JPH0625188A - スルホニル尿素の製造法 - Google Patents
スルホニル尿素の製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D521/00—Heterocyclic compounds containing unspecified hetero rings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 除草剤として有用なスルホニル尿素塩の新規
で且つ高収率な製法の提供。 【構成】 式(I) 【化1】 のスルホニル尿素塩を製造するに当つて、一般式(I
I) 【化2】R1−SO2−NH2 (II) のスルホンアミドをアルカリ金属水酸化物又はアルコレ
ートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレー
トと−20〜+150℃の温度で反応させ(工程1)、
次いでこのように製造した一般式(IIa) 【化3】R1−SO2−NH−M+ (IIa) のスルホンアミド塩を、一般式(III) 【化4】 のウレタン(カーバメート)と−20〜+150℃の温
度で反応させ(工程2)、そして式(I)の生成物を常
法によつて単離する製造法。
で且つ高収率な製法の提供。 【構成】 式(I) 【化1】 のスルホニル尿素塩を製造するに当つて、一般式(I
I) 【化2】R1−SO2−NH2 (II) のスルホンアミドをアルカリ金属水酸化物又はアルコレ
ートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレー
トと−20〜+150℃の温度で反応させ(工程1)、
次いでこのように製造した一般式(IIa) 【化3】R1−SO2−NH−M+ (IIa) のスルホンアミド塩を、一般式(III) 【化4】 のウレタン(カーバメート)と−20〜+150℃の温
度で反応させ(工程2)、そして式(I)の生成物を常
法によつて単離する製造法。
Description
【0001】本発明は除草剤として使用しうるスルホニ
ル尿素塩の新規な製造法に関する。スルホニル尿素塩
は、スルホニル尿素のハロゲン化炭化水素中溶液をアル
カリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物と反応
させ、随時濾過後に溶媒を留去することによつて得られ
ることは公知である(ヨーロツパ特許第304,282
号)。
ル尿素塩の新規な製造法に関する。スルホニル尿素塩
は、スルホニル尿素のハロゲン化炭化水素中溶液をアル
カリ金属水酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物と反応
させ、随時濾過後に溶媒を留去することによつて得られ
ることは公知である(ヨーロツパ特許第304,282
号)。
【0002】生成物の溶液からの結晶化は一般にこの方
法の場合起こらないから、エネルギーを消費する溶媒の
蒸留が必要であり、これでは精製効率を達成する機会は
殆んどない。
法の場合起こらないから、エネルギーを消費する溶媒の
蒸留が必要であり、これでは精製効率を達成する機会は
殆んどない。
【0003】更にスルホニル尿素塩は、スルホニル尿素
を、希釈剤としての炭化水素の存在下にアルカリ金属水
酸化物と又は塩基性有機窒素化合物と反応させることに
よつて良好な収率で及び高純度で得られることが知られ
ている。
を、希釈剤としての炭化水素の存在下にアルカリ金属水
酸化物と又は塩基性有機窒素化合物と反応させることに
よつて良好な収率で及び高純度で得られることが知られ
ている。
【0004】今回一般式(I)
【0005】
【化8】
【0006】[式中、M+はアルカリ金属イオン又はア
ルカリ土類金属イオン同等物を表わし、R1はそれぞれ
の場合随時置換されたアリール、アラルキル又はヘテロ
アリールを表わし、R2は水素或いはそれぞれの場合随
時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又はア
ラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞ
れの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを
表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随
時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表わ
し、そしてZは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わ
す]のスルホニル尿素塩は、式(II)
ルカリ土類金属イオン同等物を表わし、R1はそれぞれ
の場合随時置換されたアリール、アラルキル又はヘテロ
アリールを表わし、R2は水素或いはそれぞれの場合随
時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又はア
ラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞ
れの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを
表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随
時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表わ
し、そしてZは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わ
す]のスルホニル尿素塩は、式(II)
【0007】
【化9】R1−SO2−NH2 (II) [式中、R1は上述した意味を有する]のスルホンアミ
ドを、随時希釈剤の存在下にアルカリ金属水酸化物又は
アルコレートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はア
ルコレートと−20〜+150℃の温度で反応させ(工
程1)、次いでこのように製造した一般式(IIa)
ドを、随時希釈剤の存在下にアルカリ金属水酸化物又は
アルコレートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はア
ルコレートと−20〜+150℃の温度で反応させ(工
程1)、次いでこのように製造した一般式(IIa)
【0008】
【化10】R1−SO2−NH−M+ (IIa) [式中、M+及びR1は上述した意味を有する]のスルホ
ンアミド塩を、随時希釈剤の存在下に一般式(III)
ンアミド塩を、随時希釈剤の存在下に一般式(III)
【0009】
【化11】
【0010】[式中、R2、X、Y及びZは上述した意
味を有し、そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリ
ールを表わす]のウレタン(カーバメート)と−20〜
+150℃の温度で反応させ(工程2)、そして式
(I)の生成物を常法によつて単離する場合に非常に良
好な収率で及び高純度で得られることが発見された。
味を有し、そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリ
ールを表わす]のウレタン(カーバメート)と−20〜
+150℃の温度で反応させ(工程2)、そして式
(I)の生成物を常法によつて単離する場合に非常に良
好な収率で及び高純度で得られることが発見された。
【0011】スルホニル尿素塩の製造が、式(II)の
スルホンアミド及び式(III)のウレタンを出発物質
とし、対応する遊離のスルホニル尿素を中間で単離しな
いで、且つ使用しうる希釈剤に関する保存性が克服され
て、非常に良好な収率で及び高純度で進行するというこ
とは驚くべきことと見なすことができる(参照、ヨーロ
ツパ特許第433,779号)。
スルホンアミド及び式(III)のウレタンを出発物質
とし、対応する遊離のスルホニル尿素を中間で単離しな
いで、且つ使用しうる希釈剤に関する保存性が克服され
て、非常に良好な収率で及び高純度で進行するというこ
とは驚くべきことと見なすことができる(参照、ヨーロ
ツパ特許第433,779号)。
【0012】本発明による方法は好ましくはM+がリチ
ウム、ナトリウム又はカリウムイオン或いはマグネシウ
ム又はカルシウムイオンを表わし、R1がそれぞれの場
合随時置換されたフエニル、ナフチル、ベンジル、ピリ
ジル、チエニル又はピラゾリルを表わし、但し可能な置
換基は好ましくはハロゲン、カルボキシル、シアノ、カ
ルバモイル、ニトロ、アミノ、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ−C1〜C
4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノア
ルコキシ、C1〜C4アルコキシ−C1〜C4アルコキシ、
C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフイニ
ル、C1〜C4アルキルスルホニル、ジ−(C1〜C4アル
キル)−アミノ−スルホニル、N−C1〜C4アルコキシ
−N−C1〜C4アルキル−アミノ−スルホニル、フエニ
ル、フエノキシ、C1〜C4アルコキシ−カルボニル、C
1〜C4ハロゲノアルコキシ−カルボニル、C1〜C2アル
コキシ−C1〜C2アルコキシ−カルボニル、ジ−(C1
〜C4アルキル)−アミノ−カルボニルの系列から選択
され、R2がハロゲン、(随時弗素、シアノ、C1〜C4
アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオで置換された)C
1〜C6アルキル、(随時弗素又は塩素で置換された)C
3〜C6アルケニル及びC3〜C6アルキニル、或いは(随
時フエニル残基が弗素、塩素、ニトロ、シアノ、メチ
ル、メトキシ又はC1〜C2アルコキシカルボニルで置換
された)フエニル−C1〜C2アルキルを表わし、Xが水
素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲン又は
C1〜C4アルコキシで置換されたC1〜C4アルキル、C
1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ又はC1〜C4
アルキルアミノを表わし、Yが水素、ハロゲン、或いは
それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたC1〜C4アル
キル又はC1〜C4アルコキシを表わし、Zが窒素又はC
H基を表わす、式(I)のスルホニル尿素塩の製造に関
する。
ウム、ナトリウム又はカリウムイオン或いはマグネシウ
ム又はカルシウムイオンを表わし、R1がそれぞれの場
合随時置換されたフエニル、ナフチル、ベンジル、ピリ
ジル、チエニル又はピラゾリルを表わし、但し可能な置
換基は好ましくはハロゲン、カルボキシル、シアノ、カ
ルバモイル、ニトロ、アミノ、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ−C1〜C
4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノア
ルコキシ、C1〜C4アルコキシ−C1〜C4アルコキシ、
C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフイニ
ル、C1〜C4アルキルスルホニル、ジ−(C1〜C4アル
キル)−アミノ−スルホニル、N−C1〜C4アルコキシ
−N−C1〜C4アルキル−アミノ−スルホニル、フエニ
ル、フエノキシ、C1〜C4アルコキシ−カルボニル、C
1〜C4ハロゲノアルコキシ−カルボニル、C1〜C2アル
コキシ−C1〜C2アルコキシ−カルボニル、ジ−(C1
〜C4アルキル)−アミノ−カルボニルの系列から選択
され、R2がハロゲン、(随時弗素、シアノ、C1〜C4
アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオで置換された)C
1〜C6アルキル、(随時弗素又は塩素で置換された)C
3〜C6アルケニル及びC3〜C6アルキニル、或いは(随
時フエニル残基が弗素、塩素、ニトロ、シアノ、メチ
ル、メトキシ又はC1〜C2アルコキシカルボニルで置換
された)フエニル−C1〜C2アルキルを表わし、Xが水
素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲン又は
C1〜C4アルコキシで置換されたC1〜C4アルキル、C
1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ又はC1〜C4
アルキルアミノを表わし、Yが水素、ハロゲン、或いは
それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたC1〜C4アル
キル又はC1〜C4アルコキシを表わし、Zが窒素又はC
H基を表わす、式(I)のスルホニル尿素塩の製造に関
する。
【0013】本発明による方法は特にM+がナトリウム
イオン又はカリウムイオンを表わし、R1がそれぞれの
場合オルト位が弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、ト
リフルオルメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメ
トキシ、トリフルオルメトキシ、クロルエトキシ、メト
キシエトキシ、エトキシエトキシ、メチルチオ、エチル
チオ、プロピルチオ、メチルスルフイニル、エチルスル
フイニル、プロピルスルフイニル、メチルスルホニル、
エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ジメチルアミ
ノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、N−メトキ
シ−N−メチル−アミノスルホニル、フエニル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、クロルエトキシカル
ボニル、メトキシエトキシカルボニル、ジメチルアミノ
カルボニル又はジエチルアミノカルボニルで及び随時更
なる位置がハロゲンで置換されたフエニル又はベンジル
を表わし、或いは3−ジメチルアミノカルボニル−ピリ
ジン−2−イル又は3−エチルスルホニル−ピリジン−
2−イル、2−メトキシカルボニル−チオフエン−3−
イル又は1−メチル−4−メトキシカルボニル−ピラゾ
ル−5−イル、1−メチル−4−メトキシカルボニル−
ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−エトキシカルボ
ニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−3−クロル−
4−メトキシカルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メ
チル−3−クロル−4−エトキシカルボニル−ピラゾル
−5−イル、又は1−ピリジル−4−メトキシカルボニ
ル−ピラゾル−5−イルを表わし、R2が水素又はメチ
ルを表わし、Xが水素、塩素、メチル、エチル、トリク
ロルメチル、トリフルオルメチル、メトキシメチル、メ
トキシ、エトキシ、ジフルオルメトキシ、フルオルエト
キシ、ジフルオルエトキシ、トリフルオルエトキシ、メ
トキシエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルアミ
ノ又はエチルアミノを表わし、Yが水素、塩素、メチ
ル、エチル、トリフルオルメチル、メトキシ、エトキシ
又はジフルオルメトキシを表わし、そしてZが窒素又は
CH基を表わす、式(I)のスルホニル尿素塩の製造に
関する。
イオン又はカリウムイオンを表わし、R1がそれぞれの
場合オルト位が弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、ト
リフルオルメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメ
トキシ、トリフルオルメトキシ、クロルエトキシ、メト
キシエトキシ、エトキシエトキシ、メチルチオ、エチル
チオ、プロピルチオ、メチルスルフイニル、エチルスル
フイニル、プロピルスルフイニル、メチルスルホニル、
エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ジメチルアミ
ノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、N−メトキ
シ−N−メチル−アミノスルホニル、フエニル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、クロルエトキシカル
ボニル、メトキシエトキシカルボニル、ジメチルアミノ
カルボニル又はジエチルアミノカルボニルで及び随時更
なる位置がハロゲンで置換されたフエニル又はベンジル
を表わし、或いは3−ジメチルアミノカルボニル−ピリ
ジン−2−イル又は3−エチルスルホニル−ピリジン−
2−イル、2−メトキシカルボニル−チオフエン−3−
イル又は1−メチル−4−メトキシカルボニル−ピラゾ
ル−5−イル、1−メチル−4−メトキシカルボニル−
ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−エトキシカルボ
ニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−3−クロル−
4−メトキシカルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メ
チル−3−クロル−4−エトキシカルボニル−ピラゾル
−5−イル、又は1−ピリジル−4−メトキシカルボニ
ル−ピラゾル−5−イルを表わし、R2が水素又はメチ
ルを表わし、Xが水素、塩素、メチル、エチル、トリク
ロルメチル、トリフルオルメチル、メトキシメチル、メ
トキシ、エトキシ、ジフルオルメトキシ、フルオルエト
キシ、ジフルオルエトキシ、トリフルオルエトキシ、メ
トキシエトキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルアミ
ノ又はエチルアミノを表わし、Yが水素、塩素、メチ
ル、エチル、トリフルオルメチル、メトキシ、エトキシ
又はジフルオルメトキシを表わし、そしてZが窒素又は
CH基を表わす、式(I)のスルホニル尿素塩の製造に
関する。
【0014】例えば2−ジフルオルメトキシ−ベンゼン
スルホンアミド及びナトリウムメチレートを出発物質と
して用い且つ生成したナトリウム塩をN−メチル−N−
(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イ
ル)−カルバミン酸フエニルと反応させる場合、本発明
の方法の反応過程は次の反応式で慨述できる:
スルホンアミド及びナトリウムメチレートを出発物質と
して用い且つ生成したナトリウム塩をN−メチル−N−
(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イ
ル)−カルバミン酸フエニルと反応させる場合、本発明
の方法の反応過程は次の反応式で慨述できる:
【0015】
【化12】
【0016】本発明の方法の出発物質として使用すべき
スルホンアミドは、一般に式(II)で定義される。式
(II)において、R1は好ましくは又は特に、本発明
に従つて製造しうる式(I)の化合物の記述と関連し
て、特にR1に対する好適なものとしてすでに上述した
意味を有する。
スルホンアミドは、一般に式(II)で定義される。式
(II)において、R1は好ましくは又は特に、本発明
に従つて製造しうる式(I)の化合物の記述と関連し
て、特にR1に対する好適なものとしてすでに上述した
意味を有する。
【0017】言及しうる式(II)の出発物質の例は次
の通りである:2−フルオル−、2−クロル−、2−ブ
ロム、2,5−ジクロル−、2,6−ジクロル−、2−ニ
トロ−、2−シアノ−、2−メチル−、2−トリフルオ
ルメチル−、2−メトキシ−、2−ジフルオルメトキシ
−、2−トリフルオルメトキシ−、2−メチルチオ−、
2−エチルチオ−、2−(2−クロルエトキシ)−、2
−(2−メトキシエトキシ)−、2−ジメチルアミノス
ルホニル−、2−フエニル−、2−メトキシカルボニル
−、2−エトキシカルボニル−及び2−プロポキシカル
ボニル−ベンゼンスルホンアミド、(2−クロル−フエ
ニル)−、(2−ジフルオルメトキシ−フエニル)−及
び(2−エトキシカルボニル−フエニル)−メタンスル
ホンアミド、3−ジメチルアミノカルボニル−ピリジン
−2−スルホンアミド、3−エチルスルホニル−ピリジ
ン−2−スルホンアミド、2−メトキシカルボニル−チ
オフエン−3−スルホンアミド、1−メチル−4−メト
キシカルボニル−、1−メチル−4−エトキシカルボニ
ル−、1−メチル−3−クロル−4−メトキシカルボニ
ル−、1−メチル−3−クロル−4−エトキシカルボニ
ル−及び1−ピリジル−4−メトキシカルボニル−ピラ
ゾル−5−スルホンアミド。
の通りである:2−フルオル−、2−クロル−、2−ブ
ロム、2,5−ジクロル−、2,6−ジクロル−、2−ニ
トロ−、2−シアノ−、2−メチル−、2−トリフルオ
ルメチル−、2−メトキシ−、2−ジフルオルメトキシ
−、2−トリフルオルメトキシ−、2−メチルチオ−、
2−エチルチオ−、2−(2−クロルエトキシ)−、2
−(2−メトキシエトキシ)−、2−ジメチルアミノス
ルホニル−、2−フエニル−、2−メトキシカルボニル
−、2−エトキシカルボニル−及び2−プロポキシカル
ボニル−ベンゼンスルホンアミド、(2−クロル−フエ
ニル)−、(2−ジフルオルメトキシ−フエニル)−及
び(2−エトキシカルボニル−フエニル)−メタンスル
ホンアミド、3−ジメチルアミノカルボニル−ピリジン
−2−スルホンアミド、3−エチルスルホニル−ピリジ
ン−2−スルホンアミド、2−メトキシカルボニル−チ
オフエン−3−スルホンアミド、1−メチル−4−メト
キシカルボニル−、1−メチル−4−エトキシカルボニ
ル−、1−メチル−3−クロル−4−メトキシカルボニ
ル−、1−メチル−3−クロル−4−エトキシカルボニ
ル−及び1−ピリジル−4−メトキシカルボニル−ピラ
ゾル−5−スルホンアミド。
【0018】式(II)のスルホンアミドは、公知であ
り及び/又は公知の方法に従つて製造することができる
[参照、J.オルグ・ケム(Org. Chem.)25,182
4(1960)及び33,2104(1968);独国
特許公報第2308262号;ヨーロツパ特許第231
40号、第23141号、第23422号、第3589
3号、第48143号、第51466号、第64322
号、第70041号、第44808号、及び第4480
9号;米国特許第2929820号、第4282242
号、第4348220号、第4372778号及び第4
806147号]。
り及び/又は公知の方法に従つて製造することができる
[参照、J.オルグ・ケム(Org. Chem.)25,182
4(1960)及び33,2104(1968);独国
特許公報第2308262号;ヨーロツパ特許第231
40号、第23141号、第23422号、第3589
3号、第48143号、第51466号、第64322
号、第70041号、第44808号、及び第4480
9号;米国特許第2929820号、第4282242
号、第4348220号、第4372778号及び第4
806147号]。
【0019】本発明の式(I)の化合物の製造法におい
て、更なる出発物質として使用すべきウレタンは、一般
に式(III)によつて定義される。
て、更なる出発物質として使用すべきウレタンは、一般
に式(III)によつて定義される。
【0020】式(III)において、R2、X、Y及び
Zは好ましくは又は特に本発明の方法で製造しうる式
(I)の化合物の記述と関連して且つR2、X、Y及び
Zに対する好適な又は特に好適なものとしてすでに上述
した意味を有し、そしてR3は好ましくはメチル、エチ
ル、ベンジル又はフエニル、特にフエニルを表わす。
Zは好ましくは又は特に本発明の方法で製造しうる式
(I)の化合物の記述と関連して且つR2、X、Y及び
Zに対する好適な又は特に好適なものとしてすでに上述
した意味を有し、そしてR3は好ましくはメチル、エチ
ル、ベンジル又はフエニル、特にフエニルを表わす。
【0021】言及しうる式(III)の出発物質の例は
次の通りである:N−(4,6−ジメチル−ピリミジン
−2−イル)−、N−(4−メトキシ−6−メチル−ピ
リジン−2−イル)−、N−(4,6−ジメトキシ−ピ
リミジン−2−イル)−、N−(4,6−ジメチル−s
−トリアジン−2−イル)−、N−(4−メトキシ−6
−メチル−s−トリアジン−2−イル)−及びN−
(4,6−ジメトキシ−s−トリアジン−2−イル)−
N−メチル−o−メチルウレタン、−N−メチル−o−
エチル−ウレタン、−N−メチル−o−ベンジル−ウレ
タン及び−N−メチル−o−フエニル−ウレタン。
次の通りである:N−(4,6−ジメチル−ピリミジン
−2−イル)−、N−(4−メトキシ−6−メチル−ピ
リジン−2−イル)−、N−(4,6−ジメトキシ−ピ
リミジン−2−イル)−、N−(4,6−ジメチル−s
−トリアジン−2−イル)−、N−(4−メトキシ−6
−メチル−s−トリアジン−2−イル)−及びN−
(4,6−ジメトキシ−s−トリアジン−2−イル)−
N−メチル−o−メチルウレタン、−N−メチル−o−
エチル−ウレタン、−N−メチル−o−ベンジル−ウレ
タン及び−N−メチル−o−フエニル−ウレタン。
【0022】式(III)の出発物質は公知であり及び
/又は公知の方法に従つて製造しうる[参照、ヨーロツ
パ特許第101670号;米国特許第4683000
号、第4678500号及び第4786311号]。
/又は公知の方法に従つて製造しうる[参照、ヨーロツ
パ特許第101670号;米国特許第4683000
号、第4678500号及び第4786311号]。
【0023】式(III)のウレタンは、新規な及び本
発明の方法に従つて、一般式(IV)
発明の方法に従つて、一般式(IV)
【0024】
【化13】
【0025】[式中、R2、X、Y及びZは上述した意
味を有する]のアミンを、随時酸受容体例えば炭酸(水
素)ナトリウム、炭酸(水素)カリウム、又はカリウム
tert−ブチレートの存在下に及び随時希釈剤例えば
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジイソプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、メ
チルtert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、グリコールジメチルエーテル、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メ
チル、エチル、プロピル又はブチル、アセトニトリル又
はプロピオニトリルの存在下に式(V)
味を有する]のアミンを、随時酸受容体例えば炭酸(水
素)ナトリウム、炭酸(水素)カリウム、又はカリウム
tert−ブチレートの存在下に及び随時希釈剤例えば
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジイソプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、メ
チルtert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、グリコールジメチルエーテル、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メ
チル、エチル、プロピル又はブチル、アセトニトリル又
はプロピオニトリルの存在下に式(V)
【0026】
【化14】R3−O−CO−Cl (V) [式中、R3は上述した意味を有する]のクロルぎ酸エ
ステルと0〜150℃の温度で反応させる場合に得られ
る(参照、製造例)。
ステルと0〜150℃の温度で反応させる場合に得られ
る(参照、製造例)。
【0027】本発明の方法はアルカリ金属水酸化物又は
アルコレート或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアル
コレートを用いることによつて行われる。好適なもの
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム及
びカルシウム水酸化物、ナトリウム、カリウム、及びマ
グネシウムメチレート及びエチレート、ナトリウム及び
カリウムプロピレート、イソプロピレート、ブチレー
ト、イソブチレート、sec−ブチレート、及びter
t−ブチレートである。
アルコレート或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアル
コレートを用いることによつて行われる。好適なもの
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム及
びカルシウム水酸化物、ナトリウム、カリウム、及びマ
グネシウムメチレート及びエチレート、ナトリウム及び
カリウムプロピレート、イソプロピレート、ブチレー
ト、イソブチレート、sec−ブチレート、及びter
t−ブチレートである。
【0028】特に好適なものは、ナトリウム及びカリウ
ムメチレート、ナトリウム及びカリウムエチレート、及
び更にナトリウム及びカリウム水酸化物である。
ムメチレート、ナトリウム及びカリウムエチレート、及
び更にナトリウム及びカリウム水酸化物である。
【0029】本発明による式(IIa)のスルホンアミ
ド塩の製造工程は好ましくは希釈剤の存在下に行われ
る。この関連において適当な希釈剤は特に有機溶媒であ
る。これらは好ましくは脂肪族及び芳香族の、随時ハロ
ゲン化された炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジン、リ
グロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロル
ベンゼン及びo−ジクロルベンゼン、エーテル、例えば
ジエチル及びジブチルエーテル、グリコールジメチルエ
ーテル及びジグリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン及びジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン及びメチ
ルイソブチルケトン、エステル、例えば酢酸メチル及び
エチル、ニトリル、例えばアセトニトリル及びプロピオ
ニトリル、アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド及びN−メチルピロリドン、並びにア
ルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、
sec−ブタノール及びtert−ブタノール並びに水
を含む。この関連において水及びアルコール例えばメタ
ノール及びエタノールは非常に特に好適である。
ド塩の製造工程は好ましくは希釈剤の存在下に行われ
る。この関連において適当な希釈剤は特に有機溶媒であ
る。これらは好ましくは脂肪族及び芳香族の、随時ハロ
ゲン化された炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジン、リ
グロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロル
ベンゼン及びo−ジクロルベンゼン、エーテル、例えば
ジエチル及びジブチルエーテル、グリコールジメチルエ
ーテル及びジグリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン及びジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン及びメチ
ルイソブチルケトン、エステル、例えば酢酸メチル及び
エチル、ニトリル、例えばアセトニトリル及びプロピオ
ニトリル、アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド及びN−メチルピロリドン、並びにア
ルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、
sec−ブタノール及びtert−ブタノール並びに水
を含む。この関連において水及びアルコール例えばメタ
ノール及びエタノールは非常に特に好適である。
【0030】本発明の方法における式(IIa)のスル
ホンアミド塩を製造する際の反応温度は広い範囲にわた
つて変えることができる。一般に−20〜+150℃、
好ましくは0〜120℃の温度が使用される。
ホンアミド塩を製造する際の反応温度は広い範囲にわた
つて変えることができる。一般に−20〜+150℃、
好ましくは0〜120℃の温度が使用される。
【0031】本発明の方法の最終工程、即ち式(II
a)のスルホンアミド塩の、式(III)のウレタンと
の反応は、好ましくは希釈剤の存在下に行われる。この
関連において、適当な希釈剤は特に中性の有機溶媒であ
る。これらは好ましくは脂肪族及び芳香族の、随時ハロ
ゲン化された炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジン、リ
グロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロル
ベンゼン及びo−ジクロルベンゼン、エーテル、例えば
ジエチル及びジブチルエーテル、グリコールジメチルエ
ーテル及びジグリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン及びジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン及びメチ
ルイソブチルケトン、エステル、例えば酢酸メチル及び
エチル、ニトリル、例えばアセトニトリル及びプロピオ
ニトリル、アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド及びN−メチルピロリドン、並びにジ
メチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン及びヘキ
サメチル燐酸トリアミドを含む。
a)のスルホンアミド塩の、式(III)のウレタンと
の反応は、好ましくは希釈剤の存在下に行われる。この
関連において、適当な希釈剤は特に中性の有機溶媒であ
る。これらは好ましくは脂肪族及び芳香族の、随時ハロ
ゲン化された炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジン、リ
グロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロル
ベンゼン及びo−ジクロルベンゼン、エーテル、例えば
ジエチル及びジブチルエーテル、グリコールジメチルエ
ーテル及びジグリコールジメチルエーテル、テトラヒド
ロフラン及びジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン及びメチ
ルイソブチルケトン、エステル、例えば酢酸メチル及び
エチル、ニトリル、例えばアセトニトリル及びプロピオ
ニトリル、アミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド及びN−メチルピロリドン、並びにジ
メチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン及びヘキ
サメチル燐酸トリアミドを含む。
【0032】この関連において、ケトン例えばメチルイ
ソブチルケトン及びニトリル例えばアセトニトリルは非
常に特に好適である。
ソブチルケトン及びニトリル例えばアセトニトリルは非
常に特に好適である。
【0033】本発明の方法の最終工程において、反応温
度は広い範囲にわたつて変えることができる。一般に−
20〜+150℃、好ましくは0〜100℃の温度が使
用される。
度は広い範囲にわたつて変えることができる。一般に−
20〜+150℃、好ましくは0〜100℃の温度が使
用される。
【0034】本発明の方法は一般に大気圧で行われる。
しかしながら、それは昇圧又は減圧下に、一般に0.1
〜10バール下に行うことができる。
しかしながら、それは昇圧又は減圧下に、一般に0.1
〜10バール下に行うことができる。
【0035】本発明の方法を行うためには、式(II)
のスルホンアミド1モルに対して、一般に0.9〜1.
5、好ましくは0.95〜1.20モル又はモル当量のア
ルカリ金属水酸化物又はアルコレート或いはアルカリ土
類金属水酸化物又はアルコレート及び0.9〜1.2、好
ましくは0.95〜1.10モルの式(III)のウレタ
ンが用いられる。
のスルホンアミド1モルに対して、一般に0.9〜1.
5、好ましくは0.95〜1.20モル又はモル当量のア
ルカリ金属水酸化物又はアルコレート或いはアルカリ土
類金属水酸化物又はアルコレート及び0.9〜1.2、好
ましくは0.95〜1.10モルの式(III)のウレタ
ンが用いられる。
【0036】本発明の方法の好適な具体例においては、
式(II)のスルホンアミドを有機希釈剤中に導入し、
そしてこれにアルカリ金属水酸化物又はアルコレート或
いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレートを撹拌
しながら秤入する。次いで混合物をある期間撹拌し、減
圧下に濃縮する。続いて本質的に式(IIa)のスルホ
ンアミド塩を含有する残渣を適当な希釈剤中に入れ、式
(III)のウレタンを撹拌しながら添加する。
式(II)のスルホンアミドを有機希釈剤中に導入し、
そしてこれにアルカリ金属水酸化物又はアルコレート或
いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレートを撹拌
しながら秤入する。次いで混合物をある期間撹拌し、減
圧下に濃縮する。続いて本質的に式(IIa)のスルホ
ンアミド塩を含有する残渣を適当な希釈剤中に入れ、式
(III)のウレタンを撹拌しながら添加する。
【0037】本発明の方法の更に好適な具体例において
は、式(II)のスルホンアミドを、それが実質的に完
全に溶解するまで当量のアルカリ金属又はアルカリ土類
金属水酸化物の水溶液と撹拌する。次いで未溶解の成分
を随時濾別し、この溶液に有機溶媒、好ましくはメチル
イソブチルケトン又はトルエンを添加する。次いで水を
共沸蒸留によつて除去する。更に式(III)のウレタ
ンを、好ましくは60〜90℃の温度において残りの溶
液に添加し、そして反応混合物を反応が完結するまで撹
拌する。
は、式(II)のスルホンアミドを、それが実質的に完
全に溶解するまで当量のアルカリ金属又はアルカリ土類
金属水酸化物の水溶液と撹拌する。次いで未溶解の成分
を随時濾別し、この溶液に有機溶媒、好ましくはメチル
イソブチルケトン又はトルエンを添加する。次いで水を
共沸蒸留によつて除去する。更に式(III)のウレタ
ンを、好ましくは60〜90℃の温度において残りの溶
液に添加し、そして反応混合物を反応が完結するまで撹
拌する。
【0038】反応が完了した後は、常法に従つて処理を
行う(参照、製造例)。
行う(参照、製造例)。
【0039】本発明の方法で製造しうる式(I)のスル
ホニル尿素塩は選択的除草剤として使用しうる(参照、
ヨーロツパ特許第251,079号及び第433,779
号)。
ホニル尿素塩は選択的除草剤として使用しうる(参照、
ヨーロツパ特許第251,079号及び第433,779
号)。
【0040】
【実施例】製造例 実施例1
【0041】
【化15】
【0042】2−トリフルオルメトキシ−ベンゼンスル
ホンアミド12.1g(50.2ミリモル)をメタノール
50ml中に入れ、次いでメタノール中ナトリウムメチ
レートの30%溶液9.1g(NaOCH3 50.6ミリ
モル)を撹拌しながら20℃で添加した。この混合物を
更に2時間20℃で撹拌し、続いて水流ポンプで濃縮し
た。残渣をトルエン中に入れ、再びもう1度濃縮した。
次いで残渣をアセトニトリル100ml中に入れ、N−
メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリア
ジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル14.5g
(45.8ミリモル)を撹拌しながら20℃で添加し
た。ある期間の後、懸濁液から明黄色の殆んど透明な溶
液を得、この溶液から無色の固体を除々に沈殿させた。
12時間後、生成物を吸引濾過により単離した。
ホンアミド12.1g(50.2ミリモル)をメタノール
50ml中に入れ、次いでメタノール中ナトリウムメチ
レートの30%溶液9.1g(NaOCH3 50.6ミリ
モル)を撹拌しながら20℃で添加した。この混合物を
更に2時間20℃で撹拌し、続いて水流ポンプで濃縮し
た。残渣をトルエン中に入れ、再びもう1度濃縮した。
次いで残渣をアセトニトリル100ml中に入れ、N−
メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリア
ジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル14.5g
(45.8ミリモル)を撹拌しながら20℃で添加し
た。ある期間の後、懸濁液から明黄色の殆んど透明な溶
液を得、この溶液から無色の固体を除々に沈殿させた。
12時間後、生成物を吸引濾過により単離した。
【0043】融点224℃の3−(4,6−ジメトキシ
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−トリフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素の
ナトリウム塩19.9g(理論量の93%)(HPLC
による純度98.3%)を得た。
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−トリフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素の
ナトリウム塩19.9g(理論量の93%)(HPLC
による純度98.3%)を得た。
【0044】実施例1と同様に且つ本発明の方法の一般
的な記述に対応して、例えば下表1に示す式(I)の化
合物も製造した。
的な記述に対応して、例えば下表1に示す式(I)の化
合物も製造した。
【0045】
【化16】
【0046】
【表1】
【0047】
【表2】
【0048】
【表3】
【0049】実施例1に従つて得られる化合物は、例え
ば以下の如くしても製造できた。
ば以下の如くしても製造できた。
【0050】実施例1a
【0051】
【化17】
【0052】2−トリフルオルメトキシ−ベンゼンスル
ホンアミド14.4g(60ミリモル)を、溶液が実質
的に完成するまで水50ml中水酸化ナトリウム2.4
g(60ミリモル)の溶液と共に20℃で撹拌した。濾
過後、この透明な溶液にメチルイソブチルケトン150
mlを添加し、水を共沸蒸留で除去した。続いて残りの
溶液に、N−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,
3,5−s−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フ
エニル18.8g(60.6ミリモル)を70〜90℃で
添加した。透明な溶液が得られ、これから短期間の後
に、生成物がかさばつて沈殿した。より簡単に撹拌しう
るために溶液を(メチルイソブチルケトンで)500m
lまで希釈し、混合物を20℃で12時間撹拌した。次
いで生成物を吸引濾過により単離した。
ホンアミド14.4g(60ミリモル)を、溶液が実質
的に完成するまで水50ml中水酸化ナトリウム2.4
g(60ミリモル)の溶液と共に20℃で撹拌した。濾
過後、この透明な溶液にメチルイソブチルケトン150
mlを添加し、水を共沸蒸留で除去した。続いて残りの
溶液に、N−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,
3,5−s−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フ
エニル18.8g(60.6ミリモル)を70〜90℃で
添加した。透明な溶液が得られ、これから短期間の後
に、生成物がかさばつて沈殿した。より簡単に撹拌しう
るために溶液を(メチルイソブチルケトンで)500m
lまで希釈し、混合物を20℃で12時間撹拌した。次
いで生成物を吸引濾過により単離した。
【0053】融点224℃の3−(4,6−ジメトキシ
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−トリフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素の
ナトリウム塩24g(HPLCによる純度96.7%)
を得た。
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−トリフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素の
ナトリウム塩24g(HPLCによる純度96.7%)
を得た。
【0054】実施例2として表1に示した化合物は例え
ば以下の如くしても製造できた。
ば以下の如くしても製造できた。
【0055】実施例2a
【0056】
【化18】
【0057】2−ジフルオルメトキシ−ベンゼンスルホ
ンアミド6.7g(30ミリモル)を、溶液が実質的に
完成するまで水30ml中水酸化ナトリウム1.2g
(30ミリモル)の溶液と共に撹拌した。濾過後、この
透明な溶液にメチルイソブチルケトン300mlを添加
し、水を共沸蒸留で除去した。続いて残りの溶液に、N
−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−s−
トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル9.3
g(30ミリモル)を70〜80℃で添加した。反応混
合物を更に12時間20℃で撹拌し、得られる結晶生成
物を吸引濾過により単離した。
ンアミド6.7g(30ミリモル)を、溶液が実質的に
完成するまで水30ml中水酸化ナトリウム1.2g
(30ミリモル)の溶液と共に撹拌した。濾過後、この
透明な溶液にメチルイソブチルケトン300mlを添加
し、水を共沸蒸留で除去した。続いて残りの溶液に、N
−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−s−
トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル9.3
g(30ミリモル)を70〜80℃で添加した。反応混
合物を更に12時間20℃で撹拌し、得られる結晶生成
物を吸引濾過により単離した。
【0058】融点201℃の3−(4,6−ジメトキシ
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−ジフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素のナ
トリウム塩11.4g(理論量の77%)(HPLCに
よる純度88.9%)を得た。 式(III)の出発物質 実施例(III−1)
−s−トリアジン−2−イル)−3−メチル−1−(2
−ジフルオルメトキシフエニルスルホニル)−尿素のナ
トリウム塩11.4g(理論量の77%)(HPLCに
よる純度88.9%)を得た。 式(III)の出発物質 実施例(III−1)
【0059】
【化19】
【0060】テトラヒドロフラン100ml中2−メチ
ルアミノ−4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン
5.0g(0.0294モル)に、カリウムt−ブチレー
ト3.7g(0.033モル)を添加した。完全に撹拌し
ながら、クロルぎ酸フエニル5.1g(0.0326モ
ル)を迅速に滴下した。この期間中、反応混合物を冷却
によつて約25℃に保つた。20℃で12時間後、混合
物を真空下に濃縮し、塩化メチレン中に入れ、中性にな
るまで水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥後、混合物を
濃縮し、残渣をエーテル/石油エーテル(1:1)と共
に撹拌した。沈殿した結晶生成物を吸引濾別し、乾燥し
た。収量:N−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,
3,5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニ
ル(融点90℃)6.6g(理論量の73%)。
ルアミノ−4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン
5.0g(0.0294モル)に、カリウムt−ブチレー
ト3.7g(0.033モル)を添加した。完全に撹拌し
ながら、クロルぎ酸フエニル5.1g(0.0326モ
ル)を迅速に滴下した。この期間中、反応混合物を冷却
によつて約25℃に保つた。20℃で12時間後、混合
物を真空下に濃縮し、塩化メチレン中に入れ、中性にな
るまで水洗した。硫酸マグネシウムで乾燥後、混合物を
濃縮し、残渣をエーテル/石油エーテル(1:1)と共
に撹拌した。沈殿した結晶生成物を吸引濾別し、乾燥し
た。収量:N−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,
3,5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニ
ル(融点90℃)6.6g(理論量の73%)。
【0061】実施例(III−2)
【0062】
【化20】
【0063】シクロヘキサン100ml中2−メチルア
ミノ−4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン5.0
g(0.0294モル)及び炭酸水素ナトリウム5.5g
(0.0655モル)の混合物に、クロルぎ酸フエニル
10.2g(0.0651モル)を80℃で撹拌しながら
1.5時間以内に滴下した。混合物を水流アスピレータ
ー下に12時間還流温度に加熱し、冷却し、濃縮した。
残渣を塩化メチレン中に入れ、中性になるまで水洗し、
乾燥し、濃縮した。エーテル/塩化メチレン(1:1)
と共に撹拌した後、融点90℃を有する白色の結晶のN
−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリ
アジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル5.3g
(理論量の59%)を得た。
ミノ−4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン5.0
g(0.0294モル)及び炭酸水素ナトリウム5.5g
(0.0655モル)の混合物に、クロルぎ酸フエニル
10.2g(0.0651モル)を80℃で撹拌しながら
1.5時間以内に滴下した。混合物を水流アスピレータ
ー下に12時間還流温度に加熱し、冷却し、濃縮した。
残渣を塩化メチレン中に入れ、中性になるまで水洗し、
乾燥し、濃縮した。エーテル/塩化メチレン(1:1)
と共に撹拌した後、融点90℃を有する白色の結晶のN
−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリ
アジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル5.3g
(理論量の59%)を得た。
【0064】下表2に示す式(III)の化合物も、例
えば同様の方法で製造することができた:
えば同様の方法で製造することができた:
【0065】
【化21】
【0066】
【表4】
【0067】実施例(III−2)に従つて得た化合物
は、例えば次の如くしても製造できた。
は、例えば次の如くしても製造できた。
【0068】実施例(III−2a)
【0069】
【化22】
【0070】2−メチルアミノ−4,6−ジメトキシ−
1,3,5−トリアジン89.6g(0.52モル)、炭酸
水素ナトリウム84g(1.0モル)、及び酢酸ブチル
800mlの混合物を水流アスピレーター下に還流する
まで加熱し、酢酸ブチル500ml中クロルぎ酸フエニ
ル102g(0.65モル)の溶液を8時間かけて滴下
した。更に1時間還流させた後、混合物を冷却し、反応
溶液を水洗した。洗浄水を2N塩酸で中和し、酢酸ブチ
ルで再び抽出した。一緒にした有機溶液を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過した。この濾液を濃縮し、油状残渣を
メチルシクロヘキサン中に入れ、激しく撹拌した。これ
から得られる結晶生成物を吸引濾別した。融点90℃を
有するN−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,
5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル1
32g(理論量の80%)を得た。
1,3,5−トリアジン89.6g(0.52モル)、炭酸
水素ナトリウム84g(1.0モル)、及び酢酸ブチル
800mlの混合物を水流アスピレーター下に還流する
まで加熱し、酢酸ブチル500ml中クロルぎ酸フエニ
ル102g(0.65モル)の溶液を8時間かけて滴下
した。更に1時間還流させた後、混合物を冷却し、反応
溶液を水洗した。洗浄水を2N塩酸で中和し、酢酸ブチ
ルで再び抽出した。一緒にした有機溶液を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、濾過した。この濾液を濃縮し、油状残渣を
メチルシクロヘキサン中に入れ、激しく撹拌した。これ
から得られる結晶生成物を吸引濾別した。融点90℃を
有するN−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−1,3,
5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエニル1
32g(理論量の80%)を得た。
【0071】実施例(III−2b)
【0072】
【化23】
【0073】2−メチルアミノ−4,6−ジメトキシ−
1,3,5−トリアジン17g(0.1モル)、炭酸水素
ナトリウム12.5g(0.15モル)及びメチルイソブ
チルケトン125mlの混合物を水流アスピレーター下
に還流温度に加熱し、メチルイソブチルケトン25ml
中クロルぎ酸フエニル23.5g(0.15モル)を滴下
した。更に還流下に2.5時間後、混合物を30℃まで
冷却し、1%炭酸ナトリウム溶液で洗浄した。水性相を
メチルイソブチルケトンで再び抽出した。一緒にした有
機溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を濃
縮し、得られた残渣をシクロヘキサンから再結晶させ
た。
1,3,5−トリアジン17g(0.1モル)、炭酸水素
ナトリウム12.5g(0.15モル)及びメチルイソブ
チルケトン125mlの混合物を水流アスピレーター下
に還流温度に加熱し、メチルイソブチルケトン25ml
中クロルぎ酸フエニル23.5g(0.15モル)を滴下
した。更に還流下に2.5時間後、混合物を30℃まで
冷却し、1%炭酸ナトリウム溶液で洗浄した。水性相を
メチルイソブチルケトンで再び抽出した。一緒にした有
機溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を濃
縮し、得られた残渣をシクロヘキサンから再結晶させ
た。
【0074】融点90℃のN−メチル−N−(4,6−
ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−カル
バミン酸フエニル21.8g(理論量の72%)を得
た。
ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−カル
バミン酸フエニル21.8g(理論量の72%)を得
た。
【0075】実施例(III−2c)
【0076】
【化24】
【0077】2−メチルアミノ−4,6−ジメトキシ−
1,3,5−トリアジン172g(1.0モル)及び炭酸
水素ナトリウム168g(2.0モル)を水流アスピレ
ーター下にトルエン中で還流するまで加熱した。クロル
ぎ酸フエニル235g(1.5モル)を5時間にわたつ
て滴下し、完全な反応混合物を更に1時間還流下に撹拌
した。40℃まで冷却後、混合物を濾過し、溶媒を濾液
から注意深く真空下に留去した。
1,3,5−トリアジン172g(1.0モル)及び炭酸
水素ナトリウム168g(2.0モル)を水流アスピレ
ーター下にトルエン中で還流するまで加熱した。クロル
ぎ酸フエニル235g(1.5モル)を5時間にわたつ
て滴下し、完全な反応混合物を更に1時間還流下に撹拌
した。40℃まで冷却後、混合物を濾過し、溶媒を濾液
から注意深く真空下に留去した。
【0078】N−メチル−N−(4,6−ジメトキシ−
1,3,5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエ
ニル348g(理論量の91%)を黄色がかつた固体と
して得た。
1,3,5−トリアジン−2−イル)−カルバミン酸フエ
ニル348g(理論量の91%)を黄色がかつた固体と
して得た。
【0079】本発明の特徴及び態様は以下の通りであ
る: 1.一般式(I)
る: 1.一般式(I)
【0080】
【化25】
【0081】[式中、M+はアルカリ金属イオン又はア
ルカリ土類金属イオン均等物を表わし、R1はそれぞれ
の場合随時置換されたアリール、アラルキル又はヘテロ
アリールを表わし、R2は水素或いはそれぞれの場合随
時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又はア
ラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞ
れの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを
表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随
時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表わ
し、そしてZは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わ
す]のスルホニル尿素塩を製造するに際して、最初に一
般式(II)
ルカリ土類金属イオン均等物を表わし、R1はそれぞれ
の場合随時置換されたアリール、アラルキル又はヘテロ
アリールを表わし、R2は水素或いはそれぞれの場合随
時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又はア
ラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞ
れの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを
表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随
時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表わ
し、そしてZは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わ
す]のスルホニル尿素塩を製造するに際して、最初に一
般式(II)
【0082】
【化26】R1−SO2−NH2 (II) [式中、R1は上述した意味を有する]のスルホンアミ
ドを、随時希釈剤の存在下にアルカリ金属水酸化物又は
アルコレートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はア
ルコレートと−20〜+150℃の温度で反応させ(工
程1)、次いでこのように製造した一般式(IIa)
ドを、随時希釈剤の存在下にアルカリ金属水酸化物又は
アルコレートと或いはアルカリ土類金属水酸化物又はア
ルコレートと−20〜+150℃の温度で反応させ(工
程1)、次いでこのように製造した一般式(IIa)
【0083】
【化27】R1−SO2−NH−M+ (IIa) [式中、M+及びR1は上述した意味を有する]のスルホ
ンアミド塩を、随時希釈剤の存在下に一般式(III)
ンアミド塩を、随時希釈剤の存在下に一般式(III)
【0084】
【化28】
【0085】[式中、R2、X、Y及びZは上述した意
味を有し、そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリ
ールを表わす]のウレタン(カーバメート)と−20〜
+150℃の温度で反応させ(工程2)、そして式
(I)の生成物を常法によつて単離する、一般式(I)
のスルホニル尿素の製造法。
味を有し、そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリ
ールを表わす]のウレタン(カーバメート)と−20〜
+150℃の温度で反応させ(工程2)、そして式
(I)の生成物を常法によつて単離する、一般式(I)
のスルホニル尿素の製造法。
【0086】2.式(I)において、M+がリチウム、
ナトリウム又はカリウムイオン或いはマグネシウム又は
カルシウムイオン均等物を表わし、R1がそれぞれの場
合随時置換されたフエニル、ナフチル、ベンジル、ピリ
ジル、チエニル又はピラゾリルを表わし、但し可能な置
換基は好ましくはハロゲン、カルボキシル、シアノ、カ
ルバモイル、ニトロ、アミノ、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ−C1〜C
4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノア
ルコキシ、C1〜C4アルコキシ−C1〜C4アルコキシ、
C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフイニ
ル、C1〜C4アルキルスルホニル、ジ−(C1〜C4アル
キル)−アミノ−スルホニル、N−C1〜C4アルコキシ
−N−C1〜C4アルキル−アミノ−スルホニル、フエニ
ル、フエノキシ、C1〜C4アルコキシ−カルボニル、C
1〜C4ハロゲノアルコキシ−カルボニル、C1〜C2アル
コキシ−C1〜C2アルコキシ−カルボニル、ジ−(C1
〜C4アルキル)−アミノ−カルボニルの系列から選択
され、R2が水素、(随時弗素、シアノ、C1〜C4アル
コキシ又はC1〜C4アルキルチオで置換された)C1〜
C6アルキル、(随時弗素又は塩素で置換された)C3〜
C6アルケニル及びC3〜C6アルキニル、或いは(随時
フエニル残基が弗素、塩素、ニトロ、シアノ、メチル、
メトキシ又はC1〜C2アルコキシカルボニルで置換され
た)フエニル−C1〜C2アルキルを表わし、Xが水素、
ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲン又はC1
〜C4アルコキシで置換されたC1〜C4アルキル、C1〜
C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ又はC1〜C4ア
ルキルアミノを表わし、Yが水素、ハロゲン、或いはそ
れぞれの場合随時ハロゲンで置換されたC1〜C4アルキ
ル又はC1〜C4アルコキシを表わし、Zが窒素又はCH
基を表わす、上記1の式(I)の化合物の製造法。
ナトリウム又はカリウムイオン或いはマグネシウム又は
カルシウムイオン均等物を表わし、R1がそれぞれの場
合随時置換されたフエニル、ナフチル、ベンジル、ピリ
ジル、チエニル又はピラゾリルを表わし、但し可能な置
換基は好ましくはハロゲン、カルボキシル、シアノ、カ
ルバモイル、ニトロ、アミノ、C1〜C4アルキル、C1
〜C4ハロゲノアルキル、C1〜C4アルコキシ−C1〜C
4アルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4ハロゲノア
ルコキシ、C1〜C4アルコキシ−C1〜C4アルコキシ、
C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アルキルスルフイニ
ル、C1〜C4アルキルスルホニル、ジ−(C1〜C4アル
キル)−アミノ−スルホニル、N−C1〜C4アルコキシ
−N−C1〜C4アルキル−アミノ−スルホニル、フエニ
ル、フエノキシ、C1〜C4アルコキシ−カルボニル、C
1〜C4ハロゲノアルコキシ−カルボニル、C1〜C2アル
コキシ−C1〜C2アルコキシ−カルボニル、ジ−(C1
〜C4アルキル)−アミノ−カルボニルの系列から選択
され、R2が水素、(随時弗素、シアノ、C1〜C4アル
コキシ又はC1〜C4アルキルチオで置換された)C1〜
C6アルキル、(随時弗素又は塩素で置換された)C3〜
C6アルケニル及びC3〜C6アルキニル、或いは(随時
フエニル残基が弗素、塩素、ニトロ、シアノ、メチル、
メトキシ又はC1〜C2アルコキシカルボニルで置換され
た)フエニル−C1〜C2アルキルを表わし、Xが水素、
ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲン又はC1
〜C4アルコキシで置換されたC1〜C4アルキル、C1〜
C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ又はC1〜C4ア
ルキルアミノを表わし、Yが水素、ハロゲン、或いはそ
れぞれの場合随時ハロゲンで置換されたC1〜C4アルキ
ル又はC1〜C4アルコキシを表わし、Zが窒素又はCH
基を表わす、上記1の式(I)の化合物の製造法。
【0087】3.式(I)の化合物において、M+がナ
トリウムイオン又はカリウムイオンを表わし、R1がそ
れぞれの場合オルト位が弗素、塩素、臭素、メチル、エ
チル、トリフルオルメチル、メトキシ、エトキシ、ジフ
ルオルメトキシ、トリフルオルメトキシ、クロルエトキ
シ、メトキシエトキシ、エトキシエトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、メチルスルフイニル、
エチルスルフイニル、プロピルスルフイニル、メチルス
ルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ジ
メチルアミノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、
N−メトキシ−N−メチル−アミノスルホニル、フエニ
ル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、クロルエ
トキシカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、ジメ
チルアミノカルボニル又はジエチルアミノカルボニルで
及び随時更なる位置がハロゲンで置換されたフエニル又
はベンジルを表わし、或いは、3−ジメチルアミノカル
ボニル−ピリジン−2−イル又は3−エチルスルホニル
−ピリジン−2−イル、2−メトキシカルボニル−チオ
フエン−3−イル又はメチル−1−4−メトキシカルボ
ニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−メトキシ
カルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−エ
トキシカルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−
3−クロル−4−メトキシカルボニル−ピラゾル−5−
イル、1−メチル−3−クロル−4−エトキシカルボニ
ル−ピラゾル−5−イル、又は1−ピリジル−4−メト
キシカルボニル−ピラゾル−5−イルを表わし、R2が
水素又はメチルを表わし、Xが水素、塩素、メチル、エ
チル、トリクロルメチル、トリフルオルメチル、メトキ
シメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメトキシ、
フルオルエトキシ、ジフルオルエトキシ、トリフルオル
エトキシ、メトキシエトキシ、メチルチオ、エチルチ
オ、メチルアミノ又はエチルアミノを表わし、Yが水
素、塩素、メチル、エチル、トリフルオルメチル、メト
キシ、エトキシ又はジフルオルメトキシを表わし、そし
てZが窒素又はCH基を表わす、上記1の式(I)の化
合物の製造法。
トリウムイオン又はカリウムイオンを表わし、R1がそ
れぞれの場合オルト位が弗素、塩素、臭素、メチル、エ
チル、トリフルオルメチル、メトキシ、エトキシ、ジフ
ルオルメトキシ、トリフルオルメトキシ、クロルエトキ
シ、メトキシエトキシ、エトキシエトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、メチルスルフイニル、
エチルスルフイニル、プロピルスルフイニル、メチルス
ルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ジ
メチルアミノスルホニル、ジエチルアミノスルホニル、
N−メトキシ−N−メチル−アミノスルホニル、フエニ
ル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、クロルエ
トキシカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、ジメ
チルアミノカルボニル又はジエチルアミノカルボニルで
及び随時更なる位置がハロゲンで置換されたフエニル又
はベンジルを表わし、或いは、3−ジメチルアミノカル
ボニル−ピリジン−2−イル又は3−エチルスルホニル
−ピリジン−2−イル、2−メトキシカルボニル−チオ
フエン−3−イル又はメチル−1−4−メトキシカルボ
ニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−メトキシ
カルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−4−エ
トキシカルボニル−ピラゾル−5−イル、1−メチル−
3−クロル−4−メトキシカルボニル−ピラゾル−5−
イル、1−メチル−3−クロル−4−エトキシカルボニ
ル−ピラゾル−5−イル、又は1−ピリジル−4−メト
キシカルボニル−ピラゾル−5−イルを表わし、R2が
水素又はメチルを表わし、Xが水素、塩素、メチル、エ
チル、トリクロルメチル、トリフルオルメチル、メトキ
シメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオルメトキシ、
フルオルエトキシ、ジフルオルエトキシ、トリフルオル
エトキシ、メトキシエトキシ、メチルチオ、エチルチ
オ、メチルアミノ又はエチルアミノを表わし、Yが水
素、塩素、メチル、エチル、トリフルオルメチル、メト
キシ、エトキシ又はジフルオルメトキシを表わし、そし
てZが窒素又はCH基を表わす、上記1の式(I)の化
合物の製造法。
【0088】4.第1工程を0〜120℃の温度で行う
上記1の方法。
上記1の方法。
【0089】5.第2工程を0〜100℃の温度で行う
上記1の方法。
上記1の方法。
【0090】6.第1工程において、水又はアルコー
ル、好ましくはメタノール及びエタノールを希釈剤とし
て用いる上記1の方法。
ル、好ましくはメタノール及びエタノールを希釈剤とし
て用いる上記1の方法。
【0091】7.第2工程において、ケトン又はニトリ
ル、好ましくはメチルイソブチルケトン又はアセトニト
リルを希釈剤として用いる上記1の方法。
ル、好ましくはメチルイソブチルケトン又はアセトニト
リルを希釈剤として用いる上記1の方法。
【0092】8.式(II)のスルホンアミドを有機希
釈剤中に導入し、アルカリ金属水酸化物又はアルコレー
ト或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレートを
撹拌しながら秤入し、次いで混合物をある期間撹拌しそ
して減圧下に濃縮し、最後に本質的に式(IIa)のス
ルホンアミド塩を含む残渣を適当な希釈剤に捕捉させ、
次いで式(III)のウレタンを撹拌しながら添加す
る、上記1の方法。
釈剤中に導入し、アルカリ金属水酸化物又はアルコレー
ト或いはアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレートを
撹拌しながら秤入し、次いで混合物をある期間撹拌しそ
して減圧下に濃縮し、最後に本質的に式(IIa)のス
ルホンアミド塩を含む残渣を適当な希釈剤に捕捉させ、
次いで式(III)のウレタンを撹拌しながら添加す
る、上記1の方法。
【0093】9.一般式(III)
【0094】
【化29】
【0095】[式中、R2は水素或いはそれぞれの場合
随時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又は
アラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれ
ぞれの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたア
ルキル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノ
を表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合
随時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表
わし、Zは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わし、
そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリールを表わ
す]のウレタンの製造に際して、一般式(IV)
随時置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル又は
アラルキルを表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれ
ぞれの場合随時ハロゲン又はアルコキシで置換されたア
ルキル、アルコキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノ
を表わし、Yは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合
随時ハロゲンで置換されたアルキル又はアルコキシを表
わし、Zは窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わし、
そしてR3はアルキル、アラルキル又はアリールを表わ
す]のウレタンの製造に際して、一般式(IV)
【0096】
【化30】
【0097】[式中、R2、X、Y及びZは上述した意
味を有する]のアミンを、随時酸受容体[好ましくは炭
酸(水素)ナトリウム、炭酸(水素)カリウム又はカリ
ウムtert−ブチレート]の存在下に及び随時希釈剤
[好ましくはシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジイ
ソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチル
エーテル、メチルtert−ブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、グリコールジメチルエーテ
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸メチル、エチル、プロピルもしくはブチ
ル、アセトニトリル或いはプロピオニトリル]の存在下
に、一般式(V)
味を有する]のアミンを、随時酸受容体[好ましくは炭
酸(水素)ナトリウム、炭酸(水素)カリウム又はカリ
ウムtert−ブチレート]の存在下に及び随時希釈剤
[好ましくはシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジイ
ソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチル
エーテル、メチルtert−ブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、グリコールジメチルエーテ
ル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、酢酸メチル、エチル、プロピルもしくはブチ
ル、アセトニトリル或いはプロピオニトリル]の存在下
に、一般式(V)
【0098】
【化31】R3−O−CO−Cl (V) [式中、R3は上述した意味を有する]のクロルぎ酸エ
ステルと0〜150℃の温度で反応させる、式(II
I)のウレタンの製造法。
ステルと0〜150℃の温度で反応させる、式(II
I)のウレタンの製造法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 401/12 8829−4C 401/14 8829−4C 403/12 8829−4C 409/12 8829−4C
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 [式中、M+はアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金
属イオン均等物を表わし、R1はそれぞれの場合随時置
換されたアリール、アラルキル又はヘテロアリールを表
わし、R2は水素或いはそれぞれの場合随時置換された
アルキル、アルケニル、アルキニル又はアラルキルを表
わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時
ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキル、アルコ
キシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを表わし、Yは
水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲンで
置換されたアルキル又はアルコキシを表わし、そしてZ
は窒素、CH基又はC−ハロゲン基を表わす]のスルホ
ニル尿素塩を製造するに際して、最初に一般式(II) 【化2】R1−SO2−NH2 (II) [式中、R1は上述した意味を有する]のスルホンアミ
ドを、随時希釈剤の存在下に、アルカリ金属水酸化物も
しくはアルコレートと或いはアルカリ土類金属水酸化物
もしくはアルコレートと−20〜+150℃の温度で反
応させ(工程1)、次いでこのように製造した一般式
(IIa) 【化3】R1−SO2−NH−M+ (IIa) [式中、M+及びR1は上述した意味を有する]のスルホ
ンアミド塩を、随時希釈剤の存在下に、一般式(II
I) 【化4】 [式中、R2、X、Y及びZは上述した意味を有し、そ
してR3はアルキル、アラルキル又はアリールを表わ
す]のウレタン(カーバメート)と−20〜+150℃
の温度で反応させ(工程2)、そして式(I)の生成物
を常法によつて単離する、一般式(I)のスルホニル尿
素の製造法。 - 【請求項2】 一般式(III) 【化5】 [式中、R2は水素或いはそれぞれの場合随時置換され
たアルキル、アルケニル、アルキニル又はアラルキルを
表わし、Xは水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随
時ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキル、アル
コキシ、アルキルチオ又はアルキルアミノを表わし、Y
は水素、ハロゲン、或いはそれぞれの場合随時ハロゲン
で置換されたアルキル又はアルコキシを表わし、Zは窒
素、CH基又はC−ハロゲン基を表わし、そしてR3は
アルキル、アラルキル又はアリールを表わす]のウレタ
ンの製造に際して、一般式(IV) 【化6】 [式中、R2、X、Y及びZは上述した意味を有する]
のアミンを、随時酸受容体[好ましくは炭酸(水素)ナ
トリウム、炭酸(水素)カリウム又はカリウムtert
−ブチレート]の存在下に及び随時希釈剤[好ましくは
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジイソプロピルエ
ーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、メ
チルtert−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、グリコールジメチルエーテル、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メ
チル、エチル、プロピル又はブチル、アセトニトリル或
いはプロピオニトリル]の存在下に、一般式(V) 【化7】R3−O−CO−Cl (V) [式中、R3は上述した意味を有する]のクロルぎ酸エ
ステルと0〜150℃の温度で反応させる、式(II
I)のウレタンの製造法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE4206918 | 1992-03-05 | ||
DE4206918.1 | 1992-03-05 | ||
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DE19924239002 DE4239002A1 (de) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | Verfahren zur Herstellung von Sulfonylharnstoff-Salzen |
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---|---|
JPH0625188A true JPH0625188A (ja) | 1994-02-01 |
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JP (1) | JPH0625188A (ja) |
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DE19748470A1 (de) * | 1997-11-03 | 1999-05-06 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Carbamoylphenylsulfonylharnstoffe, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Herbizide und Pflanzenwachstumsregulatoren |
DE102008061139A1 (de) * | 2008-12-09 | 2010-06-10 | Borealis Agrolinz Melamine Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Triazincarbamaten unter Verwendung von Chlorformiaten |
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DE3609700A1 (de) * | 1986-03-20 | 1987-09-24 | Schering Ag | Salze von substituierten sulfonylharnstoffen, verfahren zu ihrer herstellung sowie diese enthaltende mittel mit herbizider und pflanzenwuchsregulierender wirkung |
EP0304282A1 (en) * | 1987-08-19 | 1989-02-22 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing sulfonylurea salts |
DE4018349A1 (de) * | 1989-12-19 | 1991-06-20 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von sulfonylharnstoff-salzen, neue sulfonylharnstoff-salze und ihre verwendung als herbizide |
-
1993
- 1993-02-22 EP EP93102758A patent/EP0559044A1/de not_active Withdrawn
- 1993-02-26 AU AU33846/93A patent/AU3384693A/en not_active Abandoned
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- 1993-03-04 JP JP5067323A patent/JPH0625188A/ja active Pending
Also Published As
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---|---|
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