JPH06288746A - 透明体の表面粗さ測定法 - Google Patents
透明体の表面粗さ測定法Info
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- JPH06288746A JPH06288746A JP7476093A JP7476093A JPH06288746A JP H06288746 A JPH06288746 A JP H06288746A JP 7476093 A JP7476093 A JP 7476093A JP 7476093 A JP7476093 A JP 7476093A JP H06288746 A JPH06288746 A JP H06288746A
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- JP
- Japan
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- plated film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス、透明プラスチックシート・フィルム
などの透明体の真の表面粗さを正確に測定する。 【構成】 透明体の被測定物１１の被測定表面１１ａに
予め、無電解メッキにより、金属メッキ薄膜１２を形成
しておき、この金属メッキ薄膜１２を被測定表面として
光学的測定法によって測定する。
などの透明体の真の表面粗さを正確に測定する。 【構成】 透明体の被測定物１１の被測定表面１１ａに
予め、無電解メッキにより、金属メッキ薄膜１２を形成
しておき、この金属メッキ薄膜１２を被測定表面として
光学的測定法によって測定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ガラス、透明プラス
チックシート・フィルムなどの透明体の表面粗さを光学
的測定法によって正確に測定する方法に関する。
チックシート・フィルムなどの透明体の表面粗さを光学
的測定法によって正確に測定する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、表面粗さの測定には、大別して非
接触式表面粗さ測定器によるものあるいは接触式表面粗
さ測定器によるものが知られている。被測定対象物が、
ガラス、透明プラスチックシート、透明プラスチックフ
ィルムなどの透明体にあっても、これらのいずれかの方
法によってその表面粗さが測定されている。しかしなが
ら、レーザーピックアップ方式や光干渉方式などの非接
触式によって透明体の表面粗さを測定した場合、図６に
示すように測定光が透明体１の被測定表面１ａのみなら
ず、その裏側の表面１ｂにおいても反射されるため、被
測定表面１ａの真の表面粗さを正しく測定することがで
きなかった。一方、接触式による測定では、ガラスなど
の硬い材質については、測定が可能となるが、プラスチ
ックフィルムなどの軟らかい材料では測定の際に探針の
先端で表面が削り取られ、真の粗さが得られない不都合
があり、さらには接触式では一般に表面の微細な粗さを
測定するには不向きでもある。
接触式表面粗さ測定器によるものあるいは接触式表面粗
さ測定器によるものが知られている。被測定対象物が、
ガラス、透明プラスチックシート、透明プラスチックフ
ィルムなどの透明体にあっても、これらのいずれかの方
法によってその表面粗さが測定されている。しかしなが
ら、レーザーピックアップ方式や光干渉方式などの非接
触式によって透明体の表面粗さを測定した場合、図６に
示すように測定光が透明体１の被測定表面１ａのみなら
ず、その裏側の表面１ｂにおいても反射されるため、被
測定表面１ａの真の表面粗さを正しく測定することがで
きなかった。一方、接触式による測定では、ガラスなど
の硬い材質については、測定が可能となるが、プラスチ
ックフィルムなどの軟らかい材料では測定の際に探針の
先端で表面が削り取られ、真の粗さが得られない不都合
があり、さらには接触式では一般に表面の微細な粗さを
測定するには不向きでもある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】よって、この発明にお
ける課題は、ガラスや透明プラスチックシートなどの透
明体の真の表面粗さを正確に測定できる方法を得ること
にある。
ける課題は、ガラスや透明プラスチックシートなどの透
明体の真の表面粗さを正確に測定できる方法を得ること
にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる課題は、光学的方
法により透明体の表面粗さを測定する際に、予め透明体
の被測定表面に薄い無電解メッキ膜を形成しておく方法
で解決される。
法により透明体の表面粗さを測定する際に、予め透明体
の被測定表面に薄い無電解メッキ膜を形成しておく方法
で解決される。
【０００５】
【作用】被測定表面の真の粗さをそのまま写した無電解
メッキ膜が形成され、測定光はこの無電解メッキ膜で反
射されるため、外乱が入り込むことがなく被測定表面の
真の粗さを正しく測定できる。
メッキ膜が形成され、測定光はこの無電解メッキ膜で反
射されるため、外乱が入り込むことがなく被測定表面の
真の粗さを正しく測定できる。
【０００６】以下、本発明を詳しく説明する。図１は、
この発明の測定法の原理を説明するもので、図中符号１
１は表面粗さが測定される被測定物である。この被測定
物１１は、透明なガラス、プラスチックシート、プラス
チックフィルムなどの透明体あるいはこれら透明体と金
属などの他の材料との積層体などからなるものである。
この被測定物１１の被測定表面１１ａ上には、薄い無電
解メッキ膜１２が形成されている。
この発明の測定法の原理を説明するもので、図中符号１
１は表面粗さが測定される被測定物である。この被測定
物１１は、透明なガラス、プラスチックシート、プラス
チックフィルムなどの透明体あるいはこれら透明体と金
属などの他の材料との積層体などからなるものである。
この被測定物１１の被測定表面１１ａ上には、薄い無電
解メッキ膜１２が形成されている。
【０００７】この無電解メッキ膜１２は、その表面が被
測定表面１１ａの凹凸状態を正確に写し取った同一の凹
凸状態を有するものである。また、無電解メッキ膜１２
の厚さは５０〜１０００ｎｍの範囲とされ、特に表面粗
さの測定範囲が０．１μ以下の場合には、５０〜１００
ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。さらに、この無
電解メッキ膜１２を構成する金属としては、ニッケル
（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、コバルト（Ｃｏ）
などがあげられるが、好ましくはニッケル、銀などの光
沢に富む金属が適している。
測定表面１１ａの凹凸状態を正確に写し取った同一の凹
凸状態を有するものである。また、無電解メッキ膜１２
の厚さは５０〜１０００ｎｍの範囲とされ、特に表面粗
さの測定範囲が０．１μ以下の場合には、５０〜１００
ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。さらに、この無
電解メッキ膜１２を構成する金属としては、ニッケル
（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、コバルト（Ｃｏ）
などがあげられるが、好ましくはニッケル、銀などの光
沢に富む金属が適している。
【０００８】無電解メッキ膜１２の形成は、周知の無電
解メッキ法によって行われ、通常の酸性浴、アルカリ浴
等を用いるものが広く用いられる。例えば、被測定物１
１の被測定表面１１ａを有機溶剤、酸水溶液などで洗滌
したのち、塩化第１スズ溶液、塩化パラジウム溶液に浸
漬して、表面活性化処理したのち、還元剤を含むメッキ
浴に浸漬する方法などがある。ニッケルを無電解メッキ
する場合には、次亜リン酸浴がよく用いられ、この他ヒ
ドラジン浴、水素化ホウ素化合物を還元剤とするメッキ
浴などが用いられる。一方、銀メッキを施す場合には、
古くから知られている銀鏡反応による方法が好ましい。
すなわち、アンモニアアルカリ性硝酸銀溶液にホルマリ
ンを添加したメッキ浴を用いるものである。
解メッキ法によって行われ、通常の酸性浴、アルカリ浴
等を用いるものが広く用いられる。例えば、被測定物１
１の被測定表面１１ａを有機溶剤、酸水溶液などで洗滌
したのち、塩化第１スズ溶液、塩化パラジウム溶液に浸
漬して、表面活性化処理したのち、還元剤を含むメッキ
浴に浸漬する方法などがある。ニッケルを無電解メッキ
する場合には、次亜リン酸浴がよく用いられ、この他ヒ
ドラジン浴、水素化ホウ素化合物を還元剤とするメッキ
浴などが用いられる。一方、銀メッキを施す場合には、
古くから知られている銀鏡反応による方法が好ましい。
すなわち、アンモニアアルカリ性硝酸銀溶液にホルマリ
ンを添加したメッキ浴を用いるものである。
【０００９】このようにして被測定物１１の被測定表面
１１ａに無電解メッキ膜１２が形成されたならば、つい
でこの無電解メッキ膜１２の表面を新たな被測定表面と
して、光学的方法、すなわち非接触式によってその表面
の粗さを測定する。この場合の測定法としては、レーザ
ピックアップ方式、光干渉方式、共焦点方式、魔鏡方式
などが採用される。
１１ａに無電解メッキ膜１２が形成されたならば、つい
でこの無電解メッキ膜１２の表面を新たな被測定表面と
して、光学的方法、すなわち非接触式によってその表面
の粗さを測定する。この場合の測定法としては、レーザ
ピックアップ方式、光干渉方式、共焦点方式、魔鏡方式
などが採用される。
【００１０】このような表面粗さの測定法では、図１に
あるように測定光が無電解メッキ膜１２の表面でその大
部分が反射し、被測定物１１の内部に透過してゆくこと
がない。このため、無電解メッキ膜１２の表面が上述の
ように被測定表面１１ａの凹凸状態と同一の凹凸状態を
有しているため、透明な測定物１１の裏面などの影響を
受けることなく、被測定表面１１ａの真の表面粗さを正
確に測定することができる。
あるように測定光が無電解メッキ膜１２の表面でその大
部分が反射し、被測定物１１の内部に透過してゆくこと
がない。このため、無電解メッキ膜１２の表面が上述の
ように被測定表面１１ａの凹凸状態と同一の凹凸状態を
有しているため、透明な測定物１１の裏面などの影響を
受けることなく、被測定表面１１ａの真の表面粗さを正
確に測定することができる。
【００１１】本発明においては、無電解メッキ法によっ
て金属薄膜を被測定表面に設けることが重要である。金
属薄膜を形成する方法には、蒸着、スパッタ、イオンプ
レーティングなど物理コーティング法や電気メッキなど
があるが、これらの方法では、被測定表面の凹凸状態を
正しく写し取った同一の凹凸状態をその表面に有する金
属薄膜を形成することが原理的に不可能である。また、
物理コーティング法では被測定物の温度がかなり高くな
り、被測定物が透明プラスチックなどには適用できない
不都合もある。これに対して、無電解メッキ法では、そ
の金属付着機構から均一な金属薄膜の形成が可能であ
り、被測定表面の凹凸状態を正しく反映して写された表
面が得られるのである。
て金属薄膜を被測定表面に設けることが重要である。金
属薄膜を形成する方法には、蒸着、スパッタ、イオンプ
レーティングなど物理コーティング法や電気メッキなど
があるが、これらの方法では、被測定表面の凹凸状態を
正しく写し取った同一の凹凸状態をその表面に有する金
属薄膜を形成することが原理的に不可能である。また、
物理コーティング法では被測定物の温度がかなり高くな
り、被測定物が透明プラスチックなどには適用できない
不都合もある。これに対して、無電解メッキ法では、そ
の金属付着機構から均一な金属薄膜の形成が可能であ
り、被測定表面の凹凸状態を正しく反映して写された表
面が得られるのである。
【００１２】本発明の測定法によれば、透明体の真の表
面粗さを正確に測定できるので、例えば極めて高度の平
滑性が要求される液晶表示装置のガラス基板や磁気テー
プ用プラスチックフィルムなどのわずかな表面粗さを正
確に精度よく測定することができる。
面粗さを正確に測定できるので、例えば極めて高度の平
滑性が要求される液晶表示装置のガラス基板や磁気テー
プ用プラスチックフィルムなどのわずかな表面粗さを正
確に精度よく測定することができる。
【００１３】（試験例）建築用磁器タイル（白色）の釉
薬面を被測定表面とし、（株）東京精密製非接触平面度
・粗さ・形状測定機「Ｌ−ＦＴ−１０Ｂ」を使用してそ
の表面粗さを測定したところ、図２に示すような三次元
粗さ形状が得られた。ついで、この被測定表面を洗滌し
たのち、塩化第１スズ、塩化パラジウム溶液で処理し、
ついで下記組成の無電解ニッケルメッキ浴に浸漬して、
被測定表面上に厚さ約１００ｎｍのニッケル薄膜を形成
した。メッキ浴の温度は５０℃、ｐＨは５〜６とした。 硫酸ニッケル ０．１モル／リットル クエン酸ナトリウム ０．１モル／リットル 次亜リン酸ナトリウム ０．１モル／リットル このニッケル薄膜の表面粗さを同様にして測定したとこ
ろ、図３に示すような三次元粗さ形状が得られた。図２
および図３の結果から、被測定表面にニッケルメッキ薄
膜を形成しても、該ニッケルメッキ薄膜の表面は被測定
表面の凹凸状態を正しく写していることがわかり、ニッ
ケルメッキ薄膜の表面粗さを測定することで、被測定表
面の表面粗さを正しく測定できることがわかる。
薬面を被測定表面とし、（株）東京精密製非接触平面度
・粗さ・形状測定機「Ｌ−ＦＴ−１０Ｂ」を使用してそ
の表面粗さを測定したところ、図２に示すような三次元
粗さ形状が得られた。ついで、この被測定表面を洗滌し
たのち、塩化第１スズ、塩化パラジウム溶液で処理し、
ついで下記組成の無電解ニッケルメッキ浴に浸漬して、
被測定表面上に厚さ約１００ｎｍのニッケル薄膜を形成
した。メッキ浴の温度は５０℃、ｐＨは５〜６とした。 硫酸ニッケル ０．１モル／リットル クエン酸ナトリウム ０．１モル／リットル 次亜リン酸ナトリウム ０．１モル／リットル このニッケル薄膜の表面粗さを同様にして測定したとこ
ろ、図３に示すような三次元粗さ形状が得られた。図２
および図３の結果から、被測定表面にニッケルメッキ薄
膜を形成しても、該ニッケルメッキ薄膜の表面は被測定
表面の凹凸状態を正しく写していることがわかり、ニッ
ケルメッキ薄膜の表面粗さを測定することで、被測定表
面の表面粗さを正しく測定できることがわかる。
【００１４】（実施例１）液晶表示装置用透明ガラス基
板の表面を酸水溶液で洗滌したのち、実施例１と同様に
して無電解ニッケルメッキ薄膜（厚さ約１００ｎｍ）を
形成した。このニッケルメッキ薄膜表面に対して、
（株）レイテックス社製魔鏡「ＹＩＳ−ＳＰ」にて評価
したところ、図４に示す表面状態を測定することができ
た。
板の表面を酸水溶液で洗滌したのち、実施例１と同様に
して無電解ニッケルメッキ薄膜（厚さ約１００ｎｍ）を
形成した。このニッケルメッキ薄膜表面に対して、
（株）レイテックス社製魔鏡「ＹＩＳ−ＳＰ」にて評価
したところ、図４に示す表面状態を測定することができ
た。
【００１５】（実施例２）厚さ０．１ｍｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（無色，透明）に対して、市
販の無電解ニッケルメッキ液（奥野製薬社製「トップケ
ミアロイＢ−１」）を使用して厚さ１００ｎｍのニッケ
ルメッキ薄膜をその表面に形成した。このニッケルメッ
キ薄膜を測定面として、実施例１と同様にして図５に示
すような三次元粗さ形状を得た。
ンテレフタレートフィルム（無色，透明）に対して、市
販の無電解ニッケルメッキ液（奥野製薬社製「トップケ
ミアロイＢ−１」）を使用して厚さ１００ｎｍのニッケ
ルメッキ薄膜をその表面に形成した。このニッケルメッ
キ薄膜を測定面として、実施例１と同様にして図５に示
すような三次元粗さ形状を得た。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の表面粗
さ測定法によれば、透明体の被測定表面以外の裏面の影
響などを受けることがなく、被測定表面の真の表面粗さ
を外乱を受けることなく正確に測定することができる。
さ測定法によれば、透明体の被測定表面以外の裏面の影
響などを受けることがなく、被測定表面の真の表面粗さ
を外乱を受けることなく正確に測定することができる。
【図１】この発明の測定法の原理を示す構成図である。
【図２】試験例の結果を示すグラフである。
【図３】試験例の結果を示すグラフである。
【図４】実施例の結果を示す図である。
【図５】実施例の結果を示すグラフである。
【図６】従来の測定法を示す構成図である。
１１ 被測定物 １１ａ 被測定表面 １２ 無電解メッキ膜
Claims (2)
- 【請求項１】 透明体の表面の粗さを光学的測定法によ
って測定する際、予め被測定表面に無電解メッキ膜を形
成しておくことを特徴とする透明体の表面粗さ測定法。 - 【請求項２】 無電解メッキ膜の厚さが１００ｎｍ以下
であることを特徴とする請求項１記載の透明体の表面粗
さ測定法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7476093A JPH06288746A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 透明体の表面粗さ測定法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7476093A JPH06288746A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 透明体の表面粗さ測定法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06288746A true JPH06288746A (ja) | 1994-10-18 |
Family
ID=13556562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7476093A Withdrawn JPH06288746A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | 透明体の表面粗さ測定法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06288746A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006026775A1 (de) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Stiftung Für Lasertechnologien In Der Medizin Und Messtechnik An Der Universität Ulm | Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung bewegter Oberflächen |
| TWI633203B (zh) * | 2016-07-29 | 2018-08-21 | 羅門哈斯電子材料有限公司 | 用於在不導電基板之表面上鍍敷的方法 |
| CN109211128A (zh) * | 2017-07-03 | 2019-01-15 | 东丽先端材料研究开发（中国）有限公司 | 一种薄膜下垂程度在线测试及电池隔膜 |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP7476093A patent/JPH06288746A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006026775A1 (de) * | 2006-06-07 | 2007-12-13 | Stiftung Für Lasertechnologien In Der Medizin Und Messtechnik An Der Universität Ulm | Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung bewegter Oberflächen |
| DE102006026775B4 (de) * | 2006-06-07 | 2008-04-30 | Stiftung Für Lasertechnologien In Der Medizin Und Messtechnik An Der Universität Ulm | Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung bewegter Oberflächen |
| TWI633203B (zh) * | 2016-07-29 | 2018-08-21 | 羅門哈斯電子材料有限公司 | 用於在不導電基板之表面上鍍敷的方法 |
| CN109211128A (zh) * | 2017-07-03 | 2019-01-15 | 东丽先端材料研究开发（中国）有限公司 | 一种薄膜下垂程度在线测试及电池隔膜 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000704 |