JPH06265864A - Atmospheric pressure plasma treating device - Google Patents

Atmospheric pressure plasma treating device

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JPH06265864A
JPH06265864A JP4979193A JP4979193A JPH06265864A JP H06265864 A JPH06265864 A JP H06265864A JP 4979193 A JP4979193 A JP 4979193A JP 4979193 A JP4979193 A JP 4979193A JP H06265864 A JPH06265864 A JP H06265864A
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plasma
processed
discharge electrode
electrode
atmospheric pressure
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Yoichiro Miyaguchi
耀一郎 宮口
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To improve the adhesive power of a sealing member, etc., by subjecting the surfaces of an object to be treated under an atm. pressure and simultaneously forming the thin films on these surfaces by using discharge electrodes coated with an org. material or inorg. oxide on at least one of electrode surfaces. CONSTITUTION:The surfaces of a plastic film (PF) 6 are subjected to the plasma treatment and simultaneously, the thin films are formed on these surfaces by using the discharge electrodes 3a, 3b which are formed to a Rogowskii shape having curls at both ends and are coated with the org. material or inorg. oxide on at least one of the electrode surfaces. The surfaces of the PF 6 are etched by plasma sputtering using an inert gas for these purposes; in addition, functional groups are formed on the surfaces of the PF 6 by the plasma reaction of the PF 6 and the O2 incorporated into a gaseous mixture. Further, the surfaces of the discharge electrodes 3 are coated with the polyimide or the inorg. oxide, by which the surfaces of the PF 6 are subjected to the coating entailing a bonding reaction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は大気圧プラズマ処理装置
に関し、詳しくは、プラスチックフィルムあるいは金属
等のような接着力の弱い被処理物の表面に薄膜を成形す
るための大気圧プラズマ処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an atmospheric pressure plasma processing apparatus, and more particularly to an atmospheric pressure plasma processing apparatus for forming a thin film on the surface of an object to be processed such as a plastic film or metal having a weak adhesive force. .

【０００２】[0002]

【従来の技術】近時、液晶表示装置等にあっては、安価
で軽量なプラスチックフィルム基板が多用されており、
この液晶表示装置は表面に透明電極、絶縁膜および配向
膜が順次形成された一対のプラスチックフィルム基板を
シール部材で貼り合わせ、該基板およびシール部材によ
って画成される空間部に液晶を封入した後、液晶封入口
を封止するようにしている。2. Description of the Related Art Recently, inexpensive and lightweight plastic film substrates are widely used in liquid crystal display devices and the like.
In this liquid crystal display device, a pair of plastic film substrates having a transparent electrode, an insulating film and an alignment film sequentially formed on the surface are bonded together by a sealing member, and liquid crystal is sealed in a space defined by the substrate and the sealing member. , The liquid crystal filling port is sealed.

【０００３】このような液晶表示装置にあっては、その
製造段階でシール部材、封止部材の接着力の向上、配向
膜の耐絶縁性向上、さらには、上述したような配向膜下
の絶縁膜の品質を向上させるための必須の要件になって
いる。In such a liquid crystal display device, the adhesive strength of the sealing member and the sealing member is improved, the insulation resistance of the alignment film is improved, and the insulation under the alignment film as described above is made at the manufacturing stage. It has become an essential requirement for improving film quality.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の液晶表示装置にあっては、基板にプラスチッ
クフィルムを使用しており、この基板は通常安定性を必
要とすることから高分子化されているとともに、表面に
ハードコートがなされている場合があるため、シール部
材や封止部材の接着力が弱く、また、配向膜の接着力が
非常に弱くなってしまう。However, in such a conventional liquid crystal display device, a plastic film is used as a substrate, and this substrate is usually polymerized because stability is required. In addition, since the surface may be hard-coated, the adhesive force of the seal member and the sealing member is weak, and the adhesive force of the alignment film is very weak.

【０００５】これに加えて、プラスチックフィルムの安
定性を図っていても、このフィルムはＴＧ(ガラス転移
点)やＴｍ(融点)がガラス基板に比べて低く、最高で120
℃〜150℃の熱処理しか行なうことができないため、配
向膜材料としてのポリアミド(またはポリイミド)の溶液
も最適条件の270℃〜400℃の熱処理が不可能となってし
まい、不完全な被膜成形となってしまった。In addition to this, even if the stability of the plastic film is aimed at, this film has a lower TG (glass transition point) and Tm (melting point) than the glass substrate, and the maximum is 120.
Since only heat treatment of ℃ ~ 150 ℃ can be performed, the solution of polyamide (or polyimide) as the alignment film material cannot be heat-treated at 270 ℃ ~ 400 ℃ under the optimum conditions, resulting in incomplete film formation. It is had.

【０００６】すなわち、プラスチックフィルムを使用し
た液晶表示装置にあっては、配向材料の密着力が不足す
る上に膜の緻密性が弱いため、ピンホールや溶剤を若干
含んだものとなってしまい、接着力が非常に低下してし
まった。そこで請求項１記載の発明は、両端部にカール
を有するロゴウスキー形状に形成されるとともに、その
電極表面の少なくとも一方に有機材料あるいは無機酸化
物が被膜された放電電極を用い、大気圧下で被処理物の
表面をプラズマ処理するのと同時に該表面に薄膜を形成
することにより、接着力が弱い被処理物の表面の改質と
該被処理物の表面に薄膜を形成する作業を同時に行なう
ことができ、シール部材等の接着力を向上させることが
できる大気圧プラズマ処理装置を提供することを目的と
している。That is, in a liquid crystal display device using a plastic film, the adhesiveness of the alignment material is insufficient and the denseness of the film is weak, so that some pinholes and solvents are included. The adhesive strength has dropped significantly. Therefore, the invention according to claim 1 uses a discharge electrode which is formed in a Rogowski shape having curls at both ends, and at least one of its electrode surfaces is coated with an organic material or an inorganic oxide, and is covered under atmospheric pressure. By simultaneously performing plasma processing on the surface of the object to be processed, forming a thin film on the surface, modification of the surface of the object having weak adhesion and formation of a thin film on the surface of the object to be processed at the same time. It is an object of the present invention to provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus capable of improving the adhesive force of a seal member or the like.

【０００７】請求項２記載の発明は、延在方向に開口す
るスリットが形成された中空状部材内に、その表面の少
なくとも一方に有機材料あるいは無機酸化物が被膜され
た一対の放電電極を設け、該中空状部材内に不活性ガス
を導入して大気圧下で被処理物の表面をプラズマ処理す
るのと同時に該表面に薄膜を形成することにより、接着
力が弱い被処理物の表面の改質と該被処理物の表面に薄
膜を形成する作業を同時に行なうことができ、シール部
材等の接着力を向上させることができるとともに、高価
な不活性ガスを有効利用しつつプラズマ生成物をスリッ
ト開口部から被処理物に容易に照射することができる処
理能力の高い小型の大気圧プラズマ処理装置を提供する
ことを目的としている。According to a second aspect of the present invention, a pair of discharge electrodes coated with an organic material or an inorganic oxide on at least one surface thereof are provided in a hollow member having a slit formed in the extending direction. , By introducing an inert gas into the hollow member and plasma-treating the surface of the object to be treated under atmospheric pressure, at the same time forming a thin film on the surface, The modification and the work of forming a thin film on the surface of the object to be processed can be performed at the same time, the adhesive force of the sealing member and the like can be improved, and the plasma product can be produced while effectively using the expensive inert gas. It is an object of the present invention to provide a small-sized atmospheric pressure plasma processing apparatus that has a high processing capacity and that can easily irradiate an object to be processed through a slit opening.

【０００８】請求項３記載の発明は、中空状部材のスリ
ット開口部と被処理物の間に線状または棒状の中間電極
を設け、該中間電極に電圧を印加することにより、中空
状部材内で発生したプラズマ生成物を被処理物の表面に
誘引することにより、プラズマ生成物をより積極的に被
処理物に誘引することができ、表面処理と薄膜の形成を
効率良く行なうことができる大気圧プラズマ処理装置を
提供することを目的としている。According to a third aspect of the present invention, a linear or rod-shaped intermediate electrode is provided between the slit opening of the hollow member and the object to be processed, and a voltage is applied to the intermediate electrode, whereby By attracting the plasma product generated in step 1 to the surface of the object to be processed, the plasma product can be more actively attracted to the object to be processed, and surface treatment and thin film formation can be performed efficiently. An object of the present invention is to provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus.

【０００９】請求項４記載の発明は、中空状部材に対向
する表面を有する被処理物の裏面に線状または棒状の裏
面電極を設け、該裏面電極に直流電圧あるいは高周波電
圧を印加して、中空状部材内で発生したプラズマ生成物
を被処理物の表面に誘引することにより、電極にプラズ
マ生成物が付着したりすること等を防止しつつ、プラズ
マ生成物をより積極的に被処理物に誘引することができ
るとともに、短時間で効率良くプラズマ処理と被膜の形
成を行なうことができる大気圧プラズマ処理装置を提供
することを目的としている。According to a fourth aspect of the present invention, a linear or rod-shaped back electrode is provided on the back surface of the object having a surface facing the hollow member, and a DC voltage or a high frequency voltage is applied to the back electrode, By attracting the plasma product generated in the hollow member to the surface of the object to be processed, the plasma product is more positively processed while preventing the plasma product from adhering to the electrode. It is an object of the present invention to provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus which can be efficiently attracted to the plasma and can efficiently perform plasma processing and film formation in a short time.

【００１０】請求項５記載の発明は、所定方向に延在す
るとともに、下端が該延在方向に沿って開口する中空状
部材と、該中空状部材の下端部に取付けられ、互いに所
定間隔離隔して対向する一対の放電電極と、該一対の放
電電極の表面の少なくとも一方に被膜された有機材料あ
るいは無機酸化物と、を設け、該中空状部材内に不活性
ガスを導入して大気圧下で被処理物の表面をプラズマ処
理するのと同時に該表面に薄膜を形成することにより、
接着力が弱い被処理物の表面の改質と該被処理物の表面
に薄膜を形成する作業を同時に行なうことができ、シー
ル部材等の接着力を向上させることができるとともに、
放電電極に電力を有効に供給することができ、さらに、
放電電極の交換や修理を容易に行なうことができる大気
圧プラズマ処理装置を提供することを目的としている。According to a fifth aspect of the present invention, a hollow member extending in a predetermined direction and having a lower end opened along the extending direction, and a hollow member attached to the lower end of the hollow member are separated from each other by a predetermined distance. And a pair of discharge electrodes facing each other, and an organic material or an inorganic oxide coated on at least one of the surfaces of the pair of discharge electrodes, and an inert gas is introduced into the hollow member so that the atmospheric pressure is reached. By plasma-treating the surface of the object to be treated below at the same time, by forming a thin film on the surface,
It is possible to simultaneously perform the work of modifying the surface of the object to be treated having a weak adhesive force and forming a thin film on the surface of the object to be treated, and improving the adhesive force of the seal member and the like,
Electric power can be effectively supplied to the discharge electrode, and further,
It is an object of the present invention to provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus capable of easily replacing or repairing a discharge electrode.

【００１１】請求項６記載の発明は、中空状部材の下端
と被処理物の間あるいは中空状部材に対向する表面を有
する被処理物の裏面に線状または棒状の電極を設け、該
電極に電圧を印加することにより、中空状部材内で発生
したプラズマ生成物を被処理物の表面に誘引することに
より、プラズマ生成物をより積極的に被処理物に誘引す
ることができ、表面処理と薄膜の形成を効率良く行なう
ことができる大気圧プラズマ処理装置を提供することを
目的としている。According to a sixth aspect of the present invention, a linear or rod-shaped electrode is provided between the lower end of the hollow member and the object to be processed or on the back surface of the object to be processed having a surface facing the hollow member. By applying a voltage, the plasma product generated in the hollow member can be attracted to the surface of the object to be treated, so that the plasma product can be more positively attracted to the object to be treated. It is an object of the present invention to provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus capable of efficiently forming a thin film.

【００１２】請求項７記載の発明は、延在方向に開口す
るスリットが形成され、内周面に有機材料あるいは無機
酸化物が被膜された中空の放電電極と、該放電電極と被
処理物の間あるいは該放電電極に対向する表面を有する
被処理物の裏面に設けられた線状または棒状の対向放電
電極と、を設け、大気圧下で被処理物の表面を放電プラ
ズマ処理するのと同時に該表面に薄膜を形成することに
より、接着力が弱い被処理物の表面の改質と該被処理物
の表面に薄膜を形成する作業を同時に行なうことがで
き、シール部材等の接着力を向上させることができると
ともに、高価な不活性ガスを有効利用しつつプラズマ生
成物をスリット開口部から被処理物に容易に誘引するこ
とができる処理能力の高い小型の大気圧プラズマ処理装
置を提供することを目的としている。According to a seventh aspect of the present invention, a hollow discharge electrode having a slit opening in the extending direction and having an inner peripheral surface coated with an organic material or an inorganic oxide; and the discharge electrode and the object to be treated. And a line-shaped or rod-shaped opposed discharge electrode provided on the back surface of the object to be processed having a surface facing the discharge electrode, and simultaneously performing discharge plasma processing on the surface of the object to be processed under atmospheric pressure. By forming a thin film on the surface, it is possible to simultaneously modify the surface of an object to be processed that has weak adhesive force and to form a thin film on the surface of the object to be processed, thereby improving the adhesive force of a sealing member or the like. (EN) A small atmospheric pressure plasma processing apparatus having a high processing capacity capable of easily attracting plasma products to a processing object from a slit opening while effectively utilizing an expensive inert gas. To It is the target.

【００１３】請求項８記載の発明は、延在方向に開口す
るスリットが形成され、内周面に有機材料あるいは無機
酸化物が被膜された中空の放電電極と、該放電電極の内
部に収納され、該放電電極と共に所定方向に延在する線
状または棒状の放電電極と、前記中空の放電電極のスリ
ット開口部と被処理物の間あるいは該放電電極に対向す
る表面を有する被処理物の裏面に設けられた線状または
棒状の電極と、を設け、大気圧下で被処理物の表面を放
電プラズマ処理するのと同時に該表面に薄膜を形成する
ことにより、中空の放電電極と棒状の放電電極の間でプ
ラズマ生成物を安定させて発生させ、接着力が弱い被処
理物の表面の改質と該被処理物の表面に薄膜を形成する
作業を同時に行なうことができ、シール部材等の接着力
を向上させることができるとともに、高価な不活性ガス
を有効利用しつつプラズマ生成物をスリット開口部から
被処理物に容易に誘引することができる処理能力の高い
小型の大気圧プラズマ処理装置を提供することを目的と
している。According to an eighth aspect of the present invention, a hollow discharge electrode having a slit formed in the extending direction, the inner peripheral surface of which is coated with an organic material or an inorganic oxide, and the hollow discharge electrode is housed inside the discharge electrode. A back surface of the object to be processed having a linear or rod-shaped discharge electrode extending in a predetermined direction together with the discharge electrode and a surface between the slit opening of the hollow discharge electrode and the object to be processed or a surface facing the discharge electrode And a linear or rod-shaped electrode provided on the surface of the object to be treated, and the discharge plasma treatment is performed on the surface of the object under atmospheric pressure, and at the same time a thin film is formed on the surface, thereby forming a hollow discharge electrode and a rod-shaped discharge. A plasma product can be stably generated between the electrodes, the surface of an object to be processed having a weak adhesive force can be modified and a thin film can be formed on the surface of the object to be processed at the same time. Improving adhesion With the object of providing a small atmospheric pressure plasma processing apparatus having a high processing capacity capable of easily attracting plasma products to the object to be processed from the slit opening while effectively using an expensive inert gas. There is.

【００１４】請求項９記載の発明は、放電電極の周囲に
磁場を設けることにより、生成したプラズマの拡散を効
果的に行なうことできる大気圧プラズマ処理装置を提供
することを目的としている。An object of the present invention is to provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus capable of effectively diffusing generated plasma by providing a magnetic field around the discharge electrode.

【００１５】[0015]

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
上記課題を解決するために、対向する一対の放電電極を
有し、大気圧下でプラズマを発生させて被処理物をプラ
ズマ処理するプラズマ処理装置において、前記放電電極
を両端部にカールを有するロゴウスキー形状に形成する
とともに、その電極表面の少なくとも一方に有機材料あ
るいは無機酸化物を被膜し、不活性ガス下で放電電極に
電圧を印加することにより、被処理物の表面をプラズマ
処理するのと同時に該表面に薄膜を形成することを特徴
としている。The invention according to claim 1 is
In order to solve the above problems, in a plasma processing apparatus having a pair of discharge electrodes facing each other and plasma-generating an object to be processed by generating plasma under atmospheric pressure, the discharge electrode has a curl at both ends Rogowski At the same time that the surface of the object to be processed is plasma-processed by forming it into a shape, coating at least one of the electrode surfaces with an organic material or an inorganic oxide, and applying a voltage to the discharge electrode under an inert gas. It is characterized in that a thin film is formed on the surface.

【００１６】請求項２記載の発明は、上記課題を解決す
るために、大気圧下でプラズマを発生させて被処理物を
プラズマ処理するプラズマ処理装置において、所定方向
に延在するとともに、該延在方向に開口するスリットが
形成された中空状部材と、該中空状部材内に収納され、
互いに対向して配設された一対の放電電極と、該一対の
放電電極の表面の少なくとも一方に被膜された有機材料
あるいは無機酸化物と、を備え、前記中空状部材内に不
活性ガスを導入して放電電極に電圧を印加し、中空状部
材内で発生したプラズマ生成物をスリット開口部を介し
て被処理物に照射することにより、被処理物の表面を放
電プラズマ処理するのと同時に該表面に薄膜を形成する
ことを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, a second aspect of the present invention is a plasma processing apparatus for generating plasma under atmospheric pressure to perform plasma processing on an object to be processed, which extends in a predetermined direction and is extended. A hollow member formed with a slit that opens in the present direction, and housed in the hollow member,
Introducing an inert gas into the hollow member, comprising a pair of discharge electrodes arranged to face each other, and an organic material or an inorganic oxide coated on at least one surface of the pair of discharge electrodes. Then, a voltage is applied to the discharge electrode, and the plasma product generated in the hollow member is irradiated to the object to be processed through the slit opening, so that the surface of the object to be processed is subjected to discharge plasma processing at the same time. The feature is that a thin film is formed on the surface.

【００１７】請求項３記載の発明は、上記課題を解決す
るために、請求項２記載の発明において、前記中空状部
材のスリット開口部と被処理物の間に線状または棒状の
中間電極を設け、該中間電極に電圧を印加することによ
り、中空状部材内で発生したプラズマ生成物を被処理物
の表面に誘引することを特徴としている。請求項４記載
の発明は、上記課題を解決するために、請求項２記載の
発明において、前記中空状部材に対向する表面を有する
被処理物の裏面に線状または棒状の裏面電極を設け、該
裏面電極に直流電圧あるいは高周波電圧を印加すること
により、中空状部材内で発生したプラズマ生成物を被処
理物の表面に誘引することを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 3 is the invention of claim 2, wherein a linear or rod-shaped intermediate electrode is provided between the slit opening of the hollow member and the object to be treated. It is characterized in that the plasma product generated in the hollow member is attracted to the surface of the object to be processed by providing the intermediate electrode with a voltage. In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 4 is the invention according to claim 2, wherein a linear or rod-shaped back surface electrode is provided on the back surface of the object to be processed having a surface facing the hollow member, By applying a direct-current voltage or a high-frequency voltage to the back electrode, plasma products generated in the hollow member are attracted to the surface of the object to be processed.

【００１８】請求項５記載の発明は、上記課題を解決す
るために、大気圧下でプラズマを発生させて被処理物を
プラズマ処理するプラズマ処理装置において、所定方向
に延在するとともに、下端が該延在方向に沿って開口す
る中空状部材と、該中空状部材の下端に取付けられ、互
いに所定間隔離隔して対向する一対の放電電極と、該一
対の放電電極の表面の少なくとも一方に被膜された有機
材料あるいは無機酸化物と、を備え、前記中空状部材内
に不活性ガスを導入して放電電極に電圧を印加し、放電
電極間で発生したプラズマ生成物を放電電極の間から被
処理物に照射することにより、被処理物の表面を放電プ
ラズマ処理するのと同時に該表面に薄膜を形成すること
を特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, a fifth aspect of the present invention is a plasma processing apparatus for plasma processing an object to be processed by generating plasma under atmospheric pressure, which extends in a predetermined direction and has a lower end. A hollow member that opens along the extending direction, a pair of discharge electrodes that are attached to the lower end of the hollow member and face each other with a predetermined separation, and a coating film on at least one of the surfaces of the pair of discharge electrodes. The organic material or inorganic oxide prepared by the above method is used, an inert gas is introduced into the hollow member, a voltage is applied to the discharge electrodes, and plasma products generated between the discharge electrodes are covered from between the discharge electrodes. By irradiating the object to be processed, the surface of the object to be processed is subjected to discharge plasma processing, and at the same time, a thin film is formed on the surface.

【００１９】請求項６記載の発明は、上記課題を解決す
るために、請求項５記載の発明において、前記中空状部
材の下端と被処理物の間あるいは中空状部材に対向する
表面を有する被処理物の裏面に線状または棒状の電極を
設け、該電極に電圧を印加することにより、中空状部材
内で発生したプラズマ生成物を被処理物の表面に誘引す
ることを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, a sixth aspect of the present invention is the method of the fifth aspect, wherein the surface of the hollow member has a surface between the lower end of the hollow member and the object to be treated or facing the hollow member. A linear or rod-shaped electrode is provided on the back surface of the object to be treated, and a voltage is applied to the electrode to attract the plasma product generated in the hollow member to the surface of the object to be treated.

【００２０】請求項７記載の発明は、上記課題を解決す
るために、大気圧下でプラズマを発生させて被処理物を
プラズマ処理するプラズマ処理装置において、所定方向
に延在するとともに該延在方向に開口するスリットが形
成され、内周面に有機材料あるいは無機酸化物が被膜さ
れた中空の放電電極と、該放電電極と被処理物の間ある
いは該放電電極に対向する表面を有する被処理物の裏面
に設けられた線状または棒状の対向放電電極と、を備
え、前記中空の放電電極内に不活性ガスを導入するとと
もに、該放電電極および対向放電電極に電圧を印加し、
これら電極間にプラズマ生成物を発生させることによ
り、被処理物の表面をプラズマ処理するのと同時に該表
面に薄膜を形成することを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, a seventh aspect of the present invention is a plasma processing apparatus for generating plasma under atmospheric pressure to perform plasma processing on an object to be processed, which extends in a predetermined direction and extends. To be treated having a hollow discharge electrode having a slit opening in a direction and having an inner peripheral surface coated with an organic material or an inorganic oxide, and a surface between the discharge electrode and the object to be treated or a surface facing the discharge electrode A linear or rod-shaped counter discharge electrode provided on the back surface of the object, and introducing an inert gas into the hollow discharge electrode, applying a voltage to the discharge electrode and the counter discharge electrode,
By generating a plasma product between these electrodes, the surface of the object to be processed is plasma-processed, and at the same time, a thin film is formed on the surface.

【００２１】請求項８記載の発明は、上記課題を解決す
るために、大気圧下でプラズマを発生させて被処理物を
プラズマ処理するプラズマ処理装置において、所定方向
に延在するとともに該延在方向に開口するスリットが形
成され、内周面に有機材料あるいは無機酸化物が被膜さ
れた中空の放電電極と、該放電電極の内部に収納され、
該放電電極と共に所定方向に延在する線状または棒状の
放電電極と、前記中空の放電電極のスリット開口部と被
処理物の間あるいは該放電電極に対向する表面を有する
被処理物の裏面に設けられた線状または棒状の電極と、
を備え、前記中空の放電電極内に不活性ガスを導入する
とともに、前記各放電電極および電極に電圧を印加する
ことにより、放電電極間で発生したプラズマ生成物を被
処理物の表面に誘引することを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 8 is a plasma processing apparatus for generating plasma under atmospheric pressure to perform plasma processing on an object to be processed, which extends in a predetermined direction and extends. And a hollow discharge electrode having an inner peripheral surface coated with an organic material or an inorganic oxide, and housed inside the discharge electrode.
A linear or rod-shaped discharge electrode extending in a predetermined direction together with the discharge electrode, and between the slit opening of the hollow discharge electrode and the object to be processed, or on the back surface of the object to be processed having a surface facing the discharge electrode. Provided linear or rod-shaped electrodes,
By introducing an inert gas into the hollow discharge electrode and applying a voltage to each of the discharge electrodes and the electrodes, plasma products generated between the discharge electrodes are attracted to the surface of the object to be treated. It is characterized by that.

【００２２】請求項９記載の発明は、上記課題を解決す
るために、放電電極の周囲に磁場を有することを特徴と
している。In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 9 has a magnetic field around the discharge electrode.

【００２３】[0023]

【作用】請求項１記載の発明では、両端部にカールを有
するロゴウスキー形状に形成されるとともに、その電極
表面の少なくとも一方に有機材料あるいは無機酸化物が
被膜された放電電極が用いられ、大気圧下で被処理物の
表面がプラズマ処理されるのと同時に該表面に薄膜が形
成される。According to the first aspect of the present invention, a discharge electrode is used which is formed in a Rogowski shape having curls at both ends, and at least one of its electrode surfaces is coated with an organic material or an inorganic oxide. At the same time that the surface of the object to be processed is plasma-treated, a thin film is formed on the surface.

【００２４】したがって、不活性ガスによるプラズマス
パッタによって被接着物の表面がエッチングされるとと
もに、この被処理物と不活性ガス中に混入されたＯ2と
によるプラズマ反応によって被処理物の表面に官能基が
成形される。これに加えて、放電電極の表面に有機材料
あるいは無機酸化物が被膜されているので、被処理物の
表面に結合反応を伴う被膜が行なわれる。この結果、プ
ラスチックフィルム、金属等の接着力が弱い被処理物の
表面の改質と該被処理物の表面に薄膜が形成される作業
が同時に行なわれ、シール部材等の接着力が大幅に向上
する。Therefore, the surface of the object to be bonded is etched by plasma sputtering with an inert gas, and the surface of the object to be processed is functionalized by the plasma reaction between the object to be processed and O 2 mixed in the inert gas. The base is molded. In addition to this, since the surface of the discharge electrode is coated with an organic material or an inorganic oxide, the surface of the object to be treated is coated with a binding reaction. As a result, the work of forming a thin film on the surface of the object to be processed and the surface of the object to be processed, which has a weak adhesive force such as a plastic film or a metal, are performed at the same time, and the adhesive force of the sealing member is significantly improved. To do.

【００２５】また、放電電極が両端部にカールを有する
ロゴウスキー形状に形成されているので、電極端部に異
常放電が発生することがなく、プラズマ生成物が安定し
て生成される。具体的には、対向する平行平板からなる
一対の放電電極を有し、オゾナイザ放電(疑似グロー放
電)を行なう大気圧プラズマ発生装置では、オゾナイザ
放電からコロナ放電に移行し易く、さらにアーク放電に
移行してしまうため、電極の端部に異常放電が起こり易
く、安定してプラズマを発生させることができない。こ
れに対して、ロゴウスキー電極は両端部にカールを有す
ることから、異常放電が対向する電極面に影響を及ぼす
ことがなく、プラズマ生成物を安定して生成することが
できる。Further, since the discharge electrode is formed in a Rogowski shape having curls at both ends, abnormal discharge does not occur at the electrode ends, and plasma products are stably generated. Specifically, in an atmospheric pressure plasma generator that has a pair of discharge electrodes made of parallel flat plates facing each other and performs an ozonizer discharge (pseudo glow discharge), it is easy to shift from ozonizer discharge to corona discharge, and further to arc discharge. As a result, abnormal discharge is likely to occur at the end of the electrode, and stable plasma cannot be generated. On the other hand, since the Rogowski electrode has curls at both ends, abnormal discharge does not affect the opposing electrode surfaces, and plasma products can be stably generated.

【００２６】請求項２記載の発明では、延在方向に開口
するスリットが形成された中空状部材内に不活性ガスが
導入されて大気圧下で被処理物の表面が放電プラズマ処
理されるのと同時に該表面に薄膜が形成される。したが
って、高価な不活性ガス(Ａｒ、Ｈｅ、Ｎ2、空気等)が
中空状部材内に導入されて有効に使用され、中空状部材
内で生成されたプラズマがスリットを介してプラズマ柱
となって被処理物に供給される。この結果、接着力が弱
い被処理物の表面の改質と該被処理物の表面に薄膜を形
成する作業が同時が行なわれ、シール部材等の接着力の
向上が図られる。According to the second aspect of the invention, the surface of the object to be treated is subjected to discharge plasma treatment under atmospheric pressure by introducing an inert gas into the hollow member having the slit formed in the extending direction. At the same time, a thin film is formed on the surface. Therefore, an expensive inert gas (Ar, He, N 2 , air, etc.) is introduced into the hollow member to be effectively used, and the plasma generated in the hollow member becomes a plasma column through the slit. Are supplied to the object to be processed. As a result, the work of modifying the surface of the object to be treated having a weak adhesive force and the work of forming a thin film on the surface of the object to be treated are simultaneously performed, and the adhesive force of the seal member or the like is improved.

【００２７】また、中空状部材からスリットを介してプ
ラズマ生成物が被処理物に照射されるので、被処理物を
スリットに対して移動させるようにして薄膜の形成が行
なわれる。このとき、中空状部材の延在方向を長くする
ことで、大面積の被処理物の処理が可能になり、処理能
力が大幅に向上する。請求項３記載の発明では、中空状
部材のスリット開口部と被処理物の間に線状あるいは棒
状の中間電極が設けられ、該中間電極に電圧が印加され
ることにより、中空状部材内で発生したプラズマ生成物
が被処理物の表面に誘引される。Further, since the object to be processed is irradiated with the plasma product from the hollow member through the slit, the thin film is formed by moving the object to be processed with respect to the slit. At this time, by extending the extending direction of the hollow member, it becomes possible to process a large area of the object to be processed, and the processing capacity is significantly improved. In the invention according to claim 3, a linear or rod-shaped intermediate electrode is provided between the slit opening of the hollow member and the object to be treated, and a voltage is applied to the intermediate electrode, whereby The generated plasma product is attracted to the surface of the object to be processed.

【００２８】したがって、この中間電極に電圧を印加す
ることで、スリットを通してプラズマ柱が被処理物が誘
引され、被処理物の表面により多くのプラズマが衝突さ
れる。この結果、被処理物の表面が効率良くプラズマ処
理されるとともに、より効率的に薄膜が形成される。請
求項４記載の発明では、中空状部材に対向する表面を有
する被処理物の裏面に線状あるいは棒状の裏面電極が設
けられ、該裏面電極に直流電圧あるいは高周波電圧が印
加されることにより、中空状部材内で発生したプラズマ
生成物が被処理物の表面に誘引される。Therefore, by applying a voltage to the intermediate electrode, the plasma pillar attracts the object to be processed through the slit, and more plasma collides with the surface of the object to be processed. As a result, the surface of the object to be processed is efficiently plasma-processed and a thin film is formed more efficiently. In the invention according to claim 4, a linear or rod-shaped back electrode is provided on the back surface of the object having a surface facing the hollow member, and a DC voltage or a high frequency voltage is applied to the back electrode, The plasma product generated in the hollow member is attracted to the surface of the object to be processed.

【００２９】これに加えて、中間電極のようにスリット
から噴出したプラズマ生成物が中間電極に付着したりす
ること等がなく、プラズマ生成物がより積極的に被処理
物に誘引される。また、このときに高周波電圧が裏面電
極に印加された場合には、短時間でプラズマ処理と被膜
の形成が行なわることが実験によって確認された。ま
た、被処理物が金属の場合には裏面電極に直流電力を印
加した場合でも同様の結果が得られることが確認され
た。In addition to this, unlike the intermediate electrode, the plasma product ejected from the slit does not adhere to the intermediate electrode, and the plasma product is more positively attracted to the object to be processed. Further, it was confirmed by experiments that plasma treatment and film formation were performed in a short time when a high frequency voltage was applied to the back electrode at this time. It was also confirmed that when the object to be treated was a metal, similar results were obtained even when DC power was applied to the back electrode.

【００３０】請求項５記載の発明では、所定方向に延在
するとともに、下端が該延在方向に沿って開口する中空
状部材と、該中空部材の下端に取付けられ、互いに所定
間隔離隔して対向する一対の放電電極と、該一対の放電
電極の表面の少なくとも一方に被膜された有機材料ある
いは無機酸化物と、が設けられ、該中空状部材内に不活
性ガスを導入して大気圧下で被処理物の表面をプラズマ
処理するのと同時に該表面に薄膜が形成される。According to a fifth aspect of the present invention, a hollow member extending in a predetermined direction and having a lower end opened along the extending direction, and a hollow member attached to the lower end of the hollow member, separated from each other by a predetermined distance. A pair of discharge electrodes facing each other and an organic material or an inorganic oxide coated on at least one of the surfaces of the pair of discharge electrodes are provided, and an inert gas is introduced into the hollow member under atmospheric pressure. At the same time that the surface of the object to be processed is subjected to plasma treatment, a thin film is formed on the surface.

【００３１】したがって、高価な不活性ガス(Ａｒ、Ｈ
ｅ、Ｎ2、空気等)が中空状部材内に導入されて有効に使
用され、放電電極間で生成されたプラズマが放電電極の
間を介してプラズマ柱となって被処理物に照射される。
この結果、接着力が弱い被処理物の表面の改質と該被処
理物の表面に薄膜を形成する作業が同時に行なわれ、シ
ール部材等の接着力が向上する。Therefore, expensive inert gas (Ar, H
(e, N 2 , air, etc.) is introduced into the hollow member and is effectively used, and the plasma generated between the discharge electrodes becomes a plasma column through the discharge electrodes and irradiates the object to be processed. .
As a result, the work of modifying the surface of the object to be treated having a weak adhesive force and the work of forming a thin film on the surface of the object to be treated are simultaneously performed, and the adhesive force of the seal member or the like is improved.

【００３２】また、放電電極が所定間隔離隔して対向し
ているので、中空状部材内にプラズマが広がらずに放電
電極の周囲にのみ生成される。このため、放電電極に供
給される電力が有効に利用されるとともに、中空状部材
内の不活性ガスが少なくて済む。この結果、低コストな
プラズマ処理装置が得られる。また、放電電極の交換や
修理が容易に行なわれる。Further, since the discharge electrodes are opposed to each other with a predetermined space therebetween, plasma is not spread in the hollow member and is generated only around the discharge electrodes. Therefore, the electric power supplied to the discharge electrode can be effectively used, and the amount of inert gas in the hollow member can be reduced. As a result, a low-cost plasma processing apparatus can be obtained. In addition, the discharge electrode can be easily replaced and repaired.

【００３３】請求項６記載の発明では、中空状部材の下
端と被処理物の間あるいは中空状部材に対向する表面を
有する被処理物の裏面に線状あるいは棒状の電極が設け
られ、該電極に電圧が印加されることにより、中空状部
材内で発生したプラズマ生成物が被処理物の表面に誘引
される。したがって、この電極に電圧を印加すること
で、放電電極間を通してプラズマ柱が被処理物が誘引さ
れ、被処理物の表面により多くのプラズマが衝突され
る。この結果、被処理物の表面が効率良くプラズマ処理
されるとともに、より効率的に薄膜が形成される。In the invention according to claim 6, a linear or rod-shaped electrode is provided between the lower end of the hollow member and the object to be processed or on the back surface of the object to be processed having a surface facing the hollow member. By applying a voltage to the substrate, plasma products generated in the hollow member are attracted to the surface of the object to be processed. Therefore, by applying a voltage to this electrode, the object to be processed is attracted by the plasma column through the discharge electrodes, and more plasma collides with the surface of the object to be processed. As a result, the surface of the object to be processed is efficiently plasma-processed and a thin film is formed more efficiently.

【００３４】請求項７記載の発明では、延在方向に開口
するスリットが形成され、内周面に有機材料あるいは無
機酸化物が被膜された中空の放電電極と、該放電電極と
被処理物の間あるいは該放電電極に対向する表面を有す
る被処理物の裏面に設けられた線状あるいは棒状の対向
放電電極と、が設けられ、大気圧下で被処理物の表面が
プラズマ処理されるのと同時に該表面に薄膜が形成され
る。In the invention according to claim 7, a hollow discharge electrode having a slit opening in the extending direction and having an inner peripheral surface coated with an organic material or an inorganic oxide, and the discharge electrode and the object to be treated are provided. And a linear or rod-shaped opposing discharge electrode provided on the back surface of the object to be processed having a surface facing the discharge electrode, and the surface of the object to be processed is plasma-treated under atmospheric pressure. At the same time, a thin film is formed on the surface.

【００３５】したがって、高価な不活性ガスが中空の放
電電極内に導入されて有効に使用され、放電電極間で生
成されたプラズマがスリットを介してプラズマ柱となっ
て被処理物に照射される。この結果、接着力が弱い被処
理物の表面の改質と該被処理物の表面に薄膜を形成する
作業が同時が行なわれ、シール部材等の接着力の向上が
図られる。Therefore, an expensive inert gas is introduced into the hollow discharge electrodes and is effectively used, and the plasma generated between the discharge electrodes is irradiated as a plasma column through the slits onto the object to be treated. . As a result, the work of modifying the surface of the object to be treated having a weak adhesive force and the work of forming a thin film on the surface of the object to be treated are simultaneously performed, and the adhesive force of the seal member or the like is improved.

【００３６】また、電極に電圧を印加することで、スリ
ットを通してプラズマ柱が被処理物に誘引され、被処理
物の表面により多くのプラズマが衝突される。この結
果、被処理物の表面が効率良くプラズマ処理されるとと
もに、薄膜が形成される。さらに、中空の放電電極の内
周面に有機材料あるいは無機酸化物が被膜されるので、
部分的な異常放電が防止され、安定してプラズマが生成
される。Further, by applying a voltage to the electrodes, the plasma column is attracted to the object to be processed through the slit, and more plasma collides with the surface of the object to be processed. As a result, the surface of the object to be processed is efficiently plasma-processed and a thin film is formed. Further, since the inner peripheral surface of the hollow discharge electrode is coated with an organic material or an inorganic oxide,
Partial abnormal discharge is prevented and stable plasma is generated.

【００３７】請求項８記載の発明では、延在方向に開口
するスリットが形成され、内周面に有機材料あるいは無
機酸化物が被膜された中空の放電電極と、該放電電極の
内部に収納され、該放電電極と共に所定方向に延在する
棒状の放電電極と、前記筒状の放電電極のスリット開口
部と被処理物の間あるいは該放電電極に対向する表面を
有する被処理物の裏面に設けられた電極と、が設けら
れ、大気圧下で被処理物の表面がプラズマ処理されるの
と同時に該表面に薄膜が形成される。According to the eighth aspect of the present invention, a slit having an opening in the extending direction is formed, and a hollow discharge electrode having an inner peripheral surface coated with an organic material or an inorganic oxide, and a hollow discharge electrode housed inside the discharge electrode. A rod-shaped discharge electrode extending in a predetermined direction together with the discharge electrode, and provided between the slit opening of the cylindrical discharge electrode and the object to be processed or on the back surface of the object to be processed having a surface facing the discharge electrode. And a thin film is formed on the surface of the object to be processed at the same time when the surface of the object is plasma-processed under atmospheric pressure.

【００３８】したがって、高価な不活性ガスが中空の放
電電極内に導入されて有効に使用されるとともに、中空
の放電電極と棒状の放電電極の間でプラズマが安定して
生成され、これら放電電極間で生成されたプラズマがス
リットを介してプラズマ柱となって被処理物に供給され
る。この結果、接着力が弱い被処理物の表面の改質と該
被処理物の表面に薄膜を形成する作業を同時が行なわ
れ、シール部材等の接着力の向上が図られる。Therefore, an expensive inert gas is introduced into the hollow discharge electrode for effective use, and plasma is stably generated between the hollow discharge electrode and the rod-shaped discharge electrode, and these discharge electrodes are discharged. The plasma generated between them becomes a plasma column through the slit and is supplied to the object to be processed. As a result, the work of modifying the surface of the object to be treated having a weak adhesive force and the operation of forming a thin film on the surface of the object to be treated are simultaneously performed, and the adhesive force of the seal member or the like is improved.

【００３９】また、電極に電圧を印加することで、スリ
ットを通してプラズマ柱が被処理物に誘引され、被処理
物の表面により多くのプラズマが衝突される。この結
果、被処理物の表面が効率良くプラズマ処理されるとと
もに、より効率的に薄膜が形成される。さらに、中空の
放電電極の内周面に有機材料あるいは無機酸化物が被膜
されるので、部分的な異常放電が防止され、安定してプ
ラズマが生成される。Further, by applying a voltage to the electrode, the plasma column is attracted to the object to be processed through the slit, and more plasma collides with the surface of the object to be processed. As a result, the surface of the object to be processed is efficiently plasma-processed and a thin film is formed more efficiently. Further, since the inner peripheral surface of the hollow discharge electrode is coated with an organic material or an inorganic oxide, partial abnormal discharge is prevented and stable plasma is generated.

【００４０】請求項９記載の発明では、放電電極の周囲
に磁場が設けられる。したがって、生成されたプラズマ
の拡散が有効に図られる。また、この磁場を設けるに際
して、本発明では、中空状部材あるいは中空の放電電極
を有しているため、処理装置の小型化を図ることができ
るから、プラズマの行程が短い大気圧下にあっても、処
理装置全体の磁場負荷を軽減することができる。According to the ninth aspect of the invention, a magnetic field is provided around the discharge electrode. Therefore, the generated plasma is effectively diffused. Further, when the magnetic field is provided, the present invention has a hollow member or a hollow discharge electrode, so that the size of the processing apparatus can be reduced. Also, the magnetic field load of the entire processing apparatus can be reduced.

【００４１】すなわち、真空中ではプラズマや電子の共
鳴、拡散が10-2〜10-4Torrで容易に行なえるが、プラズ
マ行程が短い大気圧下では、装置全体に磁場を加えるの
は困難である。これに対して本発明では、中空状部材内
あるいは中空の放電電極内に不活性ガスを導入している
ので、プラズマ放電部分を大幅に小型化することがで
き、磁場を102〜104ガウス程度に強くすることができ
る。この結果、放電によって発生した電子、プラズマ、
イオン種を充分に拡散させることができ、被処理物に効
果的に衝突させることができる。That is, in vacuum, resonance and diffusion of plasma and electrons can be easily performed at 10 -2 to 10 -4 Torr, but it is difficult to apply a magnetic field to the entire apparatus under atmospheric pressure where the plasma process is short. is there. On the other hand, in the present invention, since the inert gas is introduced into the hollow member or the hollow discharge electrode, the plasma discharge portion can be significantly downsized, and the magnetic field is 10 2 to 10 4 gauss. You can be as strong as you want. As a result, electrons generated by the discharge, plasma,
The ionic species can be sufficiently diffused and can effectively collide with the object to be treated.

【００４２】[0042]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
図１、２は請求項１記載の発明に係る大気圧プラズマ処
理装置の一実施例を示す図であり、被処理物として液晶
表示装置のプラスチックフィルムをプラズマ処理する例
に適用している。EXAMPLES The present invention will be described below based on examples.
1 and 2 are views showing an embodiment of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention described in claim 1, and are applied to an example of plasma processing a plastic film of a liquid crystal display device as an object to be processed.

【００４３】まず、構成を説明する。図１、２におい
て、１はプラズマ処理装置であり、該プラズマ処理装置
１は、導入管２ａを通してＡｒ、Ｈｅ、Ｎ2等の不活性
ガスが導入される本体２を備えており、該本体２内には
互いに対向し、ＳＵＳ306等の金属からなる一対の放電
電極３ａ、３ｂが収納されている。この放電電極３ａ、
３ｂは両端部にカールを有するロゴウスキー形状に形成
されており、放電電極３ａにはＳｉＯ2等の無機酸化物
４が被膜されている。First, the structure will be described. 1 and 2, reference numeral 1 denotes a plasma processing apparatus, which is provided with a main body 2 into which an inert gas such as Ar, He, or N2 is introduced through an introduction pipe 2a. And a pair of discharge electrodes 3a and 3b made of metal such as SUS306 are housed in each other. This discharge electrode 3a,
3b is formed in a Rogowski shape having curls at both ends, and the discharge electrode 3a is coated with an inorganic oxide 4 such as SiO 2 .

【００４４】また、この放電電極３ａ、３ｂには交流電
源５(直流電源でも構わない)から電圧が印加されるよう
になっており、電圧の印加時に対向する電極面の間でプ
ラズマが生成されるようになっている(図１に交線で示
す)。また、この放電電極３ａ、３ｂ間には表面に透明
電極が形成されたプラスチックフィルム(以下、このプ
ラスチックフィルムを単にＰＦともいう)６が挿通され
るようになっており、このＰＦ６の両端部は図示しない
支持部材によって支持され、一端部から他端部に順次巻
取られるようになっている。また、本実施例では、プラ
ズマ処理装置１と同様の構成を有する図示しないプラズ
マ処理装置が設けられており、この処理装置の放電電極
表面にはポリイミドの有機材料が被膜されている。A voltage is applied to the discharge electrodes 3a, 3b from an AC power source 5 (a DC power source may be used), and plasma is generated between the opposing electrode surfaces when the voltage is applied. (Shown by the intersecting line in Fig. 1). Further, a plastic film 6 having a transparent electrode formed on its surface (hereinafter, this plastic film is also referred to simply as PF) 6 is inserted between the discharge electrodes 3a and 3b, and both ends of the PF 6 are It is supported by a support member (not shown), and is sequentially wound from one end to the other end. In addition, in this embodiment, a plasma processing apparatus (not shown) having the same configuration as the plasma processing apparatus 1 is provided, and the discharge electrode surface of this processing apparatus is coated with an organic material of polyimide.

【００４５】次に、上述したプラズマ処理装置１によっ
てＰＦ６に被膜を行なう方法について説明する。まず、
プラズマ処理装置１の本体２に導入管２ａを通して不活
性ガスを導入するとともに、放電電極３ａ、３ｂに電圧
を印加し、この電極３ａ、３ｂ間にＰＦ６を挿通する。
このとき、不活性ガスによるプラズマスパッタによって
ＰＦ６の表面がエッチングされるとともに、このＰＦ６
と不活性ガス中に混入されたＯ2(約0、1〜１％)とによる
プラズマ反応によってＰＦ６の表面に官能基が成形され
る。このとき、−Ｃ−ＯＨ、Ｏ＝Ｃ−ＯＨ、＝Ｃ＝０の
表面形成が確認された。すなわち、ＰＦ６表面に結合反
応による接着力が発現した。これに加えて、放電電極３
ａの表面にＳｉＯ2等からなる無機酸化物４が被膜され
ているので、ＰＦ６の表面に結合反応を伴う被膜も行な
われる。本実施例では、50〜200Åの被膜を形成してい
る。Next, a method of coating the PF 6 with the plasma processing apparatus 1 described above will be described. First,
An inert gas is introduced into the main body 2 of the plasma processing apparatus 1 through the introduction pipe 2a, a voltage is applied to the discharge electrodes 3a and 3b, and the PF 6 is inserted between the electrodes 3a and 3b.
At this time, the surface of the PF 6 is etched by plasma sputtering with an inert gas, and the PF 6 is also etched.
A functional group is formed on the surface of the PF 6 by the plasma reaction with O 2 (about 0, 1 to 1%) mixed in the inert gas. At this time, the surface formation of -C-OH, O = C-OH, and = C = 0 was confirmed. That is, the adhesive force due to the binding reaction was developed on the surface of PF6. In addition to this, the discharge electrode 3
Since the surface of a is coated with the inorganic oxide 4 such as SiO 2 , the surface of PF 6 is also coated with a binding reaction. In this embodiment, a film having a thickness of 50 to 200Å is formed.

【００４６】次いで表面にポリイミドが被膜された放電
電極によって有機酸化物４の表面に500〜1000Åの被膜
を形成する。このとき、ＰＦ６とポリイミドの分子が結
合反応を生じるとともに、無機酸化物４表面に官能基が
形成される。この結果、ＰＦ６上に乾式成形によって溶
液を含まない配向膜が形成され、配向膜の耐熱性および
絶縁性を向上させることができる。この結果、以後の液
晶製造行程で配向膜をラビング処理した後の加熱行程で
の軟化を少なくしてチルト角の劣化を小さくすることが
でき、液晶表示装置の品質を向上させることができる。Next, a 500-1000 Å coating is formed on the surface of the organic oxide 4 by a discharge electrode having a polyimide coating on the surface. At this time, the PF 6 and the polyimide molecule undergo a binding reaction, and a functional group is formed on the surface of the inorganic oxide 4. As a result, the alignment film containing no solution is formed on the PF 6 by dry molding, and the heat resistance and insulating property of the alignment film can be improved. As a result, it is possible to reduce the softening in the heating process after rubbing the alignment film in the subsequent liquid crystal manufacturing process to reduce the deterioration of the tilt angle, and to improve the quality of the liquid crystal display device.

【００４７】このように本実施例では、両端部にカール
を有するロゴウスキー形状に形成されるとともに、その
電極表面の一方に有機材料あるいは無機酸化物が被膜さ
れた放電電極３ａ、３ｂを用い、大気圧下でＰＦ６の表
面をプラズマ処理するのと同時に該表面に薄膜を形成し
ているため、不活性ガスによるプラズマスパッタによっ
てＰＦ６の表面をエッチングするとともに、このＰＦ６
と不活性ガス中に混入されたＯ2とによるプラズマ反応
によってＰＦ６の表面に官能基を成形することができ
る。As described above, in this embodiment, the discharge electrodes 3a and 3b which are formed in a Rogowski shape having curls at both ends and whose one surface is coated with an organic material or an inorganic oxide are used. Since the thin film is formed on the surface of PF6 at the same time when the surface of PF6 is subjected to plasma treatment under atmospheric pressure, the surface of PF6 is etched by plasma sputtering with an inert gas, and
A functional group can be formed on the surface of the PF6 by the plasma reaction of the oxygen and O 2 mixed in the inert gas.

【００４８】これに加えて、放電電極３ａの表面にボリ
イミドあるいは無機酸化物４を被膜しているので、ＰＦ
６の表面に結合反応を伴う被膜を行なうことができる。
このため、ＰＦ６の有機酸化膜とポリイミドの接着力あ
るいはポリイミドと接着剤等の接着力を向上させること
ができる。この結果、接着力の弱いＰＦ６の表面の改質
と該ＰＦ６の表面に薄膜を形成する作業を同時に行なう
ことができ、シール部材等の接着力を大幅に向上させる
ことができる。In addition to this, since the surface of the discharge electrode 3a is coated with polyimide or inorganic oxide 4, PF
The surface of 6 can be coated with a binding reaction.
Therefore, the adhesive force between the organic oxide film of the PF 6 and the polyimide or the adhesive force between the polyimide and the adhesive can be improved. As a result, the work of modifying the surface of the PF6 having a weak adhesive force and the work of forming a thin film on the surface of the PF6 can be performed at the same time, and the adhesive force of the seal member or the like can be significantly improved.

【００４９】また、放電電極３ａ、３ｂを両端部にカー
ルを有するロゴウスキー形状に形成されているので、異
常放電が対向する電極面に影響を及ぼすのを防止してプ
ラズマ生成物を安定して生成することができる。なお、
本実施例では、被処理物をＰＦ６としているが、これに
限らず、表面の接着力の弱いものであれば、例えば金型
等の金属等に適用しても良い。Further, since the discharge electrodes 3a, 3b are formed in a Rogowski shape having curls at both ends, abnormal discharge is prevented from affecting the opposing electrode surfaces, and plasma products are stably generated. can do. In addition,
In the present embodiment, the object to be processed is PF6, but the material is not limited to this and may be applied to a metal such as a metal mold as long as the surface has a weak adhesive force.

【００５０】図３、４は請求項２記載の発明に係る大気
圧プラズマ処理装置の一実施例を示す図であり、上記実
施例と同様に被処理物として液晶表示装置のプラスチッ
クフィルムをプラズマ処理する例に適用している。図３
において、11は所定方向に延在する中空の筒状部材(中
空状部材)であり、該筒状部材11の延在方向両端部は閉
止されている。この筒状部材11の延在方向下端にはスリ
ット11ａが形成されており、このスリット11ａは筒状部
材11の延在方向に沿って形成されている。また、この筒
状部材11内には導入管11ｂを通してＡｒ、Ｈｅ、Ｎ2等
の不活性ガスが導入されるようになっている。FIGS. 3 and 4 are views showing an embodiment of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 2. Similar to the above embodiment, the plastic film of the liquid crystal display device is subjected to the plasma processing as the object to be processed. Applied to the example. Figure 3
In the figure, 11 is a hollow cylindrical member (hollow member) extending in a predetermined direction, and both ends in the extending direction of the cylindrical member 11 are closed. A slit 11a is formed at the lower end of the tubular member 11 in the extending direction, and the slit 11a is formed along the extending direction of the tubular member 11. In addition, an inert gas such as Ar, He or N2 is introduced into the cylindrical member 11 through the introduction pipe 11b.

【００５１】また、筒状部材11内には互いに対向し、Ｓ
ＵＳ306等の金属からなる一対の放電電極12ａ、12ｂが
配設されており、この放電電極12ａ、12ｂの表面の少な
くとも一方にはＳｉＯ2等の無機酸化物が被膜されてい
る。また、この放電電極12ａ、12ｂには交流電源13(直
流電源でも構わない)が接続されており、電圧の印加時
に対向する電極12ａ、12ｂの間でプラズマが生成され
る。また、筒状部材11の下方にはＰＦ14が通過するよう
になっており、このＰＦ14は一方向から他方に移動する
ようになっている。 また、本実施例では、プラズマ処
理装置１の同様の構成を有する図示しないプラズマ処理
装置が設けられており、この処理装置の放電電極表面に
はポリイミドの有機材料が被膜されている。Further, in the tubular member 11, they are opposed to each other and S
A pair of discharge electrodes 12a, 12b made of a metal such as US306 is provided, and at least one of the surfaces of the discharge electrodes 12a, 12b is coated with an inorganic oxide such as SiO 2 . An AC power supply 13 (or a DC power supply may be used) is connected to the discharge electrodes 12a and 12b, and plasma is generated between the electrodes 12a and 12b facing each other when a voltage is applied. A PF 14 passes below the tubular member 11, and the PF 14 moves from one direction to the other. Further, in this embodiment, a plasma processing apparatus (not shown) having the same configuration as the plasma processing apparatus 1 is provided, and the discharge electrode surface of this processing apparatus is coated with an organic material of polyimide.

【００５２】次に、ＰＦ14に被膜を行なう方法について
説明する。まず、筒状部材11内に不活性ガスを導入する
とともに、放電電極12ａ、12ｂに電圧を印加し、この筒
状部材11の下方にＰＦ14を挿通する。このとき、放電電
極間12ａ、12ｂ間でプラズマが形成され、このプラズマ
形成物がスリット11ａ開口部からＰＦ14に向かって照射
され、ＰＦ14の表面がエッチングされるとともに、この
ＰＦ14と不活性ガス中に混入されたＯ2(約0、1〜１％)と
によるプラズマ反応によってＰＦ14の表面に官能基が成
形される。このとき、−Ｃ−ＯＨ、Ｏ＝Ｃ−ＯＨ、＝Ｃ
＝０の表面形成が確認された。すなわち、ＰＦ14表面に
結合反応による接着力が発現した。これに加えて、放電
電極12ａ、12ｂの表面にＳｉＯ2等からなる無機酸化物
が被膜されているので、ＰＦ14の表面に結合反応を伴う
被膜も行なわれる。本実施例では、ＰＦ14の表面に50〜
200Åの被膜をしている。Next, a method of coating the PF 14 will be described. First, an inert gas is introduced into the tubular member 11 and a voltage is applied to the discharge electrodes 12a and 12b, and the PF 14 is inserted below the tubular member 11. At this time, a plasma is formed between the discharge electrodes 12a and 12b, and this plasma formed product is irradiated toward the PF 14 from the opening of the slit 11a, the surface of the PF 14 is etched, and at the same time, the plasma is formed in the PF 14 and the inert gas. functional groups are formed on the entrained O 2 (about 0,1～1%) and by the surface of the PF14 by plasma reaction. At this time, -C-OH, O = C-OH, = C
= 0 surface formation was confirmed. That is, the adhesive force due to the binding reaction was developed on the surface of PF14. In addition to this, the discharge electrodes 12a, since the inorganic oxide of SiO 2 or the like is coated on the surface of the 12b, is carried out also coated with the binding reaction on the surface of PF14. In the present embodiment, the surface of the PF14 has 50 to 50
It has a 200Å coating.

【００５３】次いで表面にポリイミドが被膜された放電
電極によって有機酸化物の表面に500〜1000Åの被膜を
形成する。このとき、ＰＦ14とポリイミドの分子が結合
反応を生じるとともに、無機酸化物表面に官能基が形成
される。この結果、ＰＦ14上に乾式成形によって溶液を
含まない配向膜が形成され、配向膜の耐熱性および絶縁
性を向上させることができる。この結果、以後の液晶製
造行程で配向膜をラビング処理した後の加熱行程での軟
化を少なくしてチルト角の劣化を小さくすることがで
き、液晶表示装置の品質を向上させることができる。Next, a 500-1000 Å coating is formed on the surface of the organic oxide by a discharge electrode having a polyimide coating on the surface. At this time, the molecules of PF14 and the polyimide undergo a binding reaction, and a functional group is formed on the surface of the inorganic oxide. As a result, the alignment film containing no solution is formed on the PF 14 by dry molding, and the heat resistance and insulating property of the alignment film can be improved. As a result, it is possible to reduce the softening in the heating process after rubbing the alignment film in the subsequent liquid crystal manufacturing process to reduce the deterioration of the tilt angle, and to improve the quality of the liquid crystal display device.

【００５４】このように本実施例では、延在方向に開口
するスリット11ａが形成された筒状部材11内に不活性ガ
スを導入して大気圧下でＰＦ14の表面をプラズマ処理す
るのと同時に該表面に薄膜を形成しているため、高価な
不活性ガスを筒状部材11内に導入して有効に使用するこ
とができ、筒状部材11内で生成したプラズマをスリット
11ａを介してプラズマ柱としてＰＦ14に供給することが
できる。この結果、接着力が弱いＰＦ14の表面の改質と
該表面に薄膜を形成する作業を同時に行うことができ、
シール部材等の接着力を向上させることができる。As described above, in this embodiment, an inert gas is introduced into the cylindrical member 11 having the slit 11a opening in the extending direction to plasma-treat the surface of the PF 14 at atmospheric pressure. Since a thin film is formed on the surface, an expensive inert gas can be introduced into the tubular member 11 for effective use, and the plasma generated in the tubular member 11 can be slit.
It can be supplied to the PF 14 as a plasma column via 11a. As a result, it is possible to simultaneously modify the surface of the PF14 having a weak adhesive force and work to form a thin film on the surface,
The adhesive strength of the seal member or the like can be improved.

【００５５】筒状部材11からスリット11ａを介してプラ
ズマ生成物をＰＦ14に照射しているので、ＰＦ14をスリ
ット11ａに対して移動させるようにして薄膜の形成を行
なうことができる。このとき、筒状部材11の延在方向を
長くすることで、大面積のＰＦ14の処理を可能にするこ
とができ、処理能力を大幅に向上させることができる。Since the PF 14 is irradiated with the plasma product from the tubular member 11 through the slit 11a, the thin film can be formed by moving the PF 14 with respect to the slit 11a. At this time, by extending the extending direction of the tubular member 11, it is possible to process a large area of the PF 14, and the processing capacity can be greatly improved.

【００５６】なお、本実施例では、中空状部材として筒
状部材11を用いているが、これに限らず、図４に示すよ
うにスリット20ａを有する直方体の中空状部材20から構
成しても同様の効果を得ることができる。また、被処理
物もＰＦ14に限らず金属等であっても良い。図５は請求
項３記載の発明に係る大気圧プラズマ処理装置の一実施
例を示す図であり、本実施例では、筒状部材とＰＦの間
に線状あるいは棒状の中間電極を設けたものであり、請
求項２記載の発明と同様の構成には同一番号を付して説
明を省略する。In this embodiment, the tubular member 11 is used as the hollow member, but the present invention is not limited to this, and the hollow member 20 may be a rectangular parallelepiped member having a slit 20a as shown in FIG. The same effect can be obtained. The object to be processed is not limited to PF14 and may be metal or the like. FIG. 5 is a diagram showing an embodiment of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 3, and in this embodiment, a linear or rod-shaped intermediate electrode is provided between the tubular member and the PF. Therefore, the same components as those in the invention according to claim 2 are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【００５７】図５において、筒状部材11のスリット11ａ
とＰＦ14の間には棒状の中間電極21が設けられており、
該中間電極21には交流電源13から電圧が印加されるよう
になっている。本実施例では、このように構成されてい
るため、スリット11ａを通してプラズマ柱をＰＦ14に誘
引することができ、ＰＦ14の表面により多くのプラズマ
を衝突させることができる。この結果、ＰＦ14の表面を
効率良くプラズマ処理することができるとともに、より
効率的に薄膜を形成することができる。In FIG. 5, the slit 11a of the tubular member 11 is formed.
And a PF14, a rod-shaped intermediate electrode 21 is provided,
A voltage is applied to the intermediate electrode 21 from an AC power supply 13. In this embodiment, because of this structure, the plasma column can be attracted to the PF 14 through the slit 11a, and more plasma can collide with the surface of the PF 14. As a result, the surface of the PF 14 can be efficiently plasma-processed and a thin film can be formed more efficiently.

【００５８】図６は請求項４記載の発明に係る大気圧プ
ラズマ処理装置の一実施例を示す図であり、本実施例で
は、ＰＦの裏面に線状あるいは棒状の裏面電極を設けた
ものであり、請求項２記載の発明と同様の構成には同一
番号を付して説明を省略する。図６において、中空の筒
状部材11のスリット11ａと筒状部材11に対向する表面を
有するＰＦ14の裏面には線状あるいは棒状の裏面電極22
が設けられており、該裏面電極22には高周波電源15から
高周波電圧が印加されるようになっている。FIG. 6 is a view showing an embodiment of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention described in claim 4. In this embodiment, a linear or rod-shaped back surface electrode is provided on the back surface of the PF. Therefore, the same configurations as those of the invention according to claim 2 are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted. In FIG. 6, a linear or rod-shaped back electrode 22 is provided on the back surface of the PF 14 having the slit 11a of the hollow tubular member 11 and the surface facing the tubular member 11.
Is provided, and a high frequency voltage is applied to the back electrode 22 from a high frequency power supply 15.

【００５９】本実施例ではこのように構成されているた
め、筒状部材11内で発生したプラズマ生成物をＰＦ14の
表面に誘引することができる。これに加えて、中間電極
21のようにスリット11ａから噴出したプラズマ生成物が
中間電極21に付着したりすること等を防止しつつ、プラ
ズマ生成物をより積極的にＰＦ14に誘引することができ
る。また、このときに高周波電圧を裏面電極22に印加し
ているので、短時間でプラズマ処理と被膜の形成を行な
うことができることが実験によって確認された。また、
被処理物が金属の場合には裏面電極22に直流電力を印加
した場合でも同様の結果が得られることが確認された。Since the present embodiment is constructed in this way, the plasma products generated in the tubular member 11 can be attracted to the surface of the PF 14. In addition to this, the intermediate electrode
It is possible to more positively attract the plasma product to the PF 14 while preventing the plasma product ejected from the slit 11a like 21 from adhering to the intermediate electrode 21. Further, it was confirmed by an experiment that the high frequency voltage is applied to the back surface electrode 22 at this time, so that plasma processing and film formation can be performed in a short time. Also,
It was confirmed that when the object to be treated was a metal, similar results were obtained even when DC power was applied to the back electrode 22.

【００６０】図７は請求項５、６記載の発明に係る大気
圧プラズマ処理装置の一実施例を示す図である。なお、
本実施例では、放電電極の取付け位置に特徴があり、薄
膜の形成方法については上記各実施例と同様であるた
め、特徴部分のみを説明する。図７において、31は所定
方向に延在するとともに、下端が該延在方向に沿って開
口する直方体の中空状部材であり、該中空状部材31の延
在方向両端部は閉塞されている。また、中空状部材31に
は導入管31ａが取付けられており、この導入管31ａを通
してＡｒ、Ｈｅ、Ｎ2等の不活性ガスが導入されるよう
になっている。FIG. 7 is a diagram showing an embodiment of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention described in claims 5 and 6. In addition,
In this embodiment, there is a feature in the mounting position of the discharge electrode, and the method for forming the thin film is the same as that in each of the above-mentioned embodiments, so only the characteristic portion will be described. In FIG. 7, reference numeral 31 denotes a rectangular parallelepiped hollow member that extends in a predetermined direction and has a lower end opened along the extending direction, and both ends of the hollow member 31 in the extending direction are closed. An introduction pipe 31a is attached to the hollow member 31, and an inert gas such as Ar, He or N2 is introduced through the introduction pipe 31a.

【００６１】また、中空状部材31の下端には互いに所定
間隔離隔して対向する一対の放電電極32ａ、32ｂが取付
けられており、この放電電極32ａ、32ｂの表面の少なく
とも一方には有機材料あるいは無機酸化物が被膜され、
この放電電極32ａ、32ｂには交流電源33から電圧が印加
されるようになっている。本実施例では、このように構
成されているため、中空状部材31内に不活性ガスを導入
して放電電極32ａ、32ｂに電力を印加し、電極32ａ、32
ｂ間で発生したプラズマ生成物(図７(b)に交線で示す)
を放電電極32ａ、32ｂの間からＰＦ34に照射することに
より、ＰＦ34の表面をプラズマ処理するのと同時に該表
面にＳｉＯ 2等の有機酸化物あるいはポリイミド等の有
機材料の薄膜を形成するようにしている。In addition, the lower ends of the hollow members 31 are mutually predetermined.
Attach a pair of discharge electrodes 32a, 32b facing each other with a space between them.
The discharge electrodes 32a and 32b have less surface.
On one side, an organic material or an inorganic oxide is coated,
A voltage is applied from the AC power supply 33 to the discharge electrodes 32a and 32b.
It is supposed to be done. In this embodiment, the structure is
Inert gas is introduced into the hollow member 31 because it is made of
Then, electric power is applied to the discharge electrodes 32a, 32b,
Plasma products generated between b (shown by the intersecting line in Fig. 7 (b))
To irradiate the PF34 between the discharge electrodes 32a and 32b.
Therefore, at the same time when the surface of PF34 is plasma treated,
SiO on the surface 2Organic oxides such as
A thin film of machine material is formed.

【００６２】したがって、高価な不活性ガスを中空状部
材31内に導入して有効に使用することができ、中空状部
材31内で生成されたプラズマを放電電極32ａ、32ｂの間
を介してプラズマ柱としてＰＦ34に供給することができ
る。この結果、接着力が弱いＰＦ34の表面の改質と該処
理物の表面に薄膜形成を形成する作業を同時に行なうこ
とができ、接着材等の接着力を向上させることができ
る。Therefore, an expensive inert gas can be introduced into the hollow member 31 for effective use, and the plasma generated in the hollow member 31 can be plasma-transferred between the discharge electrodes 32a and 32b. It can be supplied to PF34 as a pillar. As a result, it is possible to simultaneously improve the surface of the PF34 having a weak adhesive force and work for forming a thin film on the surface of the object to be treated, so that the adhesive force of the adhesive or the like can be improved.

【００６３】また、放電電極32ａ、32ｂが所定間隔離隔
して対向しているので、中空状部材31内にプラズマが広
がるのを防止して放電電極32ａ、32ｂの周囲のみに生成
することができる。この結果、放電電極32ａ、32ｂに供
給される電力を有効に利用すことができるとともに、中
空状部材31内に供給する不活性ガスを少なくすることが
できる。この結果、プラズマ処理装置のコストを低減す
ることができる。また、放電電極32ａ、32ｂを中空状部
材31の下方に取付けているため、その交換や修理を容易
に行なうことができる。Further, since the discharge electrodes 32a and 32b are opposed to each other with a predetermined space therebetween, plasma can be prevented from spreading in the hollow member 31 and generated only around the discharge electrodes 32a and 32b. . As a result, the electric power supplied to the discharge electrodes 32a and 32b can be effectively used, and the amount of the inert gas supplied to the hollow member 31 can be reduced. As a result, the cost of the plasma processing apparatus can be reduced. Further, since the discharge electrodes 32a and 32b are attached below the hollow member 31, it is possible to easily replace or repair them.

【００６４】また、本実施例にあっても、中空状部材31
の下端、すなわち、放電電極32ａ、32ｂとＰＦ34の間あ
るいは中空状部材31に対向する表面を有するＰＦ34の裏
面に線状あるいは棒状の電極を設け、該電極に電圧を印
加することにより、中空状部材31内で発生したプラズマ
生成物をＰＦ34の表面に誘引するようにしても良い。こ
のようにすれば、ＰＦ34の表面により多くのプラズマを
衝突させることができる。この結果、ＰＦ34の表面を効
率良くプラズマ処理することができるとともに、薄膜を
形成することができる。Also in this embodiment, the hollow member 31
A linear or rod-shaped electrode is provided on the lower end of the PF 34, that is, between the discharge electrodes 32a and 32b and the PF 34 or the back surface of the PF 34 having a surface facing the hollow member 31, and a voltage is applied to the electrode to form a hollow shape. The plasma products generated in the member 31 may be attracted to the surface of the PF 34. In this way, more plasma can be made to collide with the surface of PF34. As a result, the surface of the PF 34 can be efficiently plasma-treated and a thin film can be formed.

【００６５】図８は請求項７記載の発明に係る大気圧プ
ラズマ処理装置の一実施例を示す図である。なお、本実
施例では、薄膜の形成方法については上記各実施例と同
様であるため、特徴部分のみを説明する。図８におい
て、41は所定方向に延在するとともに該延在方向に開口
するスリット41ａが形成され、内周面に有機材料あるい
は無機酸化物が被膜された中空の放電電極であり、該放
電電極41の延在方向両端部は閉塞されている。また、こ
の放電電極41には導入管41ｂが取付けられており、放電
電極41内には導入管41ｂを通してＡｒ、Ｈｅ、Ｎ2等の
不活性ガスが導入されるようになっている。FIG. 8 is a diagram showing an embodiment of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 7. In this embodiment, the method of forming a thin film is the same as in each of the above embodiments, so only the characteristic part will be described. In FIG. 8, 41 is a hollow discharge electrode having a slit 41a extending in a predetermined direction and opening in the extending direction and having an inner peripheral surface coated with an organic material or an inorganic oxide. Both ends of 41 in the extending direction are closed. Further, an introduction pipe 41b is attached to the discharge electrode 41, and an inert gas such as Ar, He, N2 is introduced into the discharge electrode 41 through the introduction pipe 41b.

【００６６】また、この放電電極41の下方にはＰＦ42が
通過するようになっており、この放電電極41とＰＦ42の
間には線状または棒状の対向放電電極43が設けられ、こ
の放電電極41および対向放電電極43には交流電源44から
電圧が印加されるようになっている。本実施例では、こ
のように構成されているため、放電電極41内に導入管41
ｂを通して不活性ガスを導入するとともに、放電電極41
および対向放電電極43に電力を印加すると、これら電極
41、43間にプラズマ生成物が発生するため、このプラズ
マによってＰＦ42の表面が放電プラズマ処理されるのと
同時に該表面にＳｉＯ2等の無機酸化物あるいはポリイ
ミド等の有機材料の薄膜が形成される。A PF 42 passes below the discharge electrode 41, and a linear or rod-shaped opposed discharge electrode 43 is provided between the discharge electrode 41 and the PF 42. A voltage is applied to the opposite discharge electrode 43 from the AC power supply 44. In this embodiment, since it is configured as described above, the introduction pipe 41 is provided in the discharge electrode 41.
Inert gas is introduced through b and discharge electrode 41
And when electric power is applied to the counter discharge electrode 43, these electrodes are
Since plasma products are generated between 41 and 43, the surface of the PF 42 is subjected to discharge plasma treatment by this plasma, and at the same time, a thin film of an inorganic oxide such as SiO 2 or an organic material such as polyimide is formed on the surface.

【００６７】したがって、高価な不活性ガスを中空の放
電電極内41に導入して有効に使用することができ、中空
の放電電極41内で生成されたプラズマをスリット41ａを
介してプラズマ柱としてＰＦ42に照射することができ
る。この結果、接着力が弱いＰＦ42の表面の改質と該Ｐ
Ｆ42表面に薄膜を形成する作業を同時に行なうことがで
き、シール部材等の接着力を向上させることができる。Therefore, an expensive inert gas can be introduced into the hollow discharge electrode 41 for effective use, and the plasma generated in the hollow discharge electrode 41 can be used as a plasma column through the slits 41a to form a PF42 plasma column. Can be irradiated. As a result, the surface of PF42, which has a weak adhesive force, is modified and
The work of forming a thin film on the surface of F42 can be performed at the same time, and the adhesive force of the seal member or the like can be improved.

【００６８】また、対向放電電極43に電圧を印加するこ
とで、スリット41ａを通してプラズマ柱をＰＦ42に誘引
することができ、ＰＦ42の表面により多くのプラズマを
衝突させることができる。この結果、ＰＦ42の表面を効
率良くプラズマ処理することができるとともに、薄膜を
形成することができる。さらに、中空の放電電極41の内
周面に有機材料あるいは無機酸化物を被膜しているの
で、部分的に異常放電が発生するのを防止することがで
き、安定してプラズマを生成することができる。Further, by applying a voltage to the opposing discharge electrode 43, the plasma column can be attracted to the PF 42 through the slit 41a, and more plasma can be made to collide with the surface of the PF 42. As a result, the surface of the PF 42 can be efficiently plasma-processed and a thin film can be formed. Furthermore, since the inner peripheral surface of the hollow discharge electrode 41 is coated with an organic material or an inorganic oxide, it is possible to prevent a partial abnormal discharge from occurring and to stably generate plasma. it can.

【００６９】なお、本実施例では、対向放電電極46を破
線で示すようにＰＦ42の裏面に設けても良い。図９、10
は請求項８、９記載の発明に係る大気圧プラズマ処理装
置の一実施例を示す図である。なお、本実施例では、薄
膜の形成方法については上記各実施例と同様であるた
め、特徴部分のみを説明する。In this embodiment, the counter discharge electrode 46 may be provided on the back surface of the PF 42 as shown by the broken line. Figures 9 and 10
FIG. 9 is a diagram showing an embodiment of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention described in claims 8 and 9. In this embodiment, the method of forming a thin film is the same as in each of the above embodiments, so only the characteristic part will be described.

【００７０】図９において、51は所定方向に延在すると
ともに該延在方向に開口するスリット51ａが形成され、
内周面に有機材料あるいは無機酸化物が被膜された中空
の放電電極である。放電電極51の延在方向両端部は閉塞
されており、この放電電極51には導入管51ｂを通してＡ
ｒ、Ｈｅ、Ｎ2等の不活性ガスが導入されるようになっ
ている。In FIG. 9, 51 is formed with a slit 51a extending in a predetermined direction and opening in the extending direction,
It is a hollow discharge electrode whose inner peripheral surface is coated with an organic material or an inorganic oxide. Both ends in the extending direction of the discharge electrode 51 are closed, and the discharge electrode 51 is introduced through the introduction pipe 51b to
An inert gas such as r, He or N 2 is introduced.

【００７１】この放電電極51の内部には該放電電極51と
共に所定方向に延在する線状または棒状の放電電極52が
収納されており、これら放電電極51、52には交流電源53
から電圧が印加されるようになっている。また、放電電
極51のスリット51ａ開口部と放電電極51に対向する表面
を有するＰＦ54の裏面には線状または棒状の電居55が設
けられており、この電極55には交流電源53から電圧が印
加されている。なお、この電圧源は交流電源53に限らず
直流電源あるいは高周波電源でも構わない。Inside the discharge electrode 51, a linear or rod-shaped discharge electrode 52 extending in a predetermined direction together with the discharge electrode 51 is housed, and the discharge electrodes 51 and 52 have an AC power supply 53.
The voltage is applied from. Further, a linear or rod-shaped battery 55 is provided on the back surface of the PF 54 having an opening of the slit 51a of the discharge electrode 51 and a surface facing the discharge electrode 51, and a voltage from an AC power source 53 is applied to this electrode 55. Is being applied. The voltage source is not limited to the AC power source 53 and may be a DC power source or a high frequency power source.

【００７２】本実施例では、このように構成されている
ため、放電電極51内に導入管51ｂを通して不活性ガスを
導入するとともに、放電電極51および放電電極52に電圧
を印加すると、これら電極51、52間にプラズマ生成物が
発生するため、このプラズマによってＰＦ54の表面が放
電プラズマ処理されるのと同時に該表面にＳｉＯ2等の
無機酸化物あるいはポリイミド等の有機材料の薄膜が形
成される。Since the present embodiment is constructed in this way, when an inert gas is introduced into the discharge electrode 51 through the introduction tube 51b and a voltage is applied to the discharge electrode 51 and the discharge electrode 52, these electrodes 51 , 52, a plasma product is generated between the two, so that the surface of the PF 54 is subjected to discharge plasma treatment by the plasma, and at the same time, a thin film of an inorganic oxide such as SiO 2 or an organic material such as polyimide is formed on the surface.

【００７３】したがって、高価な不活性ガスを中空の放
電電極内51に導入して有効に使用することができ、放電
電極51内で生成されたプラズマをスリット51ａを介して
プラズマ柱としてＰＦ54に照射することができる。この
結果、接着力が弱いＰＦ54の表面の改質と該ＰＦ54の表
面に薄膜を形成する作業を同時に行なうことができ、シ
ール部材等の接着力を向上させることができる。Therefore, an expensive inert gas can be introduced into the hollow discharge electrode 51 for effective use, and the plasma generated in the discharge electrode 51 is applied to the PF 54 as a plasma column through the slit 51a. can do. As a result, the work of modifying the surface of the PF 54 having a weak adhesive force and the work of forming a thin film on the surface of the PF 54 can be performed at the same time, and the adhesive force of the seal member or the like can be improved.

【００７４】また、電極55に電圧を印加することで、ス
リット51ａを通してプラズマ柱をＰＦ54に誘引すること
ができ、ＰＦ54の表面により多くのプラズマを衝突させ
ることができる。この結果、ＰＦ54の表面を効率良くプ
ラズマ処理することができるとともに、より効率良く薄
膜を形成することができる。さらに、中空の放電電極51
の内周面に有機材料あるいは無機酸化物を被膜している
ので、部分的に異常放電が発生するのを防止することが
でき、安定してプラズマを生成することができる。Further, by applying a voltage to the electrode 55, the plasma column can be attracted to the PF 54 through the slit 51a, and more plasma can be made to collide with the surface of the PF 54. As a result, the surface of the PF 54 can be efficiently plasma-treated and a thin film can be formed more efficiently. Furthermore, the hollow discharge electrode 51
Since the inner peripheral surface of is coated with an organic material or an inorganic oxide, it is possible to prevent partial abnormal discharge from occurring and to stably generate plasma.

【００７５】なお、本実施例では、電極55をＰＦ54の裏
面に設けているが、放電電極51のスリット51ａとＰＦ54
の間に設けてもプラズマ柱をＰＦ54に誘引することがで
きる。 また、図10に示すように放電電極51の周囲に磁
極60（磁場)を設けても良い。このようにすれば、生成
されたプラズマの拡散を有効に図ることができる。ま
た、この磁極60によって磁場を発生させるに際して、本
実施例では、放電電極51を中空にしているため、プラズ
マ処理装置の小型化を図ることができるから、プラズマ
の行程が短い大気圧下にあっても、処理装置全体の磁場
負荷を軽減することができる。Although the electrode 55 is provided on the back surface of the PF 54 in this embodiment, the slit 51a of the discharge electrode 51 and the PF 54 are not provided.
The plasma column can be attracted to the PF 54 even if it is provided between the two. Further, as shown in FIG. 10, a magnetic pole 60 (magnetic field) may be provided around the discharge electrode 51. By doing so, it is possible to effectively diffuse the generated plasma. Further, when the magnetic field is generated by the magnetic pole 60, the discharge electrode 51 is hollow in this embodiment, so that the size of the plasma processing apparatus can be reduced. However, the magnetic field load of the entire processing apparatus can be reduced.

【００７６】すなわち、真空中ではプラズマや電子の共
鳴、拡散が10-2〜10-2Torrで容易に行なえるが、プラズ
マ行程が短い大気圧下では、装置全体に磁場を与えるの
は困難である。これに対して本実施例では、中空の放電
電極51内に不活性ガスを導入しているので、プラズマ放
電部分を大幅に小型化することができ、磁場を102〜104
ガウス程度に強くすることができる。この結果、放電に
よって発生した電子、プラズマ、イオン種を充分に拡散
させることができ、被処理物に効果的に衝突させること
ができる。That is, in vacuum, resonance and diffusion of plasma and electrons can be easily carried out at 10 -2 to 10 -2 Torr, but under atmospheric pressure where the plasma process is short, it is difficult to apply a magnetic field to the entire device. is there. On the other hand, in this embodiment, since the inert gas is introduced into the hollow discharge electrode 51, the plasma discharge portion can be significantly downsized, and the magnetic field is 10 2 to 10 4
Can be as strong as Gauss. As a result, the electrons, plasma, and ionic species generated by the discharge can be sufficiently diffused, and can effectively collide with the object to be processed.

【００７７】なお、このように磁場を設けることは本実
施例に限らず、請求項２〜７記載の中空の筒状部材ある
いは中空の放電電極を設けたものに適用しても同様の効
果を得ることができるのは勿論である。また、上記請求
項２〜９の発明の各実施例では、スリットを放電電極の
延在方向に亘って形成しているが、これに限らず、図11
に示すように中空状部材あるいは中空の放電電極61の延
在方向の所定位置にスリット61ａを部分的に設けても良
い。このようにすれば、プラズマ処理を必要としない箇
所を設けることができ、不必要なプラズマ処理を行なう
ことを防止することができる。このため、例えば、プラ
ズマ処理をしない部分に保護フィルムやシャッターを設
けるのを不要にすることができ、処理作業を容易に行な
うことができるとともに、そのコストを低減することが
できる。The provision of the magnetic field in this way is not limited to this embodiment, and the same effect can be obtained by applying it to a hollow cylindrical member or a discharge electrode provided with a hollow. Of course, you can get it. Further, in each of the embodiments of the inventions of claims 2 to 9 described above, the slit is formed over the extending direction of the discharge electrode, but the invention is not limited to this, and FIG.
As shown in, the slit 61a may be partially provided at a predetermined position in the extending direction of the hollow member or the hollow discharge electrode 61. By doing so, it is possible to provide a portion that does not require plasma processing, and it is possible to prevent unnecessary plasma processing. For this reason, for example, it is not necessary to provide a protective film or a shutter in a portion where plasma processing is not performed, and the processing operation can be easily performed and the cost thereof can be reduced.

【００７８】[0078]

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、不活性ガ
スによるプラズマスパッタによって被接着物の表面をエ
ッチングすることができるとともに、この被処理物と不
活性ガス中に混入されたＯ2とによるプラズマ反応によ
って被処理物の表面に官能基を形成することができる。
これに加えて、放電電極の表面に有機材料あるいは無機
酸化物を被膜しているので、被処理物の表面に結合反応
を伴う被膜を行なうことができる。この結果、プラスチ
ックフィルム、金属等の接着力が弱い被処理物の表面の
改質と該被処理物の表面に薄膜を形成する作業を同時に
行なうことができ、シール部材等の接着力を大幅に向上
させることができる。。According to the first aspect of the present invention, the surface of the adherend can be etched by plasma sputtering with an inert gas, and the O 2 mixed in the target and the inert gas can be etched. A functional group can be formed on the surface of the object to be treated by the plasma reaction of
In addition to this, since the surface of the discharge electrode is coated with an organic material or an inorganic oxide, it is possible to perform coating with a binding reaction on the surface of the object to be treated. As a result, it is possible to simultaneously modify the surface of an object to be processed such as a plastic film or a metal having a weak adhesive force and to form a thin film on the surface of the object to be treated, thereby significantly increasing the adhesive force of the sealing member or the like. Can be improved. .

【００７９】また、放電電極を、両端部にカールを有す
るロゴウスキー形状に形成しているので、異常放電が対
向する電極面に影響を及ぼすのを防止することができ、
プラズマ生成物を安定して生成することができる。請求
項２記載の発明によれば、高価な不活性ガスを中空状部
材内に導入して有効に使用することができ、中空状部材
内で生成されたプラズマをスリットを通してプラズマ柱
として被処理物に照射することができる。この結果、接
着力が弱い被処理物の表面の改質と該被処理物の表面に
薄膜を形成する作業を同時に行なうことができ、シール
部材等の接着力を向上させることができる。Further, since the discharge electrode is formed in a Rogowski shape having curls at both ends, it is possible to prevent the abnormal discharge from affecting the opposing electrode surface.
A plasma product can be stably generated. According to the invention as set forth in claim 2, an expensive inert gas can be introduced into the hollow member to be effectively used, and the plasma generated in the hollow member is passed through the slits to form a plasma column to be processed. Can be irradiated. As a result, it is possible to simultaneously improve the surface of an object to be processed having a weak adhesive force and work to form a thin film on the surface of the object to be treated, thereby improving the adhesive force of the seal member or the like.

【００８０】また、中空状部材からスリットを介してプ
ラズマ生成物が被処理物に照射しているので、被処理物
をスリットに対して移動させるようにして薄膜の形成を
行なうことができる。このとき、中空状部材の延在方向
を長くすることで、大面積の被処理物の処理を可能にす
ることができ、処理能力を大幅に向上させることができ
る。Further, since the plasma product is applied to the object to be processed from the hollow member through the slit, the thin film can be formed by moving the object to be processed with respect to the slit. At this time, by extending the extending direction of the hollow member, it is possible to process a large area of the object to be processed, and the processing capacity can be significantly improved.

【００８１】請求項３記載の発明によれば、中間電極に
電圧を印加することで、スリットを通してプラズマ柱を
被処理物に誘引することができ、被処理物の表面により
多くのプラズマを衝突させることができる。この結果、
被処理物の表面を効率良くプラズマ処理することができ
るとともに、より効率良く薄膜を形成することができ
る。According to the third aspect of the invention, by applying a voltage to the intermediate electrode, the plasma column can be attracted to the object to be processed through the slit, and more plasma collides with the surface of the object to be processed. be able to. As a result,
The surface of the object to be processed can be efficiently plasma-processed and the thin film can be formed more efficiently.

【００８２】請求項４記載の発明によれば、中空状部材
内で発生したプラズマ生成物を被処理物の表面に誘引す
ることができる。これに加えて、中間電極のようにスリ
ットから噴出したプラズマ生成物が中間電極に付着した
りすること等を防止することができ、プラズマ生成物を
より積極的に被処理物に誘引することができる。また、
このときに高周波電力を裏面電極に印加した場合には、
短時間でプラズマ処理と被膜の形成が行なうことができ
ることが実験によって確認された。また、被処理物が金
属の場合には裏面電極に直流電力を印加した場合でも同
様の結果が得られることが確認された。According to the invention described in claim 4, the plasma product generated in the hollow member can be attracted to the surface of the object to be treated. In addition to this, it is possible to prevent the plasma product ejected from the slit like the intermediate electrode from adhering to the intermediate electrode, etc., and it is possible to more positively attract the plasma product to the object to be processed. it can. Also,
At this time, if high frequency power is applied to the back electrode,
Experiments have confirmed that plasma treatment and film formation can be performed in a short time. It was also confirmed that when the object to be treated was a metal, similar results were obtained even when DC power was applied to the back electrode.

【００８３】請求項５記載の発明によれば、高価な不活
性ガスを中空状部材内に導入して有効に使用することが
でき、中空状部材内で生成されたプラズマを放電電極の
間を通しててプラズマ柱として被処理物に供給すること
ができる。この結果、接着力が弱い被処理物の表面の改
質と該被処理物の表面に薄膜を形成する作業を同時に行
なうことができ、シール部材等の接着力を向上させるこ
とができる。According to the invention of claim 5, an expensive inert gas can be introduced into the hollow member for effective use, and the plasma generated in the hollow member is passed between the discharge electrodes. Can be supplied to the object to be processed as a plasma column. As a result, it is possible to simultaneously improve the surface of an object to be processed having a weak adhesive force and work to form a thin film on the surface of the object to be treated, thereby improving the adhesive force of the seal member or the like.

【００８４】また、放電電極を所定間隔離隔して対向さ
せているので、中空状部材内にプラズマを広がらせずに
放電電極の周囲のみに生成させることができる。この結
果、放電電極に供給される電力を有効に利用することが
できるとともに、中空状部材内に導入する不活性ガスを
少なくすることができる。この結果、プラズマ処理装置
のコストを低減することができる。また、放電電極の交
換や修理を容易に行なうことができる。Further, since the discharge electrodes are opposed to each other with a predetermined space therebetween, plasma can be generated only around the discharge electrodes without spreading the plasma in the hollow member. As a result, the electric power supplied to the discharge electrode can be effectively used, and the amount of inert gas introduced into the hollow member can be reduced. As a result, the cost of the plasma processing apparatus can be reduced. Also, the discharge electrode can be easily replaced or repaired.

【００８５】請求項６記載の発明によれば、放電電極間
を通してプラズマ柱を被処理物に誘引することができ、
被処理物の表面により多くのプラズマを衝突させること
ができる。この結果、被処理物の表面を効率良くプラズ
マ処理することができるとともに、より効率的に薄膜を
形成することができる。請求項７記載の発明によれば、
高価な不活性ガスを中空の放電電極内に導入して有効に
使用することができ、中空の放電電極内で生成されたプ
ラズマをスリットを通してプラズマ柱として被処理物に
供給することができる。この結果、接着力が弱い被処理
物の表面の改質と該被処理物の表面に薄膜を形成する作
業を同時が行なうことができ、接着材等の接着力を向上
させることができる。According to the invention described in claim 6, the plasma column can be attracted to the object to be processed through the space between the discharge electrodes.
More plasma can be made to collide with the surface of a to-be-processed object. As a result, the surface of the object to be processed can be efficiently plasma-processed and the thin film can be formed more efficiently. According to the invention of claim 7,
An expensive inert gas can be introduced into the hollow discharge electrode for effective use, and the plasma generated in the hollow discharge electrode can be supplied to the object to be processed as a plasma column through the slit. As a result, it is possible to simultaneously improve the surface of an object to be processed having a weak adhesive force and to form a thin film on the surface of the object to be processed, and to improve the adhesive force of an adhesive or the like.

【００８６】また、放電電極に電圧を印加することで、
スリットを通してプラズマ柱を被処理物に誘引すること
ができ、被処理物の表面により多くのプラズマを衝突さ
せることができる。この結果、被処理物の表面を効率良
くプラズマ処理することができるとともに、より効率的
に薄膜を形成することができる。さらに、中空の放電電
極の内周面に有機材料あるいは無機酸化物を被膜してい
るので、部分的に異常放電が発生するのを防止すること
ができ、安定してプラズマを生成することができる。By applying a voltage to the discharge electrode,
The plasma column can be attracted to the object to be processed through the slit, and more plasma can be made to collide with the surface of the object to be processed. As a result, the surface of the object to be processed can be efficiently plasma-processed and the thin film can be formed more efficiently. Furthermore, since the inner peripheral surface of the hollow discharge electrode is coated with an organic material or an inorganic oxide, it is possible to prevent partial abnormal discharge from occurring and to stably generate plasma. .

【００８７】請求項８記載の発明によれば、高価な不活
性ガスを中空の放電電極内に導入して有効に使用するこ
とができ、中空の放電電極と線状あるいは棒状の放電電
極の間でプラズマが安定して生成することができる。こ
のため、中空の放電電極内で生成したプラズマをスリッ
トを通しててプラズマ柱として被処理物に供給すること
ができる。この結果、接着力が弱い被処理物の表面の改
質と該被処理物の表面に薄膜を形成する作業を同時に行
なうことができ、シール部材等の接着力を向上させるこ
とができる。According to the eighth aspect of the present invention, an expensive inert gas can be introduced into the hollow discharge electrode for effective use, and the space between the hollow discharge electrode and the linear or rod-shaped discharge electrode can be improved. Thus, plasma can be stably generated. Therefore, the plasma generated in the hollow discharge electrode can be supplied to the object to be processed as a plasma column through the slit. As a result, it is possible to simultaneously improve the surface of an object to be processed having a weak adhesive force and work to form a thin film on the surface of the object to be treated, thereby improving the adhesive force of the seal member or the like.

【００８８】また、電極に電圧を印加することで、スリ
ットを通してプラズマ柱を被処理物に誘引することがで
き、被処理物の表面により多くのプラズマを衝突させる
ことができる。この結果、被処理物の表面を効率良くプ
ラズマ処理することができるとともに、より効率的に薄
膜を形成することができる。さらに、中空の放電電極の
内周面に有機材料あるいは無機酸化物を被膜しているの
で、部分的に異常放電が発生するのを防止することがで
き、安定してプラズマを生成することができる。By applying a voltage to the electrodes, the plasma column can be attracted to the object to be processed through the slit, and more plasma can be made to collide with the surface of the object to be processed. As a result, the surface of the object to be processed can be efficiently plasma-processed and the thin film can be formed more efficiently. Furthermore, since the inner peripheral surface of the hollow discharge electrode is coated with an organic material or an inorganic oxide, it is possible to prevent partial abnormal discharge from occurring and to stably generate plasma. .

【００８９】請求項９記載の発明によれば、プラズマ放
電部分を大幅に小型化することができ、磁場を102〜104
ガウス程度に強くすることができる。この結果、放電に
よって発生した電子、プラズマ、イオン種を充分に拡散
させることができ、被処理物に効果的に衝突させること
ができる。According to the invention described in claim 9, the plasma discharge portion can be remarkably downsized, and the magnetic field can be reduced from 10 2 to 10 4
Can be as strong as Gauss. As a result, the electrons, plasma, and ionic species generated by the discharge can be sufficiently diffused, and can effectively collide with the object to be processed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】請求項１記載の発明に係る大気圧プラズマ処理
装置の一実施例を示すその概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 1.

【図２】(ａ)は一実施例のロゴウスキー電極の斜視図、
(ｂ)はその電極表面の構成図である。FIG. 2A is a perspective view of a Rogowski electrode of one embodiment,
(b) is a block diagram of the electrode surface.

【図３】請求項２記載の発明に係る大気圧プラズマ処理
装置の一実施例を示すその概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 2.

【図４】請求項２記載の発明に係る大気圧プラズマ処理
装置の他の態様を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing another mode of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 2;

【図５】請求項３記載の発明に係る大気圧プラズマ処理
装置の一実施例を示すその概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 3.

【図６】請求項４記載の発明に係る大気圧プラズマ処理
装置の一実施例を示すその概略構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 4.

【図７】請求項５、６記載の発明に係る大気圧プラズマ
処理装置の一実施例を示すその概略構成図であり、(ａ)
はその斜視図、(ｂ)はその断面図である。FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the inventions of claims 5 and 6;
Is a perspective view thereof, and (b) is a sectional view thereof.

【図８】請求項７記載の発明に係る大気圧プラズマ処理
装置の一実施例を示すその概略構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 7.

【図９】請求項８記載の発明に係る大気圧プラズマ処理
装置の一実施例を示すその概略構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 8.

【図10】請求項９記載の発明に係る大気圧プラズマ処理
装置の一実施例を示すその概略構成図である。FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claim 9.

【図11】請求項２〜９記載の発明に係る大気圧プラズマ
処理装置の他の態様を示すその概略構成図である。FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing another aspect of the atmospheric pressure plasma processing apparatus according to the invention of claims 2 to 9.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ プラズマ処理装置 ３ａ、３ｂ、12ａ、12ｂ、32ａ、32ｂ、41、51、52
放電電極 ４ 無機酸化物 ６、14、34、42、54 プラスチックフィルム 11 筒状部材 11ａ、20ａ、41ａ、51ａ、61ａ スリット 20、31、61 中空状部材 21 中間電極 22 裏面電極 43、46 対向放電電極 55 電極1 Plasma processing apparatus 3a, 3b, 12a, 12b, 32a, 32b, 41, 51, 52
Discharge electrode 4 Inorganic oxide 6, 14, 34, 42, 54 Plastic film 11 Cylindrical member 11a, 20a, 41a, 51a, 61a Slit 20, 31, 61 Hollow member 21 Intermediate electrode 22 Backside electrode 43, 46 Counter discharge Electrode 55 Electrode

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】対向する一対の放電電極を有し、大気圧下
でプラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する大
気圧プラズマ処理装置において、 前記放電電極を両端部にカールを有するロゴウスキー形
状に形成するとともに、その電極表面の少なくとも一方
に有機材料あるいは無機酸化物を被膜し、 不活性ガス下で放電電極に電圧を印加することにより、
被処理物の表面をプラズマ処理するのと同時に該表面に
薄膜を形成することを特徴とする大気圧プラズマ処理装
置。1. An atmospheric pressure plasma processing apparatus having a pair of discharge electrodes opposed to each other, wherein plasma is generated under atmospheric pressure to perform plasma processing on an object to be processed, the discharge electrode having a curled edge at both ends. By coating the organic material or the inorganic oxide on at least one of the electrode surfaces and applying a voltage to the discharge electrode under an inert gas,
An atmospheric pressure plasma processing apparatus, characterized in that a thin film is formed on a surface of an object to be processed at the same time as the plasma processing. 【請求項２】大気圧下でプラズマを発生させて被処理物
をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理装置において、 所定方向に延在するとともに、該延在方向に開口するス
リットが形成された中空状部材と、 該中空状部材内に収納され、互いに対向して配設された
一対の放電電極と、 該一対の放電電極の表面の少なくとも一方に被膜された
有機材料あるいは無機酸化物と、を備え、 前記中空状部材内に不活性ガスを導入して放電電極に電
圧を印加し、中空状部材内で発生したプラズマ生成物を
スリット開口部を介して被処理物に照射することによ
り、被処理物の表面をプラズマ処理するのと同時に該表
面に薄膜を形成することを特徴とする大気圧プラズマ処
理装置。2. An atmospheric pressure plasma processing apparatus for generating plasma under atmospheric pressure to perform plasma processing on an object to be processed, which is hollow and has a slit extending in a predetermined direction and opening in the extending direction. A member, a pair of discharge electrodes housed in the hollow member and arranged to face each other, and an organic material or an inorganic oxide coated on at least one surface of the pair of discharge electrodes. By introducing an inert gas into the hollow member, applying a voltage to the discharge electrode, and irradiating the object to be processed with the plasma product generated in the hollow member through the slit opening, An atmospheric pressure plasma processing apparatus, characterized in that a thin film is formed on the surface of an object at the same time as the plasma processing. 【請求項３】前記中空状部材のスリット開口部と被処理
物の間に線状または棒状の中間電極を設け、該中間電極
に電圧を印加することにより、中空状部材内で発生した
プラズマ生成物を被処理物の表面に誘引することを特徴
とする請求項２記載の大気圧プラズマ処理装置。3. A plasma generation generated in the hollow member by providing a linear or rod-shaped intermediate electrode between the slit opening of the hollow member and the object to be processed and applying a voltage to the intermediate electrode. The atmospheric pressure plasma processing apparatus according to claim 2, wherein the object is attracted to the surface of the object to be processed. 【請求項４】前記中空状部材に対向する表面を有する被
処理物の裏面に線状または棒状の裏面電極を設け、該裏
面電極に直流電圧あるいは高周波電圧を印加することに
より、中空状部材内で発生したプラズマ生成物を被処理
物の表面に誘引することを特徴とする請求項２記載の大
気圧プラズマ処理装置。4. A hollow member is provided inside the hollow member by providing a linear or rod-shaped back electrode on the back surface of an object having a surface facing the hollow member, and applying a DC voltage or a high frequency voltage to the back electrode. The atmospheric pressure plasma processing apparatus according to claim 2, wherein the plasma product generated in step 1 is attracted to the surface of the object to be processed. 【請求項５】大気圧下でプラズマを発生させて被処理物
をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理装置において、 所定方向に延在するとともに、下端が該延在方向に沿っ
て開口する中空状部材と、 該中空状部材の下端に取付けられ、互いに所定間隔離隔
して対向する一対の放電電極と、 該一対の放電電極の表面の少なくとも一方に被膜された
有機材料あるいは無機酸化物と、を備え、 前記中空状部材内に不活性ガスを導入して放電電極に電
圧を印加し、放電電極間で発生したプラズマ生成物を放
電電極の間から被処理物に照射することにより、被処理
物の表面をプラズマ処理するのと同時に該表面に薄膜を
形成することを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。5. An atmospheric pressure plasma processing apparatus for generating plasma under atmospheric pressure to plasma-process an object to be processed, the hollow member extending in a predetermined direction and having a lower end opened along the extending direction. And a pair of discharge electrodes that are attached to the lower end of the hollow member and face each other with a predetermined gap therebetween, and an organic material or an inorganic oxide coated on at least one of the surfaces of the pair of discharge electrodes. By introducing an inert gas into the hollow member and applying a voltage to the discharge electrodes, the plasma product generated between the discharge electrodes is irradiated to the process target from between the discharge electrodes, An atmospheric pressure plasma processing apparatus characterized in that a thin film is formed on the surface at the same time as the plasma processing. 【請求項６】前記中空状部材の下端と被処理物の間ある
いは中空状部材に対向する表面を有する被処理物の裏面
に線状または棒状の電極を設け、該電極に電圧を印加す
ることにより、中空状部材内で発生したプラズマ生成物
を被処理物の表面に誘引することを特徴とする請求項５
記載の大気圧プラズマ処理装置。6. A linear or rod-shaped electrode is provided between the lower end of the hollow member and the object to be processed or on the back surface of the object having the surface facing the hollow member, and a voltage is applied to the electrode. The plasma product generated in the hollow member is attracted to the surface of the object to be processed by the method.
The atmospheric pressure plasma processing apparatus described. 【請求項７】大気圧下でプラズマを発生させて被処理物
をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理装置において、 所定方向に延在するとともに該延在方向に開口するスリ
ットが形成され、内周面に有機材料あるいは無機酸化物
が被膜された中空の放電電極と、 該放電電極と被処理物の間あるいは該放電電極に対向す
る表面を有する被処理物の裏面に設けられた線状または
棒状の対向放電電極と、を備え、 前記中空の放電電極内に不活性ガスを導入するととも
に、該放電電極および対向放電電極に電圧を印加し、こ
れら電極間にプラズマ生成物を発生させることにより、
被処理物の表面をプラズマ処理するのと同時に該表面に
薄膜を形成することを特徴とする大気圧プラズマ処理装
置。7. An atmospheric pressure plasma processing apparatus for plasma processing an object to be processed by generating plasma under atmospheric pressure, wherein a slit extending in a predetermined direction and opening in the extending direction is formed, and an inner peripheral surface is formed. A hollow discharge electrode coated with an organic material or an inorganic oxide, and a linear or rod-shaped discharge electrode provided between the discharge electrode and the object to be processed or on the back surface of the object having a surface facing the discharge electrode. A counter discharge electrode, and, while introducing an inert gas into the hollow discharge electrode, by applying a voltage to the discharge electrode and the counter discharge electrode, by generating a plasma product between these electrodes,
An atmospheric pressure plasma processing apparatus, characterized in that a thin film is formed on a surface of an object to be processed at the same time as the plasma processing. 【請求項８】大気圧下でプラズマを発生させて被処理物
をプラズマ処理する大気圧プラズマ処理装置において、 所定方向に延在するとともに該延在方向に開口するスリ
ットが形成され、内周面に有機材料あるいは無機酸化物
が被膜された中空の放電電極と、 該放電電極の内部に収納され、該放電電極と共に所定方
向に延在する線状または棒状の放電電極と、 前記中空の放電電極のスリット開口部と被処理物の間あ
るいは該放電電極に対向する表面を有する被処理物の裏
面に設けられた線状または棒状の電極と、を備え、 前記中空の放電電極内に不活性ガスを導入するととも
に、前記各放電電極および電極に電圧を印加することに
より、放電電極内間で発生したプラズマ生成物を被処理
物の表面に誘引することを特徴とする大気圧プラズマ処
理装置。8. An atmospheric pressure plasma processing apparatus for generating plasma under atmospheric pressure to perform plasma processing on an object to be processed, wherein a slit extending in a predetermined direction and opening in the extending direction is formed, and an inner peripheral surface is formed. A hollow discharge electrode coated with an organic material or an inorganic oxide, a linear or rod-shaped discharge electrode housed inside the discharge electrode and extending in a predetermined direction together with the discharge electrode, and the hollow discharge electrode A linear or rod-shaped electrode provided between the slit opening and the object to be processed or on the back surface of the object to be processed having a surface facing the discharge electrode, and an inert gas inside the hollow discharge electrode. By introducing a voltage to each of the discharge electrodes and the electrodes, the plasma products generated between the discharge electrodes are attracted to the surface of the object to be treated. Processing equipment. 【請求項９】放電電極の周囲に磁場を有することを特徴
とする請求項２〜９何れかに記載の大気圧プラズマ処理
装置。9. The atmospheric pressure plasma processing apparatus according to claim 2, wherein a magnetic field is provided around the discharge electrode.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014086682A (en) * 2012-10-26 2014-05-12 Denso Corp Housing case and manufacturing method thereof
US9287762B2 (en) 2013-03-14 2016-03-15 Ricoh Company, Limited High-voltage inverter, dielectric-barrier discharge evice and cation apparatus

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