JPH06285584A - Manufacture of lost wax mold - Google Patents
Manufacture of lost wax moldInfo
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- JPH06285584A JPH06285584A JP10348193A JP10348193A JPH06285584A JP H06285584 A JPH06285584 A JP H06285584A JP 10348193 A JP10348193 A JP 10348193A JP 10348193 A JP10348193 A JP 10348193A JP H06285584 A JPH06285584 A JP H06285584A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、スラリーを劣化させ
ることなく欠陥のないロストワックス鋳型を作製する方
法に関するものである。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a method for making defect-free lost wax molds without degrading the slurry.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、ロストワックス鋳型を作製する
には、通常のワックスパターンを石膏やリン酸塩のスラ
リー中に浸漬したのち引き上げ、乾燥させることにより
ワックスパターンの周囲に石膏やりん酸塩のコーティン
グ層を形成し、このコーティング層を乾燥して固化し、
さらにワックスパターンを加熱溶融し排出することによ
り製造することは良く知られているところである。2. Description of the Related Art Generally, in order to produce a lost wax mold, a usual wax pattern is immersed in a slurry of gypsum or phosphate, and then pulled up and dried to form a gypsum or phosphate salt around the wax pattern. Forming a coating layer, drying and solidifying the coating layer,
Further, it is well known that the wax pattern is produced by heating, melting and discharging.
【０００３】上記ワックスパターンを石膏やリン酸塩の
スラリー中に浸漬する際にワックスパターンが気泡を巻
き込んで気泡がパターン表面に付着し、またはスラリー
中に存在する気泡がパターン表面に付着したりなどして
鋳型に欠陥を生じせしめることがある。When the above wax pattern is immersed in a slurry of gypsum or phosphate, the wax pattern entrains bubbles and the bubbles adhere to the pattern surface, or the bubbles present in the slurry adhere to the pattern surface. As a result, it may cause defects in the mold.
【０００４】これを防止するために、ワックスパターン
を減圧または真空雰囲気下においてスラリーに浸漬する
方法が提案されている（特開昭６２−２１４８４９号公
報参照）。In order to prevent this, a method of immersing the wax pattern in the slurry under a reduced pressure or a vacuum atmosphere has been proposed (see Japanese Patent Laid-Open No. 62-214849).
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、スラリーを減
圧または真空雰囲気中に置くと、スラリー中の水分が蒸
発して最適組成のバランスがくずれ、スラリー自身が一
部ゲル化してスラリーが劣化するという問題点があっ
た。この問題点を解決するために、スラリーに水を補給
することも考えられるが、補給する水量を正確に把握す
ることは難しく、かえって最適組成のバランスがくずれ
やすい。However, when the slurry is placed in a reduced pressure or vacuum atmosphere, the water content in the slurry evaporates and the optimum composition is out of balance, and the slurry itself partially gelates and the slurry deteriorates. There was a problem. In order to solve this problem, it is conceivable to replenish the slurry with water, but it is difficult to accurately grasp the amount of water to be replenished, and the balance of the optimum composition is likely to be lost.
【０００６】また、補給した水がスラリー中によく混合
されるまでに時間がかかり、さらに一旦水分量が低下す
るとゲル化してしまうので極めて短い周期で水を補給し
なければならず、作業性が極めて悪くなる。Further, it takes time for the replenished water to be well mixed in the slurry, and once the amount of water decreases, gelation occurs. Therefore, it is necessary to replenish the water in an extremely short cycle, and workability is improved. It gets extremely bad.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は、
減圧または真空雰囲気中でワックスパターンをスラリー
に浸漬する操作を行ってもスラリーの劣化を防止し、作
業性に悪影響を与えることのない方法を開発すべく研究
を行った結果、（１） 減圧または真空雰囲気中の水蒸
気分圧は温度に依存することを利用して別系統より水分
を蒸気で補給するとよい、（２） このための具体的手
段として、減圧または真空雰囲気内に補水タンクを設置
し、この補水タンクにスラリー温度より０．５〜２０℃
高い温度の水を充填し放置しておくと、減圧または真空
雰囲気中の水蒸気分圧を一定に保つことができ、スラリ
ーの水分の蒸発を防止してスラリーが劣化することがな
い、（３） この場合、補水タンクに充填されている水
温とスラリーの温度差が０℃ではスラリーの水分の蒸発
は防止することができず、一方、補水タンクの水温がス
ラリー温度よりも２０℃を越えて高くなると、減圧また
は真空雰囲気中の水蒸気圧とスラリーの水蒸気圧の差が
４４Torrを越え、スラリーの水分が増加して最適組成の
バランスがくずれ、さらに減圧または真空によるスラリ
ー内の脱泡効果も低下して好ましくない、などの知見を
得たのである。Therefore, the present inventors have
As a result of research to develop a method that prevents deterioration of the slurry even if the wax pattern is immersed in the slurry in a reduced pressure or vacuum atmosphere and does not adversely affect workability, (1) reduced pressure or Taking advantage of the fact that the partial pressure of water vapor in a vacuum atmosphere depends on the temperature, it is advisable to replenish water with steam from another system. (2) As a concrete means for this, a rehydration tank is installed in a reduced pressure or vacuum atmosphere. , 0.5 to 20 ° C from the slurry temperature in this rehydration tank
If high temperature water is filled and left to stand, the partial pressure of water vapor in the reduced pressure or vacuum atmosphere can be kept constant, evaporation of water in the slurry is prevented, and the slurry is not deteriorated. (3) In this case, when the temperature difference between the temperature of the water filled in the replenishment tank and the temperature of the slurry is 0 ° C, evaporation of water in the slurry cannot be prevented. Then, the difference between the water vapor pressure in the reduced pressure or vacuum atmosphere and the water vapor pressure of the slurry exceeds 44 Torr, the water content of the slurry increases, and the optimum composition is out of balance, and the defoaming effect in the slurry by the pressure reduction or vacuum also decreases. That is, it is not preferable.
【０００８】この発明は、かかる知見にもとづいてなさ
れたものであって、減圧または真空雰囲気中でワックス
パターンをスラリー内に浸漬し、引き上げてワックスパ
ターンの周囲にスラリーのコーティング層を形成し、こ
のコーティング層を乾燥固化したのちワックスパターン
を加熱溶融排出させることによりロストワックス鋳型を
作製する方法において、上記減圧または真空雰囲気の水
蒸気圧をスラリーの水蒸気圧よりも１〜４４Torr高くな
るように保持するか、またはスラリー温度よりも０．５
〜２０℃高い温度に保持された水を補水タンクに入れて
上記減圧または真空雰囲気中に設置するロストワックス
鋳型の作製方法に特徴を有するものである。The present invention has been made on the basis of such findings, and a wax pattern is immersed in a slurry in a reduced pressure or vacuum atmosphere and then pulled up to form a slurry coating layer around the wax pattern. In the method for producing a lost wax mold by heating and melting and discharging the wax pattern after the coating layer is dried and solidified, is the vapor pressure of the reduced pressure or the vacuum atmosphere kept at 1 to 44 Torr higher than the vapor pressure of the slurry? , Or 0.5 above the slurry temperature
It is characterized by a method for producing a lost wax mold in which water held at a temperature higher by -20 ° C is put in a replenishing water tank and placed in the above reduced pressure or vacuum atmosphere.
【０００９】このロストワックス鋳型の作製方法を図面
にもとづいてさらに詳細に説明する。The method for producing the lost wax mold will be described in more detail with reference to the drawings.
【００１０】図１は、ロストワックス鋳型の作製工程の
説明図であり、１は脱泡コーティング装置、２はスラリ
ー、３はロストワックスパターン、４は吊り棒、５は補
水タンク、６はコーティング層、７は気泡である。FIG. 1 is an explanatory view of a lost wax mold making process. 1 is a defoaming coating device, 2 is a slurry, 3 is a lost wax pattern, 4 is a hanging rod, 5 is a rehydration tank, and 6 is a coating layer. , 7 are bubbles.
【００１１】図１（ａ）に示されるように、スラリー２
を脱泡コーティング装置１に入れ、ワックスパターン３
を吊り棒４にセットする。ついで図１（ｂ）に示される
ように、脱泡コーティング装置１に水８の入った補水タ
ンク５を取付け、脱泡コーティング装置内を真空ポンプ
（図示せず）により減圧するとスラリー２中の気泡７は
消える。補水タンク５は、図２に示されるように、高抵
抗加熱線９により水８を所定の温度に保持することがで
きるようになっている。As shown in FIG. 1A, the slurry 2
Into the defoaming coating apparatus 1 and apply the wax pattern 3
Is set on the hanging rod 4. Then, as shown in FIG. 1 (b), the defoaming coating apparatus 1 is equipped with a replenishing water tank 5 containing water 8 and the inside of the defoaming coating apparatus is decompressed by a vacuum pump (not shown) to form bubbles in the slurry 2. 7 disappears. As shown in FIG. 2, the refill water tank 5 can hold the water 8 at a predetermined temperature by a high resistance heating wire 9.
【００１２】脱泡コーティング装置１内を減圧に保持し
たのち、図１（ｃ）に示されるように、ワックスパター
ン３をスラリー２の中に浸漬し、次いで、図１（ｄ）に
示されるように、ワックスパターン３をスラリー２から
引き上げると、ワックスパターン３の周囲にスラリー２
のコーティング層６が形成され、このコーティング層を
乾燥固化したのちワックスパターン３を加熱溶融除去し
てロストワックス鋳型を作製する。After keeping the inside of the defoaming coating apparatus 1 at a reduced pressure, the wax pattern 3 is dipped in the slurry 2 as shown in FIG. 1 (c), and then as shown in FIG. 1 (d). Then, when the wax pattern 3 is pulled up from the slurry 2, the slurry 2 is formed around the wax pattern 3.
The coating layer 6 is formed. After the coating layer is dried and solidified, the wax pattern 3 is melted by heating to remove the wax pattern.
【００１３】[0013]
【実施例】この発明を実施例に基づいてさらに具体的に
説明する。EXAMPLES The present invention will be described more specifically based on examples.
【００１４】２００メッシュのジルコンフラワーを７０
重量％、ＳｉＯ2 ：３０％含有のコロイダルシリカを３
０重量％となるよう配合し、２４時間撹拌してスラリー
を作製した。このスラリーを室温（２３℃）に保ち、粘
度を測定したところ、ザーンカップ＃５で約３０秒であ
った。70 parts of 200 mesh zircon flour
3% by weight of colloidal silica containing 30% by weight of SiO 2.
It was mixed so as to be 0% by weight and stirred for 24 hours to prepare a slurry. When this slurry was kept at room temperature (23 ° C.) and the viscosity was measured, it was about 30 seconds in Zahn cup # 5.
【００１５】このスラリーを脱泡コーティング装置に充
填し、補水タンク内の水を表１に示される温度に保持し
たのち、脱泡コーティング装置内の雰囲気を２２〜６５
mmＨｇの範囲内の所定の圧力に減圧し、この減圧下でワ
ックスパターンを上記スラリー中に浸漬し、次いでワッ
クスパターンをスラリーから引き上げるコーティング試
験を連続１００回繰返し行ない、１００回目のコーティ
ング試験後のスラリーの粘性をザーンカップ＃４にて測
定し、さらに遠心分離器を用いて液体と固体に分離する
ことによってスラリー中のシリカ濃度を測定し、さら
に、１００回目のコーティング試験により作製したロス
トワックス鋳型の鋳型内面の欠陥の有無を観察すると共
にスラリーの外観も観察し、それらの結果を表１に示し
た。This slurry was filled in a defoaming coating apparatus, the water in the rehydration tank was maintained at the temperature shown in Table 1, and then the atmosphere in the defoaming coating apparatus was adjusted to 22 to 65.
The coating test was performed by continuously reducing the coating pressure by reducing the pressure to a predetermined pressure within the range of mmHg, immersing the wax pattern in the slurry under the reduced pressure, and then pulling up the wax pattern from the slurry 100 times continuously, and after the 100th coating test. Of the lost wax mold produced by the 100th coating test was measured by measuring the viscosity of the slurry using a Zahn cup # 4 and further separating the liquid and solid using a centrifuge. The appearance of the slurry was observed while observing the presence or absence of defects on the inner surface of the mold, and the results are shown in Table 1.
【００１６】[0016]
【表１】 [Table 1]
【００１７】表１に示される結果から、補水タンクの水
温とスラリーの温度差が０．５〜２０℃、すなわち減圧
雰囲気の水蒸気圧とスラリーの水蒸気圧の差が１〜４４
Torrの範囲内にある本発明法１〜７は、１００回コーテ
ィング試験を行ってもスラリーのゲル化は見られない
が、減圧雰囲気中に補水タンクを置かない従来法ではス
ラリーのゲル化が激しく、１００回のコーティング試験
でスラリーが使用不能になることがわかる。From the results shown in Table 1, the difference between the water temperature in the replenishment tank and the temperature of the slurry is 0.5 to 20 ° C., that is, the difference between the water vapor pressure in the reduced pressure atmosphere and the water vapor pressure of the slurry is 1 to 44.
In the methods 1 to 7 of the present invention within the range of Torr, the gelation of the slurry was not observed even after performing the coating test 100 times, but the gelation of the slurry was severe in the conventional method in which the rehydration tank was not placed in the reduced pressure atmosphere. It can be seen that the slurry becomes unusable after 100 coating tests.
【００１８】しかし、比較例１に見られるように、減圧
雰囲気中に補水タンクを置いても、補水タンクの水温が
スラリーの温度よりも高くないとスラリーはゲル化し、
一方、比較例２に見られるように補水タンクの水温がス
ラリー温度よりも２０℃を越えて高いと（すなわち、水
蒸気圧の差が４４Torrを越えて高いと）、スラリーのゲ
ル化は防止されるがロストワックス鋳型内面に欠陥が生
じるので好ましくないことがわかる。However, as seen in Comparative Example 1, even if the replenishment tank is placed in a depressurized atmosphere, if the water temperature in the replenishment tank is not higher than the temperature of the slurry, the slurry will gel.
On the other hand, as seen in Comparative Example 2, when the water temperature in the replenishment tank is higher than the slurry temperature by more than 20 ° C. (that is, when the difference in water vapor pressure is higher than 44 Torr), gelation of the slurry is prevented. It is found that is not preferable because defects occur on the inner surface of the lost wax mold.
【００１９】[0019]
【発明の効果】上述のように、この発明によると、長期
間使用してもスラリーの劣化を防止することができ、従
来よりも作業性、コストの面で大幅に改善されるなど優
れた効果を奏するものである。As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the deterioration of the slurry even if it is used for a long period of time, and it is possible to improve the workability and cost more than ever before, which is an excellent effect. Is played.
【図１】この発明のロストワックス鋳型の作製方法の説
明図である。FIG. 1 is an explanatory view of a method for producing a lost wax mold of the present invention.
【図２】補水タンクの断面説明図である。FIG. 2 is a cross-sectional explanatory view of a refill water tank.
１ 脱泡コーティング装置 ２ スラリー ３ ロストワックスパターン ４ 吊り棒 ５ 補水タンク ６ コーティング層 ７ 気泡 ８ 水 ９ 高抵抗加熱線 1 Defoaming coating device 2 Slurry 3 Lost wax pattern 4 Hanging rod 5 Water replenishment tank 6 Coating layer 7 Bubbles 8 Water 9 High resistance heating wire
Claims (4)
ーンをスラリー内に浸漬し、引き上げてワックスパター
ンの周囲にスラリーのコーティング層を形成し、このコ
ーティング層を乾燥固化したのちワックスパターンを加
熱溶融排出させることによりロストワックス鋳型を作製
する方法において、 上記減圧または真空雰囲気中の水蒸気圧をスラリーの水
蒸気圧よりも高くなるように保持することを特徴とする
ロストワックス鋳型の作製方法。1. A wax pattern is immersed in a slurry in a reduced pressure or vacuum atmosphere and pulled up to form a coating layer of the slurry around the wax pattern. After the coating layer is dried and solidified, the wax pattern is heated, melted and discharged. A method for producing a lost wax template by holding the water vapor pressure in the above reduced pressure or vacuum atmosphere to be higher than the water vapor pressure of the slurry.
とスラリーの水蒸気圧の差は１〜４４Torrの範囲内にあ
ることを特徴とする請求項１記載のロストワックス鋳型
の作製方法。2. The method for producing a lost wax mold according to claim 1, wherein the difference between the water pressure above the water pressure in the reduced pressure or vacuum atmosphere and the water vapor pressure of the slurry is in the range of 1 to 44 Torr.
ーンをスラリー内に浸漬し、引き上げてワックスパター
ンの周囲にスラリーのコーティング層を形成し、このコ
ーティング層を乾燥固化したのちワックスパターンを加
熱溶融排出させることによりロストワックス鋳型を作製
する方法において、 上記減圧または真空雰囲気中に、補水タンクに水を入れ
て設置し、上記補水タンク内の水温をスラリー温度より
０．５〜２０℃高く保持することを特徴とするロストワ
ックス鋳型の作製方法。3. A wax pattern is immersed in a slurry in a reduced pressure or vacuum atmosphere and pulled up to form a slurry coating layer around the wax pattern. The coating layer is dried and solidified, and then the wax pattern is heated, melted and discharged. In the method for producing a lost wax mold, by placing water in the replenishment water tank in the reduced pressure or vacuum atmosphere and maintaining the water temperature in the replenishment water tank at 0.5 to 20 ° C. higher than the slurry temperature. A method for producing a characteristic lost wax mold.
るようになっていることを特徴とする請求項３記載のロ
ストワックス鋳型の作製方法。4. The method for producing a lost wax mold according to claim 3, wherein the water replenishment tank is adapted to adjust a water temperature.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5103481A JP3028702B2 (en) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | Method of making lost wax mold |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5103481A JP3028702B2 (en) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | Method of making lost wax mold |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06285584A true JPH06285584A (en) | 1994-10-11 |
| JP3028702B2 JP3028702B2 (en) | 2000-04-04 |
Family
ID=14355206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5103481A Expired - Fee Related JP3028702B2 (en) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | Method of making lost wax mold |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3028702B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7204296B2 (en) | 2004-07-26 | 2007-04-17 | Metal Casting Technology, Incorporated | Method of removing a fugitive pattern from a mold |
| WO2011032326A1 (en) * | 2009-09-15 | 2011-03-24 | Tsai Yuchi | Method and apparatus for removing wax pattern from ceramic shell |
| JP2016036835A (en) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | 三菱重工業株式会社 | Disperse system agitation apparatus, cast molding system, and viscosity management information acquisition method and program |
-
1993
- 1993-04-06 JP JP5103481A patent/JP3028702B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7204296B2 (en) | 2004-07-26 | 2007-04-17 | Metal Casting Technology, Incorporated | Method of removing a fugitive pattern from a mold |
| WO2011032326A1 (en) * | 2009-09-15 | 2011-03-24 | Tsai Yuchi | Method and apparatus for removing wax pattern from ceramic shell |
| JP2016036835A (en) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | 三菱重工業株式会社 | Disperse system agitation apparatus, cast molding system, and viscosity management information acquisition method and program |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3028702B2 (en) | 2000-04-04 |
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