JPH06233942A - Scrubber provided to draft chamber - Google Patents
Scrubber provided to draft chamberInfo
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- JPH06233942A JPH06233942A JP5022575A JP2257593A JPH06233942A JP H06233942 A JPH06233942 A JP H06233942A JP 5022575 A JP5022575 A JP 5022575A JP 2257593 A JP2257593 A JP 2257593A JP H06233942 A JPH06233942 A JP H06233942A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はドラフトチャンバに設け
られるスクラバーに関する。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a scrubber provided in a draft chamber.
【0002】[0002]
【従来の技術】ドラフトチャンバは化学実験などのガス
が発生する作業に使用されるもので、このドラフトチャ
ンバには、ドラフトチャンバの排気口から排出されるガ
スを洗浄してこのガスに含まれる有害成分を低減する処
理を行うスクラバーを設けているものがある。そして、
一般的にドラフトチャンバの排気口がその天井部の上に
設けられる関係上、スクラバーもドラフトチャンバの天
井部に上に設置されている。この種のスクラバーに対し
ては、ガスに対する洗浄効果が高いこと、ドラフトチャ
ンバの天井部上に設置するために小型であることが要求
さる。2. Description of the Related Art Draft chambers are used for operations such as chemical experiments in which gas is generated. The draft chamber is designed to clean the gas discharged from the exhaust port of the draft chamber and to remove harmful substances contained in the gas. Some have a scrubber that performs a process of reducing the components. And
The scrubber is also installed above the ceiling of the draft chamber because the exhaust port of the draft chamber is generally installed above the ceiling. This type of scrubber is required to have a high gas cleaning effect and to be small in size for installation on the ceiling of the draft chamber.
【0003】この種のスクラバーには溜水式と充填塔式
のものがある。前者の形式のスクラバーは、ガスを薬液
を溜めた室内に通して薬液に接触させることにより、ガ
スに含まれる有害成分を薬液が吸収してガスにおける有
害成分を低減させるものである。This type of scrubber is classified into a sump type and a packed tower type. In the former type of scrubber, the gas is passed through a chamber in which the chemical liquid is stored and brought into contact with the chemical liquid, whereby the chemical liquid absorbs the harmful components contained in the gas to reduce the harmful components in the gas.
【0004】後者の形式のスクラバーは、薬液を保持し
た通気性の物質を充填した充填物室と、薬液を噴霧する
スプレーを備えた噴霧室とを有し、ガスを充填物室の充
填物に通した後に噴霧室内でスプレーから噴霧される薬
液で洗浄することにより、ガスに含まれる有害成分を低
減させるものである。The latter type of scrubber has a filling chamber filled with an air-permeable substance holding a chemical liquid, and a spray chamber provided with a spray for spraying the chemical liquid, and gas is filled in the filling chamber. By passing through the spray chamber and then washing with a chemical sprayed from the spray, harmful components contained in the gas are reduced.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、溜水式のスク
ラバーは、大きな洗浄効果を得るためには、薬液溜め室
のガス入口を狭く開くする必要があるが、この場合には
ガスが薬液溜め室を通過する時の圧力損失が大きくな
る。However, in the pool type scrubber, in order to obtain a large cleaning effect, it is necessary to open the gas inlet of the chemical solution storage chamber narrowly. In this case, the gas is stored in the chemical solution storage chamber. There is a large pressure loss when passing through the chamber.
【0006】また、充填塔式のスクラバーは、充分な洗
浄効果を得るためには充填物室の充填物の厚さを充分厚
くする必要がある。この場合には充填物室が大型化し、
この結果スクラバー全体が大型化して小型化の要求に応
えられなくなるという問題がある。Further, in the packed tower type scrubber, it is necessary to make the packing material in the packing chamber sufficiently thick in order to obtain a sufficient cleaning effect. In this case, the filling chamber becomes large,
As a result, there is a problem that the entire scrubber becomes large and it becomes impossible to meet the demand for downsizing.
【0007】本発明は前記事情に基づいてなされたもの
で、小型でありながらガスに対する洗浄効果が充分に優
れたドラフトチャンバに設けるスクラバーを得ることを
目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to obtain a scrubber provided in a draft chamber which is small in size but has a sufficiently excellent gas cleaning effect.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明のドラフトチャンバに設けるスクラバーは、ド
ラフトチャンバで発生したガスを導入するガス入口と、
このガス入口に連通するとともにガス入口から導入した
前記ガスが接触する薬液を溜めた薬液溜め室と、この薬
液溜め室の上側に設けられ薬液を保持するとともに前記
薬液溜め室を通過した前記ガスが通過する充填物を設け
た充填物室と、この充填物室の上側に設けられ前記充填
物室を通過した前記ガスに接触させる薬液を噴霧するス
プレーを備えた薬液噴霧室と、この薬液噴霧室を通過し
た前記ガスを排出するガス出口とを具備することを特徴
とする。In order to achieve the above-mentioned object, a scrubber provided in a draft chamber of the present invention comprises a gas inlet for introducing gas generated in the draft chamber,
The chemical liquid reservoir chamber which is in communication with the gas inlet and which contacts the gas introduced from the gas inlet, and the chemical liquid reservoir chamber provided above the chemical liquid reservoir chamber for holding the chemical liquid and passing through the chemical liquid reservoir chamber A filling chamber provided with a filling passing therethrough, a chemical spray chamber provided on the upper side of the filling chamber and provided with a spray for spraying a chemical to be brought into contact with the gas passing through the filling chamber, and the chemical spray chamber And a gas outlet for discharging the gas that has passed through.
【0009】[0009]
【作用】ドラフトチャンバーの排気口から突出されたガ
スはガス入口から薬液溜め室に入り、薬液溜め室に溜め
た薬液に接触する。次にガスは充填物室の充填物を通
り、充填物に保持された薬液に触する。次にガスは薬液
噴霧室に入り、スプレーから噴霧される薬液に接触して
洗浄されてガス出口から排出される。これによりガスに
含まれる有害成分は薬液に吸収され、ガスにおける有害
成分が低減される。The gas projected from the exhaust port of the draft chamber enters the chemical solution reservoir chamber through the gas inlet and comes into contact with the chemical solution accumulated in the chemical solution reservoir chamber. The gas then passes through the fill in the fill chamber and contacts the chemical held in the fill. Next, the gas enters the chemical spray chamber, comes into contact with the chemical sprayed from the spray, is washed, and is discharged from the gas outlet. As a result, the harmful components contained in the gas are absorbed by the chemical liquid, and the harmful components in the gas are reduced.
【0010】上記の構成によれば、溜め水式のスクラバ
ーである薬液溜め室の圧力損失が大きくならないように
し、洗浄効果が不足する分を充填塔式のスクラバーであ
る充填物室と薬液噴霧室とで補っている。言い換えれば
充填物室の厚さを厚くせずに、充填物室と薬液噴霧室の
洗浄効果が不足する分を薬液溜め室で補っている。According to the above construction, the pressure loss of the chemical liquid reservoir chamber, which is a stored water type scrubber, is prevented from increasing, and the portion lacking the cleaning effect is filled with the filling tower type scrubber and the chemical liquid spray chamber. Is supplemented with. In other words, without increasing the thickness of the filling chamber, the chemical liquid storage chamber compensates for the insufficient cleaning effect of the filling chamber and the chemical spray chamber.
【0011】薬液溜め室は充填物室の充填物で保持され
て落下する薬液を受ける部分を兼用している。すなわ
ち、充填塔式のスクラバーには充填物室の充填物で保持
されて落下する薬液を受ける薬液受け室が設けられてい
るが、薬液溜め室はこの薬液受け室のスペースをそのま
ま利用して設けられている。このため、充填塔式のスク
ラバーに新たなスペースを加えることなく薬液溜め室を
設けることができる。従って、本発明のスクラバーは従
来の充填塔式のスクラバーをさらに大型化することな
く、洗浄効果を従来に比較して向上させることができ
る。The chemical liquid storage chamber also serves as a portion which is held by the filling material in the filling material chamber and receives the falling chemical liquid. That is, the packed tower type scrubber is provided with a chemical liquid receiving chamber that receives the chemical liquid held by the filling material in the filling chamber and falling, but the chemical liquid reservoir chamber is provided by directly utilizing the space of the chemical liquid receiving chamber. Has been. Therefore, the chemical liquid reservoir can be provided without adding a new space to the packed tower type scrubber. Therefore, the scrubber of the present invention can improve the cleaning effect as compared with the conventional one without increasing the size of the conventional packed tower type scrubber.
【0012】[0012]
【実施例】本発明の一実施例について図1を参照して説
明する。この実施例は、薬液溜め室、充填物室および薬
液噴霧室を夫々一対づつ左右に対称的に設けた構成をな
している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, a pair of a chemical liquid reservoir chamber, a filling chamber and a chemical liquid spray chamber are provided symmetrically in the left and right directions.
【0013】図中1は本体ケースで、これはドラフトチ
ャンバー21の天井部上に設置されている。本体ケース
1の内部の中央分には垂直方向にのびる一対の縦隔壁2
が所定間隔を存して配設され、これら一対の縦隔壁2の
高さ方向中間位置に水平方向にのびる横隔壁3が配設さ
れている。In the figure, reference numeral 1 denotes a main body case, which is installed on the ceiling of the draft chamber 21. A pair of vertical partition walls 2 extending vertically in the center of the inside of the body case 1.
Are arranged at a predetermined interval, and a horizontal partition wall 3 extending horizontally is disposed at an intermediate position in the height direction between the pair of vertical partition walls 2.
【0014】本体ケース1の底壁の中央には筒型をなす
ガス入口体4が本体ケース1の内外を貫通して取り付け
られている。ガス入口体4はドラフトチャンバー21の
天井部に設けられた排気口(図示せず)に接続されてい
る。本体ケース1の天井壁の中央には筒型をなすガス出
口体5が本体ケース1の内外を貫通して取り付けられて
いる。At the center of the bottom wall of the body case 1, a tubular gas inlet body 4 is attached so as to penetrate the inside and outside of the body case 1. The gas inlet body 4 is connected to an exhaust port (not shown) provided in the ceiling of the draft chamber 21. At the center of the ceiling wall of the main body case 1, a tubular gas outlet body 5 is attached so as to penetrate the inside and outside of the main body case 1.
【0015】一対の縦隔壁2とこれら縦隔壁2と対向す
る本体ケース1の側壁との間には、夫々高さ方向の下部
の箇所に位置して薬液溜め室6が形成されている。各薬
液溜め室6はガスを洗浄し、有害成分を取り除くに必要
な薬液Yを溜めるるものである。Between the pair of vertical partition walls 2 and the side wall of the main body case 1 facing the vertical partition walls 2, a chemical liquid reservoir 6 is formed at a lower position in the height direction. Each chemical solution storage chamber 6 is for cleaning the gas and storing the chemical solution Y necessary for removing harmful components.
【0016】各薬液溜め室6は、夫々における一対の縦
隔壁2の下端と本体ケース1の底壁との間の隙間がガス
流入口7となっており、各縦隔壁2には夫々ガス流入口
7の開口面積を調節する可動仕切り板8が設けられてい
る。すなわち、各可動仕切り板8を上下移動すると、各
ガス流入口7の開口面積の大きさを夫々変化させること
ができる。各ガス流入口7は、ガス入口体4と各縦隔壁
2の下端との間に夫々形成されるガス通路9を介してガ
ス入口体4と連通している。In each of the chemical liquid reservoirs 6, a gap between the lower end of the pair of vertical partition walls 2 and the bottom wall of the main body case 1 serves as a gas inlet 7, and each vertical partition wall 2 has a gas flow. A movable partition plate 8 for adjusting the opening area of the entrance 7 is provided. That is, when each movable partition plate 8 is moved up and down, the size of the opening area of each gas inflow port 7 can be changed. Each gas inlet 7 communicates with the gas inlet 4 via a gas passage 9 formed between the gas inlet 4 and the lower end of each vertical partition 2.
【0017】各薬液溜め室6における本体ケース1に底
部には夫々排液口体10が取付けられている。各排液口
体10は本体ケース1の内外を貫通して取り付けられて
いる。すなわち、各排液口体10の壁部は夫々各薬液溜
め室6の内部に立ち上がって設けられており、各立上り
部に夫々スリット10aが形成されている。A drain port 10 is attached to the bottom of the main body case 1 in each chemical liquid reservoir 6. Each drain port body 10 is attached so as to penetrate the inside and outside of the main body case 1. That is, the wall portion of each drainage body 10 is provided so as to rise inside each chemical liquid storage chamber 6, and the slit 10a is formed at each rising portion.
【0018】一対の縦隔壁2とこれら縦隔壁2と対向す
る本体ケース1の側壁との間には、夫々各薬液溜め室6
の上側に位置して充填物室11が夫々設けられている。
各充填物室11には充填物12が夫々設けられている。Between the pair of vertical partition walls 2 and the side wall of the main body case 1 facing these vertical partition walls 2, each chemical solution storage chamber 6 is provided.
Filling chambers 11 are respectively provided on the upper side of the.
A filling 12 is provided in each filling chamber 11.
【0019】各充填物室11の上側には薬液噴霧室13
が夫々設けられている。一対の縦隔壁2の上端と、本体
ケース1の天井部との間で夫々ガス出口15が形成され
ている。また、一対の縦隔壁2の上端と、本体ケース1
の天井部中央に取付けられた筒体14との間で夫々ガス
通路16が形成されている。A chemical spray chamber 13 is provided above each filling chamber 11.
Are provided respectively. Gas outlets 15 are formed between the upper ends of the pair of vertical partition walls 2 and the ceiling of the main body case 1. In addition, the upper ends of the pair of vertical partition walls 2 and the main body case 1
The gas passages 16 are formed between the cylinder 14 and the cylinder 14 attached to the center of the ceiling.
【0020】各薬液噴霧室13における本体ケース1に
天井部には夫々スプレー17が取付けられ、各スプレー
17は夫々弁18を介して図示しないポンプおよび薬液
タンクに接続されている。筒体14にはミストセパレー
タ19が設けられている。20は差圧計である。このよ
うに構成されたスクラバーの作用について説明する。Sprays 17 are attached to the ceiling of the main body case 1 in each chemical spray chamber 13, and each spray 17 is connected via a valve 18 to a pump and a chemical tank (not shown). The cylindrical body 14 is provided with a mist separator 19. 20 is a differential pressure gauge. The operation of the scrubber thus configured will be described.
【0021】薬液ポンプの運転により薬液タンクに溜め
られている薬液Yを本体ケース1の各薬液噴霧室13に
設けられたスプレー17に送り、各スプレー17から各
薬液噴霧室13の内部に噴霧する。各薬液噴霧室13の
内部に噴霧された薬液は、各薬液噴霧室13の下側に位
置する各充填物室11の充填物12の内部に浸透して各
充填物12に保持される。By operating the chemical liquid pump, the chemical liquid Y stored in the chemical liquid tank is sent to the sprays 17 provided in the chemical liquid spray chambers 13 of the main body case 1, and sprayed from the sprays 17 into the chemical liquid spray chambers 13. . The chemical liquid sprayed inside each chemical liquid spray chamber 13 permeates into the inside of the filling material 12 in each filling material chamber 11 located below each chemical liquid spraying chamber 13 and is held in each filling material 12.
【0022】さらに、薬液は各充填物12から落下して
各充填物室11に下側に位置する各薬液溜め室6に溜め
られる。各薬液溜め室6に溜められた薬液は各薬液溜め
室6の底面部に設けられた各排液口体10から薬液タン
クに排出される。Further, the chemical liquid drops from each filling 12 and is stored in each chemical storage chamber 6 located below each filling chamber 11. The chemical liquid stored in each chemical liquid storage chamber 6 is discharged to the chemical liquid tank from each drain port 10 provided on the bottom surface of each chemical liquid storage chamber 6.
【0023】ドラフトチャンバーの排気口から排出され
たガスは、本体ケース1のガス入口体4から二手に別れ
て左右両側の各ガス通路9を通り各ガス入口7から各薬
液溜め室6に入る。ここでガスは各液溜め室6に溜めた
薬液Yに接触する。次にガスは上昇して各液溜め室6の
上側に位置する各充填物室11を通り、各充填物室11
に設けられた各充填物12に保持された薬液Yに接触す
る。The gas discharged from the exhaust port of the draft chamber is divided into two parts from the gas inlet body 4 of the main body case 1, passes through each gas passage 9 on the left and right sides, and enters each chemical solution reservoir chamber 6 from each gas inlet 7. Here, the gas comes into contact with the chemical liquid Y stored in each liquid storage chamber 6. Next, the gas rises and passes through each packing chamber 11 located above each liquid storage chamber 6,
The chemical solution Y held in each filling 12 provided in the above is contacted.
【0024】次にガスは上昇して各充填物室11の上側
に位置する各楽薬液噴霧室13に入り、各スプレー17
から噴霧される薬液Yに接触して洗浄される。その後、
ガスはガス出口15からガス通路16を通り、さらにミ
ストセパレータ19を通過してガス出口体5から外部に
排出される。Next, the gas rises and enters each of the liquid medicine spray chambers 13 located above each of the filling chambers 11, and each of the sprays 17
It is cleaned by coming into contact with the chemical liquid Y sprayed from. afterwards,
The gas passes through the gas outlet 15, the gas passage 16, and further passes through the mist separator 19, and is discharged from the gas outlet body 5 to the outside.
【0025】このようにしてドラフトチャンバー21の
排気口から排出されたガスは複数回にわたり薬液Yに接
触する。これによりk薬液がガスに含まれる有害成分を
吸収してガスにおける有害成分を低減させる。The gas discharged from the exhaust port of the draft chamber 21 as described above contacts the chemical solution Y a plurality of times. As a result, the k chemical absorbs the harmful components contained in the gas and reduces the harmful components in the gas.
【0026】この実施例では、溜め水式のスクラバーで
ある各薬液溜め室6の圧力損失が大きくならないように
して、洗浄効果が不足する分を充填塔式のスクラバーで
ある充填物室11と薬液噴霧室13とで補う。言い換え
れば充填物室11の厚さを大きくせずに、充填物室11
と薬液噴霧室13の洗浄効果が不足する分を薬液溜め室
6で補っている。In this embodiment, the pressure loss of each chemical liquid storage chamber 6 which is a stored water type scrubber is prevented from increasing so that the insufficient cleaning effect is caused by the filling chamber 11 which is a packed tower type scrubber and the chemical liquid. Supplement with the spray chamber 13. In other words, without increasing the thickness of the filling chamber 11,
The chemical liquid reservoir chamber 6 compensates for the insufficient cleaning effect of the chemical liquid spray chamber 13.
【0027】薬液溜め室6は充填物室11の充填物12
で保持されて落下する薬液Yを受ける部分を兼用してい
る。すなわち、充填塔式のスクラバーには充填物室の充
填物で保持されて落下する薬液Yを受ける薬液受け室が
設けられているが、薬液溜め室6はこの薬液受け室のス
ペースをそのまま利用して設けられている。このため、
充填塔式のスクラバーに新たなスペースを加えることな
く薬液溜め室6を設けることができる。従って、本発明
のスクラバーは従来の充填塔式のスクラバーをさらに大
型化することなく、洗浄効果を従来に比較して向上させ
ることができる。The chemical reservoir 6 is filled with the filling material 12 in the filling material chamber 11.
It also serves as a portion for receiving the chemical solution Y held by and falling. That is, the packed tower type scrubber is provided with a chemical liquid receiving chamber for receiving the chemical liquid Y held by the filling material in the filling chamber and falling, but the chemical liquid reservoir chamber 6 uses the space of the chemical liquid receiving chamber as it is. Is provided. For this reason,
The chemical solution storage chamber 6 can be provided without adding a new space to the packed tower type scrubber. Therefore, the scrubber of the present invention can improve the cleaning effect as compared with the conventional one without further increasing the size of the conventional packed tower type scrubber.
【0028】また、この実施例では可動仕切り板8を上
下移動して各薬液溜め室6におけるガス流入口7の開口
面積の大きさを変化させることができる。各ガス流入口
7の開口面積を調節することにより各薬液溜め室6にお
ける洗浄効果や圧力損失の具合が変化する。これにより
一型式で幅広い範囲のガス風量に対処することができ、
さらに使用開始後にも使用条件の変化にも対応すること
ができる。Further, in this embodiment, the movable partition plate 8 can be moved up and down to change the size of the opening area of the gas inflow port 7 in each chemical solution storage chamber 6. By adjusting the opening area of each gas inflow port 7, the degree of cleaning effect and pressure loss in each chemical solution storage chamber 6 changes. This makes it possible to handle a wide range of gas airflow with one model,
Furthermore, it is possible to deal with changes in usage conditions after the start of use.
【0029】各薬液溜め室6の底面部に使用済みの薬液
Yを排出するために設けられた各排液口体10は、薬液
溜め室6の内側に立上り、この立上り部にスリット10
aが形成されている。使用時は排液口体10の立上り高
さに応じて溜められる薬液Yの深さが決まる。スクラバ
ーを使用していない時には各排液口体10のスリット1
0aから薬液Yが排出され、各薬液溜め室6の内部に薬
液Yが残らないので、使用終了から長時間後に凝縮物が
出ることがない。Each of the liquid outlets 10 provided for discharging the used chemical liquid Y on the bottom surface of each chemical liquid storage chamber 6 rises inside the chemical liquid storage chamber 6, and the slit 10 is formed at the rising portion.
a is formed. During use, the depth of the drug solution Y to be stored is determined according to the rising height of the drainage body 10. When not using the scrubber, the slit 1 of each drain port body 10
Since the chemical liquid Y is discharged from 0a and the chemical liquid Y does not remain inside each chemical liquid storage chamber 6, a condensate does not come out after a long time from the end of use.
【0030】この実施例ではガス入口体4とガス出口体
5を中心として左右両側に一対の液溜め室6、一対の充
填物室11および一対の薬液噴霧室13が対称的に配置
されている。このため、スクラバーを通過するガスの流
れに偏りが発生しない。ガスの流れに偏りが発生する
と、圧力損失の増加、騒音の発生、洗浄効果の低下など
の不具合が発生する事がある。なお、本発明は前述した
実施例に限定されず、種々変形して実施することができ
る。In this embodiment, a pair of liquid storage chambers 6, a pair of filling chambers 11 and a pair of chemical liquid spray chambers 13 are symmetrically arranged on the left and right sides centering on the gas inlet body 4 and the gas outlet body 5. . Therefore, there is no bias in the gas flow passing through the scrubber. When the gas flow is unevenly distributed, problems such as increased pressure loss, generation of noise, and reduced cleaning effect may occur. It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented with various modifications.
【0031】[0031]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、液
溜め室、充填物室および各薬液液噴霧室を上下の重ねて
設けたので、小型でありながらガスに対する優れた洗浄
効果を有するドラフトチャンバに設けるスクラバーを得
ることができる。As described above, according to the present invention, since the liquid storage chamber, the filling chamber, and the chemical liquid spray chambers are provided one above the other, they have a small size and an excellent cleaning effect against gas. A scrubber for the draft chamber can be obtained.
【図1】本発明の一実施例のスクラバーの概略的構成を
示す図。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a scrubber according to an embodiment of the present invention.
1…本体ケース、4…ガス入口体、5…ガス出口体、6
…薬液溜め室、11…充填物室、13…薬液噴霧室。1 ... Main body case, 4 ... Gas inlet body, 5 ... Gas outlet body, 6
... chemical solution storage chamber, 11 ... filling room, 13 ... chemical solution spray chamber.
Claims (1)
導入するガス入口と、このガス入口に連通するとともに
ガス入口から導入した前記ガスが接触する薬液を溜めた
薬液溜め室と、この薬液溜め室の上側に設けられ薬液を
保持するとともに前記薬液溜め室を通過した前記ガスが
通過する充填物を設けた充填物室と、この充填物室の上
側に設けられ前記充填物室を通過した前記ガスに接触さ
せる薬液を噴霧するスプレーを備えた薬液噴霧室と、こ
の薬液噴霧室を通過した前記ガスを排出するガス出口と
を具備することを特徴とするドラフトチャンバに設ける
スクラバー。1. A gas inlet for introducing the gas generated in the draft chamber, a chemical liquid reservoir chamber for communicating with the gas inlet and storing a chemical liquid with which the gas introduced from the gas inlet contacts, and a chemical liquid reservoir of the chemical liquid reservoir chamber. A filling chamber provided with a filling for holding the chemical liquid provided on the upper side and passing through the chemical liquid storage chamber, and a gas provided on the upper side of the filling chamber and passing through the filling chamber. A scrubber provided in a draft chamber, comprising: a chemical spray chamber having a spray for spraying a chemical to be brought into contact; and a gas outlet for discharging the gas passing through the chemical spray chamber.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5022575A JPH06233942A (en) | 1993-02-10 | 1993-02-10 | Scrubber provided to draft chamber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5022575A JPH06233942A (en) | 1993-02-10 | 1993-02-10 | Scrubber provided to draft chamber |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06233942A true JPH06233942A (en) | 1994-08-23 |
Family
ID=12086676
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5022575A Pending JPH06233942A (en) | 1993-02-10 | 1993-02-10 | Scrubber provided to draft chamber |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06233942A (en) |
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