JPH06280017A - Device for forming film of long work - Google Patents
Device for forming film of long workInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば金属の長尺薄板
材に例えばスパッタリングにより薄膜を形成するための
長尺ワークスパッタリング装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a long work sputtering apparatus for forming a thin film on a long thin metal plate material, for example, by sputtering.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図５は、従来の長尺ワークスパッタリン
グ装置を横から見た状態を示し、長尺ワークをその薄膜
形成面がカソ−ドのタ−ゲット面と並行になる姿勢で搬
送しながらスパッタリングにより金属薄膜を形成するも
のである。ロード室８１の巻出装置８２から巻出された
長尺ワークＷは第１のスパッタ室８３Ａに搬送される。2. Description of the Related Art FIG. 5 shows a conventional long work sputtering apparatus viewed from the side, in which a long work is conveyed with its thin film forming surface parallel to the target surface of the cathode. Meanwhile, the metal thin film is formed by sputtering. The long work W unwound from the unwinding device 82 in the load chamber 81 is transported to the first sputtering chamber 83A.
【０００３】このスパッタ室８３Ａでは、ヒータ８４Ａ
により長尺ワークＷが加熱され、マグネトロンカソード
８５Ａにより、カソ−ド上方に位置された長尺ワークＷ
の薄膜形成面に第１の金属薄膜が形成される。次に、長
尺ワークＷは第２のスパッタ室８３Ｂに搬送される。こ
のスパッタ室８３Ｂでは、ヒータ８４Ｂにより長尺ワー
クＷが加熱され、マグネトロンカソード８５Ｂにより、
カソ−ド上方に位置された長尺ワークＷは、アンロード
室８６に搬送され、巻出装置８７に巻取られる。なお、
図５において、８８は中間ロールであって、長尺ワーク
Ｗの裏面側に接触する状態で設けられている。８９は真
空排気装置、９０はガス導入装置である。In the sputtering chamber 83A, the heater 84A
The long work W is heated by the magnetron cathode 85A and is positioned above the cathode by the magnetron cathode 85A.
The first metal thin film is formed on the thin film formation surface of. Next, the long work W is conveyed to the second sputtering chamber 83B. In this sputtering chamber 83B, the long work W is heated by the heater 84B, and by the magnetron cathode 85B.
The long work W positioned above the cathedral is conveyed to the unload chamber 86 and wound up by the unwinding device 87. In addition,
In FIG. 5, reference numeral 88 denotes an intermediate roll, which is provided in contact with the back surface side of the long work W. Reference numeral 89 is a vacuum exhaust device, and 90 is a gas introduction device.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】図５に示した従来の長
尺ワークスパッタリング装置では、長尺ワークＷをその
薄膜形成面がカソ−ドのタ−ゲット面と並行になる姿勢
で搬送する方式であるため、長尺ワークＷには自重によ
る撓みが必然的に生ずる。従って、スパッタ室８３Ａ、
８３Ｂにおける長尺ワークＷの撓みを極力少なくするた
めに多数の中間ロール８８を長尺ワークＷの撓み曲線に
沿って配置することが必要となり、また、ヒータ８４
Ａ、８４Ｂやマグネトロンカソード８５Ａ、８５Ｂ等の
各装置を長尺ワークＷの撓み曲線に沿って配置すること
が必要とされる。In the conventional long work sputtering apparatus shown in FIG. 5, a long work W is conveyed in a posture in which its thin film forming surface is parallel to the target surface of the cathode. Therefore, the long work W is necessarily bent due to its own weight. Therefore, the sputtering chamber 83A,
In order to reduce the bending of the long work W in 83B as much as possible, it is necessary to arrange a large number of intermediate rolls 88 along the bending curve of the long work W, and the heater 84.
It is necessary to arrange each device such as A, 84B and magnetron cathodes 85A, 85B along the bending curve of the long work W.
【０００５】例えば第１のスパッタ室８３Ａでは１／２
０の勾配で下降するように各装置を配設し、第２のスパ
ッタ室８３Ｂでは１／２０の勾配で上昇するように各装
置を配設している。このように長尺ワークに必然的に生
ずる撓みに応じて各装置を配置しなければならず、ま
た、多数の中間ロール８８を必要としていたため装置の
構成が複雑となっていた。また、長尺ワークＷの薄膜形
成面とは反対の裏面側には多数の中間ロール８８が接触
しているため、長尺ワークＷの両面に金属薄膜を形成す
ることはできなかった。For example, in the first sputtering chamber 83A, 1/2
Each device is arranged so as to descend at a gradient of 0, and each device is arranged so as to rise at a gradient of 1/20 in the second sputtering chamber 83B. As described above, each device must be arranged in accordance with the bending that is inevitably generated in the long work, and a large number of intermediate rolls 88 are required, which complicates the structure of the device. Further, since a large number of intermediate rolls 88 are in contact with the back surface side of the long work W opposite to the thin film forming surface, the metal thin film cannot be formed on both surfaces of the long work W.
【０００６】本発明は、以上のような事情に基づいてな
されたものであって、その目的は、簡単な構成により長
尺ワークの撓みを防止して安全な搬送ができ、かつ、長
尺ワークの両面にも薄膜を形成することができる長尺ワ
ーク成膜装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to prevent bending of a long work piece by a simple structure so that the long work piece can be conveyed safely and can be safely conveyed. An object of the present invention is to provide a long work film forming apparatus capable of forming a thin film on both surfaces.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の長尺ワーク成膜
装置は、長尺ワークの巻出室と、この巻出室から巻出さ
れた長尺ワークに薄膜を形成するための成膜室と、この
成膜室からの長尺ワークを巻取る巻取室とを備えてなる
長尺ワーク成膜装置において、巻出室から長尺ワークを
その薄膜形成面が垂直となる姿勢で巻取室に搬送すると
ともに、巻出室と巻取室との間に長尺ワークのエッジ部
を案内する１対のガイドローラからなるガイドローラ装
置を設けたことを特徴とする。A long work film forming apparatus according to the present invention is a film forming apparatus for forming a thin film on a long work unwinding chamber and a long work unwound from the unwinding chamber. In a long work film forming apparatus comprising a chamber and a winding chamber for winding a long work from the film forming chamber, a long work is wound from an unwinding chamber in a posture in which a thin film forming surface is vertical. A guide roller device including a pair of guide rollers for guiding the edge portion of the long work is provided between the unwinding chamber and the winding chamber while being conveyed to the taking chamber.
【０００８】また、巻出室が巻取室を兼用する巻出／巻
取室であり、巻取室が巻出室を兼用する巻取／巻出室で
あって、巻出／巻取室と巻取／巻出室との間で長尺ワー
クを両方向に搬送することにより多層薄膜の形成を可能
とし、巻出／巻取室と巻取／巻出室との間に長尺ワーク
のエッジ部を案内する１対のガイドローラからなるガイ
ドローラ装置を少なくとも２組設け、このガイドローラ
装置におけるローラ間隔を外部から調整可能としたこと
を特徴とする。Further, the unwinding chamber is a winding / unwinding chamber that also serves as the winding chamber, and the unwinding chamber is a winding / unwinding chamber that also serves as the unwinding chamber. By transporting a long work in both directions between the winding and unwinding chamber, it is possible to form a multi-layer thin film, and between the unwinding / winding chamber and the winding / unwinding chamber At least two sets of guide roller devices each consisting of a pair of guide rollers for guiding the edge portion are provided, and the roller spacing in the guide roller devices can be adjusted from the outside.
【０００９】[0009]
【作用】薄膜形成面が垂直となる姿勢で巻出された長尺
ワークは、その上部及び下部のエッジ部がそれぞれガイ
ドローラ装置のローラ間に挟まれた状態で案内されなが
ら搬送される。従って、水平となる姿勢で搬送する場合
に生ずる長尺ワークの撓みが生ぜず、撓みを防止するた
めの中間ローラも不要となる。また、長尺ワークの裏面
に接触する中間ローラが不要となることから、長尺ワー
クの両面にも薄膜を形成することが可能となる。The long workpiece unwound with the thin film forming surface vertical is conveyed while being guided with the upper and lower edge portions thereof being sandwiched between the rollers of the guide roller device. Therefore, the long work is not bent when it is conveyed in a horizontal posture, and the intermediate roller for preventing the bending is unnecessary. Further, since the intermediate roller that comes into contact with the back surface of the long work is unnecessary, it is possible to form a thin film on both surfaces of the long work.
【００１０】また、巻出室が巻取室を兼用し、巻取室が
巻出室を兼用することによって長尺ワークを両方向に搬
送することにより多層薄膜の形成が可能となる。また、
ガイドローラ装置におけるローラ間隔が外部から調整可
能であれば、巻出側においては長尺ワークの幅よりも若
干広めに間隔を調整しておくことにより長尺ワークに無
理に変形を与えることがなく巻出すことができ、巻取側
においては長尺ワークの幅と同程度に調整しておくこと
により長尺ワークの端部をきれいに揃えて巻取ることが
可能となる。Further, the unwinding chamber also serves as the winding chamber, and the unwinding chamber also serves as the unwinding chamber, so that a long work piece can be transported in both directions to form a multilayer thin film. Also,
If the roller spacing in the guide roller device can be adjusted from the outside, the spacing can be adjusted slightly wider than the width of the long work on the unwinding side so that the long work is not deformed by force. It can be unwound, and on the winding side, by adjusting the width to the same extent as the width of the long work, the end of the long work can be neatly aligned and wound.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
１は、本発明の実施例に係る長尺ワークスパッタリング
装置を示す。この図１は、装置を上から見た状態を示
し、長尺ワークは薄膜形成面が垂直となる姿勢で巻出／
巻取室１から巻取／巻出室２まで搬送される。巻出／巻
取室ｌには巻出／巻取装置１１が配置されている。この
巻出／巻取装置１１は、巻出しと巻取りの両方の機能を
兼用し、巻出しの際には送り方向とは逆方向に巻取りの
際には送り方向にテンションをかける機能を有してい
る。この巻出／巻取装置１１の出口部には、可動ガイド
ローラ装置３Ａが配置され、巻出／巻取装置１１から巻
出された長尺ワークＷのエッジ部を案内している。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below. FIG. 1 shows a long work sputtering apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a state of the apparatus viewed from above, in which a long work is unwound in a posture in which a thin film forming surface is vertical.
It is conveyed from the winding chamber 1 to the winding / unwinding chamber 2. An unwinding / winding device 11 is arranged in the unwinding / winding chamber 1. The unwinding / winding device 11 has both functions of unwinding and winding, and has a function of applying tension in the feeding direction in the direction opposite to the feeding direction in the unwinding. Have A movable guide roller device 3A is arranged at the exit of the unwinding / winding device 11 to guide the edge portion of the long work W unwound from the unwinding / winding device 11.
【００１２】この可動ガイドローラ装置３Ａには、図２
及び図３に示すように、上部ガイドローラ３１及び下部
ガイドローラ３２からなる１対のガイドローラが設けら
れ、これらのガイドローラ３１、３２を保持するととも
にそのローラ間隔を外部から調整できる駆動軸３３が設
けられている。この駆動軸３３の上部には右ネジ部３４
が設けられ、この右ネジ部３４に上部ガイドローラ３１
の軸が軸支されている。駆動軸３３の下部には左ネジ部
３５が設けられ、この左ネジ部３５に下部ガイドローラ
３２の軸が軸支されている。The movable guide roller device 3A has a structure shown in FIG.
Further, as shown in FIG. 3, a pair of guide rollers including an upper guide roller 31 and a lower guide roller 32 are provided, and the drive shaft 33 can hold these guide rollers 31 and 32 and adjust the roller interval from the outside. Is provided. On the upper part of the drive shaft 33, a right screw part 34
Is provided on the right-hand thread portion 34 of the upper guide roller 31.
The axis of is supported. A left screw portion 35 is provided below the drive shaft 33, and the shaft of the lower guide roller 32 is pivotally supported by the left screw portion 35.
【００１３】上部ガイドローラ３１及び下部ガイドロー
ラ３２の軸にはそれぞれ直動ガイド３６、３７が設けら
れ、この直動ガイド３６、３７がガイド棒３８に沿って
摺動可能となっている。３９はカップリングである。な
お、駆動軸３３の調整は真空状態を保持したまま外部か
ら行うことができるようになっている。駆動軸３３を右
に回転すると上部ガイドローラ３１は下方に下部ガイド
ローラ３２は上方に移動するのでローラ間隔が狭くな
る。駆動軸３３を左に回転すると上部ガイドローラ３１
及び下部ガイドローラ３２は上記とは逆方向に移動する
のでローラ間隔が広くなる。Linear guides 36 and 37 are provided on the shafts of the upper guide roller 31 and the lower guide roller 32, respectively, and the linear guides 36 and 37 are slidable along a guide rod 38. 39 is a coupling. The drive shaft 33 can be adjusted from the outside while maintaining the vacuum state. When the drive shaft 33 is rotated to the right, the upper guide roller 31 moves downward and the lower guide roller 32 moves upward, so that the roller interval becomes narrow. When the drive shaft 33 is rotated counterclockwise, the upper guide roller 31
Since the lower guide roller 32 and the lower guide roller 32 move in the opposite direction to the above, the roller spacing becomes wide.
【００１４】可動ガイドローラ装置３Ａにおけるローラ
間隔は、巻出／巻取装置１１が長尺ワークＷを巻出す際
には、駆動軸３３により長尺ワークＷの幅よりも若干広
めに設定し、巻出／巻取装置１１が長尺ワークＷを巻取
る際には、駆動軸３３により長尺ワークＷの幅とほぼ同
程度に設定しておく。The roller spacing in the movable guide roller device 3A is set to be slightly wider than the width of the long work W by the drive shaft 33 when the unwinding / winding device 11 unwinds the long work W. When the unwinding / winding device 11 winds the long work W, the width of the long work W is set to be approximately the same as that of the long work W by the drive shaft 33.
【００１５】巻出／巻取室１の次段には第１の成膜室で
あるスパッタ室４Ａが設けられている。このスパッタ室
４Ａの前段及び後段にはそれぞれヒータ４１とマグネト
ロンカソード４２が設けられ、順次に長尺ワークＷの両
面に薄膜を形成できるようになっている。この第１のス
パッタ室４Ａには、真空排気装置４３及びガス導入装置
４４が設けられている。そして、前段と後段の間には、
固定ガイドローラ装置５Ａが設けられている。A sputter chamber 4A, which is a first film forming chamber, is provided next to the unwinding / winding chamber 1. A heater 41 and a magnetron cathode 42 are provided in front of and behind the sputtering chamber 4A, respectively, so that thin films can be sequentially formed on both surfaces of the long work W. A vacuum exhaust device 43 and a gas introduction device 44 are provided in the first sputtering chamber 4A. And between the front and the back,
A fixed guide roller device 5A is provided.
【００１６】この固定ガイドローラ装置５Ａは、図４に
示すように、固定軸５１の上部及び下部にそれぞれ上部
ガイドローラ５２及び下部ガイドローラ５３が軸支され
ている。この上部ガイドローラ５２と下部ガイドローラ
５３との間のローラ間隔は、長尺ワークＷの幅とほぼ同
程度に固定されており、これらのローラ間に長尺ワーク
Ｗが挟まれて案内される。固定軸５１の下部にはコイル
バネ５４が設けられ、長尺ワークＷの自重による下方へ
の若干の移動を吸収するようにしている。In this fixed guide roller device 5A, as shown in FIG. 4, an upper guide roller 52 and a lower guide roller 53 are axially supported on the upper and lower parts of a fixed shaft 51, respectively. The roller distance between the upper guide roller 52 and the lower guide roller 53 is fixed to be approximately the same as the width of the long work W, and the long work W is sandwiched and guided between these rollers. . A coil spring 54 is provided below the fixed shaft 51 to absorb a slight downward movement of the long work W due to its own weight.
【００１７】第１のスパッタ室４Ａの次段には第２のス
パッタ室４Ｂが配置されている。この第２のスパッタ室
４Ｂも第１のスパッタ室４と同様の構成であり、前段及
び後段にはそれぞれヒータ４１とマグネトロンカソード
４２が設けられ、順次に長尺ワークＷの両面に薄膜を形
成できるようになっている。また、前段と後段の間に
は、第１のスパッタ室４Ａに配置されたものと同様の固
定ガイドローラ装置５Ｂが配置されている。A second sputtering chamber 4B is arranged next to the first sputtering chamber 4A. The second sputtering chamber 4B also has the same structure as the first sputtering chamber 4, and a heater 41 and a magnetron cathode 42 are provided in the front and rear stages, respectively, so that a thin film can be sequentially formed on both surfaces of the long work W. It is like this. A fixed guide roller device 5B similar to that arranged in the first sputtering chamber 4A is arranged between the front stage and the rear stage.
【００１８】第２のスパッタ室４Ｂの次段には、長尺ワ
ークＷの巻取／巻出室２が配置され、この巻取／巻出室
２には巻取／巻出装置２１が配置されている。この巻取
／巻出装置２１は、巻取りと巻出しの両方の機能を兼用
し、巻取りの際には送り方向に巻出しの際には送り方向
とは逆方向にテンションをかける機能を有している。こ
の巻取／巻出装置２１の入口部には、巻出／巻取装置１
１に配置されたものと同様の可動ガイドローラ装置３Ｂ
が配置され、第２のスパッタ室４Ｂからの長尺ワークＷ
のエッジ部を案内している。可動ガイドローラ装置３Ｂ
におけるローラ間隔は、巻取／巻出装置２１が長尺ワー
クＷを巻取る際には、駆動軸３３により長尺ワークＷの
幅とほぼ同程度に設定し、巻取／巻出装置２１が長尺ワ
ークＷを巻出す際には、駆動軸３３により長尺ワークＷ
の幅よりも若干広めに設定しておく。A winding / unwinding chamber 2 for the long work W is arranged in the next stage of the second sputtering chamber 4B, and a winding / unwinding device 21 is arranged in the winding / unwinding chamber 2. Has been done. The winding / unwinding device 21 has both the functions of winding and unwinding, and has a function of applying tension in the feeding direction during winding and applying tension in the direction opposite to the feeding direction during unwinding. Have At the entrance of the winding / unwinding device 21, the unwinding / winding device 1
Movable guide roller device 3B similar to that arranged in FIG.
Is arranged, and the long workpiece W from the second sputtering chamber 4B
Is guiding the edge of. Movable guide roller device 3B
When the winding / unwinding device 21 winds up the long work W, the roller interval is set to be approximately the same as the width of the long work W by the drive shaft 33. When unwinding the long work W, the long work W is driven by the drive shaft 33.
Set a little wider than the width of.
【００１９】次に、この実施例に係る長尺ワークスパッ
タリング装置の作用を説明する。巻出／巻取室１の巻出
／巻取装置１１から巻出された長尺ワークＷは、その薄
膜形成面が垂直となる姿勢で可動ガイドローラ装置３Ａ
のガイドローラ３１、３２間に挟まれて案内されながら
搬送される。この可動ガイドローラ装置３Ａのローラ間
隔は、駆動軸３３を外部から調整して長尺ワークＷの幅
よりも若干広めに設定しているので、巻出側では長尺ワ
ークＷが可動ガイドローラ装置３Ａによって無理に変形
されることがない。Next, the operation of the long work sputtering apparatus according to this embodiment will be described. The long work W unwound from the unwinding / winding device 11 of the unwinding / winding chamber 1 is movable guide roller device 3A in a posture in which the thin film forming surface is vertical.
It is conveyed while being guided by being sandwiched between the guide rollers 31 and 32. The roller spacing of the movable guide roller device 3A is set to be slightly wider than the width of the long work W by adjusting the drive shaft 33 from the outside, so that the long work W is movable on the unwinding side. It is not forcibly deformed by 3A.
【００２０】巻出／巻取室１から長尺ワークＷは第１の
スパッタ室４Ａにおいて、ガス導入装置４４からガスが
導入され真空排気装置４３によりて排気される状態で、
まず前段のヒータ４１及びマグネトロンカソード４２に
よりその一面側に金属薄膜が形成され、次いで後段のヒ
ータ４１及びマグネトロンカソード４２により長尺ワー
クＷの他面側にも金属薄膜が形成される。前段と後段の
間に配置された固定ガイドローラ装置５Ａにより、第１
のスパッタ室４Ａにおける長尺ワークＷの搬送位置が適
正に保たれ、長尺ワークＷの両面に適正な金属薄膜が形
成される。In the first sputtering chamber 4A, the long work W from the unwinding / winding chamber 1 is introduced with gas from the gas introducing device 44 and exhausted by the vacuum exhaust device 43.
First, a metal thin film is formed on one surface side of the heater 41 and the magnetron cathode 42 in the front stage, and then a metal thin film is formed on the other surface side of the long work W by the heater 41 and the magnetron cathode 42 in the rear stage. By the fixed guide roller device 5A arranged between the front stage and the rear stage,
The transport position of the long work W in the sputtering chamber 4A is properly maintained, and proper metal thin films are formed on both surfaces of the long work W.
【００２１】長尺ワークＷは次いで第２のスパッタ室４
Ｂに搬送され、ガス導入装置４４からガスが導入され真
空排気装置４３により排気される状態で、前段のヒータ
４１及びマグネトロンカソード４２によりその一面側に
重ねて金属薄膜が形成され、後段のヒータ４１及びマグ
ネトロンカソード４２によりその他面側に重ねて金属薄
膜が形成される。この第２のスパッタ室４Ｂにおいても
前段と後段の間に配置された固定ガイドローラ装置５Ｂ
により長尺ワークＷの搬送位置が適正に保たれる。The long work W is then placed in the second sputtering chamber 4
In the state of being conveyed to B, the gas is introduced from the gas introduction device 44 and exhausted by the vacuum evacuation device 43, a metal thin film is formed on the one surface side by the heater 41 and the magnetron cathode 42 in the former stage, and the heater 41 in the latter stage is formed. The metal thin film is formed on the other surface side by the magnetron cathode 42. Also in this second sputtering chamber 4B, a fixed guide roller device 5B arranged between the front stage and the rear stage.
As a result, the transport position of the long work W is properly maintained.
【００２２】また、第１のスパッタ室４Ａ及び第２のス
パッタ室４Ｂにおいては、固定ガイドローラ装置５Ａ及
び５Ｂにより、長尺ワークＷの前後の振動が防止され、
安定に搬送されるようになる。このようにして両面にそ
れぞれ２層金属薄膜が形成された長尺ワークＷは、巻取
／巻出室２の巻取／巻出装置２１に巻取られる。この巻
取／巻出室２における可動ガイドローラ装置３Ｂにおい
てはローラ間隔が長尺ワークＷの幅と同程度に設定され
ているので、長尺ワークＷの端部が揃ってきれいに巻取
／巻出装置２１に巻取られる。Further, in the first sputtering chamber 4A and the second sputtering chamber 4B, the fixed guide roller devices 5A and 5B prevent vibration of the long work W before and after,
It will be transported stably. The long work W having the two-layer metal thin films formed on both surfaces in this manner is wound up by the winding / unwinding device 21 in the winding / unwinding chamber 2. In the movable guide roller device 3B in the winding / unwinding chamber 2, the roller interval is set to be approximately the same as the width of the long work W, so that the ends of the long work W are uniformly wound / wound cleanly. It is wound around the delivery device 21.
【００２３】また、さらに多層金属薄膜を形成する場合
は、巻取／巻出装置２１に巻取られた長尺ワークＷを逆
方向に搬送して、上記と同様に処理すればよい。この場
合、巻取／巻出室２における可動ガイドローラ装置３Ｂ
のローラ間隔を駆動軸３３により長尺ワークＷの幅より
も若干広めに設定し、巻出／巻取室１における可動ガイ
ドローラ装置３Ａのローラ間隔を駆動軸３３により長尺
ワークＷの幅と同程度に設定しておく。Further, when a multilayer metal thin film is further formed, the long work W wound by the winding / unwinding device 21 may be conveyed in the opposite direction and processed in the same manner as described above. In this case, the movable guide roller device 3B in the winding / unwinding chamber 2
Is set to be slightly wider than the width of the long work W by the drive shaft 33, and the roller interval of the movable guide roller device 3A in the unwinding / winding chamber 1 is set to be the width of the long work W by the drive shaft 33. Set to the same level.
【００２４】以上の実施例に係る長尺ワークスパッタリ
ング装置によれば、以下の効果が奏される。長尺ワーク
Ｗの薄膜形成面を水平ではなく垂直となる姿勢で、その
エッジ部を可動ガイドローラ装置３Ａ及び３Ｂにおける
ガイドローラ３１、３２間に挟んで案内しながら搬送す
るので、水平に搬送する場合に生じていた長尺ワークＷ
の自重による撓みがまったく生ぜず、長尺ワークＷの撓
み曲線に沿って多数の中間ローラを配置するという必要
がない。従って、装置の構成を簡単にすることができ
る。このように中間ローラを配置する必要がないことか
ら、長尺ワークＷの表面に接触する部材が存在せず、長
尺ワークＷの両面にも薄膜を形成することができる。ま
た、中間ローラが不要であるため、ヒータ４１による加
熱ゾーンを長くすることができ、より均一な加熱を行う
ことができる。The long work sputtering apparatus according to the above embodiment has the following effects. Since the thin film formation surface of the long work W is vertical rather than horizontal, the edge portion of the long work W is guided between the guide rollers 31 and 32 of the movable guide roller devices 3A and 3B while being guided, and thus is conveyed horizontally. Long work W that occurred in some cases
No bending occurs due to its own weight, and it is not necessary to arrange a large number of intermediate rollers along the bending curve of the long work W. Therefore, the structure of the device can be simplified. Since there is no need to dispose the intermediate roller in this way, there is no member that contacts the surface of the long work W, and a thin film can be formed on both surfaces of the long work W. Further, since the intermediate roller is unnecessary, the heating zone by the heater 41 can be lengthened, and more uniform heating can be performed.
【００２５】また、可動ガイドローラ装置３Ａ及び３Ｂ
においては、巻出し側における可動ガイドローラ装置３
Ａのローラ間隔を長尺ワークＷの幅よりも若干広めに設
定しているので長尺ワークＷに無理な変形を与えずに巻
出すことができ、巻取り側における可動ガイドローラ装
置３Ｂのローラ間隔を長尺ワークＷの幅と同程度に設定
しているので長尺ワークＷの端部を揃えてきれいに巻取
ることができる。そして、可動ガイドローラ装置３Ａ及
び３Ｂにおける駆動軸３３によるローラ間隔の調整は、
真空状態を破壊せずに行うことができるので、作業効率
を高めることができる。The movable guide roller devices 3A and 3B
The movable guide roller device 3 on the unwinding side.
Since the roller interval A is set to be slightly wider than the width of the long work W, the long work W can be unwound without being deformed excessively, and the rollers of the movable guide roller device 3B on the winding side can be wound. Since the interval is set to be approximately the same as the width of the long work W, the ends of the long work W can be aligned and wound up neatly. Then, the adjustment of the roller interval by the drive shaft 33 in the movable guide roller devices 3A and 3B is performed by
Since the operation can be performed without breaking the vacuum state, the work efficiency can be improved.
【００２６】さらに、長尺ワークＷの薄膜形成面を垂直
となる姿勢で搬送するため、ヒータ４１及びマグネトロ
ンカソード４２を長尺ワークＷの薄膜形成面に対向する
側面に配置することができる。従って、マグネトロンカ
ソード４２の交換作業がきわめて容易となる。なお、従
来のように長尺ワークＷを水平に搬送する場合にはマグ
ネトロンカソードを長尺ワークＷの下方に配置すること
が必要であるため、下方位置からマグネトロンカソード
を取出し、取付けるのは相当に手間のかかる作業であっ
た。Further, since the thin film forming surface of the long work W is conveyed in a vertical posture, the heater 41 and the magnetron cathode 42 can be arranged on the side surface facing the thin film forming surface of the long work W. Therefore, the replacement work of the magnetron cathode 42 becomes extremely easy. When the long work W is transported horizontally as in the conventional case, it is necessary to dispose the magnetron cathode below the long work W. Therefore, it is considerably necessary to take out and attach the magnetron cathode from the lower position. It was a laborious task.
【００２７】また、マグネトロンカソード４２を長尺ワ
ークＷの側面に対向するよう配置するので、装置の内壁
等に付着した薄膜形成物質が落下した場合にもマグネト
ロンカソード４２のターゲット表面に直接落下すること
がない。従って、安定したスパッタリングを行うことが
できる。そして、固定ガイドローラ装置５Ａ、５Ｂを設
けているので、長尺ワークＷの前後の振動が有効に防止
され安定な搬送を行うことができる。即ち、巻出しから
巻取りまでの搬送スパンが長くなり、かつ、低いテンシ
ョンで搬送する場合には、長尺ワークＷが搬送中に前後
に振動する現象が生じやすいが、固定ガイドローラ装置
５Ａ、５Ｂを設けることにより、このような振動を有効
に防止することができる。なお本発明は、スパッタリン
グ装置の成膜装置にも適用することができる。Further, since the magnetron cathode 42 is arranged so as to face the side surface of the long work W, even when the thin film forming substance adhered to the inner wall of the apparatus or the like falls directly onto the target surface of the magnetron cathode 42. There is no. Therefore, stable sputtering can be performed. Since the fixed guide roller devices 5A and 5B are provided, the front and rear vibrations of the long work W are effectively prevented, and stable conveyance can be performed. That is, when the conveyance span from unwinding to winding is long and the conveyance is performed with a low tension, the long work W easily vibrates back and forth during the conveyance, but the fixed guide roller device 5A, By providing 5B, such vibration can be effectively prevented. The present invention can also be applied to a film forming apparatus for a sputtering apparatus.
【００２８】[0028]
【発明の効果】長尺ワークの薄膜形成面を垂直となる姿
勢でそのエッジ部を１対のガイドローラによって案内し
ながら搬送するので、多数の中間ローラを配置する必要
がなく、装置の構成を簡単にすることができ、また、長
尺ワークの両面にも薄膜を形成することができる。ま
た、１対のガイドローラのローラ間隔を外部から調整可
能としたので、巻出し側におけるローラ間隔を長尺ワー
クの幅よりも若干広めに設定することにより長尺ワーク
に無理な変形を与えずに巻出すことができ、巻取り側に
おけるローラ間隔を長尺ワークの幅と同程度に設定する
ことにより長尺ワークの端部をきれいに揃えて巻取るこ
とができる。EFFECTS OF THE INVENTION Since the thin film formation surface of a long work is conveyed while being guided in a vertical posture by a pair of guide rollers, it is not necessary to dispose a large number of intermediate rollers, and the apparatus structure can be improved. It can be simplified and a thin film can be formed on both surfaces of a long work. Further, since the roller spacing of the pair of guide rollers can be adjusted from the outside, the roller spacing on the unwinding side is set to be slightly wider than the width of the long workpiece so that the long workpiece is not unduly deformed. The length of the long work can be neatly aligned and wound by setting the roller interval on the winding side to be approximately the same as the width of the long work.
【図１】本発明の実施例に係る垂直搬送型の長尺ワーク
スパッタリング装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a vertical transfer type long work sputtering apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施例に係る可動ガイドローラ装置の
側面図である。FIG. 2 is a side view of a movable guide roller device according to an embodiment of the present invention.
【図３】本発明の実施例に係る可動ガイドローラ装置の
斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a movable guide roller device according to an embodiment of the present invention.
【図４】本発明の実施例に係る固定ガイドローラ装置の
側面図である。FIG. 4 is a side view of a fixed guide roller device according to an embodiment of the present invention.
【図５】従来の水平搬送型の長尺ワークスパッタリング
装置の正面図である。FIG. 5 is a front view of a conventional horizontal transfer type long work sputtering apparatus.
１ 巻出／巻取室 ２ 巻取／巻出室 ３Ａ、３Ｂ 可動ガイドローラ装置 ４Ａ、４Ｂ スパッタ室 ５Ａ、５Ｂ 固定ガイドローラ装置 ３１、３２ ガイドローラ ３３ 駆動軸 1 unwinding / winding chamber 2 winding / unwinding chamber 3A, 3B movable guide roller device 4A, 4B sputter chamber 5A, 5B fixed guide roller device 31, 32 guide roller 33 drive shaft
Claims (2)
巻出された長尺ワークに薄膜を形成するための成膜室
と、この成膜室からの長尺ワークを巻取る巻取室とを備
えてなる長尺ワーク成膜装置において、 巻出室から長尺ワークをその薄膜形成面が垂直となる姿
勢で巻取室に搬送するとともに、巻出室と巻取室との間
に長尺ワークのエッジ部を案内する１対のガイドローラ
からなるガイドローラ装置を設けたことを特徴とする長
尺ワーク成膜装置。1. An unwinding chamber for a long work, a film forming chamber for forming a thin film on the long work unwound from the unwinding chamber, and a long work from the film forming chamber. In a long work film forming apparatus including a winding chamber, the long work is conveyed from the unwinding chamber to the winding chamber in a posture in which the thin film forming surface is vertical, and the unwinding chamber and the winding chamber A long work film forming apparatus, wherein a guide roller device including a pair of guide rollers for guiding the edge portion of the long work is provided between the two.
て、巻出室が巻取室を兼用する巻出／巻取室であり、巻
取室が巻出室を兼用する巻取／巻出室であって、巻出／
巻取室と巻取／巻出室との間で長尺ワークを両方向に搬
送することにより多層薄膜の形成を可能とし、巻出／巻
取室と巻取／巻出室との間に長尺ワークのエッジ部を案
内する１対のガイドローラからなるガイドローラ装置を
少なくとも２組設け、このガイドローラ装置におけるロ
ーラ間隔を外部から調整可能としたことを特徴とする長
尺ワーク成膜装置。2. The long work film forming apparatus according to claim 1, wherein the unwinding chamber is an unwinding / winding chamber which also serves as a winding chamber, and the winding chamber also serves as a winding / winding chamber. Departure and unwind /
By transporting a long work piece in both directions between the winding chamber and the winding / unwinding chamber, it is possible to form a multi-layered thin film, and the length between the unwinding / winding chamber and the winding / unwinding chamber is long. A long work film forming apparatus characterized in that at least two sets of guide roller devices each consisting of a pair of guide rollers for guiding an edge portion of a lengthy work are provided, and a roller interval in the guide roller device can be adjusted from the outside.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9234993A JPH06280017A (en) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | Device for forming film of long work |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9234993A JPH06280017A (en) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | Device for forming film of long work |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06280017A true JPH06280017A (en) | 1994-10-04 |
Family
ID=14051933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9234993A Pending JPH06280017A (en) | 1993-03-26 | 1993-03-26 | Device for forming film of long work |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06280017A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001303249A (en) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hirano Koon Kk | Surface treatment apparatus for strip-like sheet |
| WO2008096510A1 (en) * | 2007-02-02 | 2008-08-14 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Continuous film-forming apparatus |
| WO2011016471A1 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | 富士電機ホールディングス株式会社 | Apparatus for producing a thin-film lamination |
-
1993
- 1993-03-26 JP JP9234993A patent/JPH06280017A/en active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2001303249A (en) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hirano Koon Kk | Surface treatment apparatus for strip-like sheet |
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| JP2008189957A (en) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Kobe Steel Ltd | Continuous film forming apparatus |
| WO2011016471A1 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | 富士電機ホールディングス株式会社 | Apparatus for producing a thin-film lamination |
| CN102471881A (en) * | 2009-08-06 | 2012-05-23 | 富士电机株式会社 | Apparatus for producing a thin-film lamination |
| JPWO2011016471A1 (en) * | 2009-08-06 | 2013-01-10 | 富士電機株式会社 | Thin film laminate manufacturing equipment |
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