JPH06236061A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 可干渉性光を用いる電子写真装置に使用した
場合に、干渉縞の発生を抑制することができる電子写真
感光体を提供する。 【構成】 導電性基体上１に、下引き層２、電荷発生層
３および電荷輸送層４を順次積層してなる電子写真感光
体であって、下引き層が白色顔料２１を含有し、体積分
率で１０％以上の空隙２２を有することを特徴とする。
この下引き層は２５容量％以下の結合剤を含んでいる。
白色顔料としては、粒径０．０１〜１μｍの酸化チタン
微粒子が使用される。結合剤としては、ポリビニルブチ
ラール樹脂、有機ジルコニウム化合物およびシランカッ
プリング剤の少なくとも一つが使用される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、導電性基体上に改良さ
れた下引き層を有する積層型電子写真感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真装置は、高速でかつ高印字品質
が得られ、複写機及びレーザービームプリンター等の分
野において利用されている。電子写真装置に用いられる
感光体として、有機の光導電材料を用いた有機感光体
（ＯＰＣ）の開発が進められ、次第に普及してきた。ま
た感光体の構成も、電荷移動型錯体構造や電荷発生材料
を結着樹脂中に分散した単層型の感光体から、電荷発生
層と電荷輸送層とを分離した機能分離型の感光体構成へ
と変遷し、性能も向上してきている。この機能分離型感
光体において、現在では、アルミニウムパイプの上に、
まず下引き層を形成し、その後電荷発生層、電荷輸送層
を形成した構成のものが主流となっている。

【０００３】ところで、電子写真装置の進歩に伴い、感
光体についても長い寿命や高品位の画質が得られること
に対する要求が強くなってきている。このうち、高解像
度のプリンターやカラー複写装置においては、レーザー
を露光光源とするデジタル記録方式が主流を占めている
が、レーザーのような可干渉性の光を用いた場合、感光
層の中で光が干渉現象を生じ、電荷輸送層の膜厚分布に
従って、場所による露光量の差異を生じるため、プリン
トに木目状の干渉模様を発生することが問題となってい
る。

【０００４】この問題を改善するために、基体を粗面化
したり、感光層中に光散乱性の粉体を混入する等、種々
の検討がなされている。感光層と基体との間に設ける下
引き層についても、白色顔料を下引き層の樹脂と混合す
ることにより、干渉縞の低減をすることが試みられてい
る（例えば、特開平２−１８１１５８号公報、特開平３
−１４６９５８号公報、特開平４−１９１８６１号公報
等）。図２はそれらの場合を示すものであって、導電性
基体１の上に、白色顔料２１および樹脂２３よりなる下
引き層２が形成され、その上に電荷発生層３及び電荷輸
送層４が設けられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の場合、必ずしも十分な干渉縞の防止効果が得られず、
基体の粗面化と併用しているのが実情である。本発明
は、従来の技術における上記のような問題点を解決する
ことを目的としてなされたものである。したがって、本
発明の目的は、レーザーのような可干渉性の光を用いた
場合に干渉縞模様の発生を防止することができる電子写
真感光体を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、下引き層
に白色顔料を混入することにより干渉縞を防止する技術
に関して検討した結果、本発明を完成するに至った。本
発明は、導電性基体上に、下引き層、電荷発生層および
電荷輸送層を順次積層してなる電子写真感光体におい
て、該下引き層が白色顔料を含有し、体積分率で１０％
以上の空隙を有することを特徴とする。

【０００７】以下、本発明について詳細に説明する。図
１は、本発明の電子写真感光体の模式的断面図であっ
て、導電性基体１上に、下引き層２が形成され、その上
に電荷発生層３および電荷輸送層４が順次積層されてい
る。下引き層は白色顔料２１が含まれ、白色顔料の粒子
間には空隙２２が形成されている。

【０００８】本発明の感光体において、導電性支持体と
しては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄等の金属のほ
か、表面に金属を蒸着するか、導電粉を分散した塗膜を
形成する等により導電化処理されたプラスチック或いは
紙等の筒状、ベルト状或いはシート状の基体を用いるこ
とができる。

【０００９】導電性基体の表面には、白色顔料を含有す
る下引き層が形成される。白色顔料としては、酸化チタ
ン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化アル
ミニウム、シリカ、酸化マグネシウム等があげられる。
これらの白色顔料は、抵抗が低すぎると基体からの電荷
注入が促進され、画質欠陥を引き起こすため、白色顔料
の抵抗は１０⁴ 〜１０¹¹Ω・ｃｍの範囲が望ましい。抵
抗を上記範囲に調製するため、或いは分散性の向上のた
めに、これらの白色顔料には表面処理を施すことも可能
である。例えば、酸化チタンの場合は、表面のコート剤
として、シリカ、アルミナ、ジルコニア等の微粉末が用
いられる。また、白色顔料の結晶型も任意に選択するこ
とができる。例えば、酸化チタンの場合には、アナター
ス型とルチル型の両者が知られているが、いずれも用い
ることができる。

【００１０】白色顔料の粒径は、０．０１〜１μｍの範
囲のものが好ましく使用される。粒径が上記の範囲より
も大きすぎると、下引き層の凹凸が著しくなり、かつ電
気的に部分的な不均一性が大きくなり、画質欠陥が生じ
やすくなる。また、小粒径化ぎると、凝集が生じやすく
なり、分散が不安定になりやすい。したがって、上記の
範囲が好ましい。

【００１１】本発明において、下引き層は体積分率で１
０％以上の空隙を有することが必要であり、好ましい範
囲は１０％〜３０％である。空隙の体積分率が１０％よ
りも低い場合には、干渉縞模様が発生するようになる。
下引き層は、上記白色顔料に加えて、結合剤が使用され
るが、結合剤は、白色顔料間をつなぎとめるのに必要最
小限の量があればよい。結合剤の量は下引き層中で白色
顔料に対して、体積分率で２５％以下で足り、好ましく
は２５〜１０％の範囲である。それによって、下引き層
の空隙の体積分率を１０％以上にすることが可能にな
る。なお、結合剤の量が少なすぎて、空隙が多くなり過
ぎると、その上に塗布する電荷発生層等の感光層塗布液
が浸透して、感光層の均一性を損なうことになるので、
結合剤の量は白色顔料の接点が十分目止めされる程度に
するのが望ましい。

【００１２】光の散乱性は白色顔料とそれを取り巻く媒
質との屈折率の差に依存し、白色顔料が樹脂媒質中に埋
没されている場合には、白色顔料と媒質との間の屈折率
の差が小さくなり、光の散乱性は小さい。本発明におけ
る下引き層は、結合剤の量が少ないため、白色顔料間の
接点は結合剤によって接合しているが、それ以外の白色
顔料間の隙間は空気によって占められている。したがっ
て、本発明の下引き層は高い光の散乱性を示す。

【００１３】本発明において、下引き層に用いられる結
合剤としては、ポリビニルブチラール等のアセタール樹
脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド
樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、
ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビ
ニルー酢酸ビニルー無水マレイン酸樹脂、シリコン樹
脂、シリコン−アルッキド樹脂、フェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物のほ
か、シランカップリング剤および有機金属化合物等が主
として用いられる。これらのものは、単独でも使用でき
るが、複数のものを併用して用いてもよい。これらのな
かで、シランカップリング剤および有機ジルコニウム化
合物は、非常に高い成膜性を有し、残留電位が低く、環
境による変化が少なく、また繰り返し使用による電位の
変化が少ない等、下引き層として優れている。

【００１４】シランカップリング剤としては、例えば、
ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロ
ピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−
ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシ
ラン等が例示される。これらシラン化合物のなかでも特
に好ましく用いられるものは、ビニルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン等である。

【００１５】有機金属化合物としては、ジルコニウム、
チタニウム、アルミニウム、マンガン等を含有するもの
が用いられる。有機ジルコニウム化合物としては、ジル
コニウムブチレート、ジルコニウムアセチルアセトネー
ト、アセチルアセトンジルコニウムブチレート、ジルコ
ニウムラクテート、ステアリン酸ジルコニウムブチレー
ト等があげられる。その他、有機チタン化合物として
は、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブ
チルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ
（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルア
セトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタン
オクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウ
ム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエス
テル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキ
シチタンステアレート等があげられる。

【００１６】下引き層は、白色顔料を上記結合剤の溶液
に添加し、コロイドミル、ボールミル、振動ボールミ
ル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイン
トシェーカー等の方法によって分散させ、得られた分散
液を塗布することによって形成することができる。下引
き層は、その膜厚を厚くすると、導電性基体の凹凸の隠
蔽性が高まるため、一般に画質欠陥は低減する方向にあ
るが、電気的な繰り返し安定性も悪くなる。したがっ
て、その膜厚は０．２〜５μｍの範囲にあることが望ま
しい。

【００１７】下引き層の上には、感光層が形成される。
感光層は基本的には単層構造および機能分離された積層
構造のいずれでもよいが、本発明においては、繰り返し
安定性や環境変動等の性能面で優れているために、感光
層を電荷発生層と電荷輸送層とを順次積層して形成す
る。また、必要に応じて表面保護層を形成することも可
能である。

【００１８】電荷発生層は、電荷発生物質を真空蒸着に
より形成するか、結着樹脂と共に有機溶剤に分散し、塗
布することにより形成される。電荷発生材料としては、
非晶質セレン、結晶性セレン、セレン−テルル合金、セ
レン−ヒ素合金、その他のセレン化合物およびセレン合
金、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導電体、無金属
フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、銅フタロシ
アニン、錫フタロシアニン、ガリウムフタロシアニン等
の各種フタロシアニン顔料、スクエアリウム系、アント
アントロン系、ペリレン系、アゾ系、アントロキノン
系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の各
種有機顔料および染料が用いられる。また、これらの有
機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、特にフタロ
シアニン顔料ではα、β等をはじめとして各種の結晶型
が知られているが、目的にあった感度が得られる顔料で
あるならば、いずれの結晶型のものを用いてもよい。

【００１９】電荷発生層における結着樹脂としては、以
下のものを例示することができる。すなわち、ビスフェ
ノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプ等のポ
リカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエ
ン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
樹脂、シリコン樹脂、シリコン−アルッキド樹脂、フェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド
樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等である。これら
の結着樹脂は、単独あるいは２種以上混合して用いるこ
とが可能である。電荷発生材料と結着樹脂との配合比
（重量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が望ましい。
また、電荷発生層の厚みは、一般には０．０１〜５μ
ｍ、好ましくは０．０５〜２．０μｍの範囲に設定され
る。電荷発生材料を樹脂中に分散させる方法としては、
ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライタ
ー、サンドミル、コロイドミル等の方法を用いることが
できる。

【００２０】一方、電荷輸送層は、電荷輸送材料と結着
樹脂とより構成される。電荷輸送材料としては、下記に
示すものが例示できる。２，５−ビス（ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオ
キサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピ
ラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエ
チルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチ
リル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニル
アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化
合物、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メ
チルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４′−
ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′
ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メト
キシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，
４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアル
デヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン
誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等の
キナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−
メトキシフェニル）−ベンゾフラン等のベンゾフラン誘
導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジ
フェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン
誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導
体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体等
の正孔輸送物質；クロラニル、ブロモアニル、アントラ
キノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン
系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，
４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフル
オレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合
物等の電子輸送物質；あるいは以上に示した化合物から
なる基を主鎖又は側鎖に有する重合体等があげられる。
これらの電荷輸送材料は、１種又は２種以上を組み合せ
て使用することができる。

【００２１】電荷輸送層に用いられる結着樹脂として
は、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル樹
脂、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺ
タイプ等のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アク
リロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポ
リアミド、塩素化ゴム等の絶縁性樹脂、あるいはポリビ
ニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニ
ルピレン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。

【００２２】電荷輸送層は、上記した電荷輸送材料およ
び結着樹脂を適当な溶媒に溶解させて得た溶液を、塗布
し乾燥することによって形成することができる。電荷輸
送層の形成に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系、
アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、
クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化
水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレング
リコール、ジエチルエーテル等の環状あるいは直鎖状エ
ーテル、あるいはこれらの混合溶剤等を用いることがで
きる。電荷輸送材料と上記ポリカーボネート樹脂との配
合比は、１０：１〜１：５が好ましい。また電荷輸送層
の膜厚は、一般に５〜５０μｍ、好ましくは１０〜４０
μｍの範囲に設定される。

【００２３】本発明における感光層には、電子写真装置
中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光・熱によ
る感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定
剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。例え
ば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒン
ダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化
合物等があげられる。光安定剤の例としては、ベンゾフ
ェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テ
トラメチルピペリジン等の誘導体があげられる。また感
度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減
等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含
有させることができる。本発明の感光体に使用可能な電
子受容性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレ
イン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テト
ラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニ
トロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、
トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息
香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等をあげることが
できる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、
Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ₂等の電子吸引性置換基を有するベン
ゼン誘導体が特に好ましく使用できる。

【００２４】塗布は、浸漬塗布法、スプレー塗布法、リ
ング塗布法、ビード塗布法、ブレード塗布法、ローラー
塗布法等の塗布法を用いて行うことができる。乾燥は、
室温での指触乾燥の後に、加熱乾燥するのが好ましい。
加熱乾燥は、３０℃〜２００℃の温度で５分〜２時間の
範囲の時間で行うことが望ましい。

【００２５】感光層の上には、必要に応じ表面保護層を
形成することができる。表面保護層としては、絶縁性樹
脂保護層、あるいは絶縁性樹脂の中に抵抗調整剤を添加
した低抵抗保護層があげられる。低抵抗保護層の場合に
は、例えば絶縁性樹脂中に導電性微粒子を分散した層が
あげられる。導電性微粒子として、電気抵抗が１０⁹Ω
・ｃｍ以下で、白色、灰色もしくは青白色を呈する平均
粒径が０．３μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下の微
粒子が適当であり、例えば、酸化モリブデン、酸化タン
グステン、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化
インジウム、酸化錫とアンチモンまたは酸化アンチモン
との固溶体、またはこれらの混合物、あるいは単一粒子
中にこれらの金属酸化物を混合したもの、あるいは被覆
したものがあげられる。中でも、酸化錫、酸化錫とアン
チモンまたは酸化アンチモンとの固溶体は電気抵抗を適
切に調節することが可能で、かつ、保護層を実質的に透
明にすることが可能であるので、好ましく用いられる
（特開昭５７−３０８４７号公報、特開昭５７−１２８
３４４号公報参照）。絶縁性樹脂としては、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリ
ケトン、ポリカーボネート等の縮合樹脂や、ポリビニル
ケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミドのようなビ
ニル重合体等があげられる。

【００２６】本発明の電子写真感光体は、ライトレンズ
系複写機、近赤外光もしくは可視光に発光するレーザー
ビームプリンター、デイジタル複写機、ＬＥＤプリンタ
ー、レーザーファクシミリ等の電子写真装置に用いるこ
とができる。また、本発明の電子写真感光体に対して
は、一成分系、二成分系の正規現像剤あるいは反転現像
剤を用いることができる。

【００２７】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明がこれらの実施例によって限定されるも
のではない。 実施例１ ４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール
２００重量部の溶解液に、アルミナシリカコートルチル
型酸化チタン（Ｒ７Ｅ、堺化学社製）８０部を混合し、
超音波分散器で分散処理してミルベースを得た。このミ
ルベースに、ｎ−ブチルアルコール４０部、有機ジルコ
ニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレー
ト）１重量部および有機シラン化合物の混合物（γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン）１重量部を追加混合
し、撹拌して下引き層形成用塗布液を得た。得られた塗
布液を、４０ｍｍφのアルミニウム基材の上に塗布し、
乾燥して、膜厚１μｍの下引き層を形成した。

【００２８】無金属フタロシアニン１５重量部、ポリビ
ニルブチラール樹脂（エスレック、ＢＭ−Ｓ積水化学社
製）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３００重量部か
らなる混合物を、サンドミルにて４時間分散した。得ら
れた分散液を、上記下引き層上に塗布・乾燥して、膜厚
０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、Ｎ，Ｎ′−
ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−
［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン４重量
部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４
万）６重量部とを、クロルベンゼン８０重量部に加えて
溶解した。得られた溶液を用いて、塗布乾燥することに
より、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、三層からな
る電子写真感光体を作製した。得られた電子写真感光体
の断面を、電子顕微鏡で観察したところ、下引き層中に
は空隙が存在し、その割合は、面積から換算して約１５
％（容積）であることが確認された。なお、下引き層に
おける結合剤の含有量は１４容量％であった。この電子
写真感光体を、レーザービームプリンター（ＸＰ−１
１、富士ゼロックス社製）に装着し、複写操作を行って
画像を得、その画質を調べた。結果を表１に示す。

【００２９】比較例１ ４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）をｎ−ブチルアルコール１００重
量部に溶解して得た溶液に、アルミナシリカコートルチ
ル型酸化チタン（Ｒ７Ｅ、堺化学社製）２０部を混合
し、超音波分散器で分散処理してミルベースを得た。こ
のミルベースに、ｎ−ブチルアルコール８０部、有機ジ
ルコニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチ
レート）１重量部および有機シラン化合物の混合物（γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン）１重量部を追加
混合し、撹拌して、下引き層形成用塗布液を得た。得ら
れた塗布液を、４０ｍｍφのアルミニウム基材の上に塗
布し、乾燥して、膜厚１μｍの下引き層を形成した。こ
の上に、実施例１と同様の条件で電荷発生層および電荷
輸送層を積層し、三層からなる電子写真感光体を作製し
た。得られた電子写真感光体の断面を電子顕微鏡で観察
したところ、下引き層中に空隙はなく、酸化チタンの隙
間は樹脂成分で占められていることが確認された。な
お、下引き層における結合剤の含有量は５０容量％であ
った。実施例１と同様にして得られた結果を表１に示
す。

【００３０】

【表１】

【００３１】実施例２ １重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）をエチルアルコール１００重量部
に溶解して得た溶液に、アナターズ型酸化チタン（ＴＡ
３００、富士チタン社製）２０部および酸化亜鉛１０重
量部を混合し、超音波分散器で分散処理して、ミルベー
スを得た。このミルベースに。ｎ−ブチルアルコール４
０部および有機ジルコニウム化合物（アセチルアセトン
ジルコニウムブチレート）１重量部を追加混合し、撹拌
して、下引き層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を
４０ｍｍφのアルミニウム基材の上に、塗布乾燥して、
膜厚１μｍの下引き層を形成した。

【００３２】チタニルフタロシアニン１５重量部、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニ
カー社製）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３００重
量部からなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。
得られた分散液を、上記下引き層上に塗布・乾燥して、
膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニ
ル）−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン
４重量部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分
子量４万）６重量部とを、クロルベンゼン８０重量部に
加えて溶解した。得られた溶液を用いて、塗布乾燥する
ことにより、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、三層
からなる電子写真感光体を作製した。得られた電子写真
感光体の断面を、電子顕微鏡で観察したところ、下引き
層中には空隙が存在し、その割合は、面積から換算して
約２０％（容積）であることが確認された。なお、下引
き層における結合剤の含有量は１４容量％であった。こ
の電子写真感光体を、レーザービームプリンター（ＸＰ
−１１、富士ゼロックス社製）に装着し、複写操作を行
って画質を調べた。結果を表２に示す。

【００３３】比較例２ ４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）をエチルアルコール１００部に溶
解して得た溶液に、アナターズ型酸化チタン（ＴＡ３０
０、富士チタン社製）２０部および酸化亜鉛１０重量部
を混合し、サンドグラインドミルで２時間分散処理し
て、ミルベースを得た。このミルベースにｎ−ブチルア
ルコール４０部、有機ジルコニウム化合物（アセチルア
セトンジルコニウムブチレート）４重量部を追加混合
し、撹拌して、下引き層形成用塗布液を得た。得られた
塗布液を４０ｍｍφのアルミニウム基材の上に、塗布乾
燥して、膜厚１μｍの下引き層を形成した。チタニルフ
タロシアニン１５重量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体樹脂（日本ユニカーＶＭＣＨ）１０重量部、ｎ−ブ
チルアルコール３００重量部からなる混合物を、サンド
ミルにて４時間分散した。得られた分散液を、上記下引
き層上に塗布・乾燥して、膜厚０．２μｍの電荷発生層
を形成した。次に、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−
ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフェニ
ル］−４，４′−ジアミン４重量部とビスフェノールＺ
ポリカーボネート樹脂（分子量４万）６重量部とを、ク
ロルベンゼン８０重量部に加えて溶解した。得られた溶
液を用いて、塗布乾燥することにより、膜厚２０μｍの
電荷輸送層を形成し、三層からなる電子写真感光体を作
製した。得られた電子写真感光体の断面を電子顕微鏡で
観察したところ、下引き層中に空隙はなく、酸化チタン
の隙間は樹脂成分で占められていることが確認された。
なお、下引き層における結合剤の含有量は４０容量％で
あった。実施例１と同様にして評価した結果を表２に示
す。

【００３４】

【表２】

【００３５】実施例３、４および比較例３、４ １重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）をｎ−ブチルアルコール１００重
量部に溶解して得た溶液に、酸化チタン粒子（Ａ１１
０、堺化学社製）を５０重量部（実施例３）、３５重量
部（実施例４）、１０重量部（比較例３）、および５重
量部（比較例４）添加して混合し、超音波分散器で分散
処理してミルベースを得た。このミルベースにｎ−ブチ
ルアルコール４０重量部、有機ジルコニウム化合物（ア
セチルアセトンジルコニウムブチレート）２重量部を追
加混合し、撹拌して、下引き層形成用塗布液を得た。得
られた塗布液を、４０ｍｍφのアルミニウム基材の上に
塗布し、乾燥して、膜厚１．５μｍの下引き層を形成し
た。

【００３６】無金属フタロシアニン１５重量部、ポリビ
ニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社
製）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３００重量部か
らなる混合物を、サンドミルにて４時間分散した。得ら
れた分散液を、上記下引き層上に塗布・乾燥して、膜厚
０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、Ｎ，Ｎ′−
ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−
［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン４重量
部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４
万）６重量部とを、クロルベンゼン８０重量部に加えて
溶解した。得られた溶液を用いて、塗布乾燥することに
より、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、三層からな
る電子写真感光体を作製した。得られた電子写真感光体
を、レーザービームプリンター（ＸＰ−１１、富士ゼロ
ックス社製）に装着し、複写操作を行って得られた画像
の画質を調べた。その結果を下引き層の空隙の割合と共
に表３に示す

【００３７】

【表３】

【００３８】

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、上記のよう
に、白色顔料を含有する下引き層中に１０％以上の空隙
を有するから、可干渉性光を用いる電子写真装置に使用
した場合に、干渉縞模様の発生を抑制することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の電子写真感光体の模式的断面図であ
る。

【図１】 従来の電子写真感光体の模式的断面図であ
る。

【符号の説明】

１…導電性基体、２…下引き層、２１…白色顔料、２２
…空隙、２３…樹脂、３…電荷発生層、４…電荷輸送
層。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成５年１２月２１日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の電子写真感光体の模式的断面図であ
る。

【図２】 従来の電子写真感光体の模式的断面図であ
る。

【符号の説明】 １…導電性基体、２…下引き層、２１…白色顔料、２２
…空隙、２３…樹脂、３…電荷発生層、４…電荷輸送
層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮本 宏 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体上に、下引き層、電荷発生層
   および電荷輸送層を順次積層してなる電子写真感光体に
   おいて、該下引き層が白色顔料を含有し、体積分率で１
   ０％以上の空隙を有することを特徴とする電子写真感光
   体。
2. 【請求項２】 下引き層が２５容量％以下の結合剤を含
   むことを特徴とする電子写真感光体。
3. 【請求項３】 白色顔料が、平均粒径０．０１〜１μｍ
   の酸化チタン微粒子であることを特徴とする請求項１記
   載の電子写真感光体。
4. 【請求項４】 下引き層が結合剤としてポリビニルアセ
   タール樹脂を含有することを特徴とする請求項１記載の
   電子写真感光体。
5. 【請求項５】 ポリビニルアセタール樹脂がポリビニル
   ブチラール樹脂であることを特徴とする請求項４記載の
   電子写真感光体。
6. 【請求項６】 下引き層が結合剤として有機金属化合物
   を含有することを特徴とする請求項１記載の電子写真感
   光体。
7. 【請求項７】 有機金属化合物が有機ジルコニウム化合
   物であることを特徴とする請求項６記載の電子写真感光
   体。
8. 【請求項８】 下引き層が結合剤としてシランカップリ
   ング剤を含有することを特徴とする請求項１記載の電子
   写真感光体。