JPH06266141A

JPH06266141A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH06266141A
Application number: JP5572193A
Authority: JP
Inventors: Kiyoshi Tamaki; 喜代志玉城; Koji Nishizaki; 浩二西嵜
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1993-03-16
Filing date: 1993-03-16
Publication date: 1994-09-22

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明の目的を以下に示す。（１）残留電位上昇が少なく、現像コントラストが低下
しにくい電子写真感光体を提供することにある。（２）環境変動に対する電位安定性が良好な電子写真感
光体を提供することにある。（３）導電性支持体と光導電層間の接着強度が大きく、
耐久性が高い電子写真感光体を提供することにある。（４）上層塗布時の溶媒に対する耐溶解性が良好で、電
位変動が小さく、画像欠陥が生じにくい電子写真感光体
を提供することにある。【構成】本発明の課題は以下の構成により達成され
る。導電性支持体上に下引層、光導電層を有する電子写
真感光体において、該下引層がポリカルボジイミドを含
有することを特徴とする電子写真感光体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】電子写真複写機は、年々高速度化したも
のが開発され、感光体をそれに対応できるような高感
度、長寿命のものが要求されている。

【０００３】また、近年、感光体機能を複数の部材に分
担させる機能分離型電子写真感光体が、電荷保持特性、
繰り返し安定性、光応答性、分光特性、機械的強度等の
電子写真特性の改善の目的で数多く提案されている。

【０００４】これら電子写真感光体において有する欠点
として、（１）現像コントラストの繰り返し安定性や環
境安定性に欠ける、（２）白ポチ、黒ポチ、ガサツキ、
ピンホール等と称される画像欠陥が発生し易い、（３）
基体と感光層との間の接着強度が低く、使用時に感光層
が剥がれ、耐久性が不十分である等が知られていた。

【０００５】この様な問題点を解決するための対策とし
て、基体と感光層との間に、下引き層として樹脂層を設
けることが試みられている。樹脂としては、例えば、ポ
リパラキシレン、カゼイン、ポリビニルアルコール、フ
ェノール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、メラミン樹
脂、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸共重合
体、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン66、ナイロン61
0、共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナイロン
等）、ポリウレタン、ゼラチン、ポリビニルピロリド
ン、ポリビニルピリジン、ポリビニルメチルエーテル等
を用いることが知られている。

【０００６】しかしいまだ以下の問題点を有している（１）残留電位の上昇に伴なう現像コントラストの低下
が生じ、白ポチ、黒ポチ、ガサツキ、ピンホール等の画
像欠陥が生じやすい。

【０００７】（２）環境変化（温度、湿度）に対する電
位安定性が悪い。

【０００８】（３）導電性支持体と光導電層間の接着強
度が低く、使用時に光導電層がはがれ、耐久性が不十
分。

【０００９】（４）上層の光導電性を塗布する際の溶媒
に対して、耐溶解性が悪く、下引き層が不均一となり、
電位変動及び画像欠陥が生じやすい。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的を以下に
示す。

【００１１】（１）残留電位上昇が少なく、現像コント
ラストが低下しにくい電子写真感光体を提供することに
ある。

【００１２】（２）環境変動に対する電位安定性が良好
な電子写真感光体を提供することにある。

【００１３】（３）導電性支持体と光導電層間の接着強
度が大きく、耐久性が高い電子写真感光体を提供するこ
とにある。

【００１４】（４）上層塗布時の溶媒に対する耐溶解性
が良好で、電位変動が小さく、画像欠陥が生じにくい電
子写真感光体を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の課題は以下の構
成により達成される。

【００１６】導電性支持体上に下引層、光導電層を有す
る電子写真感光体において、該下引層がポリカルボジイ
ミドを含有することを特徴とする電子写真感光体。

【００１７】本発明にかかるポリカルボジイミドとは下
記構造式のものをいう。

【００１８】

【化１】

【００１９】式中Ｒは置換、無置換アルキル基、置換、
無置換のアリール基、ｎは上記−R−N＝C＝N−が繰り返
す事を表わす。

【００２０】以下に本発明のポリカルボジイミド化合物
を挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。

【００２１】

【化２】

【００２２】

【化３】

【００２３】本発明のカルボジイミドは触媒存在下でジ
イソシアネートの脱炭酸縮合反応で容易に合成出来る。

【００２４】以下本発明を詳述する。

【００２５】本発明におけるＵＣＬ（下引層）は、２μ
m以下の薄い膜厚を有していることが、ブロッキング性
能を十分に発揮しつつ、残留電位の抑制等の感光体性能
を良好に保持する点で望ましい。更に好ましくは0.2〜
1.0μmである。

【００２６】本発明の感光体は例えば図１（ａ）に示す
構成からなっている。

【００２７】この感光体においては、導電性支持体（基
体）１上に、上記したＵＣＬ７を介してＣＧＬ（キャリ
ア発生層）６が設けられ、このＣＧＬ６上にＣＴＬ（キ
ャリア輸送層）４が設けられている。８はＰＣＬ（感光
層）を示す。従って、ＣＧＬ６と支持体１との間にＵＣ
Ｌ７が設けられているので、図１（ｂ）に示す支持体側
からの不均一なホールの注入を効果的に阻止する一方、
光照射時には支持体側へ光キャリアである電子を効率良
く輸送することができる。

【００２８】又、図１（ｃ）のように、ＣＧＬ６とＣＴ
Ｌ４とを上下逆にした層構成（正帯電用）としてもよ
い。又、本発明の感光体において、耐刷性向上等のため
感光体表面に保護層（保護層；ＯＣＬ）を形成しても良
く、例えば合成樹脂被膜をコーティングして良い。

【００２９】次に、本発明の感光体に使用するＣＧＭを
一般式で示す。

【００３０】１．多環キノン顔料（１）アントアントロン顔料

【００３１】

【化４】

【００３２】上記において、Ｘ：ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシル基、又
はカルボキシル基。

【００３３】ｎ＝０〜４ｍ＝０〜６２．アズレニウム化合物アズレニウム化合物は例えば下記公報記載の化合物であ
る。

【００３４】（イ）特開昭61-1547号（ロ）同 61‐1548号（ハ）同 61‐15147号（ニ）同 61‐15150号（ホ）同 61‐15151号アズレニウム化合物の具体例としては、例えば下記一般
式のものが挙げられる。

【００３５】

【化５】

【００３６】但し、上記一般式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷：水素原
子、ハロゲン原子、又は有機残基を表す。又、Ｒ¹¹とＲ
¹²、Ｒ¹²とＲ¹³、Ｒ¹³とＲ¹⁴、Ｒ¹⁴とＲ¹⁵、Ｒ¹⁵と
Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁶とＲ¹⁷の組合せのうち、いずれか１つの組合
せで置換又は無置換の縮合環を形成しても良い。

【００３７】Ａｒ¹、Ａｒ²：アリール基を表す。

【００３８】Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹：置換若しくは無置換の続記３
種の基；アルキル基、アリール基、アラルキル基を表
す。又、Ｒ¹⁸とＲ¹⁹とで窒素原子と共に環を形成しても
良い。

【００３９】Ｌ^-：アニオン残基を表す。

【００４０】かかるアズレニウム塩の代表的具体例とし
ては、次のものが挙げられる。

【００４１】

【化６】

【００４２】３．シアニン色素シアニン色素は公知であり、例えば特開昭58‐118650
号、同58‐224354号、同59‐14606号等記載の化合物が
ある。

【００４３】４．フタロシアニン化合物有機系光導電材料の一つであるフタロシアニン系化合物
は、他のものに比べ感光域が長波長域に拡大しているこ
とが知られている。そしてα型のフタロシアニン化合物
が結晶形の安定なβ型のフタロシアニン化合物に変わる
過程で各種結晶形のフタロシアニン化合物が見出されて
いる。これらの光導電性を示すフタロシアニン系化合物
としては、例えば特公昭49‐4338号記載のＸ型無金属フ
タロシアニン化合物、特開昭58‐182639号、同60‐1915
1号に記載されているτ、τ′、η、η′型無金属フタ
ロシアニン化合物、特開昭63-148269号に記載されてい
るフタロシアニン化合物等の他、各種の金属フタロシア
ニン化合物が例示される。例えばチタニルフタロシアニ
ン化合物について特願昭62‐241938号に記載されている
ものがある。この他、特に半導体レーザに好適なフタロ
シアニン化合物を例示する。

【００４４】

【化７】

【００４５】

【化８】

【００４６】５．アゾ化合物ジスアゾ化合物として、下記一般式に示すものが例示さ
れる。

【００４７】一般式〔Ｇ６〕：Ｃp−Ｍ＝Ｎ−Ｄ−Ｎ＝Ｎ−Ｃp 但し、Ｄとしては、

【００４８】

【化９】

【００４９】

【化１０】

【００５０】等がある。

【００５１】又、その他のアゾ化合物として、下記各一
般式に示すものがある。

【００５２】

【化１１】

【００５３】但し、Ａr³、Ａr⁴、Ａr⁵は、それぞれ置換
若しくは無置換の次記２種の基；炭素環式芳香族環基、
複素環式芳香族環基を表す。

【００５４】更に、Ａr³、Ａr⁴、Ａr⁵の具体例を例示す
ると、

【００５５】

【化１２】

【００５６】又、Ｃp（カプラー）としては、例えば次
のようなものがある。

【００５７】

【化１３】

【００５８】但し、Ａとしては、

【００５９】

【化１４】

【００６０】ＣＧＬにおいて、ＣＧＭのバインダ物質に
対する含有量比は5/1〜1/10とするのが好ましく、3/1〜
1/3とすると更に好ましい。

【００６１】ＣＧＭの含有量比が上記範囲より大きいと
黒斑点等が現れ易くなる。但し、ＣＧＭの割合があまり
小さいと却って光感度等が低下してしまう。

【００６２】ＣＧＬの膜厚は0.1〜10μm以上とすること
が好ましく、0.2〜５μmの範囲内とすることがより好ま
しい。ＣＴＬの膜厚は10μm以上であることが好まし
い。

【００６３】感光層全体の膜厚は10〜40μmの範囲内と
するのが好ましく、15〜35μmの範囲内とすると更に好
ましい。この膜厚が上記範囲内よりも小さいと、薄いた
めに帯電電位が小さくなり、耐刷性も低下する傾向があ
る。又、膜厚が上記範囲よりも大きいと、却って残留電
位は上昇する上に、上記したＣＧＬが厚すぎる場合と同
様にキャリア移動途中でトラップサイトにつかまり、十
分な輸送能が得がたくなる傾向が現れ、このため繰返し
使用時には残留電位の上昇が起こり易くなる。

【００６４】ＣＧＬ中にＣＴＭをも含有せしめることも
可能である。

【００６５】粒状のＣＧＭを分散せしめてＰＣＬを形成
する場合においては、該ＣＧＭは２μm以下、好ましく
は１μm以下、更に好ましくは0.5μm以下の平均粒径の
粉粒体とされるのが好ましい。

【００６６】又、キャリア輸送層において、キャリア輸
送物質は、バインダ物質との相溶性に優れたものが好ま
しい。

【００６７】これにより、バインダ物質に対する量を多
くしても濁り及び不透明化を生ずることがないので、バ
インダ物質との混合割合を非常に広くとることができ、
又、相溶性が優れていることから電荷発生層が均一、か
つ安定であり、結果的に感度、帯電特性がより良好とな
り、更に高感度で鮮明な画像を形成できる感光体をうる
ことができる。

【００６８】更に、特に反復転写式電子写真に用いたと
き、疲労劣化を生ずることが少ないという作用効果を奏
することができる。

【００６９】本発明で使用可能なＣＴＭは、カルバゾー
ル誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導
体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導
体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘
導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、
ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾ
フラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、
アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、
フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリ-N
-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9-
ビニルアントラセン等から選ばれた１種又は２種以上で
あってよい。

【００７０】かかるキャリア輸送物質の具体的化合物例
は特開昭63-50851号に記載されている。

【００７１】以下にその一般式を掲げる。

【００７２】キャリア輸送物質として次の一般式〔Ｔ
１〕又は〔Ｔ２〕のスチリル化合物が使用可能である。

【００７３】

【化１５】

【００７４】但し、この一般式中、Ｒ²¹、Ｒ²²：置換若しくは無置換２種の基;アルキル
基、アリール基を表し、置換基としてはアルキル基、ア
ルコキシ基、置換アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、ア
リール基を用いる。Ａr¹⁵、Ａr¹⁶：置換若しくは無置換のアリール基を表
し、置換基としてアルキル基、アルコキシ基、置換アミ
ノ基、水酸基、ハロゲン原子、アリール基を用いる。

【００７５】Ｒ²³、Ｒ²⁴：置換若しくは無置換のアリー
ル基、水素原子を表し、置換基としてはアルキル基、ア
ルコキシ基、置換アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、ア
リール基を用いる。

【００７６】

【化１６】

【００７７】但し、この一般式中、Ｒ²⁵：置換若しくは無置換のアリール基、Ｒ²⁶：水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の
３種の基；アルキル基、アルコキシ基、アミノ基及び水
酸基、Ｒ²⁷：置換若しくは無置換の２種の基；アルキル基、複
素環基を表す。

【００７８】又、ＣＴＭとして次の一般式〔Ｔ３〕、
〔Ｔ４〕、〔Ｔ４a〕、〔Ｔ４b〕又は〔Ｔ５〕のヒドラ
ゾン化合物も使用可能である。

【００７９】

【化１７】

【００８０】但し、この一般式中、Ｒ²⁸及びＲ²⁹：それぞれ水素原子又はハロゲン原子、Ｒ³⁰及びＲ³¹：それぞれ置換若しくは無置換のアリール
基、Ａr¹⁷：置換若しくは無置換のアリール基を表す。

【００８１】

【化１８】

【００８２】但し、この一般式中、Ｒ³²：置換若しくは無置換の２種の基、カルバゾリル
基、複素環基を表し、Ｒ³³、Ｒ³⁴及びＲ³⁵：水素原子、アルキル基；アリール
基、置換若しくは無置換の２種の基；アリール基、アラ
ルキル基を表す。

【００８３】

【化１９】

【００８４】但し、この一般式中、Ｒ³⁶：メチル基、エチル基、2-ヒドロキシエチル基又は
2-クロルエチル基、Ｒ³⁷：メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基、Ｒ³⁸：メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル基
を示す。

【００８５】

【化２０】

【００８６】但し、この一般式中、Ｒ³⁹は置換若しくは
無置換のナフチル基；Ｒ⁴⁰は置換若しくは無置換のアル
キル基、アラルキル基、アリール基；Ｒ⁴¹は水素原子、
アルキル基又はアリール基；Ｒ⁴²及びＲ⁴³は置換若しく
は無置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基か
らなる互いに同一の若しくは異なる基を示す。

【００８７】

【化２１】

【００８８】但し、この一般式中、Ｒ⁴⁴：置換若しくは無置換の２種の基；アリール基、複
素環基、Ｒ⁴⁵：水素原子、置換若しくは無置換の２種の基；アル
キル基、アリール基、Ｑ：水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アミノ
基、アルコキシ基又はシアノ基、Ｓ：０又は１の整数を表す。

【００８９】又、ＣＴＭとして、次の一般式〔Ｔ６〕の
ピラゾリン化合物も使用可能である。

【００９０】

【化２２】

【００９１】但し、この一般式中、ｌ：０又は１、Ｒ⁴⁶及びＲ⁴⁷：置換若しくは無置換のアリール基、Ｒ⁴⁸：置換若しくは無置換のアリール基若しくは複素環
基、Ｒ⁴⁹及びＲ⁵⁰：水素原子、炭素原子数１〜４のアルキル
基、又は置換若しくは無置換のアリール基若しくはアラ
ルキル基（但し、Ｒ⁴⁹及びＲ⁵⁰は共に水素原子であるこ
とはなく、又前記ｌが０のときはＲ⁴⁹は水素原子ではな
い。）更に、次の一般式〔Ｔ７〕のアミン誘導体もＣＴＭとし
て使用できる。

【００９２】

【化２３】

【００９３】但し、この一般式中、Ａr¹⁸、Ａr¹⁹：置換若しくは無置換のフェニル基を表
し、置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、ニトロ
基、アルコキシ基を用いる。

【００９４】Ａr²⁰：置換若しくは無置換のフェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フルオレニル基、複素
環基を表し、置換基としてはアルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、水酸基、アリールオキシ基、アリー
ル基、アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ基、モルホリノ
基、ナフチル基、アンスリル基及び置換アミノ基を用い
る。

【００９５】但し、置換アミノ基の置換基としてアシル
基、アルキル基、アリール基を用いる。

【００９６】更に、次の一般式〔Ｔ８〕の化合物もＣＴ
Ｍとして使用できる。

【００９７】

【化２４】

【００９８】但し、この一般式中、Ａr²¹：置換又は無置換のアリーレン基を表し、Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²、Ｒ⁵³及びＲ⁵⁴：置換若しくは無置換の３種
の基；アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。

【００９９】更に、次に一般式〔Ｔ９〕の化合物もＣＴ
Ｍとして使用できる。

【０１００】

【化２５】

【０１０１】但し、この一般式中、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶、Ｒ⁵⁷及
びＲ⁵⁸は、それぞれ水素原子、置換若しくは無置換のア
ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール
基、ベンジル基又はアラルキル基、Ｒ⁵⁹及びＲ⁶⁰は、そ
れぞれ水素原子、置換若しくは無置換の炭素原子数１〜
40のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シ
クロアルケニル基、アリール基又はアラルキル基（但
し、Ｒ⁵⁹とＲ⁶⁰とが共同して炭素原子数３〜10の飽和若
しくは無飽和の炭化水素環を形成してもよい。）Ｒ⁶¹、
Ｒ⁶²、Ｒ⁶³及びＲ⁶⁴は、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子、ヒドロキシル基、置換若しくは無置換のアルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、ア
ラルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基又はアリールアミノ基である。

【０１０２】ＣＴＬ、ＣＧＬ中に酸化防止剤を含有せし
めることができる。

【０１０３】これにより放電で発生するオゾンの影響を
抑制でき、繰返し使用時の残留電位上昇や帯電電位の低
下を防止できる。

【０１０４】酸化防止剤としては、ヒンダードフェノー
ル、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリ
ールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピ
ロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有
機燐化合物等が挙げられる。

【０１０５】これらの具体的化合物としては、特開昭63
-44662号、同63-14153号、同63-50849号、同63-18355
号、同63-58455号、同63-71856号、同63-71855号及び同
63-146046号に記載がある。

【０１０６】感光層中に高分子半導体を含有せしめるこ
ともできる。

【０１０７】こうした高分子有機半導体のうちポリ-N-
ビニルカルバゾール又はその半導体が効果が大であり、
好ましく用いられる。かかるポリ-N-ビニルカルバゾー
ル誘導体とは、その繰返し単位における全部又は一部の
カルバゾール環が種々の置換基、例えばアルキル基、ニ
トロ基、アミノ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子によ
って置換されたものである。

【０１０８】又、感光層内に感度の向上、残留電位ない
し反復使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１
種の電子受容性物質を含有せしめることができる。

【０１０９】本発明の感光体に使用可能な電子受容性物
質としては、例えば無水琥珀酸酸、無水マレイン酸、ジ
ブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無
水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水
フタル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット
酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベ
ンゼン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾ
ニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、
クロラニル、ブルマニル、2-メチルナフトキノン、ジク
ロルジシアノパラベンゾキノン、アントラキノン、ジニ
トロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9-フル
オレニリデン-〔ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル〕、ポリニトロ-9-フルオレニリデン-〔ジシアノメチ
リンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、o-ニトロ安息香
酸、p-ニトロ安息香酸、3,5-ジニトロ安息香酸、ペンタ
フルオル安息香酸、5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロ
サリチル酸、フタル酸、メリット酸、その他の電子親和
力の大きい化合物の一種又は二種以上を挙げることがで
きる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やCl、
CN、NO₂ 等の電子吸引性の置換基のあるベンゼン誘導体
が特によい。

【０１１０】又、更に表面改質剤としてシリコーンオイ
ル、弗素系界面活性剤を存在させてもよい。又、耐久性
向上剤としてアンモニウム化合物が含有されていてもよ
い。

【０１１１】更に紫外線吸収剤を用いてもよい。

【０１１２】好ましい紫外線吸収剤としては、安息香
酸、スチルベン化合物等及びその誘導体、トリアゾール
化合物、イミダゾール化合物、トリアジン化合物、クマ
リン化合物、オキサジアゾール化合物、チアゾール化合
物及びその誘導体等の含窒素化合物類が用いられる。

【０１１３】感光体の構成層に使用可能なバインダ樹脂
としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、アク
リル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステ
ル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラ
ミン樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビ
リニデン、ポリスチレン等の付加重合型樹脂、重付加型
樹脂、重縮合型樹脂並びにこれらの繰返し単位のうち２
つ以上を含む共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共
重合体樹脂等の絶縁性樹脂、スチレン-ブタジエン共重
合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体
樹脂等、更にはN-ビニルカンバゾール等の高分子有機半
導体、変性シリコーン樹脂等を挙げることができる。

【０１１４】上記のバインダは、単独であるいは２種以
上の混合物として用いることができる。

【０１１５】必要に応じて設けられる保護層のバインダ
としては、体積抵抗10⁸Ω・cm以上、好ましくは10¹⁰Ω
・cm以上、より好ましくは10¹²Ω・cm以上の透明樹脂が
用いられる。

【０１１６】又前記のバインダは熱により硬化する樹脂
を用いてもよく、かかる熱により硬化する樹脂として
は、例えば熱硬化性アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹
脂、メラミン樹脂、又はこれらの共重合若しくは縮合樹
脂があり、その他電子写真材料に供される熱硬化性樹脂
の全てが利用される。

【０１１７】又、前記保護層中には加工性及び物性の改
良（亀裂防止、柔軟性付与等）を目的として必要により
熱可塑性樹脂を50wt％未満含有せしめることができる。
かかる熱可塑性樹脂としては、例えばポリプロピレン、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリカーボネート樹脂又はこれらの共重合体
樹脂、ポリ-N-ビニルカルバゾール等の高分子有機半導
体、その他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全て
が利用される。

【０１１８】ＣＧＬは、次のような方法によって設ける
ことができる。

【０１１９】（イ）ＣＧＭ等にバインダ、溶媒を加えて
混合溶解した溶液を塗布する方法。

【０１２０】（ロ）ＣＧＭ等をボールミル、ホモミキ
サ、サンドミル、超音波分散機、アトライタ等によって
分散媒中で微細粒子とし、バインダを加えて混合分散
して得られる分散液を塗布する方法。

【０１２１】これらの方法において超音波の作用下に粒
子を分散させると、均一分散が可能になる。

【０１２２】又、ＣＴＬは、既述のＣＴＭを単独である
いは既述したバインダ樹脂と共に溶解、分散せしめたも
のを塗布、乾燥して形成することができる。

【０１２３】この場合、ＣＧＬ中にＣＴＭを含有せしめ
る場合には、上記（イ）の溶液、（ロ）の分散液中に予
めＣＴＭを溶解又は分散せしめる方法、即ちＣＧＬ中に
ＣＴＭを添加する方法がある。この場合は、ＣＴＭの添
加量をバインダ100重量部に対して1〜100重量部の範囲
内とするのが好ましい。

【０１２４】又、ＣＴＭを含有する溶液をＣＧＬ上に塗
布し、ＣＧＬを膨潤あるいは一部溶解せしめてＣＴＭを
ＣＧＬ内に拡散せしめる方法がある。この方法を採用し
た場合には、上述のようにＣＧＬ中にＣＴＭを添加して
おく必要はないが、上述の二方法を同時に行うことも差
し支えない。

【０１２５】層の形成に使用される溶剤あるいは分散媒
としては、ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジ
アミン、イソプロパノールアミン、トリエタノールアミ
ン、トリエチレンジアミン、N,N-ジメチルホルムアミ
ド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、1,
2-ジクロルエタン、ジクロルメタン、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシ
ド等を挙げることができる。

【０１２６】上記ＰＣＬ、ＵＣＬ、ＯＣＬ等は、例えば
ブレード塗布、ディップ塗布、スプレー塗布、ロール塗
布、スパイラル塗布等により設けることができる。

【０１２７】なお、導電性支持体は金属板、金属ドラム
又は導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物
若しくはアルミニウム、パラジウム、金等の金属より成
る導電性薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段によ
り、紙、プラスチックフィルム等の基体に設けて成るも
のが用いられる。

【０１２８】

【実施例】以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明の
実施態様はこれらに限定されない。

【０１２９】ポリカルボジイミド（１）カルボジライトワニスＰＴＶ−Ｔ(日清紡製) ポリカルボジイミド（２）〃ＰＯＴＶ−Ｔ(日清紡製) ポリカルボジイミド（３）〃ＰＭＶ−Ｔ(日清紡製) 実施例１カルボジライトワニスＰＴＶ−Ｔを1,1,2-トリクロル
エタン／テトラヒドロフラン＝４／１（体積比）で、１
重量％になるように下引液を調製した。

【０１３０】アルミニウムドラム（コニカＵ−3035
用）に上記下引液を浸漬塗布にて、0.3μmの塗膜を形成
した。

【０１３１】次にＣＧＭとしてフルオレノン系ジスアゾ
顔料（イ）20g及びバインダーとしてポリビニルブチラ
ール樹脂エスレックＢＸ−１（積水化学社製）10gを
メチルエチルケトン1000mlに溶解し、サンドミルにて24
hrsミリングし、ＣＧＬ塗工液を得た。

【０１３２】これを上記下引層上に浸漬塗布して0.3μm
厚のＣＧＬを形成した。

【０１３３】その後、ＣＴＭとして、（ロ）120gとバイ
ンダーとしてポリカーボネートＺ−200（三菱ガス化
学社製）165gを1,2-ジクロルエタン1000mlへ溶解させ、
ＣＴＬ塗工液を得た。

【０１３４】これを上記ＣＧＬ上に浸漬塗布後、100℃
で１hr乾燥し、20μm厚のＣＴＬを形成し、本発明の下
引層を含有した感光体（Ａ）を得た。

【０１３５】

【化２６】

【０１３６】実施例２，３実施例１のカルボジライトワニスＰＴＶ−Ｔをカルボ
ジライトワニスＰＯＴＶ−Ｔ，ＰＭＶ−Ｔに代えた以
外は、実施例１と同様に行ない、本発明の感光体（Ｂ）
（Ｃ）を得た。

【０１３７】比較例１実施例１の下引層を設けないで、他は実施例１と同様に
行ない、比較例の感光体（Ｄ）を得た。

【０１３８】得られた感光体をコニカＵ−3035改に装
着し、常温常湿（20℃，50％RH）にて、10万コピーの電
位ロングラン及び画像出しを行なった。

【０１３９】その結果を表１に示す。

【０１４０】

【表１】

【０１４１】本発明の感光体は、電位安定性が良好で、
画像欠陥もなく良好である。それに反して比較例の感光
体は、電位安定性が悪く、画像も荒れており（ガサツ
キ）、画像欠陥が多い。

【０１４２】更に、本発明の感光体は低温低湿（10℃，
20％RH）高温高湿（30℃，80％RH）においても、表１と
同様に安定した特性を示した。

【０１４３】又、アルミ蒸着シート上に、実施例１，
２，３の下引液をワイヤーバー塗布により、約0.3μmの
膜厚に塗布した。本下引層形成シートをメチルエチルケ
トン中に10分浸漬し、その後乾燥して、顕微鏡観察する
ことにより、下引層が溶解していないことを確認した。

【０１４４】

【発明の効果】本発明による電子写真感光体は、残留電
位上昇が少なく、現像コントラストが低下しにくく、環
境変動に対する電位安定性に優れている。

【０１４５】又本発明による電子写真感光体は導電性支
持体と光導電層間の接着強度が大きく、耐久性も優れて
おり、上層塗布時の触媒に対する溶解性も良好で、電位
変動が小さく、画像欠陥が生じにくい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に使用する感光体の具体例を示す断面図
である。

【符号の説明】

１導電性基体４キャリア輸送層（ＣＴＬ）６キャリア発生層（ＣＧＬ）７下引層（ＵＣＬ）８感光層（ＰＣＬ）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に下引層，光導電層を有
する電子写真感光体において、該下引層がポリカルボジ
イミドを含有することを特徴とする電子写真感光体。