JPH06252121A - ウェット洗浄装置及びその薬液交換方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 薬液の交換を繰り返しても本来の洗浄能力の
劣化を抑制して洗浄能力を長期間に亘って持続させるこ
とができ、薬液交換直後に洗浄槽の薬液に異物を残存さ
せることなく薬液交換直後の洗浄においても製品に異物
を付着させることがないウェット洗浄装置の薬液交換方
法を提供する。 【構成】 薬液循環系７、９にフィルター８を備えたウ
ェット洗浄装置の薬液交換方法において、フィルター８
内の薬液を純水で置換し、その後この純水を新しい薬液
で置換するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シリコンウェハの洗浄
等に用いられるＲＣＡ洗浄で代表されるウェット洗浄装
置及びその薬液交換方法に関する。なお、ＲＣＡ洗浄に
ついては、例えばデビッド エ プュォティネン、アー
ルシーエ，レビュウ（Dabid A Puotinen,RCA Review),1
87頁,1970年6月に示されている。

【０００２】

【従来の技術】従来のウェット洗浄装置及びその薬液交
換方法を図４を参照しながら説明する。同図において、
１は薬液Ｓ中に製品（例えば、シリコンウエハ）を浸漬
した状態で洗浄する洗浄槽、２はこの洗浄槽１にシリコ
ンウエハ等の製品を浸漬した時にこの洗浄槽１からオー
バーフローする薬液Ｓを受けるオーバーフロー槽、３は
このオーバーフロー槽２内の薬液Ｓの液面Ｌを検出して
液面Ｌを制御する制御手段としての液面センサー、４は
この液面センサー３から得られる情報に基づいて開閉し
て薬液供給配管５を介して薬液Ｓを上記オーバーフロー
槽２へ供給する薬液供給用バルブ、６はこの薬液供給用
バルブ４の開放時に供給された薬液Ｓを循環配管７を介
して循環させる循環ポンプ、８はこの循環ポンプ６から
の薬液Ｓを瀘過するフィルター、９はこのフィルター８
によって瀘過された薬液Ｓを上記洗浄槽１へ循環させる
循環配管である。また、１０、１１は上記循環配管７、
９にそれぞれ配設され、上記フィルター８の両側の圧力
差を検出する圧力計、１２は上記洗浄槽１の底面から延
設された第１排出配管、１３は上記オーバーフロー槽２
の底面から延設された第２排出配管、１４はこれらの両
排出配管１２、１３が合流する第３排出配管、１５はこ
の第３排出配管１４から薬液Ｓを排出する際に用いられ
る排出用バルブである。

【０００３】次に、動作について説明する。洗浄槽１で
製品を洗浄する場合には、循環ポンプ６が常に駆動し、
薬液Ｓが常に洗浄槽１からオーバーフロー槽２へオーバ
ーフローしている。そして、このオーバーフロー槽２へ
オーバーフローした薬液Ｓは循環ポンプ６によって循環
配管７を介してフィルター８に液送される。フィルター
８では薬液Ｓを瀘過し、異物が除去された薬液Ｓは循環
配管９を経て洗浄槽１へ戻され、その洗浄能力が劣化す
るまでその循環を続ける。

【０００４】そして、薬液Ｓの洗浄能力が劣化すると新
しい薬液Ｓと交換する。薬液を交換する際には、まず薬
液供給用バルブ４を一旦閉じて薬液Ｓの供給を停止する
と共に循環ポンプ６を停止させる。その後、排出用バル
ブ１５を開放して洗浄槽１及びオーバーフロー槽２の薬
液Ｓを第１排出配管１２ないし第３排出配管１４を介し
て抜き取り、これら両槽１、２内の薬液Ｓが全て抜き取
られた時点で排出用バルブ１５を閉じると共に薬液供給
用バルブ４を開放して新たな薬液Ｓを液面センサー３で
オーバーフロー槽２の液面Ｌを検出しながら所定量にな
るまで供給する。そして、薬液Ｓが所定量に達したら再
び循環ポンプ６を駆動させて新しい薬液Ｓの循環を開始
して薬液Ｓの交換を終了する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ウェット洗浄装置では、薬液Ｓを交換する際に、上述の
ようにフィルター８に引っ掛って存在している異物に対
して何等の対策も講じることなく単に薬液Ｓを交換する
だけで循環ポンプ６を再起動させて製品を洗浄するよう
にしていたため、薬液Ｓの交換を繰り返すに連れてフィ
ルター８に異物が蓄積し、ウェット洗浄装置本来の能力
が徐々に劣化するという課題があった。また、従来の薬
液交換方法では、循環ポンプ６を停止した状態で薬液交
換を行なうため、フィルター８に圧力が加わらなくなっ
てフィルター８内で薬液Ｓが流れなくなってフィルター
８内に引っ掛って存在している異物が解れたり、あるい
は逆流したりしてフィルター８から遊離し、薬液交換直
後の薬液Ｓ中の異物量が著しく増加し、この異物が薬液
Ｓと共に洗浄槽１内に流れ込み、薬液交換直後に洗浄さ
れた製品に多くの異物が残るという課題があった。

【０００６】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、薬液の交換を繰り返しても本来の洗浄能力
の劣化を抑制して洗浄能力を長期間に亘って持続させる
ことができ、薬液交換直後に洗浄槽の薬液に異物が残存
せず薬液交換直後の洗浄においても製品に異物を付着さ
せることがないウェット洗浄装置及びその薬液交換方法
を提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
のウェット洗浄装置の薬液交換方法は、フィルター内の
薬液を純水で置換し、その後この純水を新しい薬液で置
換するものである。

【０００８】本発明の請求項２に記載のウェット洗浄装
置の薬液交換方法は、フィルター内での薬液の流れを止
めることなくフィルター内の薬液を純水で置換し、その
後フィルター内での純水の流れを止めることなる純水を
新しい薬液で置換するものである。

【０００９】本発明の請求項３に記載のウェット洗浄装
置は、薬液循環系に組み込まれ薬液中に浸漬した状態で
製品を洗浄する洗浄槽と、この洗浄槽内の液量を検出し
て薬液供給手段からの薬液の供給量を制御する制御手段
と、上記薬液循環系に組み込まれたフィルターと、上記
薬液を上記フィルターで瀘過しながら上記洗浄槽へ液送
する循環ポンプと、上記洗浄槽に純水を供給する純水供
給配管と、この純水供給配管からの純水の供給量を上記
制御手段を用いて制御する制御弁と、上記洗浄槽に一端
部が取り付けられた排出配管とを備えたものである。

【００１０】

【作用】本発明の請求項１および請求項３に記載の発明
によれば、薬液を交換する際に、薬液循環系のフィルタ
ーに残存する使用後の古い薬液を純水で置換してフィル
ターに存在する異物を除去した後、この純水を新しい薬
液で置換することにより、ウェット洗浄装置の洗浄能力
を長期間に亘って維持することができる。

【００１１】また、本発明の請求項２および請求項３に
記載の発明によれば、薬液を交換する際に、フィルター
での流れを止めることなくフィルターの使用後の薬液を
純水で置換してフィルターに存在する異物を逆流させる
ことなく除去した後、フィルターでの流れを止めること
なくフィルターの純水を新しい薬液で置換することによ
り、薬液交換直後に異物を製品に付着させることなく洗
浄することができると共に、ウェット洗浄装置の洗浄能
力を長期間に亘って持続することができる。

【００１２】

【実施例】以下、図１〜図３に示す実施例に基づいて従
来と同一または相当部分には同一符号を付して本発明を
説明する。尚、各図中、図１は本発明のウェット洗浄装
置の一実施例を示す構成図、図２は本発明のウェット洗
浄装置の他の実施例を示す構成図、図３は薬液交換終了
から薬液循環に要した時間とその時の洗浄でシリコンウ
エハ上に残った０.１μｍレベルの異物の数との相関関
係を示すグラフである。

【００１３】実施例１．本実施例のウェット洗浄装置
は、薬液Ｓ中に浸漬した状態でシリコンウエハ等の製品
（図示せず）を洗浄する洗浄槽１と、この洗浄槽１に製
品を浸漬した時にこの洗浄槽１からオーバーフローする
薬液Ｓを受けるオーバーフロー槽２と、このオーバーフ
ロー槽２内の液量として液面Ｌを検出して薬液供給用バ
ルブ４を開閉制御して薬液供給配管５からの薬液Ｓの供
給量を制御する制御手段としての液面センサー３とを有
し、この液面センサー３により薬液Ｓの液面Ｌが制御さ
れた状態下で薬液Ｓをフィルター８で瀘過するようにな
っている。また、循環配管７，９で構成された薬液循環
系には、薬液Ｓを循環させるベローズポンプ等の循環ポ
ンプ６が組み込まれている。

【００１４】更に、本実施例のウェット洗浄装置には、
オーバーフロー槽２を介してフィルター８へ純水を供給
する純水供給配管１６と、この純水供給配管１６からの
純水の供給量を液面センサー３を介して制御する制御弁
としての純水供給用バルブ１７とが設けられ、循環ポン
プ６の駆動により薬液循環系へ純水を循環させてフィル
ター８の異物を除去するようになっている。つまり、本
実施例のウェット洗浄装置はオーバーフロー槽２を介し
てフィルター８へ純水を供給する手段を設けた以外は従
来のものに準じて構成され、従来と同様の洗浄動作によ
り製品を洗浄するようの構成されている。また、純水供
給配管１６は、循環ポンプ６によってフィルター８へ純
水を供給できるように構成されたものであれば、必ずし
も純水の供給先がオーバーフロー槽２でなくてもよい。

【００１５】次に、ウェット洗浄装置を用いた本発明の
薬液交換方法に一実施例について説明する。まず、薬液
循環系のフィルター８に残存する使用後の古い薬液Ｓを
純水で置換する手順について説明する。それにはまず、
循環ポンプ６を停止させた後、排出用バルブ１５を開放
することにより洗浄槽１及びオーバーフロー槽２内の使
用後の古い薬液Ｓを全て排出する。次いで、純水供給用
バルブ１７を開放して純水供給配管１６からオーバーフ
ロー槽２内に純水を供給し、薬液循環系の純水量が所定
量になるまで液面センサー３で制御しながら純水を供給
する。そして、純水が所定量に達した後、つまり本実施
例では約１０分間純水を流し続けた後、循環ポンプ６を
駆動させてオーバーフロー槽２の純水をフィルター８を
介して洗浄槽１へ供給し続ければ、この間にフィルター
８に引っ掛って存在していた微小な異物が純水と共にフ
ィルター８から除去される。

【００１６】次いで、汚れた純水と新しい薬液Ｓを置換
する手順について説明する。この置換にはまず、循環ポ
ンプ６を停止させた後、排出用バルブ１５を開放するこ
とにより洗浄槽１及びオーバーフロー槽２内の汚れた純
水を全て排出する。次いで、薬液供給用バルブ４を開放
して薬液供給配管５からオーバーフロー槽２内に新しい
薬液Ｓを供給し、薬液循環系の新しい薬液Ｓが所定量に
なるまで液面センサー３で制御しながら薬液Ｓを供給す
る。次いで、循環ポンプ６を駆動させてオーバーフロー
槽２の新しい薬液Ｓをフィルター８を介して洗浄槽１へ
供給し続ければ、液面センサー３によって新しい薬液Ｓ
が所定量に達してその供給が液面センサー３の作用によ
って停止し、薬液Ｓの交換を終了する。

【００１７】以上説明したように本実施例によれば、薬
液Ｓを交換する際に、薬液循環系のフィルター８に残存
する使用後の古い薬液Ｓを純水で置換してフィルター８
に存在する異物を除去した後、この純水を新しい薬液Ｓ
で置換するようにしたため、交換直後の洗浄時に製品に
異物を付着させる虞がなく、しかもフィルタ８に目詰ま
りがなくウェット洗浄装置の初期の洗浄能力を長期間に
亘って持続することができる。

【００１８】実施例２．本実施例のウェット洗浄装置
は、図２に示すように、オーバーフロー槽２の第２排出
配管１３を省略した以外は実施例１と同様に構成されて
いる。そこで、本実施例のウェット洗浄装置を用いた本
発明の薬液交換方法に一実施例について説明する。本実
施例での薬液の交換は、循環ポンプ６を停止させること
なくフィルター８を純水で洗浄する以外は実施例１の場
合と同様に薬液の交換を行なう。それにはまず、循環ポ
ンプ６を駆動させた状態で、排出用バルブ１５を開放す
ることにより洗浄槽１内の使用後の古い薬液Ｓを全て排
出すると共に、この排出動作とほぼ同時に純水供給用バ
ルブ１７を開放して純水供給配管１６からオーバーフロ
ー槽２内に純水を供給すると、オーバーフロー槽２内の
古い薬液Ｓが徐々に純水と置換される。この時、循環ポ
ンプ６は駆動しているため、フィルター８へは徐々に置
換された純水が循環してフィルター８内に引っ掛って存
在していた微小な異物をフィルター８の外部へ除去して
洗浄槽１に供給され、更に第１、第３排出配管１２、１
４を介して排水される。

【００１９】そして、洗浄槽１内の古い薬液Ｓを全て排
出した後、排出用バルブ１５及び純水供給用バルブ１７
を閉じると共に、この純水供給用バルブ１７に代えて薬
液供給用バルブ４を開放して薬液供給配管５からオーバ
ーフロー槽２内に新しい薬液Ｓを供給し、循環ポンプ６
によりオーバーフロー槽２の新しい薬液Ｓをフィルター
８を介して洗浄槽１へ供給し続ければ、液面センサー３
によって新しい薬液Ｓが所定量に達すれば、その供給が
液面センサー３の作用によって停止し、薬液Ｓの交換を
終了する。

【００２０】以上説明したように本実施例によれば、薬
液Ｓを交換する際に、フィルター８での流れを止めるこ
となくフィルター８内の使用後の薬液Ｓを純水で置換し
ながらフィルター８に存在する異物を逆流させることな
く除去した後、フィルター８での流れを止めることなく
フィルター８の純水を新しい薬液で置換するようにした
ため、フィルター８での液流を絶えず確保してフィルタ
ー８に引っ掛って存在していた異物の逆流を防止するこ
とができ、薬液交換直後においても異物を製品に付着さ
せるこなく洗浄することができると共に、ウェット洗浄
装置の洗浄能力を長期間に亘って持続することができ
る。

【００２１】洗浄特性評価 本評価では、上記各実施例のウェット洗浄装置及び従来
のウェット洗浄装置を用いて未洗浄の６インチシリコン
ウエハ（ＦＺタイプ：信越シリコン（株）製）を洗浄し
た場合の薬液交換終了から薬液循環に要した時間と、そ
の時の洗浄によって得られるシリコンウエハ上の０.１
μｍレベルの異物の数との相関性によって各ウェット洗
浄装置の洗浄特性を下記条件下で評価したところ、図３
に示す結果が得られた。図３に示す結果によれば、実施
例１のウェット洗浄装置及び実施例２のウェット洗浄装
置はいずれも薬液交換直後においても従来のウェット洗
浄装置に比べて格段に優れた洗浄効果を得ることができ
ることが判った。また、実施例２の方が実施例１よりも
洗浄特性に優れていることが判った。 （１） ウェット洗浄装置の薬液循環系の機器条件 循環ポンプ； 形式：テフロンベローズポンプ（イワキ製） 形番：ＦＡ２０R 最大能力：１７リットル／分 フィルター； 形式： 形番：ＰＦ８０（日本ミリポア・リミテッド製） 能力：０.１μｍフィルター 流量：１１.３リットル／分（エアー入圧２.０Ｋｇ／ｃ
ｍ2） （２） シリコンウエハ上の異物の測定条件 日立電子エンジニアリング（株）製の表面検査装置ＬＳ
−６０００を用い、シリコンウエハ端から８ｍｍの部分
を除いた範囲で測定を行なった。 （３） ６インチシリコンウエハの状態 予めクラス１００００のクリーンルームに封切り後の上
記シリコンウエハを１０分間放置したものを用い、この
シリコンウエハについて上記表面検査装置を用いて０.
１μｍ以上の微粒子の数を測定したところ、全てのシリ
コンウエハで、その微粒子の数は、１００〜３００の範
囲にあり、それぞれの平均値が１７０であった。

【００２２】尚、本発明のウェット洗浄装置及びその薬
液交換方法は、上記各実施例に制限されるものでないこ
とはいうまでもない。

【００２３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項１
および請求項３に記載の発明によれば、薬液循環系のフ
ィルターに残存する使用後の薬液を純水で置換した後、
この純水を新しい薬液で置換するようになっているた
め、薬液の交換を繰り返しても本来の洗浄能力の劣化を
抑制して洗浄能力を長期間に亘って持続させることがで
き、薬液交換直後に洗浄槽の薬液に異物を残存させるこ
となく薬液交換直後の洗浄においても製品に異物を付着
させることがないという効果がある。

【００２４】また、本発明の請求項２および請求項３に
記載の発明によれば、薬液を交換する際に、フィルター
での流れを止めることなくフィルターの使用後の薬液を
純水で置換してフィルターに存在する異物を逆流させる
ことなく除去した後、フィルターでの流れを止めること
なくフィルターの純水を新しい薬液で置換するようにな
っているので、フィルターでの液流を絶えず確保してフ
ィルターに引っ掛って存在していた異物を除去すること
ができ、薬液交換直後においても異物を製品に付着させ
るこなく洗浄することができると共に、ウェット洗浄装
置の洗浄能力を長期間に亘って持続することができる効
果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のウェット洗浄装置の一実施例を示す構
成図である。

【図２】本発明のウェット洗浄装置の他の実施例を示す
構成図である。

【図３】薬液交換終了から薬液循環に要した時間とその
時の洗浄でシリコンウエハ上に残った０.１μｍレベル
の異物の数との相関関係を示すグラフである。

【図４】従来のウェット洗浄装置の一例を示す構成図で
ある。

【符号の説明】

１ 洗浄槽 ２ オーバーフロー槽 ３ 液面センサー（制御手段） ４ 薬液供給用バルブ（薬液供給手段） ５ 薬液供給配管（薬液供給手段） ６ 循環ポンプ ７ 循環配管（薬液循環系） ８ フィルター ９ 循環配管（薬液循環系） １２ 第１排出配管 １３ 第２排出配管 １５ 排出バルブ １６ 純水供給配管 １７ 純水供給用バルブ（制御弁）

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成５年９月１６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００２

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００２】

【従来の技術】従来のウェット洗浄装置及びその薬液交
換方法を図４を参照しながら説明する。同図において、
１は薬液Ｓ中に製品（例えば、シリコンウエハ）を浸漬
した状態で洗浄する洗浄槽、２はこの洗浄槽１にシリコ
ンウエハ等の製品を浸漬した時にこの洗浄槽１からオー
バーフローする薬液Ｓを受けるオーバーフロー槽、３は
このオーバーフロー槽２内の薬液Ｓの液面Ｌを検出して
液面Ｌを制御する制御手段としての液面センサー、４は
この液面センサー３から得られる情報に基づいて開閉し
て薬液供給配管５を介して薬液Ｓを上記オーバーフロー
槽２へ供給する薬液供給用バルブ、６は洗浄槽１および
オーバーフロー槽２内の薬液Ｓを循環配管７を介して循
環させる循環ポンプ、８はこの循環ポンプ６からの薬液
Ｓを瀘過するフィルター、９はこのフィルター８によっ
て瀘過された薬液Ｓを上記洗浄槽１へ循環させる循環配
管である。また、１０、１１は上記循環配管７、９にそ
れぞれ配設され、上記フィルター８の両側の圧力差を検
出する圧力計、１２は上記洗浄槽１の底面から延設され
た第１排出配管、１３は上記オーバーフロー槽２の底面
から延設された第２排出配管、１４はこれらの両排出配
管１２、１３が合流する第３排出配管、１５はこの第３
排出配管１４から薬液Ｓを排出する際に用いられる排出
用バルブである。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００３

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００３】次に、動作について説明する。洗浄槽１で
製品を洗浄する場合には、循環ポンプ６が常に駆動し、
薬液Ｓが常に洗浄槽１からオーバーフロー槽２へオーバ
ーフローしている。そして、このオーバーフロー槽２へ
オーバーフローした薬液Ｓは循環ポンプ６によって循環
配管７を介してフィルター８に液送される。フィルター
８では薬液Ｓを瀘過し、異物が除去された薬液Ｓは循環
配管９を経て洗浄槽１へ戻され、その薬液Ｓの洗浄能力
が劣化するまでその循環を続ける。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００４

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００４】そして、薬液Ｓの洗浄能力が劣化すると新
しい薬液Ｓと交換する。薬液を交換する際には、まず薬
液供給用バルブ４を一旦閉じて薬液Ｓの供給を停止する
と共に循環ポンプ６を停止させる。その後、排出用バル
ブ１５を開放して洗浄槽１及びオーバーフロー槽２の薬
液Ｓを第１排出配管１２および第２排出配管１３を介し
て抜き取り、これら両槽１、２内の薬液Ｓが全て抜き取
られた時点で排出用バルブ１５を閉じると共に薬液供給
用バルブ４を開放して新たな薬液Ｓを液面センサー３で
オーバーフロー槽２の液面Ｌを検出しながら所定量にな
るまで供給する。そして、薬液Ｓが所定量に達したら再
び循環ポンプ６を駆動させて新しい薬液Ｓの循環を開始
して薬液Ｓの交換を終了する。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００５

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ウェット洗浄装置では、薬液Ｓを交換する際に、上述の
ようにフィルター８に引っ掛って存在している異物に対
して何等の対策も講じることなく単に薬液Ｓを交換する
だけで循環ポンプ６を再起動させて製品を洗浄するよう
にしていたため、薬液Ｓの循環を繰り返すに連れてフィ
ルター８に異物が蓄積し、ウェット洗浄装置本来の能力
が徐々に劣化するという課題があった。また、従来の薬
液交換方法では、循環ポンプ６を停止した状態で薬液交
換を行なうため、フィルター８に圧力が加わらなくなっ
てフィルター８内で薬液Ｓが流れなくなってフィルター
８内に引っ掛って存在している異物が解れたり、あるい
は逆流したりしてフィルター８から遊離し、その結果、
薬液交換後の循環で、薬液Ｓ中に異物が拡散し、薬液Ｓ
中の異物量が著しく増加し、この異物が薬液Ｓと共に洗
浄槽１内に流れ込み、薬液交換直後に洗浄された製品に
多くの異物が残るという課題があった。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１４】更に、本実施例のウェット洗浄装置には、
オーバーフロー槽２を介してフィルター８へ純水を供給
する純水供給配管１６と、この純水供給配管１６からの
純水の供給量を液面センサー３を介して制御する制御弁
としての純水供給用バルブ１７とが設けられ、循環ポン
プ６の駆動により薬液循環系へ純水を循環させてフィル
ター８の異物を除去するようになっている。つまり、本
実施例のウェット洗浄装置はオーバーフロー槽２を介し
てフィルター８へ純水を供給する手段を設けた以外は従
来のものに準じて構成され、従来と同様の洗浄動作によ
り製品を洗浄するようの構成されている。また、純水供
給配管１６は、フィルター８へ純水を供給できるように
構成されたものであれば、必ずしも純水の供給先がオー
バーフロー槽２でなくてもよい。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１５】次に、ウェット洗浄装置を用いた本発明の
薬液交換方法に一実施例について説明する。まず、薬液
循環系のフィルター８に残存する使用後の古い薬液Ｓを
純水で置換する手順について説明する。それにはまず、
循環ポンプ６を停止させた後、排出用バルブ１５を開放
することにより洗浄槽１及びオーバーフロー槽２内の使
用後の古い薬液Ｓを全て排出する。次いで、排出用バル
ブ１５を閉じ、純水供給用バルブ１７を開放して純水供
給配管１６からオーバーフロー槽２内に純水を供給し、
薬液循環系の純水量が所定量になるまで液面センサー３
で制御しながら純水を供給する。そして、純水が所定量
に達した後、循環ポンプ６を駆動させてオーバーフロー
槽２の純水をフィルター８を介して洗浄槽１へ供給し続
ければ、この間にフィルター８に引っ掛って存在してい
た微小な異物が純水と共にフィルター８から除去され
る。

【手続補正７】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１６】次いで、汚れた純水と新しい薬液Ｓを置換
する手順について説明する。この置換にはまず、純水供
給バルブ１７を閉じ、循環ポンプ６を停止させた後、排
出用バルブ１５を開放することにより洗浄槽１及びオー
バーフロー槽２内の汚れた純水を全て排出する。次い
で、排出用バルブ１５を閉じ、薬液供給用バルブ４を開
放して薬液供給配管５からオーバーフロー槽２内に新し
い薬液Ｓを供給し、薬液循環系の新しい薬液Ｓが所定量
になるまで液面センサー３で制御しながら薬液Ｓを供給
する。次いで、循環ポンプ６を駆動させてオーバーフロ
ー槽２の新しい薬液Ｓをフィルター８を介して洗浄槽１
へ供給し続ければ、液面センサー３によって新しい薬液
Ｓが所定量に達してその供給が液面センサー３の作用に
よって停止し、薬液Ｓの交換を終了する。

【手続補正８】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１９

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１９】そして、洗浄槽１内の古い薬液Ｓを全て排
出した後、しばらくして純水供給用バルブ１７を閉じる
と共に、この純水供給用バルブ１７に代えて薬液供給用
バルブ４を開放して薬液供給配管５からオーバーフロー
槽２内に新しい薬液Ｓを供給し、循環ポンプ６によりオ
ーバーフロー槽２の新しい薬液Ｓをフィルター８を介し
て洗浄槽１へ供給し、次に排出用バルブ１５を閉じ、そ
の後も薬液供給配管から薬液Ｓを供給し続ければ、液面
センサー３によって新しい薬液Ｓが所定量に達すれば、
その供給が液面センサー３の作用によって停止し、薬液
Ｓの交換を終了する。

【手続補正９】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２１】洗浄特性評価 本評価では、上記各実施例のウェット洗浄装置及び従来
のウェット洗浄装置を用いて未洗浄の６インチシリコン
ウエハ（ＦＺタイプ：信越シリコン（株）製）を洗浄し
た場合の薬液交換終了から薬液循環に要した時間と、そ
の時の洗浄によって得られるシリコンウエハ上の０.１
μｍレベルの異物の数との相関性によって各ウェット洗
浄装置の洗浄特性を下記条件下で評価したところ、図３
に示す結果が得られた。図３に示す結果によれば、実施
例１のウェット洗浄装置及び実施例２のウェット洗浄装
置はいずれも薬液交換直後においても従来のウェット洗
浄装置に比べて格段に優れた洗浄効果を得ることができ
ることが判った。また、実施例２の方が実施例１よりも
洗浄特性に優れていることが判った。 （１） ウェット洗浄装置の薬液循環系の機器条件 循環ポンプ； 形式：テフロンベローズポンプ（イワキ製） 形番：ＦＡ２０R 最大能力：１７リットル／分 フィルター； 形式： 形番：ＰＦ８０（日本ミリポア・リミテッド製） 能力：０.１μｍフィルター 流量：１１.３リットル／分（エアー入圧２.０Ｋｇ／ｃ
ｍ2） （２） シリコンウエハ上の異物の測定条件 日立電子エンジニアリング（株）製の表面検査装置ＬＳ
−６０００を用い、シリコンウエハ端から８ｍｍの部分
を除いた範囲で測定を行なった。 （３） ６インチシリコンウエハの状態 予めクラス１００００のクリーンルームに封切り後の上
記シリコンウエハを１８０分間放置したものを用い、こ
のシリコンウエハについて上記表面検査装置を用いて
０.１μｍ以上の微粒子の数を測定したところ、全ての
シリコンウエハで、その微粒子の数は、１００〜３００
の範囲にあり、それぞれの平均値が１７０であった。

【手続補正１０】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２４】また、本発明の請求項２および請求項３に
記載の発明によれば、薬液を交換する際に、フィルター
での流れを止めることなくフィルターの使用後の薬液を
純水で置換してフィルターに存在する異物を逆流させる
ことなく除去した後、フィルターでの流れを止めること
なくフィルターの純水を新しい薬液で置換するようにな
っているので、フィルターでの液流を絶えず確保してフ
ィルターに引っ掛って存在していた異物を遊離すること
がなく、薬液交換直後においても異物を製品に付着させ
るこなく洗浄することができると共に、ウェット洗浄装
置の洗浄能力を長期間に亘って持続することができる効
果がある。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 薬液循環系にフィルターを備えたウェッ
   ト洗浄装置の薬液交換方法において、上記フィルター内
   の薬液を純水で置換し、その後この純水を新しい薬液で
   置換することを特徴とするウェット洗浄装置の薬液交換
   方法。
2. 【請求項２】 薬液循環系にフィルターを備えたウェッ
   ト洗浄装置の薬液交換方法において、上記フィルター内
   での薬液の流れを止めることなく上記フィルター内の薬
   液を純水で置換し、その後フィルター内での純水の流れ
   を止めることなる純水を新しい薬液で置換することを特
   徴とするウェット洗浄装置の薬液交換方法。
3. 【請求項３】 薬液循環系に組み込まれ薬液中に浸漬し
   た状態で製品を洗浄する洗浄槽と、この洗浄槽内の液量
   を検出して薬液供給手段からの薬液の供給量を制御する
   制御手段と、上記薬液循環系に組み込まれたフィルター
   と、上記薬液を上記フィルターで瀘過しながら上記洗浄
   槽へ液送する循環ポンプと、上記洗浄槽に純水を供給す
   る純水供給配管と、この純水供給配管からの純水の供給
   量を上記制御手段を用いて制御する制御弁と、上記洗浄
   槽に一端部が取り付けられた排出配管とを備えたことを
   特徴とするウェット洗浄装置。