JPH06259816A - スタンパーの厚み測定方法 - Google Patents
スタンパーの厚み測定方法Info
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- JPH06259816A JPH06259816A JP6743093A JP6743093A JPH06259816A JP H06259816 A JPH06259816 A JP H06259816A JP 6743093 A JP6743093 A JP 6743093A JP 6743093 A JP6743093 A JP 6743093A JP H06259816 A JPH06259816 A JP H06259816A
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- JP
- Japan
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- stamper
- thickness
- measured
- measuring
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スタンパーの厚さを正確に精度良く測定する
方法を提供する。 【構成】 スタンパーの製造方法におけるガラス板上に
成膜されたスタンパーの厚みを測定する際、レーザー光
を照射する部分と被測定物からの反射光を受光する部分
とを配置してあり、その反射光の受光位置から被測定物
の変位を測定するレーザー変位計をスタンパーの両側に
配置してスタンパーの厚みを測定する方法において、被
測定物であるスタンパーの傾きの影響を無くした状態で
スタンパーの厚さを測定するスタンパーの厚み測定方
法。
方法を提供する。 【構成】 スタンパーの製造方法におけるガラス板上に
成膜されたスタンパーの厚みを測定する際、レーザー光
を照射する部分と被測定物からの反射光を受光する部分
とを配置してあり、その反射光の受光位置から被測定物
の変位を測定するレーザー変位計をスタンパーの両側に
配置してスタンパーの厚みを測定する方法において、被
測定物であるスタンパーの傾きの影響を無くした状態で
スタンパーの厚さを測定するスタンパーの厚み測定方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体用基板を製
造する為のスタンパーの厚みの測定方法に関するもので
ある。
造する為のスタンパーの厚みの測定方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、照射したレーザービーム
の反射によりピットの有無を検出し、情報を記録再生す
るものである。したがって、目的の情報をすばやく記録
再生する為には、レーザー光を所定の場所にすばやく移
動する（高速アクセス）為に、案内溝が必要となる。案
内溝の幅や深さは、レーザーのビーム径や制御方法によ
り異なるが、通常、光ディスクの場合には、溝幅０．８
μｍ、溝ピッチ１．６μｍ、溝深さ７００Å前後であ
り、光カードの場合には、溝幅２．５〜３．０μｍ、溝
ピッチ１２μｍ、溝深さ１０００〜３０００Åぐらいで
ある。
の反射によりピットの有無を検出し、情報を記録再生す
るものである。したがって、目的の情報をすばやく記録
再生する為には、レーザー光を所定の場所にすばやく移
動する（高速アクセス）為に、案内溝が必要となる。案
内溝の幅や深さは、レーザーのビーム径や制御方法によ
り異なるが、通常、光ディスクの場合には、溝幅０．８
μｍ、溝ピッチ１．６μｍ、溝深さ７００Å前後であ
り、光カードの場合には、溝幅２．５〜３．０μｍ、溝
ピッチ１２μｍ、溝深さ１０００〜３０００Åぐらいで
ある。
【０００３】このように微細な凹凸パターンは、硬い材
質であるニッケルのスタンパーにより基板に転写され
る。その方法はインジェクション法や、押し出し成形法
等様々であるが、ほとんど、数十μｍから数百μｍの厚
さのスタンパーを使用している。
質であるニッケルのスタンパーにより基板に転写され
る。その方法はインジェクション法や、押し出し成形法
等様々であるが、ほとんど、数十μｍから数百μｍの厚
さのスタンパーを使用している。
【０００４】厚さ数十μｍから数百μｍのスタンパーは
次の様にして製造される。厚さ１０ｍｍ程度のガラスに
レジスト等により案内溝パターンを形成し、この面にス
パッタリングにより、ニッケルの導電化膜を厚さ数千Å
程度に成膜する。この面に電鋳を行ないニッケルの膜厚
を数十μｍから数百μｍにする。このニッケルを所定の
厚さまで研磨し、ガラスから剥離してスタンパーを得
る。この研磨の際、ニッケルスタンパーの厚さは、ガラ
スから剥離できない為直接測定することはできない。こ
の為、例えばレーザー変位計でスタンパーの研磨面側と
ガラス面側を測定し、その差からスタンパーの厚さを算
出していた。
次の様にして製造される。厚さ１０ｍｍ程度のガラスに
レジスト等により案内溝パターンを形成し、この面にス
パッタリングにより、ニッケルの導電化膜を厚さ数千Å
程度に成膜する。この面に電鋳を行ないニッケルの膜厚
を数十μｍから数百μｍにする。このニッケルを所定の
厚さまで研磨し、ガラスから剥離してスタンパーを得
る。この研磨の際、ニッケルスタンパーの厚さは、ガラ
スから剥離できない為直接測定することはできない。こ
の為、例えばレーザー変位計でスタンパーの研磨面側と
ガラス面側を測定し、その差からスタンパーの厚さを算
出していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、ニッケルスタンパーの厚さを正確に測定する
事は難しかった。この理由は以下の通りである。
来例では、ニッケルスタンパーの厚さを正確に測定する
事は難しかった。この理由は以下の通りである。
【０００６】レーザー変位計は、図２に示す様にレーザ
ー光の入射光（照射光）１１を被測定物１２に照射し、
その反射光１３の受光センサー１４の受光面での位置か
ら、被測定物の変位を測定するものである。したがっ
て、照射光の進行方向の単位ベクトル
ー光の入射光（照射光）１１を被測定物１２に照射し、
その反射光１３の受光センサー１４の受光面での位置か
ら、被測定物の変位を測定するものである。したがっ
て、照射光の進行方向の単位ベクトル
【０００７】
【外１】
【０００８】と受光面を含む平面（図２における紙面）
に被測定物の法線ベクトルを斜影した単位ベクトル
に被測定物の法線ベクトルを斜影した単位ベクトル
【０００９】
【外２】 は照射光の進行方向の単位ベクトル
【００１０】
【外３】 と常に次の（Ｉ）式の関係が成り立たなければ正確な測
定はできない事になる。
定はできない事になる。
【００１１】
【数１】
【００１２】ところが、ガラスにニッケルをスパッタリ
ングおよび電鋳する際、多かれ少なかれ応力が生じるの
が通常である。その結果、ガラスは多少ゆがみをもつこ
とになる。このゆがみは、被測定面の法線ベクトルの向
きを変化させる事になり、その結果レーザー変位計の値
は真の値からずれる事になる。
ングおよび電鋳する際、多かれ少なかれ応力が生じるの
が通常である。その結果、ガラスは多少ゆがみをもつこ
とになる。このゆがみは、被測定面の法線ベクトルの向
きを変化させる事になり、その結果レーザー変位計の値
は真の値からずれる事になる。
【００１３】本発明は、この様な従来技術の欠点を改善
するためになされたものであり、測定用レーザー及び受
光面をもつ測定器を回転させる機溝を設け、前記（Ｉ）
式が成成する様にして、スタンパーの傾きの影響をとり
のぞいた状態にして測定する事により、スタンパーの厚
さを正確に精度良く測定する事を目的とする。
するためになされたものであり、測定用レーザー及び受
光面をもつ測定器を回転させる機溝を設け、前記（Ｉ）
式が成成する様にして、スタンパーの傾きの影響をとり
のぞいた状態にして測定する事により、スタンパーの厚
さを正確に精度良く測定する事を目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、スタン
パーの製造方法におけるガラス板上に成膜されたスタン
パーの厚みを測定する際、レーザー光を照射する部分と
被測定物からの反射光を受光する部分とを配置してあ
り、その反射光の受光位置から被測定物の変位を測定す
るレーザー変位計をスタンパーの両側に配置してスタン
パーの厚みを測定する方法において、被測定物であるス
タンパーの傾きの影響を無くした状態でスタンパーの厚
さを測定することを特徴とするスタンパーの厚み測定方
法である。
パーの製造方法におけるガラス板上に成膜されたスタン
パーの厚みを測定する際、レーザー光を照射する部分と
被測定物からの反射光を受光する部分とを配置してあ
り、その反射光の受光位置から被測定物の変位を測定す
るレーザー変位計をスタンパーの両側に配置してスタン
パーの厚みを測定する方法において、被測定物であるス
タンパーの傾きの影響を無くした状態でスタンパーの厚
さを測定することを特徴とするスタンパーの厚み測定方
法である。
【００１５】本発明においては、変位を測定する為のレ
ーザー光照射部分とその反射光受光部分を備えたレーザ
ー変位計が、その対称中心軸のまわりに回転させる手段
と被測定物の傾きを検知する手段を有し、被測定物の傾
きが測定に影響しないような配置に上記レーザー変位計
を回転させて測定するのが好ましい。
ーザー光照射部分とその反射光受光部分を備えたレーザ
ー変位計が、その対称中心軸のまわりに回転させる手段
と被測定物の傾きを検知する手段を有し、被測定物の傾
きが測定に影響しないような配置に上記レーザー変位計
を回転させて測定するのが好ましい。
【００１６】また、被測定物の傾きを検知する手段が、
レーザー変位計を回転させた時の受光位置の分布である
か、または被測定物の傾きを検知する手段が、レーザー
変位計の回転中心軸と平行にレーザー光を被測定物に照
射する手段と、その反射光を受光する手段であり、その
受光した反射光の位置により被測定物の傾きを検知する
方法であることが好ましい。
レーザー変位計を回転させた時の受光位置の分布である
か、または被測定物の傾きを検知する手段が、レーザー
変位計の回転中心軸と平行にレーザー光を被測定物に照
射する手段と、その反射光を受光する手段であり、その
受光した反射光の位置により被測定物の傾きを検知する
方法であることが好ましい。
【００１７】
【実施例】以下に図面に示す実施例を挙げて本発明を具
体的に説明する。
体的に説明する。
【００１８】実施例１ 図１は本発明のスタンパーの厚み測定方法の一実施態様
を示す説明図である。図１において、１はレーザー変位
計（測定器）であり、２はニッケルスタンパー、３はガ
ラス板である。１のレーザー変位計の測定器は、その中
心線４を軸に回転できる手段を有する。被測定物である
スタンパーに傾きがある場合、受光センサー１４の受光
面での反射光位置２１は１のレーザー変位計測定器を回
転させると図３のように変化する。図３において、２２
及び２２ａの位置は、図２で示した
を示す説明図である。図１において、１はレーザー変位
計（測定器）であり、２はニッケルスタンパー、３はガ
ラス板である。１のレーザー変位計の測定器は、その中
心線４を軸に回転できる手段を有する。被測定物である
スタンパーに傾きがある場合、受光センサー１４の受光
面での反射光位置２１は１のレーザー変位計測定器を回
転させると図３のように変化する。図３において、２２
及び２２ａの位置は、図２で示した
【００１９】
【外４】 の値が最大、最小になった時の位置であり、そこからレ
ーザー変位計（測定器）１を９０°回転させ、
ーザー変位計（測定器）１を９０°回転させ、
【００２０】
【数２】 が成り立つ様にした時、反射光の受光面上の位置は、図
３における２３の位置にくる。被測定物（スタンパー）
との距離は、この２３の位置から算出した値が真の値と
なる。
３における２３の位置にくる。被測定物（スタンパー）
との距離は、この２３の位置から算出した値が真の値と
なる。
【００２１】実際のスタンパーの厚みの測定は以下の手
順による。はじめにガラス板上に成膜されたスタンパー
を移動ステージ７にセットする。次に、前記可動ステー
ジを移動して測定場所を合わせる。１および１ａのレー
ザー変位計（測定器）を中心線４を軸に回転させ、変位
が最大もしくは最小になる（図３の２２もしくは２３の
位置に反射光がくる）回転角をさがす。その回転角から
９０°回転させた時の変位計の値が真の値となる。レー
ザー変位計１および１ａでこの動作を独立で行い、それ
らの値からスタンパー厚みが求められる。このあとステ
ージを次の測定ポイントに移動し再度上記作業を行う。
順による。はじめにガラス板上に成膜されたスタンパー
を移動ステージ７にセットする。次に、前記可動ステー
ジを移動して測定場所を合わせる。１および１ａのレー
ザー変位計（測定器）を中心線４を軸に回転させ、変位
が最大もしくは最小になる（図３の２２もしくは２３の
位置に反射光がくる）回転角をさがす。その回転角から
９０°回転させた時の変位計の値が真の値となる。レー
ザー変位計１および１ａでこの動作を独立で行い、それ
らの値からスタンパー厚みが求められる。このあとステ
ージを次の測定ポイントに移動し再度上記作業を行う。
【００２２】ここでは、１のレーザー変位計としてキー
エンス社製のレーザー変位計（ＬＤ−２５１０）を用
い、パルスモーター付ステージ（シグマ光機社製、ＫＳ
Ｈ−８０ＰＭ）で回転制御した、また１のレーザー変位
計（測定器）の出力を変換演算する変換演算器５はキー
エンス社製のＬＤ−２５００を用いた。
エンス社製のレーザー変位計（ＬＤ−２５１０）を用
い、パルスモーター付ステージ（シグマ光機社製、ＫＳ
Ｈ−８０ＰＭ）で回転制御した、また１のレーザー変位
計（測定器）の出力を変換演算する変換演算器５はキー
エンス社製のＬＤ−２５００を用いた。
【００２３】実施例２ 図４に示すように、変位測定用レーザー１０及び受光セ
ンサー１４の他に被測定物１２の法線ベクトルの向きを
検知する為の傾き検知用レーザー１６と傾き検知用受光
センサー１７が設けてある装置を用いた。
ンサー１４の他に被測定物１２の法線ベクトルの向きを
検知する為の傾き検知用レーザー１６と傾き検知用受光
センサー１７が設けてある装置を用いた。
【００２４】コリメーター付半導体レーザーの傾き検知
用レーザー１６から出射されたレーザー光は被測定物１
２の測定ポイントに照射される。その反射光の進行方向
を示す単位ベクトル
用レーザー１６から出射されたレーザー光は被測定物１
２の測定ポイントに照射される。その反射光の進行方向
を示す単位ベクトル
【００２５】
【外５】 は、被測定面の法線ベクトルを
【００２６】
【外６】 、入射光の進行方向を示す単位ベクトルを
【００２７】
【外７】 とすると、下記の（ＩＩ）式を満足する。
【００２８】
【数３】
【００２９】すなわち、被測定面の法線べクトルの向き
で反射光の進行方向が決定される。したがって、図４
（ａ）において、被測定面の向きを調べる傾き検知用反
射光２０を測定用の照射光の進行方向を示す単位ベクト
ル
で反射光の進行方向が決定される。したがって、図４
（ａ）において、被測定面の向きを調べる傾き検知用反
射光２０を測定用の照射光の進行方向を示す単位ベクト
ル
【００３０】
【外８】 と受光面を含む平面（図４（ａ）における紙面）に斜影
した時、その斜影した傾き検知用反射光２０が入射光と
一致すれば、前記（Ｉ）式が成り立つことになる。
した時、その斜影した傾き検知用反射光２０が入射光と
一致すれば、前記（Ｉ）式が成り立つことになる。
【００３１】すなわち、傾き検知用反射光２０を検知す
る受光センサーとして、例えば図４（Ｃ）のような縦形
の２分割の傾き検知用受光センサー１７を用い、その左
右（１７Ａ、１７Ｂ）での光量が等しくなるように測定
器のレーザー変位計を中心線４を軸にして回転して合わ
せたとき、前記（１）式が成立する。図４においては、
傾き検知用受光センサー１７の設置場所を得るために、
１８の偏光ビームスプリッターを利用している。
る受光センサーとして、例えば図４（Ｃ）のような縦形
の２分割の傾き検知用受光センサー１７を用い、その左
右（１７Ａ、１７Ｂ）での光量が等しくなるように測定
器のレーザー変位計を中心線４を軸にして回転して合わ
せたとき、前記（１）式が成立する。図４においては、
傾き検知用受光センサー１７の設置場所を得るために、
１８の偏光ビームスプリッターを利用している。
【００３２】スタンパーの厚みの測定方法は実施例１と
ほとんど同じであり厚み測定の際、上述したように１７
の受光センサーの差（１７Ａ−１７Ｂ）が０になるよう
に１の測定器のレーザー変位計を回転させる。したがっ
て、実施例１に比べて１の測定器のレーザー変位計の回
転の時間が大幅に短縮され、測定時間が短くなるという
効果もある。
ほとんど同じであり厚み測定の際、上述したように１７
の受光センサーの差（１７Ａ−１７Ｂ）が０になるよう
に１の測定器のレーザー変位計を回転させる。したがっ
て、実施例１に比べて１の測定器のレーザー変位計の回
転の時間が大幅に短縮され、測定時間が短くなるという
効果もある。
【００３３】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、ス
タンパーの厚みをスタンパーの傾きの影響をとりのぞい
た状態にして測定する事により、スタンパーの厚みを精
度良く測定する事ができる効果がある。
タンパーの厚みをスタンパーの傾きの影響をとりのぞい
た状態にして測定する事により、スタンパーの厚みを精
度良く測定する事ができる効果がある。
【図１】本発明のスタンパーの厚み測定方法の一実施態
様を示す説明図である。
様を示す説明図である。
【図２】変位測定の原理図
【図３】レーザー変位計を回転させた時の反射光位置
【図４】本発明のスタンパーの厚み測定方法の他の実施
態様を示す説明図である。
態様を示す説明図である。
１，１ａ レーザー変位計 ２ ニッケルスタンパー ３ ガラス板 ４ 中心軸 ５ 変位演算器 ６ 変位・厚み変換器 ７ 可動ステージ １０ 変位測定用レーザー（コリメータ付） １１ 入射光（照射光） １２，１２ａ 被測定物 １３，１３ａ 反射光 １４ 受光センサー １５ 被測定面の法線ベクトル １６ 傾き検知用レーザー １７ 傾き検知受光センサー １８ 偏光ビームスプリッター １９ 傾き検知用入射光 ２０ 傾き検知用反射光 ２１ 反射光の軌跡
Claims (4)
- 【請求項１】 スタンパーの製造方法におけるガラス板
上に成膜されたスタンパーの厚みを測定する際、レーザ
ー光を照射する部分と被測定物からの反射光を受光する
部分とを配置してあり、その反射光の受光位置から被測
定物の変位を測定するレーザー変位計をスタンパーの両
側に配置してスタンパーの厚みを測定する方法におい
て、被測定物であるスタンパーの傾きの影響を無くした
状態でスタンパーの厚さを測定することを特徴とするス
タンパーの厚み測定方法。 - 【請求項２】 変位を測定する為のレーザー光照射部分
とその反射光受光部分を備えたレーザー変位計が、その
対称中心軸のまわりに回転させる手段と被測定物の傾き
を検知する手段を有し、被測定物の傾きが測定に影響し
ないような配置に上記レーザー変位計を回転させて測定
することを特徴とする請求項１記載のスタンパーの厚み
測定方法。 - 【請求項３】 被測定物の傾きを検知する手段が、レー
ザー変位計を回転させた時の受光位置の分布であること
を特徴とする請求項２記載のスタンパーの厚み測定方
法。 - 【請求項４】 被測定物の傾きを検知する手段が、レー
ザー変位計の回転中心軸と平行にレーザー光を被測定物
に照射する手段と、その反射光を受光する手段であり、
その受光した反射光の位置により被測定物の傾きを検知
することを特徴とする請求項２記載のスタンパーの厚み
測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6743093A JPH06259816A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | スタンパーの厚み測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6743093A JPH06259816A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | スタンパーの厚み測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06259816A true JPH06259816A (ja) | 1994-09-16 |
Family
ID=13344693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6743093A Pending JPH06259816A (ja) | 1993-03-04 | 1993-03-04 | スタンパーの厚み測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06259816A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020016446A (ko) * | 2000-08-25 | 2002-03-04 | 신현준 | 광센서와 반사경을 이용한 폭 또는 두께 측정장치 |
| EP1655571A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-10 | DaTARIUS Technologies GmbH | Device for measuring the thickness of optical media stampers |
| EP1655572A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-10 | DaTARIUS Technologies GmbH | Device for measuring surface properties of optical media stampers |
| KR100867951B1 (ko) * | 2007-07-16 | 2008-11-11 | 삼성전기주식회사 | 임프린팅 방법 |
-
1993
- 1993-03-04 JP JP6743093A patent/JPH06259816A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020016446A (ko) * | 2000-08-25 | 2002-03-04 | 신현준 | 광센서와 반사경을 이용한 폭 또는 두께 측정장치 |
| EP1655571A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-10 | DaTARIUS Technologies GmbH | Device for measuring the thickness of optical media stampers |
| EP1655572A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-10 | DaTARIUS Technologies GmbH | Device for measuring surface properties of optical media stampers |
| KR100867951B1 (ko) * | 2007-07-16 | 2008-11-11 | 삼성전기주식회사 | 임프린팅 방법 |
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