と吹出面との間隔を、ウエブ
の最下流側よりｆ＝2.0mm、ｇ＝1.0mm、ｈ＝0.3mmとし
てウエブを挟んで両面に対向させた。
本発明のウエブ振動吸収装置を設置しない時乾燥装置入
口部分でのウエブの振幅はウエブテンション2.5kg巾の
時8.7mm、５kg／巾の時5.8mmあった。
口部分でのウエブの振幅はウエブテンション2.5kg巾の
時8.7mm、５kg／巾の時5.8mmあった。
ウエブ振動吸収装置を設置した場合ウエブ振動を殆ど吸
収することが出来たが、本発明の実施例と比較例との塗
布厚み変動（乾燥後）の最大値測定結果を表２に示す。
収することが出来たが、本発明の実施例と比較例との塗
布厚み変動（乾燥後）の最大値測定結果を表２に示す。
第２表に示す如く、本発明によりウエブ振動による塗布
膜の厚み変動を大巾に改善することが出来た。
膜の厚み変動を大巾に改善することが出来た。
第１図は本発明のウエブ振動吸収装置を磁気記録材料の
両面塗布装置に利用した１実施態様の概略説明図、第２
図は本発明のウエブ振動吸収装置の気体吹出筒体の１概
略斜視図、第３図は気体吹出筒が一対で形成された吹出
面とウエブ面との間隔がウエブの上流側が下流側より狭
くなっているウエブ振動吸収装置の概略側面図であっ
て、(a) は間隔が直線的に変化する場合であり、(b) は
間隔が曲線的に変化する場合を示す。第４図は気体吹出
筒が複数対で形成され各対の吹出面とウエブ面との間隔
がウエブの上流側が下流側より段階的に狭くなっている
ウエブ振動吸収装置の要部断面図である。 １……ウエブ、２、３……塗布ヘッド ４……乾燥装置、５……ウエブの振動 ６，６ａ，６ｂ……気体吹出筒体 ７ａ，７ｂ……吹出面 ８ａ，８ｂ……デイストリビュータ ９ａ，９ｂ……給気口
両面塗布装置に利用した１実施態様の概略説明図、第２
図は本発明のウエブ振動吸収装置の気体吹出筒体の１概
略斜視図、第３図は気体吹出筒が一対で形成された吹出
面とウエブ面との間隔がウエブの上流側が下流側より狭
くなっているウエブ振動吸収装置の概略側面図であっ
て、(a) は間隔が直線的に変化する場合であり、(b) は
間隔が曲線的に変化する場合を示す。第４図は気体吹出
筒が複数対で形成され各対の吹出面とウエブ面との間隔
がウエブの上流側が下流側より段階的に狭くなっている
ウエブ振動吸収装置の要部断面図である。 １……ウエブ、２、３……塗布ヘッド ４……乾燥装置、５……ウエブの振動 ６，６ａ，６ｂ……気体吹出筒体 ７ａ，７ｂ……吹出面 ８ａ，８ｂ……デイストリビュータ ９ａ，９ｂ……給気口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 千野 直義 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭48−61776（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】気体によりウエブを浮上させながら該ウエ
ブを加熱もしくは乾燥させる装置から発生するウエブ振
動を該装置の上流側で吸収する装置であって、デイスト
リビュータを内蔵しかつ、多孔吹出面を具備して成る気
体吹出筒体を前記ウエブの両面に対し比較的狭い間隙を
以て対設して成り、前記多孔吹出面とウエブとの間に形
成された気体薄膜により前記ウエブ振動を吸収すること
を特徴とするウエブ振動吸収装置。 - 【請求項２】前記気体吹出筒体が複数対で形成され、各
対の吹出面とウエブ面との間隔がウエブの上流側が下流
側より段階的に狭くなっていることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載のウエブ振動吸収装置。 - 【請求項３】前記気体吹出筒体が一対で形成され、吹出
面とウエブ面との間隔がウエブの上流側が下流側より直
線的もしくは曲線的に狭くなっていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載のウエブ振動吸収装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61087182A JPH0629105B2 (ja) | 1986-04-17 | 1986-04-17 | ウエブ振動吸収装置 |
| US07/039,420 US4796557A (en) | 1986-04-17 | 1987-04-17 | Device for application with use of web vibration absorber |
| US07/109,562 US4778694A (en) | 1986-04-17 | 1987-10-19 | Method for application with use of web vibration absorber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61087182A JPH0629105B2 (ja) | 1986-04-17 | 1986-04-17 | ウエブ振動吸収装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62244469A JPS62244469A (ja) | 1987-10-24 |
| JPH0629105B2 true JPH0629105B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=13907843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61087182A Expired - Fee Related JPH0629105B2 (ja) | 1986-04-17 | 1986-04-17 | ウエブ振動吸収装置 |
Country Status (2)
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|---|---|
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| JP (1) | JPH0629105B2 (ja) |
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| US2309090A (en) * | 1938-10-06 | 1943-01-26 | Stein Hall Mfg Co | Treatment of paper and the like |
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1986
- 1986-04-17 JP JP61087182A patent/JPH0629105B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1987
- 1987-10-19 US US07/109,562 patent/US4778694A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPS62244469A (ja) | 1987-10-24 |
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