JPH06267831A - ステップアンドリピート方式電子ビーム描画方法 - Google Patents
ステップアンドリピート方式電子ビーム描画方法Info
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- JPH06267831A JPH06267831A JP5176893A JP5176893A JPH06267831A JP H06267831 A JPH06267831 A JP H06267831A JP 5176893 A JP5176893 A JP 5176893A JP 5176893 A JP5176893 A JP 5176893A JP H06267831 A JPH06267831 A JP H06267831A
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- Japan
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- pattern
- electron beam
- unit
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビームの近接効果対策としてのゴースト
法を、短時間に正確に行うことができる電子ビーム描画
方法を実現する。 【構成】 メモリー21に格納されたパターンデータ
は、データ変換ユニット22内の標準変換ユニット23
に供給されて標準変換される。パターンデータは白黒反
転ユニット24にも供給され、白黒反転される。されに
白黒反転されたパターンデータは、リサイズユニット2
5に供給され、このユニット25で拡大リサイズが行わ
れる。加算ユニット26では標準変換ユニット23で変
換されたパターンデータと、白黒反転ユニット24とリ
サイズユニット25で変換されたパターンデータとを加
算し、フィールド分割ユニット27に供給する。フィー
ルド分割されたデータは、パターンデータメモリー12
に転送されて記憶される。メモリー12に記憶されたデ
ータに基づいて描画が実施される。
法を、短時間に正確に行うことができる電子ビーム描画
方法を実現する。 【構成】 メモリー21に格納されたパターンデータ
は、データ変換ユニット22内の標準変換ユニット23
に供給されて標準変換される。パターンデータは白黒反
転ユニット24にも供給され、白黒反転される。されに
白黒反転されたパターンデータは、リサイズユニット2
5に供給され、このユニット25で拡大リサイズが行わ
れる。加算ユニット26では標準変換ユニット23で変
換されたパターンデータと、白黒反転ユニット24とリ
サイズユニット25で変換されたパターンデータとを加
算し、フィールド分割ユニット27に供給する。フィー
ルド分割されたデータは、パターンデータメモリー12
に転送されて記憶される。メモリー12に記憶されたデ
ータに基づいて描画が実施される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビームを用いて材
料上に所定のパターンを描画する、ステップアンドリピ
ート方式電子ビーム描画方法に関する。
料上に所定のパターンを描画する、ステップアンドリピ
ート方式電子ビーム描画方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に電子ビームは半導体デバイスを製
造するための各種のマスクの製作や、直接ウエハにパタ
ーンを描画するために広く使用されている。そして、電
子ビームを用いた描画では、被描画材料の広い範囲を電
子ビームの偏向歪みの影響を少なく精度の高い描画を行
うため、ステップアンドリピート方式を採用している。
このステップアンドリピート方式の電子ビーム描画にお
いては、描画データを電子ビームの偏向によってのみ描
画を行う範囲(フィールド)に分割し、このフィールド
毎に材料を間欠的に移動させ、材料が停止しているとき
に、各フィールドに含まれているパターンの描画を行う
ようにしている。
造するための各種のマスクの製作や、直接ウエハにパタ
ーンを描画するために広く使用されている。そして、電
子ビームを用いた描画では、被描画材料の広い範囲を電
子ビームの偏向歪みの影響を少なく精度の高い描画を行
うため、ステップアンドリピート方式を採用している。
このステップアンドリピート方式の電子ビーム描画にお
いては、描画データを電子ビームの偏向によってのみ描
画を行う範囲(フィールド)に分割し、このフィールド
毎に材料を間欠的に移動させ、材料が停止しているとき
に、各フィールドに含まれているパターンの描画を行う
ようにしている。
【0003】ところで、クロムコーティングされレジス
トが塗布されたガラス乾板や、レジストが塗布された半
導体材料、例えば、シリコン,ガリウム砒素などにパタ
ーンを描くために電子ビームを照射すると、電子ビーム
はレジストやクロム,ガラス,シリコンなどの内部で散
乱し、この散乱した電子ビームがレジストを感光させ、
パターン精度を劣化させる。この現象は、近接効果の影
響として広く知られており、この対策のために種々の提
案がなされているが、未だ完全な対策技術は確立されて
いない。
トが塗布されたガラス乾板や、レジストが塗布された半
導体材料、例えば、シリコン,ガリウム砒素などにパタ
ーンを描くために電子ビームを照射すると、電子ビーム
はレジストやクロム,ガラス,シリコンなどの内部で散
乱し、この散乱した電子ビームがレジストを感光させ、
パターン精度を劣化させる。この現象は、近接効果の影
響として広く知られており、この対策のために種々の提
案がなされているが、未だ完全な対策技術は確立されて
いない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記対策の一方法とし
て、ゴースト法が提案されている。この方法は、描画パ
ターンの白黒反転パターンを作成し、正規のパターンの
描画後に、この白黒反転パターンの描画を行うが、この
白黒反転パターンの描画時には、電子ビームの照射条件
を変化させている。すなわち、電子ビームをデフォーカ
ス状態とし、更に、描画の際の電子ビームのドーズ量
を、例えば、1/4とする。
て、ゴースト法が提案されている。この方法は、描画パ
ターンの白黒反転パターンを作成し、正規のパターンの
描画後に、この白黒反転パターンの描画を行うが、この
白黒反転パターンの描画時には、電子ビームの照射条件
を変化させている。すなわち、電子ビームをデフォーカ
ス状態とし、更に、描画の際の電子ビームのドーズ量
を、例えば、1/4とする。
【0005】しかしながら、この方法の欠点は、所定の
パターンの描画を2回、すなわち、正規のパターンの描
画と白黒反転パターンの描画を行わねばならないので、
その都度、被描画材料を載せたステージを移動させねば
ならず、全描画時間が極めて長くなることである。ま
た、白黒反転パターンの描画時に電子ビームをデフォー
カスさせるため、集束レンズ系を調整するが、これに伴
い、電子ビームの照射位置のずれが発生したり、レンズ
系を変化させてから安定となるまでに時間が掛かるなど
の問題も発生する。
パターンの描画を2回、すなわち、正規のパターンの描
画と白黒反転パターンの描画を行わねばならないので、
その都度、被描画材料を載せたステージを移動させねば
ならず、全描画時間が極めて長くなることである。ま
た、白黒反転パターンの描画時に電子ビームをデフォー
カスさせるため、集束レンズ系を調整するが、これに伴
い、電子ビームの照射位置のずれが発生したり、レンズ
系を変化させてから安定となるまでに時間が掛かるなど
の問題も発生する。
【0006】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、電子ビームの近接効果対策として
のゴースト法を、短時間に効果的に行うことができるス
テップアンドリピート方式電子ビーム描画方法を実現す
るにある。
もので、その目的は、電子ビームの近接効果対策として
のゴースト法を、短時間に効果的に行うことができるス
テップアンドリピート方式電子ビーム描画方法を実現す
るにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に基づくステップ
アンドリピート方式電子ビーム描画方法は、被描画材料
をフィールド毎に間欠的に移動させ、材料が停止してい
るときに材料上の所定フィールドのパターンを電子ビー
ムで描画するようにしたステップアンドリピート方式電
子ビーム描画方法において、各フィールドごとの正規の
パターンデータの白黒反転パターンテータを作成し、白
黒反転パターンデータを拡大リサイズ処理し、各フィー
ルドごとに正規のパターンデータと拡大リサイズ処理さ
れたパターンデータとに基づいて描画を実行すると共
に、拡大リサイズ処理されたパターンデータに基づく描
画時には電子ビームのドーズ量を低くするようにしたこ
とを特徴としている。
アンドリピート方式電子ビーム描画方法は、被描画材料
をフィールド毎に間欠的に移動させ、材料が停止してい
るときに材料上の所定フィールドのパターンを電子ビー
ムで描画するようにしたステップアンドリピート方式電
子ビーム描画方法において、各フィールドごとの正規の
パターンデータの白黒反転パターンテータを作成し、白
黒反転パターンデータを拡大リサイズ処理し、各フィー
ルドごとに正規のパターンデータと拡大リサイズ処理さ
れたパターンデータとに基づいて描画を実行すると共
に、拡大リサイズ処理されたパターンデータに基づく描
画時には電子ビームのドーズ量を低くするようにしたこ
とを特徴としている。
【0008】
【作用】本発明に基づくステップアンドリピート方式電
子ビーム描画方法においては、各フィールドごとに正規
のパターンデータと、正規のパターンデータを白黒反転
し更に拡大リサイズ処理したパターンデータとを作成
し、各フィールドごとに正規のパターンデータと拡大リ
サイズ処理されたパターンデータとに基づいて描画を実
行する。
子ビーム描画方法においては、各フィールドごとに正規
のパターンデータと、正規のパターンデータを白黒反転
し更に拡大リサイズ処理したパターンデータとを作成
し、各フィールドごとに正規のパターンデータと拡大リ
サイズ処理されたパターンデータとに基づいて描画を実
行する。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図1は本発明を実施するための可変面積型
電子ビーム描画装置の一例を示している。1は電子ビー
ムEBを発生する電子銃であり、該電子銃1から発生し
た電子ビームEBは、照明レンズ2を介して第1成形ア
パーチャ3上に照射される。第1成形アパーチャの開口
像は、成形レンズ4により、第2成形アパーチャ6上に
結像されるが、その結像の位置は、成形偏向器5により
変えることができる。第2成形アパーチャ6により成形
された像は、縮小レンズ7、対物レンズ8を経て描画材
料10上に照射される。描画材料10への照射位置は、
位置決め偏向器9により変えることができる。
に説明する。図1は本発明を実施するための可変面積型
電子ビーム描画装置の一例を示している。1は電子ビー
ムEBを発生する電子銃であり、該電子銃1から発生し
た電子ビームEBは、照明レンズ2を介して第1成形ア
パーチャ3上に照射される。第1成形アパーチャの開口
像は、成形レンズ4により、第2成形アパーチャ6上に
結像されるが、その結像の位置は、成形偏向器5により
変えることができる。第2成形アパーチャ6により成形
された像は、縮小レンズ7、対物レンズ8を経て描画材
料10上に照射される。描画材料10への照射位置は、
位置決め偏向器9により変えることができる。
【0010】11はコンピュータであり、コンピュータ
11はパターンデータメモリー12からのパターンデー
タをパターン転送回路13に転送する。パターン転送回
路13からのパターンデータは、ショット分割器14に
供給されてショット分割される。ショット分割器14か
らの描画データに応じた信号は、成形偏向器5を制御す
る偏向制御回路15、位置決め偏向器9を制御する制御
回路16、電子銃1から発生した電子ビームのブランキ
ングを行うブランキング電極17を制御するブランキン
グコントロール回路18に供給される。更に、コンピュ
ータ11は、材料のフィールド毎の移動のために、材料
が載せられたステージ19の駆動機構20を制御する。
11はパターンデータメモリー12からのパターンデー
タをパターン転送回路13に転送する。パターン転送回
路13からのパターンデータは、ショット分割器14に
供給されてショット分割される。ショット分割器14か
らの描画データに応じた信号は、成形偏向器5を制御す
る偏向制御回路15、位置決め偏向器9を制御する制御
回路16、電子銃1から発生した電子ビームのブランキ
ングを行うブランキング電極17を制御するブランキン
グコントロール回路18に供給される。更に、コンピュ
ータ11は、材料のフィールド毎の移動のために、材料
が載せられたステージ19の駆動機構20を制御する。
【0011】次に、パターンデータメモリー12に記憶
されるパターンデータの変換について図2に基づいて説
明する。図2における21は磁気ディスクメモリーなど
のメモリーであり、任意のCADで作成されたデータが
格納されている。このCADデータは電子ビーム描画装
置上で用いるためにデータ変換を行わねばならない。メ
モリー21のデータは逐次読み出され、データ変換ユニ
ット22に供給される。データ変換ユニット22は、標
準変換ユニット23,白黒反転ユニット24,リサイズ
ユニット25,加算ユニット26,フィールド分割ユニ
ット27より成っている。
されるパターンデータの変換について図2に基づいて説
明する。図2における21は磁気ディスクメモリーなど
のメモリーであり、任意のCADで作成されたデータが
格納されている。このCADデータは電子ビーム描画装
置上で用いるためにデータ変換を行わねばならない。メ
モリー21のデータは逐次読み出され、データ変換ユニ
ット22に供給される。データ変換ユニット22は、標
準変換ユニット23,白黒反転ユニット24,リサイズ
ユニット25,加算ユニット26,フィールド分割ユニ
ット27より成っている。
【0012】メモリー21のデータは、標準変換ユニッ
ト23と白黒反転ユニット24に供給され、白黒反転ユ
ニット24において白黒反転されたデータは、リサイズ
ユニット25において拡大リサイズ処理が施される。標
準変換ユニット23で標準変換されたデータと、リサイ
ズユニット25で拡大リサイズ処理されたデータは、加
算ユニット26において加算される。加算されたデータ
は、フィールド分割ユニット27に供給され、フィール
ド分割させられる。フィールド分割されたデータは、パ
ターンデータメモリー12に供給されて記憶される。こ
のデータ変換ユニット22におけるデータ変換は、図2
ではハードウェア的に説明したが、通常は、図1のコン
ピュータ11や他のデータ変換用のコンピュータを用い
てソフトウェアによって実行される。図1,図2に示し
た構成の電子ビーム描画装置の動作は次の通りである。
ト23と白黒反転ユニット24に供給され、白黒反転ユ
ニット24において白黒反転されたデータは、リサイズ
ユニット25において拡大リサイズ処理が施される。標
準変換ユニット23で標準変換されたデータと、リサイ
ズユニット25で拡大リサイズ処理されたデータは、加
算ユニット26において加算される。加算されたデータ
は、フィールド分割ユニット27に供給され、フィール
ド分割させられる。フィールド分割されたデータは、パ
ターンデータメモリー12に供給されて記憶される。こ
のデータ変換ユニット22におけるデータ変換は、図2
ではハードウェア的に説明したが、通常は、図1のコン
ピュータ11や他のデータ変換用のコンピュータを用い
てソフトウェアによって実行される。図1,図2に示し
た構成の電子ビーム描画装置の動作は次の通りである。
【0013】まず、図1の電子ビーム描画装置における
一般的な描画動作について説明する。パターンデータメ
モリ12に格納されたパターンデータは、逐次読み出さ
れ、データ転送回路13を経てショット分割器14に供
給される。ショット分割器14で分割されたデータに基
づき、偏向制御回路15は成形偏向器5を制御し、ま
た、制御回路16は位置決め偏向器9を制御する。
一般的な描画動作について説明する。パターンデータメ
モリ12に格納されたパターンデータは、逐次読み出さ
れ、データ転送回路13を経てショット分割器14に供
給される。ショット分割器14で分割されたデータに基
づき、偏向制御回路15は成形偏向器5を制御し、ま
た、制御回路16は位置決め偏向器9を制御する。
【0014】この結果、各分割されたパターンデータに
基づき、成形偏向器5により電子ビームの断面が単位パ
ターン形状に成形され、その単位パターンが順々に材料
上にショットされ、所望の形状のパターン描画が行われ
る。なお、この時、ブランキングコントロール回路18
からブランキング電極17へのブランキング信号によ
り、材料10への電子ビームのショットに同期して電子
ビームのブランキングが実行される。
基づき、成形偏向器5により電子ビームの断面が単位パ
ターン形状に成形され、その単位パターンが順々に材料
上にショットされ、所望の形状のパターン描画が行われ
る。なお、この時、ブランキングコントロール回路18
からブランキング電極17へのブランキング信号によ
り、材料10への電子ビームのショットに同期して電子
ビームのブランキングが実行される。
【0015】次に、図3に示すパターンデータに対して
の描画動作について説明する。図3に示したパターン
は、単一のフィールドF1内にパターンP1が存在して
いるもので、このパターンデータはCADで作成され、
メモリー21に格納されている。このメモリー21に格
納されたパターンデータは、データ変換ユニット22内
の標準変換ユニット23に供給されて標準変換される。
図4は標準変換されたパターンデータを示しており、パ
ターンP1はaとbの2つのパターンデータに変換され
る。この図4のパターンデータは、加算ユニット26に
供給される。
の描画動作について説明する。図3に示したパターン
は、単一のフィールドF1内にパターンP1が存在して
いるもので、このパターンデータはCADで作成され、
メモリー21に格納されている。このメモリー21に格
納されたパターンデータは、データ変換ユニット22内
の標準変換ユニット23に供給されて標準変換される。
図4は標準変換されたパターンデータを示しており、パ
ターンP1はaとbの2つのパターンデータに変換され
る。この図4のパターンデータは、加算ユニット26に
供給される。
【0016】図3に示したパターンデータは白黒反転ユ
ニット24にも供給され、白黒反転される。更に白黒反
転されたパターンデータは、リサイズユニット25に供
給され、このユニット25で拡大リサイズが行われる。
図5は白黒反転され、更に拡大リサイズされたパターン
データを示しており、点線が白黒反転される前の元のパ
ターンデータである。この図5のデータは図6のように
c〜gの5つのパターンデータに変換されて加算ユニッ
ト26に供給される。加算ユニット26では標準変換ユ
ニット23で変換されたパターンデータと、白黒反転ユ
ニット24とリサイズユニット25で変換されたパター
ンデータとを加算し、フィールド分割ユニット27に供
給する。
ニット24にも供給され、白黒反転される。更に白黒反
転されたパターンデータは、リサイズユニット25に供
給され、このユニット25で拡大リサイズが行われる。
図5は白黒反転され、更に拡大リサイズされたパターン
データを示しており、点線が白黒反転される前の元のパ
ターンデータである。この図5のデータは図6のように
c〜gの5つのパターンデータに変換されて加算ユニッ
ト26に供給される。加算ユニット26では標準変換ユ
ニット23で変換されたパターンデータと、白黒反転ユ
ニット24とリサイズユニット25で変換されたパター
ンデータとを加算し、フィールド分割ユニット27に供
給する。
【0017】図7は加算されたパターンデータの一例を
示しており、標準変換されたパターンデータa,bと白
黒反転、リサイズ処理されたパターンデータc〜gが含
まれている。なお、標準変換されたパターンデータa,
bには標準変換であることを示す“α”の符号が付けら
れており、パターンデータc〜gには白黒反転とリサイ
ズ処理がされたことを示す符号“β”が付けられてい
る。図3の例では、単一フィールドのパターンデータで
あるので、加算ユニット26で加算されたパターンデー
タはそのままパターンデータメモリー12に転送されて
記憶される。
示しており、標準変換されたパターンデータa,bと白
黒反転、リサイズ処理されたパターンデータc〜gが含
まれている。なお、標準変換されたパターンデータa,
bには標準変換であることを示す“α”の符号が付けら
れており、パターンデータc〜gには白黒反転とリサイ
ズ処理がされたことを示す符号“β”が付けられてい
る。図3の例では、単一フィールドのパターンデータで
あるので、加算ユニット26で加算されたパターンデー
タはそのままパターンデータメモリー12に転送されて
記憶される。
【0018】次に、図7のパターンデータに基づく描画
の動作を説明する。パターンデータメモリ12に格納さ
れたパターンデータは読み出され、データ転送回路13
を経てショット分割器14に供給される。ショット分割
器14では各パターンデータa〜gについて逐次単位パ
ターンにショット分割を行う。分割されたデータに基づ
き、偏向制御回路15は成形偏向器5を制御し、また、
制御回路16は位置決め偏向器9を制御する。
の動作を説明する。パターンデータメモリ12に格納さ
れたパターンデータは読み出され、データ転送回路13
を経てショット分割器14に供給される。ショット分割
器14では各パターンデータa〜gについて逐次単位パ
ターンにショット分割を行う。分割されたデータに基づ
き、偏向制御回路15は成形偏向器5を制御し、また、
制御回路16は位置決め偏向器9を制御する。
【0019】この結果、各分割されたパターンデータに
基づき、成形偏向器5により電子ビームの断面が単位パ
ターン形状に成形され、その単位パターンが順々に材料
上にショットされ、所望の形状のパターン描画が行われ
る。なお、この時、ブランキングコントロール回路18
からブランキング電極17へのブランキング信号によ
り、材料10への電子ビームのショットに同期して電子
ビームのブランキングが実行される。この場合、ショッ
トするパターンの符号が“α”の場合には、単位パター
ンのショット時間は材料10上に塗布されたレジストを
露光するに必要な時間とされるよう、電子ビームのブラ
ンキングが行われる。
基づき、成形偏向器5により電子ビームの断面が単位パ
ターン形状に成形され、その単位パターンが順々に材料
上にショットされ、所望の形状のパターン描画が行われ
る。なお、この時、ブランキングコントロール回路18
からブランキング電極17へのブランキング信号によ
り、材料10への電子ビームのショットに同期して電子
ビームのブランキングが実行される。この場合、ショッ
トするパターンの符号が“α”の場合には、単位パター
ンのショット時間は材料10上に塗布されたレジストを
露光するに必要な時間とされるよう、電子ビームのブラ
ンキングが行われる。
【0020】一方、ショットするパターンの符号が
“β”の場合には、単位パターンのショット時間は材料
10上に塗布されたレジストを露光するに必要な時間の
1/4となるよう、電子ビームのブランキングが行われ
る。すなわち、パターンa,bについては規定の露光量
となるようなドーズ量で電子ビームの照射が行われ、パ
ターンc〜gについては、規定のドーズ量の1/4の電
子ビームにより描画が行われる。
“β”の場合には、単位パターンのショット時間は材料
10上に塗布されたレジストを露光するに必要な時間の
1/4となるよう、電子ビームのブランキングが行われ
る。すなわち、パターンa,bについては規定の露光量
となるようなドーズ量で電子ビームの照射が行われ、パ
ターンc〜gについては、規定のドーズ量の1/4の電
子ビームにより描画が行われる。
【0021】この結果、従来の近接効果の影響をなくす
ために考えられた、白黒反転パターンを電子ビームの焦
点をぼけさせて照射すると同様の効果が得られる。そし
て、この実施例では、正規のパターンと白黒反転パター
ンの両者をいずれも同じ電子ビーム光学系の条件の下で
行うので、電子ビーム光学系の調整の時間が省略でき、
また、光学系の条件を変えることに伴う軸ずれの問題も
回避できる。更に、同一フィールドの1回の描画動作で
正規のパターンと白黒反転パターンの両者を描画するよ
うにしたので、従来の方式である2回に分けて2種のパ
ターンを描画する方式と比べ、著しく描画時間を短縮す
ることができる。
ために考えられた、白黒反転パターンを電子ビームの焦
点をぼけさせて照射すると同様の効果が得られる。そし
て、この実施例では、正規のパターンと白黒反転パター
ンの両者をいずれも同じ電子ビーム光学系の条件の下で
行うので、電子ビーム光学系の調整の時間が省略でき、
また、光学系の条件を変えることに伴う軸ずれの問題も
回避できる。更に、同一フィールドの1回の描画動作で
正規のパターンと白黒反転パターンの両者を描画するよ
うにしたので、従来の方式である2回に分けて2種のパ
ターンを描画する方式と比べ、著しく描画時間を短縮す
ることができる。
【0022】図8は本発明に基づく方法の他の実施例を
説明するためのCADパターンデータを示している。図
8に示したパターンは、2つのフィールドF1,F2内
に跨がってパターンP2が存在しているもので、このパ
ターンデータはCADで作成され、メモリー21に格納
されている。このメモリー21に格納されたパターンデ
ータは、データ変換ユニット22内の標準変換ユニット
23に供給されて標準変換される。標準変換されたパタ
ーンデータは、加算ユニット26に供給される。
説明するためのCADパターンデータを示している。図
8に示したパターンは、2つのフィールドF1,F2内
に跨がってパターンP2が存在しているもので、このパ
ターンデータはCADで作成され、メモリー21に格納
されている。このメモリー21に格納されたパターンデ
ータは、データ変換ユニット22内の標準変換ユニット
23に供給されて標準変換される。標準変換されたパタ
ーンデータは、加算ユニット26に供給される。
【0023】図8に示したパターンデータは白黒反転ユ
ニット24にも供給され、白黒反転される。されに白黒
反転されたパターンデータは、リサイズユニット25に
供給され、このユニット25で拡大リサイズが行われ
る。図9は白黒反転され、更に拡大リサイズされたパタ
ーンデータを示しており、点線が白黒反転される前の元
のパターンデータである。この図10のデータは加算ユ
ニット26に供給される。加算ユニット26では標準変
換ユニット23で変換されたパターンデータと、白黒反
転ユニット24とリサイズユニット25で変換されたパ
ターンデータとを加算し、フィールド分割ユニット27
に供給する。
ニット24にも供給され、白黒反転される。されに白黒
反転されたパターンデータは、リサイズユニット25に
供給され、このユニット25で拡大リサイズが行われ
る。図9は白黒反転され、更に拡大リサイズされたパタ
ーンデータを示しており、点線が白黒反転される前の元
のパターンデータである。この図10のデータは加算ユ
ニット26に供給される。加算ユニット26では標準変
換ユニット23で変換されたパターンデータと、白黒反
転ユニット24とリサイズユニット25で変換されたパ
ターンデータとを加算し、フィールド分割ユニット27
に供給する。
【0024】図10は標準変換され、フィールド分割さ
れたパターンデータを示しており、図8のパターンデー
タは、フィールドF1内に含まれるパターンa−1と、
フィールドF2に含まれるパターンa−2に変換されて
いる。図11は白黒反転と拡大リサイズされ、フィール
ド分割されたパターンデータを示しており、図9のパタ
ーンデータは、フィールドF1に含まれるパターンb−
1,c,e−1と、フィールドF2に含まれるパターン
b−2,d,e−2に変換されている。
れたパターンデータを示しており、図8のパターンデー
タは、フィールドF1内に含まれるパターンa−1と、
フィールドF2に含まれるパターンa−2に変換されて
いる。図11は白黒反転と拡大リサイズされ、フィール
ド分割されたパターンデータを示しており、図9のパタ
ーンデータは、フィールドF1に含まれるパターンb−
1,c,e−1と、フィールドF2に含まれるパターン
b−2,d,e−2に変換されている。
【0025】図12は加算処理されフィールド分割され
た図10と図11のパターンデータを示しており、図1
0(a)がフィールドF1のパターンデータ、図12
(b)がフィールドF2のパターンデータである。な
お、標準変換されたパターンデータa−1,a−2には
標準変換であることを示す“α”の符号が付けられてお
り、パターンデータb−1,b−2,c,d,e−1,
e−2には白黒反転とリサイズ処理がされたことを示す
符号“β”が付けられている。
た図10と図11のパターンデータを示しており、図1
0(a)がフィールドF1のパターンデータ、図12
(b)がフィールドF2のパターンデータである。な
お、標準変換されたパターンデータa−1,a−2には
標準変換であることを示す“α”の符号が付けられてお
り、パターンデータb−1,b−2,c,d,e−1,
e−2には白黒反転とリサイズ処理がされたことを示す
符号“β”が付けられている。
【0026】次に、図12のパターンデータに基づく描
画の動作を説明する。まず、パターンデータメモリ12
に格納されたフィールドF1のパターンデータは読み出
され、データ転送回路13を経てショット分割器14に
供給される。ショット分割器14では各パターンデータ
a−1,b−1,c,e−1について逐次単位パターン
にショット分割を行う。分割されたデータに基づき、偏
向制御回路15は成形偏向器5を制御し、また、制御回
路16は位置決め偏向器9を制御する。
画の動作を説明する。まず、パターンデータメモリ12
に格納されたフィールドF1のパターンデータは読み出
され、データ転送回路13を経てショット分割器14に
供給される。ショット分割器14では各パターンデータ
a−1,b−1,c,e−1について逐次単位パターン
にショット分割を行う。分割されたデータに基づき、偏
向制御回路15は成形偏向器5を制御し、また、制御回
路16は位置決め偏向器9を制御する。
【0027】この結果、各分割されたパターンデータに
基づき、成形偏向器5により電子ビームの断面が単位パ
ターン形状に成形され、その単位パターンが順々に材料
上にショットされ、所望の形状のパターン描画が行われ
る。なお、この時、ショットするパターンの符号が
“α”のパターンは、単位パターンのショット時間が材
料10上に塗布されたレジストを露光するに必要な時間
とされるよう、電子ビームのブランキングが行われる。
一方、ショットするパターンの符号が“β”のパターン
は、単位パターンのショット時間が材料10上に塗布さ
れたレジストを露光するに必要な時間の1/4となるよ
う、電子ビームのブランキングが行われる。
基づき、成形偏向器5により電子ビームの断面が単位パ
ターン形状に成形され、その単位パターンが順々に材料
上にショットされ、所望の形状のパターン描画が行われ
る。なお、この時、ショットするパターンの符号が
“α”のパターンは、単位パターンのショット時間が材
料10上に塗布されたレジストを露光するに必要な時間
とされるよう、電子ビームのブランキングが行われる。
一方、ショットするパターンの符号が“β”のパターン
は、単位パターンのショット時間が材料10上に塗布さ
れたレジストを露光するに必要な時間の1/4となるよ
う、電子ビームのブランキングが行われる。
【0028】フィールドF1に含まれるパターンの描画
が全て終了した後、コンピュータ12は駆動機構20を
制御し、ステージ19を移動させ、フィールドF2が電
子ビーム光軸下に配置されるようにする。そして、上記
フィールドF1の描画と同様なステップでフィールドF
2内のパターンa−2,b−2,d,e−2の描画が実
行される。
が全て終了した後、コンピュータ12は駆動機構20を
制御し、ステージ19を移動させ、フィールドF2が電
子ビーム光軸下に配置されるようにする。そして、上記
フィールドF1の描画と同様なステップでフィールドF
2内のパターンa−2,b−2,d,e−2の描画が実
行される。
【0029】以上本発明の実施例を説明したが、本発明
はこの実施例に限定されない。例えば、可変面積型の電
子ビーム描画装置を例に説明したが、イオンビーム描画
装置にも本発明を用いることができる。
はこの実施例に限定されない。例えば、可変面積型の電
子ビーム描画装置を例に説明したが、イオンビーム描画
装置にも本発明を用いることができる。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づくス
テップアンドリピート方式電子ビーム描画方法において
は、各フィールドごとに正規のパターンデータと、正規
のパターンデータを白黒反転し更に拡大リサイズ処理し
たパターンデータとを作成し、各フィールドごとに正規
のパターンデータと拡大リサイズ処理されたパターンデ
ータとに基づいて描画を実行するようにしたので、電子
ビームの近接効果対策としてのゴースト法を、短時間に
正確に行うことができる。
テップアンドリピート方式電子ビーム描画方法において
は、各フィールドごとに正規のパターンデータと、正規
のパターンデータを白黒反転し更に拡大リサイズ処理し
たパターンデータとを作成し、各フィールドごとに正規
のパターンデータと拡大リサイズ処理されたパターンデ
ータとに基づいて描画を実行するようにしたので、電子
ビームの近接効果対策としてのゴースト法を、短時間に
正確に行うことができる。
【0031】すなわち、正規のパターンと白黒反転パタ
ーンの両者をいずれも同じ電子ビーム光学系の条件の下
で行うので、電子ビーム光学系の調整の時間が省略で
き、また、光学系の条件を変えることに伴う軸ずれの問
題も回避できる。更に、同一フィールドの1回の描画動
作で正規のパターンと白黒反転パターンの両者を描画す
るようにしたので、従来の方式である2回に分けて2種
のパターンを描画する方式と比べ、著しく描画時間を短
縮することができる。
ーンの両者をいずれも同じ電子ビーム光学系の条件の下
で行うので、電子ビーム光学系の調整の時間が省略で
き、また、光学系の条件を変えることに伴う軸ずれの問
題も回避できる。更に、同一フィールドの1回の描画動
作で正規のパターンと白黒反転パターンの両者を描画す
るようにしたので、従来の方式である2回に分けて2種
のパターンを描画する方式と比べ、著しく描画時間を短
縮することができる。
【図1】本発明に基づく方法を実施するための電子ビー
ム描画システムの一例を示す図である。
ム描画システムの一例を示す図である。
【図2】データ変換部分の構成を示す図である。
【図3】CADパターンを示す図である。
【図4】標準変換されたパターンデータを示す図であ
る。
る。
【図5】白黒反転と拡大リサイジ処理されたパターンを
示す図である。
示す図である。
【図6】図5のパターンの変換されたパターンデータを
示す図である。
示す図である。
【図7】図4と図6のパターンデータを加算したパター
ンデータを示す図である。
ンデータを示す図である。
【図8】CADパターンを示す図である。
【図9】白黒反転と拡大リサイジ処理されたパターンを
示す図である。
示す図である。
【図10】図8のパターンの変換パターンデータを示す
図である。
図である。
【図11】図9のパターンの変換パターンデータを示す
図である。
図である。
【図12】加算処理されフィールド分割されたパターン
データを示す図である。
データを示す図である。
1 電子銃 2 照明レンズ 3,6 成形アパーチャ 4 成形レンズ 5,9 偏向器 7 縮小レンズ 8 対物レンズ 10 材料 11 コンピュータ 12 メモリ 13 データ転送回路 14 ショット分割器 15 成形偏向器制御回路 16 位置決め偏向器制御回路 17 ブランキング電極 18 ブランキングコントロール回路 19 ステージ 20 駆動機構
Claims (1)
- 【請求項1】被描画材料をフィールド毎に間欠的に移動
させ、材料が停止しているときに材料上の所定フィール
ドのパターンを電子ビームで描画するようにしたステッ
プアンドリピート方式電子ビーム描画方法において、各
フィールドごとの正規のパターンデータの白黒反転パタ
ーンテータを作成し、白黒反転パターンデータを拡大リ
サイズ処理し、各フィールドごとに正規のパターンデー
タと拡大リサイズ処理されたパターンデータとに基づい
て描画を実行すると共に、拡大リサイズ処理されたパタ
ーンデータに基づく描画時には電子ビームのドーズ量を
低くするようにしたことを特徴とするステップアンドリ
ピート方式電子ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5176893A JPH06267831A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | ステップアンドリピート方式電子ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5176893A JPH06267831A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | ステップアンドリピート方式電子ビーム描画方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06267831A true JPH06267831A (ja) | 1994-09-22 |
Family
ID=12896134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5176893A Withdrawn JPH06267831A (ja) | 1993-03-12 | 1993-03-12 | ステップアンドリピート方式電子ビーム描画方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06267831A (ja) |
-
1993
- 1993-03-12 JP JP5176893A patent/JPH06267831A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000530 |